JPH0418714A - 超電導磁石支持装置 - Google Patents
超電導磁石支持装置Info
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- JPH0418714A JPH0418714A JP12217190A JP12217190A JPH0418714A JP H0418714 A JPH0418714 A JP H0418714A JP 12217190 A JP12217190 A JP 12217190A JP 12217190 A JP12217190 A JP 12217190A JP H0418714 A JPH0418714 A JP H0418714A
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- Japan
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- superconducting
- magnetic field
- cylindrical
- superconducting magnet
- magnet
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- Pending
Links
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Landscapes
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は冷却装置を用いる超電導磁石装置の支持装置に
関する。
関する。
（従来の技術）
従来、超電導コイルに永久電流を流して用いる超電導磁
石は、冷却容器内にてＦＲＰか、もしくは金属棒などの
材料からなる支持部材で支えられている。
石は、冷却容器内にてＦＲＰか、もしくは金属棒などの
材料からなる支持部材で支えられている。
（発明が解決しようとする問題点）
上記の従来の超電導コイルの支持方法を用いた超電導磁
石装置では、室温よりの熱侵入がかなり大きいことが知
られている。そして、このために、ヘリウムなとの冷媒
の蒸発量が大きくなっている。
石装置では、室温よりの熱侵入がかなり大きいことが知
られている。そして、このために、ヘリウムなとの冷媒
の蒸発量が大きくなっている。
この熱侵入の大部分は超電導磁石を容器内で支持してい
る部材を通す伝導熱である。本発明は、冷却装置内の超
電導コイルを非接触で支持して伝導熱をゼロにすること
を目的きする。
る部材を通す伝導熱である。本発明は、冷却装置内の超
電導コイルを非接触で支持して伝導熱をゼロにすること
を目的きする。
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段）
上記の目的を達成するため、冷却室中にて、ピン止め力
の強い筒型超電導体に残留磁場を形成し、この筒型超電
導体の内部に電流を流して超電導磁石化した超電導コイ
ルを入れることにより、残留磁場のピークの位置に非接
触で浮上させることができた。
の強い筒型超電導体に残留磁場を形成し、この筒型超電
導体の内部に電流を流して超電導磁石化した超電導コイ
ルを入れることにより、残留磁場のピークの位置に非接
触で浮上させることができた。
（作用）
本発明の装置を図面に基づいて説明する。本発明では超
電導材料として臨界電流密度が大きく、ピン止め効果の
大きいものを用いる。たとえば第２図に製法を示すよう
なビスマス系超電導材料などが用いられる。もちろん、
このほかの超電導材料でも要求される性能を満たせば用
いることができる。超電導体を筒状に形成する方法とし
ては粉末焼結法、厚膜法、簿膜法ほかの公知の手段があ
るが、中間加圧することで臨界電流密度、ピン止め能力
などの性能向上がはかれる材料については、冷間静水圧
プレスなどで適宜に加圧処理する。
電導材料として臨界電流密度が大きく、ピン止め効果の
大きいものを用いる。たとえば第２図に製法を示すよう
なビスマス系超電導材料などが用いられる。もちろん、
このほかの超電導材料でも要求される性能を満たせば用
いることができる。超電導体を筒状に形成する方法とし
ては粉末焼結法、厚膜法、簿膜法ほかの公知の手段があ
るが、中間加圧することで臨界電流密度、ピン止め能力
などの性能向上がはかれる材料については、冷間静水圧
プレスなどで適宜に加圧処理する。
このような材料で作られた筒型超電導体は残留磁場を形
成することができる。残留磁場を形成するためには、外
部から磁場を印加する必要がある。
成することができる。残留磁場を形成するためには、外
部から磁場を印加する必要がある。
外部磁場の印加の方法としては、第３図に示すように、
筒型超電導体１を冷却して超電導状態にし、電磁石４に
より超電導体内部に侵入するほどの強い外部磁場を印加
する。その後、外部磁場を取り除くと、超電導体内に磁
場がトラップされて、第４図に示すような残留磁場分布
Ｓが形成される。
筒型超電導体１を冷却して超電導状態にし、電磁石４に
より超電導体内部に侵入するほどの強い外部磁場を印加
する。その後、外部磁場を取り除くと、超電導体内に磁
場がトラップされて、第４図に示すような残留磁場分布
Ｓが形成される。
残留磁場を形成する方法としては、この他に、常電導状
態で外部磁場を印加しながら冷却することにより超電導
