JPH04179042A - 走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー - Google Patents

走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー

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JPH04179042A
JPH04179042A JP30680490A JP30680490A JPH04179042A JP H04179042 A JPH04179042 A JP H04179042A JP 30680490 A JP30680490 A JP 30680490A JP 30680490 A JP30680490 A JP 30680490A JP H04179042 A JPH04179042 A JP H04179042A
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JP
Japan
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cantilever
tip
tip end
displacement
probe microscope
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JP30680490A
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Akitoshi Toda
戸田 明敏
Shuzo Mishima
周三 三島
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーに関す
る。特に原子開力顕微鏡や磁気力顕微鏡に力検出素子と
して用いる微弱な力に対して容易に弾性変形する柔軟な
カンチレバーに関する。
[従来の技術] ビニッヒ(Binnig)やローラー(Rohrer)
らの発明した走査型トンネル顕微鏡(Scanning
 TunnelingMicroscope(STM)
 )のサーボ技術を始めとする要素技術を利用し、 S
TMでは測定できなかった絶縁性試料の表面形状を原子
オーダーの精度で観察できる装置として原子開力顕微鏡
(Atomic ForceMicroscope(八
FM) )が提案されている。 2つの原子(または分
子)を非常に接近させると両者間にはIQ−19〜10
−12[N]程度の力(原子間力)が働く、原子開力顕
微鏡はその名の通り原子間力を利用して試料の表面形状
を観察する装置で、柔軟なカンチレバーで探針を支持し
、探針先端の原子に作用する原子間力によりカンチレバ
ーの先端部がある程度変位するまで探針を試料表面に近
づけ、 この変位量を一定に保ちながら試料表面に沿っ
て探針を走査する。走査の間、試料表面の凹凸に対応し
たカンチレバーの変位量の変化を検出したら、それに応
じた分だけ圧電素子などの微動機構を用いてカンチレバ
ーを試料表面に近づけたり遠ざけたりして初期値に肩す
、この結果、探針先端は試料表面の凹凸を反映した曲面
を描く、シたがって圧電素子に印加した電圧から試料の
表面形状を示す3次元画像を得る二とができる。
[発明が解決しようとする課題] カンチレバーの変位の検出方法には様々な変位測定法が
適用できる。その一つにヘテロダイン法と呼ばれる光学
式変位測定方法がある。ヘテロダイン法は、光源からの
光ビームをウオーラストンプリズム等を用いて2本の光
ビームに分割し、第11A図に示すように、一方の光ビ
ーム(測定光ビームLm)をカンチレバー14の先端部
(測定点)に、他方の光ビーム(基準光ビームLr)を
支持部16に近いカンチレバー14の固定端部(基準点
)に照射し、 これらの反射光を干渉させることにより
、基準点に対する相対的な動きとして測定点の動きを測
定する。 このヘテロダイン法は、基準点に対するカン
チレバー部の動きを測定するため、圧電素子などを用い
て探針を加振・変調しながら測定するときに有効である
例えば、ヘテロダイン法をカンチレバーの変位測定系に
組み込んだ走査型プローブ顕微鏡の一例が特願平2−1
28332号公報に示される。
一般に走査型プローブ顕微鏡では、機械的共振周波数や
バネ定数の異なるカンチレバーを測定条件や測定試料に
応じて使い分ける。カンチレバーの共振周波数やバネ定
数は、カンチレバーを構成する材料の性質や機械的形状
で決まる。共振周波数やバネ定数の異なるカンチレバー
の作製には、製造工程を変更することなく作製できると
いう利点から、カンチレバーの材質を変えるよりも、機
械的形状を変えることがよく行なわれている。
しかし、機械的形状−特にカンチレバーの長さ−を変え
ることにより特性を変化させたカンチレバーでは、ヘテ
ロダイン法を用いた変位測定の際に次のような不都合が
