JPH04180876A - 炉芯管洗浄装置 - Google Patents
炉芯管洗浄装置Info
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- JPH04180876A JPH04180876A JP2309686A JP30968690A JPH04180876A JP H04180876 A JPH04180876 A JP H04180876A JP 2309686 A JP2309686 A JP 2309686A JP 30968690 A JP30968690 A JP 30968690A JP H04180876 A JPH04180876 A JP H04180876A
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- Japan
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- core tube
- furnace core
- tube
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- Pending
Links
- 238000005406 washing Methods 0.000 title abstract 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 30
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 208000034809 Product contamination Diseases 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は炉芯管洗浄装置に関し、特に縦型拡散炉や縦型
減圧式気相成長装置に使用される内管及び外管からなる
炉芯管の洗浄装置に関する。
減圧式気相成長装置に使用される内管及び外管からなる
炉芯管の洗浄装置に関する。
従来、この種の炉芯管洗浄装置は、水平に支持された炉
芯管内管及び外管をそれぞれに洗浄機内で回転ローラに
載せて回転させながら、装置内に併設された薬液ノズル
より薬液を吐出させ炉芯管の洗浄を行なっていた。
芯管内管及び外管をそれぞれに洗浄機内で回転ローラに
載せて回転させながら、装置内に併設された薬液ノズル
より薬液を吐出させ炉芯管の洗浄を行なっていた。
炉芯管内管は両端が開口された構造であり、薬液を炉芯
管軸心より下の位置まで入れて洗浄槽内で回転させ、炉
芯管内外面の洗浄を行なっていた。また炉芯管外管は一
端が封止され他端が開口された構造であり、開口に封を
して内部に薬液を軸心より下の位置まで入れ、回転させ
て炉芯管内面の洗浄を行なっていた。
管軸心より下の位置まで入れて洗浄槽内で回転させ、炉
芯管内外面の洗浄を行なっていた。また炉芯管外管は一
端が封止され他端が開口された構造であり、開口に封を
して内部に薬液を軸心より下の位置まで入れ、回転させ
て炉芯管内面の洗浄を行なっていた。
上述した従来の炉芯管洗浄装置では、特に縦型拡散炉や
縦型減圧式気相成長装置に使用される炉芯管外管の洗浄
時は、封止端中心部に十分洗浄液が当たらず良好な洗浄
は出来なかった。また、後者装置の炉芯管内管の洗浄に
おいては、洗浄機内の炉芯管回転用のローラとの接触に
より内管の外周面の汚染を招いていた。
縦型減圧式気相成長装置に使用される炉芯管外管の洗浄
時は、封止端中心部に十分洗浄液が当たらず良好な洗浄
は出来なかった。また、後者装置の炉芯管内管の洗浄に
おいては、洗浄機内の炉芯管回転用のローラとの接触に
より内管の外周面の汚染を招いていた。
上記の理由により後の製品処理時にウェハの汚染や、パ
ーティクルの付着により歩留りの低下を発生させていた
。
ーティクルの付着により歩留りの低下を発生させていた
。
また、炉芯管外管封止端部に洗浄液を当てるために、よ
り多くの洗浄液を必要としていた。
り多くの洗浄液を必要としていた。
上述した従来の炉芯管洗浄装置に対して、本発明の炉芯
管外管を斜めに支持し、この炉芯管外管内に細心を合わ
せて炉芯管内管を挿入して支持し、その後洗浄液を入れ
、炉芯管外管を洗浄槽として使用し、それらを−緒に回
転させ炉芯管外管内面と炉芯管内管全面を同時に洗浄す
るという相違点を有する。
管外管を斜めに支持し、この炉芯管外管内に細心を合わ
せて炉芯管内管を挿入して支持し、その後洗浄液を入れ
、炉芯管外管を洗浄槽として使用し、それらを−緒に回
転させ炉芯管外管内面と炉芯管内管全面を同時に洗浄す
るという相違点を有する。
本発明は、薬液を吐出させて炉芯管を洗浄する炉芯管洗
浄装置において、封止端を下にし開口端を上にして斜め
に支持された炉芯管外管内に両端が開口された炉芯管内
管を挿入して中空状に支持し、炉芯管外管内に薬液を入
れて炉芯管外管を洗浄槽として使用し、この炉芯管外管
を鉛直軸まわりに回転させて炉芯管外管内面と炉芯管内
管全面とを同時に洗浄する炉芯管洗浄装置である。
浄装置において、封止端を下にし開口端を上にして斜め
に支持された炉芯管外管内に両端が開口された炉芯管内
管を挿入して中空状に支持し、炉芯管外管内に薬液を入
れて炉芯管外管を洗浄槽として使用し、この炉芯管外管
を鉛直軸まわりに回転させて炉芯管外管内面と炉芯管内
管全面とを同時に洗浄する炉芯管洗浄装置である。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の断面図である。
炉芯管外管１および炉芯管内管２．はそれぞれ炉芯管外
管受け３．炉芯管内管受け４により洗浄槽５内に支持さ
れる。
管受け３．炉芯管内管受け４により洗浄槽５内に支持さ
れる。
炉芯管内管を支持する内管受け４は２分割されており、
上下で炉芯管内管２を支持してその周囲に設けられた複