状態とした後に外部磁場を取り除いて残留磁場を形成さ
せる方法もある。
態で外部磁場を印加しながら冷却することにより超電導
状態とした後に外部磁場を取り除いて残留磁場を形成さ
せる方法もある。
外部磁場とし、では電磁石と永久磁石のいずれを用いて
も、目的とする強さの磁場を印加できればよい。また、
外部磁場の印加は目的にあえば筒状体の内、外いずれか
らでも構わない。
も、目的とする強さの磁場を印加できればよい。また、
外部磁場の印加は目的にあえば筒状体の内、外いずれか
らでも構わない。
残留磁場が形成されている筒型超電導体１の内部に、第
５図に示すように、冷却され超電導状態にある超電導コ
イルに電流リード５を通じて電流を供給した超電導磁石
を入れると、第１図のように、超電導磁石２は筒型超電
導体１の残留磁場分布Ｓのピーク位置に浮」−静止する
。
５図に示すように、冷却され超電導状態にある超電導コ
イルに電流リード５を通じて電流を供給した超電導磁石
を入れると、第１図のように、超電導磁石２は筒型超電
導体１の残留磁場分布Ｓのピーク位置に浮」−静止する
。
また、筒型超電導体Ｉの残留磁場分布のピークの位置を
変えることにより、超電導磁石２を任意の位置に設置す
ることができる。
変えることにより、超電導磁石２を任意の位置に設置す
ることができる。
［発明の効果コ
本発明の支持装置により超電導コイルの侵入熱の大部分
を占める伝導熱をなくすることができ、超電導コイルを
冷やす液体ヘリウムなどの冷媒のの蒸発量を減少させる
ことができる。また、筒型超電導体が磁気シールどの役
割を果たし、超電導磁石の磁場が外部に漏れることを防
ぐとともに、外部から磁場が超電導磁石に影響を与える
ことも防ぐ効果がある。
を占める伝導熱をなくすることができ、超電導コイルを
冷やす液体ヘリウムなどの冷媒のの蒸発量を減少させる
ことができる。また、筒型超電導体が磁気シールどの役
割を果たし、超電導磁石の磁場が外部に漏れることを防
ぐとともに、外部から磁場が超電導磁石に影響を与える
ことも防ぐ効果がある。
第１図は本発明の超電導磁石装置の説明図、第２図はビ
スマス系超電導材料の製法を示す図、第３図、第４図は
筒型超電導体に残留磁場を形成させる方法の説明図、第
５図は超電導コイルに電流を供給する説明図である。 １・・・筒型超電導体、２・・・超電導磁石、Ｓ・・・
残留磁場分布、４・・・電磁石、５・・・電流リード。 倚 寸 拍
スマス系超電導材料の製法を示す図、第３図、第４図は
筒型超電導体に残留磁場を形成させる方法の説明図、第
５図は超電導コイルに電流を供給する説明図である。 １・・・筒型超電導体、２・・・超電導磁石、Ｓ・・・
残留磁場分布、４・・・電磁石、５・・・電流リード。 倚 寸 拍
Claims (1)
- （１）残留磁場を形成した筒型超電導体の内部に超電導
磁石を浮上させたことを特徴とする超電導磁石支持装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12217190A JPH0418714A (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 超電導磁石支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12217190A JPH0418714A (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 超電導磁石支持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0418714A true JPH0418714A (ja) | 1992-01-22 |
Family
ID=14829334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12217190A Pending JPH0418714A (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 超電導磁石支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0418714A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5644650A (en) * | 1994-04-06 | 1997-07-01 | J. Morita Manufacturing Corporation | Method and apparatus for digitally displaying an enhanced X-ray image |
-
1990
- 1990-05-11 JP JP12217190A patent/JPH0418714A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5644650A (en) * | 1994-04-06 | 1997-07-01 | J. Morita Manufacturing Corporation | Method and apparatus for digitally displaying an enhanced X-ray image |
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