ある。ヘテロダイン法で使用する2本の光ビームの間隔
はウオーラストンプリズムの特性や集光レンズの開口数
で決まり、カンチレバーの長さに応じてこの間隔を調整
することはできない。
このため、長いカンチレバーを使用した場合、第11B
図の示すように測定光ビームがカンチレバー14の中程
に照射されるためにカンチレバーの先端部の約半分の変
位しか検出できない、逆に短いカンチレバーを使用した
場合、第11C図に示すように基準光ビームが支持部1
6に照射されるようになり2本の光ビームの間に光路差
が生じるため設計上このましくない、 さらに支持部は
かなり厚いので測定光ビームの集光位置をカンチレバー
面に合わせると、支持部に照射される基準光ビームが非
合焦状態となり正確な測定ができなくなる。
このように従来はヘテロダイン法による変位検出に適し
たカンチレバーがなかった。
この発明は、ヘテロダイン法により変位を測定する光学
系を備えた走査型プローブ顕微鏡に適したカンチレバー
を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明の走査型プローブ顕微鏡用カンチレバーは、カ
ンチレバー部の先端部と基準部とに光を照射して基準部
に対する先端部の変位を測定する変位測定系を備えた走
査型プローブ顕微鏡に用いるカンチレバーであって、鋭
く尖った探針を先端部に有し、探針が力を受けた際に弾
性変形する柔軟なカンチレバー部と、カンチレバー部を
支持する支持部と、カンチレバー部の先端部から所定の
距離だけ離れた位置に設けられた基準部とを備える。
[作用] この発明よるカンチレバーでは、カンチレバー部の先端
部の動きを検出する際の基準となる基準部は、カンチレ
バー部の長さとは無関係に先端部から所定の距離に設け
られている。 したがって、ビームの間隔を変更できな
いヘテロダイン法を用いた変位測定系に適用しても、常
に測定光ビーム  −はカンチレバー部の先端部に、基
準光ビームは基準部に照射される。このため、変位測定
系を調整することなく、長さ(特性)の異なるカンチレ
バー部を使用することができる。
[実施例] 以下、図面を参照しながら本発明の実施例のカンチレバ
ーについて説明する。
本発明によるカンチレバーの斜視図を第1A図に、その
I−1断面図を第1B図に示す、カンチレバーIOは、
探針12を先端に備える3角形状のカンチレバー部14
と、これを支持する板状の支持部16とを有する。カン
チレバー部14は、これと一体的に形成された固定部1
8が支持部16の底面に固着している。支持部16には
矩形状の開口部20が設けられていて、固定部18の一
部である基準部22が露出している。この開口部20は
、カンチレバー部14の先端部と基準部22の中心との
間隔がヘテロダイン法を用いた変位測定系のビーム間隔
dに等しくなる位置に設けられる。
3種類の異なる長さのカンチレバー部14を持ったカン
チレバー10に対して、 テロダイン法を用いた変位測
定系を適用した際の様子を第2八図ないし第2C図に示
す0本発明のカンチレバー1Oでは、カンチレバー部1
4の先端部と基準部22の中心との間隔がカンチレバー
部14の長さにかかわらず常に一定間隔dであるから、
基準光ビームLrを基準部22に照射したとき、いずれ
の場合にも測定光ビームLmが理想的にカンチレバー部
14の先端部に照射される。 したがってバネ定数等の
異なるカンチレバーを取り替えながら使用する際に変位
測定系に調整を加える必要性が全くない。
このようなカンチレバー10は半導体IC製造プロセス
を応用して作製することができる。実際に本発明者らは
第1A図及び第1B図に示したカンチレバーを作製した
。以下、 その製造方法を第3A図ないし第3D図を参
照して説明する。まずSiウェハー100 ((100
)面)を洗浄したのち、熱酸化によりSiウェハー10
0上にloo[nm]の厚さで5in2膜102を形成
した6次いでレジスト材104をコーティングし、マス
クアライナ−で探針用パターンとして5μmφの円形に
露光した。現像処理後、SF6とCIF、をエツチング
ガスとする異方性プラズマエツチングにより、残ったレ
ジスト材104をマスクとしてS i02膜102及び
S1ウエハー100をエツチングした(第3A図)、残
ったSiのポスト106はレジスト材104の存在のた
めにやや傾いていた。その後、 レジスト材104及び
S to2膜102を取り除いて更にプラズマエツチン
グを行なった。 この粘気 第3B図に示すように鋭く
尖った突起部108がSiウェハー100に形成された
9次に第3C図に示すようにSiウェハー100の上下
面に1.5cμm]厚の5iQ21[110・112を
形成した。つづいて、下面の5in2膜112にレジス
ト材をコーティングしたのち、フォトリソグラフにより
カンチレバー部や開口部を形成するためのパターンを形
成し、このパターンをマスクとして水酸化カリウム水溶
液を用いたSiの異方性エツチングにより上面の5in
