JPH04188003A - パターン・マッチング型光ヘテロダイン干渉測定装置 - Google Patents

パターン・マッチング型光ヘテロダイン干渉測定装置

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JPH04188003A
JPH04188003A JP2318737A JP31873790A JPH04188003A JP H04188003 A JPH04188003 A JP H04188003A JP 2318737 A JP2318737 A JP 2318737A JP 31873790 A JP31873790 A JP 31873790A JP H04188003 A JPH04188003 A JP H04188003A
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JP
Japan
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measurement
measured
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data
scanning range
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JP2318737A
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Takuji Teramoto
寺本 卓司
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Brother Industries Ltd
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Brother Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、測定方向への被測定物との間の相対移動を伴
って測定を行なう光ヘテロダイン干渉測定装置に関し、
特に被測定物との間の相対移動を狭い範囲にわたり行い
測定した重なり合う複数の狭走査範囲測定データを、重
複部分でのデータ整合をとることにより、任意の走査範
囲の測定データに変換するパターン・マツチング型光ヘ
テロゲイン干渉測定装置に関するものである。
[従来の技術] 同一の光源から出射された互いに周波数か異なる計測ビ
ームと参照ビームとを用いて、その計測ビームを対物レ
ンズにより被測定物の表面に集光させると共にその表面
で反射された反射光と前記参照ビームとを干渉させ、そ
の干渉光を光センサに入射させることにより計測ビート
信号を取り出し、その計測ビート信号の周波数変化や位
相変化に基−1Ls7・例え(f表面形状や表面粗さな
宍’ (7) 渭J定を行なう”光ヘテロダイン干渉測
定装置が考えられている。このような光ヘテロダイン干
渉測定装置では測定方向に垂直な方向への被測定物との
間の相対移動すなわち走査は被測定物を搭載した移動テ
ーブルを利用していた。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、このような光ヘテロダイン干渉測定装置
においては、被測定物を移動テーブル上に配設した後、
移動テーブルを測定方向に垂直な方向の広い走査範囲に
わたり移動させながら表面形状などの高感度な測定を行
なっていたため、移動テーブルの真直度などの運動精度
の影響を受は測定誤差が発生していた。
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、その目的とするところは測定方向への被測定
物との間の相対移動を広い範囲にわたり行っても、被測
定物との間の相対移動の影響による測定誤差を除去した
測定データを得ることができるパターンマツチング型光
ヘテロダイン干渉測定装置を提供することにある。
゛ [課題を解決するための手段] この目的を達成するために、本発明は、同一の光源から
出射された互いに周波数が異なる計測ビームと参照ビー
ムとを用いて、その計測ビームを対物レンズにより被測
定物の表面に集光させると共にその表面で反射された反
射光と前記参照ビームとを干渉させ、その干渉光を光セ
ンサに入射させることにより計測ビート信号を取り出し
、その計測ビート信号の周波数変化や位相変化に基づい
て、測定方向に垂直な方向への被測定物との間の相対移
動を伴って測定を行なう光ヘテロダイン干渉測定装置に
おいて、測定方向への被測定物との間の相対移動を狭い
範囲にわたり行い測定した狭走査範囲測定データを複数
且つ重なり合うように得て、その重なり合う複数の狭走
査範囲測定データを重複部分でのデータ整合をとること
により、任意の走査範囲の測定データに変換するデータ
処理手段を有することを特徴としている。
[作用] 上記の構成を有する本発明においては、まず測定方向へ
の被測定物との間の相対移動を狭い範囲で行い、狭走査
範囲の測定データを採取する。この狭い走査範囲での測
定データを採取した後、走査範囲が重なるような別の狭
い走査範囲で新たに測定データを採取する。これらの狭
い走査範囲の測定データ間の整合がとれていなくなって
いるので、上記データ処理手段で重なり合う測定データ
間でパターン・マツチングを行い測定データ間の整合を
とる。このような手順を繰り返すことにより、複数の狭
い走査範囲の測定データから任意の走査範囲の測定デー
タを得ることができる。