数の爪により外管の内壁に中空状に支持される。また、
炉芯管外管受け３は、鉛直軸ａまわりに回転する回転テ
ーブル（図示せず）上に取り付けられた炉芯管領斜軸受
け６に軸支され、この軸受にはまったビニオンを回転テ
ーブル上に設けたラックを移動させることにより回転さ
せ、炉芯管外管受け３をθ方向に傾斜させるようになっ
ている。
上下で炉芯管内管２を支持してその周囲に設けられた複
数の爪により外管の内壁に中空状に支持される。また、
炉芯管外管受け３は、鉛直軸ａまわりに回転する回転テ
ーブル（図示せず）上に取り付けられた炉芯管領斜軸受
け６に軸支され、この軸受にはまったビニオンを回転テ
ーブル上に設けたラックを移動させることにより回転さ
せ、炉芯管外管受け３をθ方向に傾斜させるようになっ
ている。
この装置を使用し、炉芯管領斜軸受け６の回りに炉芯管
領斜角θを鉛直軸ａより６１分傾斜させ、鉛直軸ａを中
心に回転させつつ薬液吐出ノズル７より必要な薬液を出
し、炉芯管外管１の内部及び炉芯管内管２の内外面のエ
ツチングを同時に行う６ エツチング完了後、傾斜角θをθ２ （但しθ１〈θ２
＜９０）とし、炉芯管外管１内のエツチング液を一
部残して廃液後再度傾斜角をθ１とし、炉芯管外管１内
に薬液吐出ノズル７より純水を出し、炉芯管を純水洗浄
するものである。
領斜角θを鉛直軸ａより６１分傾斜させ、鉛直軸ａを中
心に回転させつつ薬液吐出ノズル７より必要な薬液を出
し、炉芯管外管１の内部及び炉芯管内管２の内外面のエ
ツチングを同時に行う６ エツチング完了後、傾斜角θをθ２ （但しθ１〈θ２
＜９０）とし、炉芯管外管１内のエツチング液を一
部残して廃液後再度傾斜角をθ１とし、炉芯管外管１内
に薬液吐出ノズル７より純水を出し、炉芯管を純水洗浄
するものである。
なお、炉芯管内より廃液された薬液や純水は、洗浄槽５
内に設けられた廃液口８より外部へ廃液される。
内に設けられた廃液口８より外部へ廃液される。
以上説明したように、本発明は縦型拡散炉や縦型減圧式
気相成長装置に使用される炉芯管を洗浄時の汚染無く洗
浄することが可能であり、製品の汚染を防止し歩留りの
向上が期待できる。また、炉芯管外管と炉芯管内管を同
時に洗浄することが可能なために、洗浄液の使用量低減
９作業時間の短縮が可能である。
気相成長装置に使用される炉芯管を洗浄時の汚染無く洗
浄することが可能であり、製品の汚染を防止し歩留りの
向上が期待できる。また、炉芯管外管と炉芯管内管を同
時に洗浄することが可能なために、洗浄液の使用量低減
９作業時間の短縮が可能である。
第１図は本発明の炉芯管洗浄装置の断面図である。
１・・・炉芯管外管、２・・・炉芯管内管、３・・・炉
芯管外管受け、４・・・炉芯管内管受け、５・・・洗浄
槽、６・・・炉芯管領斜軸受け、７・・・薬液吐出ノズ
ル、８・・・廃液口、ａ・・・鉛直軸、θ・・・傾斜角
。
芯管外管受け、４・・・炉芯管内管受け、５・・・洗浄
槽、６・・・炉芯管領斜軸受け、７・・・薬液吐出ノズ
ル、８・・・廃液口、ａ・・・鉛直軸、θ・・・傾斜角
。
Claims (1)
- 薬液を吐出させて炉芯管を洗浄する炉芯管洗浄装置に
おいて、封止端を下にし開口端を上にして斜めに支持さ
れた炉芯管外管内に両端が開口された炉芯管内管を挿入
して中空状に支持し、炉芯管外管内に薬液を入れて炉芯
管外管を洗浄槽として使用し、この炉芯管外管を鉛直軸
まわりに回転させて炉芯管外管内面と炉芯管内管全面と
を同時に洗浄することを特徴とする炉芯管洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2309686A JPH04180876A (ja) | 1990-11-15 | 1990-11-15 | 炉芯管洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2309686A JPH04180876A (ja) | 1990-11-15 | 1990-11-15 | 炉芯管洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04180876A true JPH04180876A (ja) | 1992-06-29 |
Family
ID=17996062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2309686A Pending JPH04180876A (ja) | 1990-11-15 | 1990-11-15 | 炉芯管洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04180876A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003133247A (ja) * | 2001-10-25 | 2003-05-09 | Nec Kyushu Ltd | チューブ洗浄装置およびその洗浄方法 |
| CN108580486A (zh) * | 2018-03-22 | 2018-09-28 | 山东中邦新材料科技发展有限公司 | 一种涂料桶清洗机构 |
-
1990
- 1990-11-15 JP JP2309686A patent/JPH04180876A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003133247A (ja) * | 2001-10-25 | 2003-05-09 | Nec Kyushu Ltd | チューブ洗浄装置およびその洗浄方法 |
| CN108580486A (zh) * | 2018-03-22 | 2018-09-28 | 山东中邦新材料科技发展有限公司 | 一种涂料桶清洗机构 |
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