2膜110が露出するまでマスクされていない部分をエ
ツチングした。
二の粘気 第3D図に示すようにカンチレバー部10が
作製された。なお開口部は250[μm]角の大きさに
形成した。
このように作製したカンチレバーlOでは、カンチレバ
ー部14および基準部22の構成材料が共に5in2で
あるから両者の反射帯は等しく、カンチレバー部14と
基準部22に照射する光ビームの反射光量に対して補正
を施す必要がなくなるという利点がある。もちろん、変
位測定系のS/N比を向上させるため、金などの光反射
性金属膜をカンチレバー部14および基準部22に設け
ることもできる。
上述したように半導体ICプロセスを用いてSiウェハ
ーからカンチレバーを作製する場合、 1枚のSiウェ
ハーから1種類のカンチレバーを作製しても良いが、第
4図に示すように、 1枚のSiウェハー100に異な
る長さのカンチレバー部14を持った数種類のカンチレ
バー10を同時に作製することもできる。この場合、露
光用のマスクをカンチレバー部の長さに応じた数だけ準
備する必要がないという利点がある。同図は、 3種類
の異なる長さのカンチレバー114を持ったカンチレバ
ー10が18個作製されているSiウェハー100を上
から見た様子を示している9図において、カンチレバー
部14の長さや基準部22の位置は実際の寸法を反映し
ていないが、各カンチレバー10における基準部22と
カンチレバー部14の先端部との間隔は常に一定値dに
なっている。
次に別のタイプのカンチレバーを第5A図および第5B
図を参照しながら説明する。第5A図はカンチレバーの
斜視図、第5B図はそのv−■断面図を示す、この例の
カンチレバー10は、支持部16に設けた開口部20の
形状を除けば上述したものと同じである。この例では、
開口部20が矩形ではなく、カンチレバー部14に向か
って開放した状態に形成されている。 このため、カン
チレバー部14の上面に連続した状態に基準部22が形
成されている。なお、開口部20の幅は、カンチレバー
部14の振動モードを可能な限り第1A図のような理想
的な片持ち梁に近づけるため、カンチレバー部14の固
定端部の幅よりも狭くすることが好ましい。
それぞれが異なる長さのカンチレバー部14を持った3
種類のカンチレバー10に対して、ヘテロダイン法を用
いた変位測定系を適用した際の様子を第6A図ないし第
6C図に示す、上述したタイプのカンチレバーと同様に
、測定光ビームLL1および基準光ビームL「が理想的
にカンチレバー部14の先端部および基準部22にそれ
ぞれ照射される。 したがって特性の異なるカンチレバ
ーを取り替えながら使用する際に変位測定系を調整する
必要がない。
このようなカンチレバー10を上述のカンチレバーと同
様の方法を用いて作製した。ただ、最終工程でフォトリ
ングラフでカンチレバー部14と基準部22をパターニ
ングする際に基準部22のマスクとしてカンチレバー側
に開放したものを使用した点だけが異なる。 この結果
、 カンチレバー部14の固定端部の形状は、水酸化カ
リウム水溶液を用いたSiの異方性エツチングのため、
きれいに直角とならず、開口がカンチレバー部14に向
かって広がる形となった。 しかしカンチレバーは、ヘ
テロダイン法による変位測定系に適したものであった。
さらに別のタイプのカンチレバーを第7図に示す、この
カンチレバー10では、長さの異なる3本のカンチレバ
ー部14が1つの支持部16に設けられている。 1組
のカンチレバー部14と基準部22に注目すれば、その
構成は第1A図(二足したカンチレバーと同じであり、
各組のカンチレノく一部14の先端部と基準部22の中
心部との間隔はいずれも一定距離dである。 したがっ
て第2A図ないし第2C図に示したように、測定光ビー
ムLmおよび基準光ビームLrはそれぞれカンチレバ−
部14の先端部および基準部22の中心部に照射され、
調整を必要とすることなくヘテロダイン法を用いた変位
測定系に適用できる。なお、測定時には必要なカンチレ
バー部14以外を取り去って使用する。
長さがそれぞれ80(:μmコ・120[μlll]・
160[μal]の3本のカンチレバー部14を持つこ
のようなカンチレバー10を第3A図ないし第3D図に
示したのと同様な方法で作製した。 このとき、カンチ
レバー部14の先端部から基準部22の中心部までの距
離dは800[μm1  基準部22の大きさは200
[μIコにした。測定の際、使用しないカンチレバー部
14は走査の邪魔にならないように折って取り除いた。
このように作製したカンチレバーも、ヘテロダイン法の
変位測定系を組み込んだ走査型プローブ顕微鏡に適した
ものであった。
また更に別のタイプのカンチレバーを第8図に示す、こ
の例では、基準部22は細長い長方形に形成されていて
、その長辺しは、最も長いカンチレバー14の長さと最
も短いカンチレバー部14の長さとの差Sよりも長くし
である。 これにより。
どのカンチレバー部14に対してもその先端部と基準部
22との間に距離dを確保できる。
この発明によるカンチレバーの別の実施例を第9A図に
示す、基準部は、外部からの機械的振動に対して強いこ
とが望ましい、基準部の振動は。
変位測定系の変位検出に影響がでない程度であれば許さ
れるが、少なければ少ないほどよい、このためには、基
準部の厚さを増して機械的共振周波数を高周波数側に設
定することが有効である。この実施例のカンチレバー1
0はこの主旨に沿って作られたもので、カンチレバー部
14の一部を覆うように支持部16から一体的に突出し
た基準部22が設けられている。基準部22はカンチレ
バー部14よりも厚く形成されていて、その機械的共振
周波数はカンチレバー部14のそれよりも高く設定され
ている。これにより基準部22は上述の条件を満足する
。 しかも基準部22は、カンチレバー部14の先端部
から距離dだけ離れた位置に設けられている、 これに
より、上述の実施例と同様に測定光ビームLI11がカ
ンチレバー部14の先端部に、基準光ビームLrが基準
部22に照射される。 しかも基準部22は、そこに集
光される基準光ビームのスポット形状がカンチレバー部
14の先端部に集光される測定光ビームのそれと大きく
異ならないように、支持部16の上面よりも低い位置に
一体的に形成されている。異なる長さのカンチレバー部
14を作製する際は、先端から基準部22までの距離り
は一定にしたまま、基準部22などに覆われている部分
の長さkを変えることにより対応する。なお、カンチレ
バー部14と基準部22との段差は、測定する試料や走
査型プローブ顕微鏡の測定法により異なるが、 100
[nm]ないし数10[nm]程度に設定する二とが望
ましbs、L2!lムしながら、 この値は本発明を何
等限定するものではない。
長さの異なる複数のカンチレバー部14を備えたカンチ
レバー10の例を第9B図に示す、どのカンチレバー部
14に対しても、その先端から基準部22までの距離は
同じで、基準部22などで覆われた部分の長さが異なっ
ている。同様な機能を持つカンチレバーを作製するには
、 カンチレバーの付は根を揃えるように支持部側を加
工することも考えられるが、 この図のような構成の方
が。
細かなバターニングを施す部分の体積が少なくて済むな
どの理由から1本発明のカンチレバーを容易に作製する
ことができる。
本発明によるカンチレバーの更に別の実施例を第10図
に示す、この実施例のカンチレバー10は、カンチレバ
ー部14・探針12・支持部16などは第5B図の例に
類似しているが、作製プロセスが異なる。支持部16は
ガラスを張り付けて作製してあり、カンチレバー部14
および基準部22は窒化シリコンで、その下の部分24
はシリコンで構成されている。支持部16のガラスは。
陽極接合法によりシリコンあるいは窒化シリコンに接合
されている。この実施例のカンチレバーIOは基準部2
2が外部からの振動に対して非常に強いという利点があ
る。なお、支持部16をシリコンで、基準部22または
その下の部分24をガラスで構成してカンチレバー10
を作製する二ともできる。このようなカンチレバー10
は、走査型プローブ顕微鏡に取り付けて測定する際には
、基準部22の下の部分24が厚いために試料に対して
傾けて取り付けられる。
次に本発明者らが実際に行なった作製方法を説明する。
 まずS1ウエハーを洗浄した後、Si、N4をCVD
により150[nm]堆積し、探針部をSiのエツチン
グ跡をレプリカとして作製するため、フォトリソグラフ
によりSi、N4に5[μm]角の穴を開け、次いで水
酸化カリウム水溶液を用いてSiを異方性エツチングし
て四角錐型の六をSiに開けた6次に、プラズマエツチ
ングにより一度Sj、N、を取り去った後、改めてSi
、N4を四角錐型の穴も含め表面全体にわたりCVDに
より500[nm]堆積した。そして、更に1100℃
の水蒸気中でアニーリングして、わずかに3102をS
i、N4上に付けた後、 フォトリソグラフによりカン
チレバー形状などを露光パターニングした。
その一方で、パイレックスガラス(コーニング$ 77
40)を上記のSiウェハーに陽極接合する前に。
カンチレバーを切り分けるための溝と、カンチレバー部
にパイレックスガラスが付かないようにするための溝と
、基準部の開口部となる溝をダイシングソーにより加工
した3次いで、先はどのSiウェハーとパイレックスガ
ラスを陽極接合により接合し、カンチレバーの部分を先
はど付けた溝とは反対側からダイシングソーにより溝を
いれて個々を切り離してカンチレバーを完成した。
このように、 カンチレバーを構成する材料には、半導
体IC製造プロセスを用いて作製することから、Siに
代表される半導体材料やそれより派生した化合物などが
よく用いられる。支持部や基準部などは、陽極接合を用
いてガラスなどをSiに接合して作製しても良く、本発
明のカンチレバーを構成する材料としてガラスなどもよ
く用いられる。
光学的にカンチレバーや基準部の変位を捕らえることか
ら、各部位における光の反射率は、測定精度を左右する
ことから重要であり、同じ材料で構成して反射率を揃え
たり、構成材料に応じてカンチレバーや基準部に反射コ
ーティングを施したりすることが好ましい。
本発明のカンチレバーは、ヘテロダイン法を用いた変位
測定系を組み込んだ走査型プローブ顕微鏡において好適
に用いられるが、本発明はそのような変位測定系の方式
により限定されない1例えば、 1つの光源より発せら
れた光ビームを複数に分けて作った光ビームや、複数の
光源より発せられた複数の光ビームをカンチレバー部と
基準部にそれぞれ照射して両者の相対的な位置変化を捕
らえる方式ならば、 ヘテロダイン方式に限らず良好に
適用できる。
[発明の効果コ 本発明によれば、ヘテロダイン法を用いた変位計測系を
組み込んだ走査型プローブ顕微鏡に適したカンチレバー
を提供することができる。すなわち、機械的共振周波数
やバネ定数を選んで測定するために、長さの異なるカン
チレバーを使用しても、走査型プローブ顕微鏡側では何
も調整することなく使用することができる。従って、測
定前の装置の調整に必要な時間も極めて短くすることが
でき、短時間で測定データを得ることができるようにな
る。また、本発明のカンチレバーは半導体ICプロセス
を応用して作製するため、 μmの高精度で非常に再現
性よく作製することができ、バッチプロセスで作製する
ことによりコスト的にも低価格のものを提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1A図は、本発明の一実施例によるカンチレバーの斜
視図、 第1B図は、第1A図のカンチレバーのI−1断面図、 第2A図ないし第2C図は、第1A図及び第1B図に示
したカンチレバーに対してテロダイン法を用いた変位測
定系を適用した様子を示す図、第3A図ないし第3D図
は、第1A図及び第1B図に示したカンチレバーの作製
方法を説明する図、 第4図は、第1A図及び第1B図に示したカンチレバー
を1枚の51ウエハー上に複数形成した様子を示す図、 第5A図は、別のタイプのカンチレバーの斜視図。 第5B図は、第5A図のカンチレバーのv−v断面図、 第6A図ないし第6C図は、第5A図及び第5B図に示
したカンチレバーに対してテロダイン法を用いた変位測
定系を適用した様子を示す図、第7図は、 さらに別の
タイプのカンチレバーを示す図、 第8図は、 また更に別のタイプのカンチレバーを示す
図、 第9A図及び第9B図は、本発明のカンチレバーの別の
実施例を示す図、 第10図は、本発明のカンチレバーの更に別の実施例を
示す図、 第11A図ないし第11C図は、従来のカンチレバーに
生じる不都合を説明する図である。 なお図において、 12は探針、 14はカンチレバー
部、 16は支持部、 22は基準部である。 出願人代理人 弁理士 坪 井  淳 ■ 第1A図 第18図 第2A図 128図 1113A図 7−コ 第3B図 13c図 第3D図 *1+図 ■ 第5A図 第58IIA 6AtA 11168図 l6c55 第7uA 第8図 @9A図 第98図 1i10tlA 第11Arl!J J11118rlA I111CtJA

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 カンチレバー部の先端部と基準部とに光を照射して基準
    部に対する先端部の変位を測定する変位測定系を備えた
    走査型プローブ顕微鏡に用いるカンチレバーであつて、 鋭く尖った探針を先端部に有し、探針が力を受けた際に
    弾性変形する柔軟なカンチレバー部と、カンチレバー部
    を支持する支持部と、 カンチレバー部の先端部から所定の距離だけ離れた位置
    に設けられた基準部とを備える走査型プローブ顕微鏡用
    カンチレバー。
JP30680490A 1990-03-01 1990-11-13 走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー Pending JPH04179042A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005156525A (ja) * 2003-10-31 2005-06-16 Seiko Instruments Inc メカニカルセンサーおよびそれを用いた分析システム

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JP2005156525A (ja) * 2003-10-31 2005-06-16 Seiko Instruments Inc メカニカルセンサーおよびそれを用いた分析システム

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