[実施例] 以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。なお、以下の各光学素子は図示していない機枠
に固定されて相対移動不能に設けられている。
最初に第1図を参照して本実施例を説明すると、He−
Neレーザー等のレーザー光源10から出射された周波
数f0の直線偏光レーザー光りは、戻り光がレーザー光
源10に入らないようにする光アイソレータ11を通過
したのちミラー12によって反射され、偏光ビームスプ
リッタ13に入射させられる。レーザー光源10の姿勢
は、レーザー光りの偏波面(電気ベクトルの振動面)が
紙面(第1図が描かれている紙面)に対して方位角45
度の角度で傾斜するように設定されており、そのレーザ
ー光りのうち偏波面か紙面と平行なP偏光成分は計測ビ
ームL、として上記偏光ビームスプリッタ13を透過さ
せられ、偏波面が紙面と垂直なS偏光成分は参照ビーム
L、lとして偏光ビームスプリッタ13により反射され
る。
偏光ビームスプリッタ13を透過した計測ビームLMは
、音響光学変調器14により+f、の周波数シフトを受
けて周波数がf。+f、とされた後、偏光ビームスプリ
ッタ15に入射させられる。
また、偏光ビームスプリッタ13で反射された参照ビー
ムLRはミラー16によって更に反射され、音響光学変
調器17により+f2の周波数シフトを受けてf。+f
2とされた後、ミラー18によって反射されて偏光ビー
ムスプリッタ15に入射させられる。上記周波数シフト
量f、およびf2は、例えば80MHzと80.IMH
zなど数百kHz程度の周波数差を有するように設定さ
れる。
偏光ビームスプリッタ15により重ね合わされた計測ビ
ームL、および参照ビームLRは、無偏光ビームスプリ
ッタ20により2分され、その反射された光は偏光板2
1を通過することにより干渉光となりレンズ22で集光
され基準ビート信号SR検出用の光検出器23に照射さ
れる。偏光ビームスプリッタ20を通過した計測ビーム
LMおよび参照ビームL、は偏光ビームスプリッタ24
により偏波面の向きによって分離され、S偏光成分から
成る参照ビームLRは偏光ビームスプリッタ24により
反射される。偏光ビームスジ1月ツタ24により反射さ
れたレーザー光は、1/4波長板25を介してミラー2
6に照射される。ミラー26により反射された参照ビー
ムLRは再び174波長板25を通過させられることに
よりP偏光とされ、偏光ビームスプリッタ24を透過さ
せられて偏光板27を通過した後レンズ28により集光
され計測ビート信号SM検出用の光検出器29に照射さ
れる。
一方、P偏光成分から成る計測ビームLMは、上記偏光
ビームスプリッタ24を通過させられ無偏光ビームスプ
リッタ30で分割され、無偏光ビームスプリッタ30を
透過させられた後、1/4波長板31を経て対物レンズ
32で集光されて被測定物33の表面34に照射される
。被測定物33は、モータ等の駆動源35によって上記
計測ビームLMの光軸に対して直角なX−Y平面内を2
次元方向へ移動させられる移動テーブル36上に配置さ
れている。被測定物33の表面34で反射された計測ビ
ームL、は、対物レンズ32を経て再び174波長板3
1を通過させられて無偏光ビームスプリッタ30で分割
される。無偏光ビームスプリッタ30を透過した計測ビ
ームLMは往路に対して偏波面が90度回転した直線偏
光すなわちS偏光とされているため、偏光ビームスプリ
ッタ24によって反射させられるとともに、偏光板27
により前記参照ビームL、と干渉させられた後、計測ビ
ート信号SM検出用の光検出器29に照射される。  
゛ また、無偏光ビームスプリッタ3oにより反射された計
測ビームLMはレンズ40.および円筒レンズ41によ
り集光させられ4分割された光検出器42に照射される
。光検出器42の出力信号は増幅器43により増幅され
焦点位置制御手段44に送出されて、Z軸モータ45は
焦点位置制御手段44によって、対物レンズ32による
収束光のビームウェスト位置が常に被測定物33の表面
34に位置するように駆動される。このような機構によ
りオートフォーカス制御がなされる。
上記光検出器23.29に入射される干渉光の光強度I
5、IDはそれぞれ次式(1)、(2)で表わされ、光
検出器23.29からはその光強度■8、Ioに対応し
て変化する基準ビート信号SR1計測ビート信号SMが
出力される。
IB=A、2+A、2+2AIA2CO5((k 1z
、−に2Z2)   2πft)   (1)ID=A
3’+A4”+2 A3A、CO8((k 、 z 3
−kzZ4)   2πf t)   (2)ここで、
A1、A3は計測ビームLMの振幅A2、A4は参照ビ
ームL8の振幅 に1は計測ビームLMの波数 に2は参照ビームLRの波数 2、は計測ビームL、か光検出器23 に到達するまでの光路長 Z2は参照ビームLRが光検出器23 に到達するまでの光路長 Z3は計測ビームLMが光検出器29 に到達するまでの光路長 Z4は参照ビームLRか光検出器29 に到達するまでの光路長 fはビート周波数で、+f、−f21 z tは時間 そして、上記基準ビート信号SRおよ・び計測ビート信
号SMは、それぞれ増幅器50.51により増幅された
後、計測装置52に供給される。計測装置52は、例え
ば第2図のブロック線図に示されているように構成され
、上記ビート信号SR。
SMは波形整形回路60によってそれぞれ矩形のパルス
波形に整形された後、偏差カウンタ回路61に供給され
る。偏差カウンタ回路61は、図示しないタイミング信
号発生回路から供給されるタイミング信号にしたかって
計測ビート信号SMのビート数CDと基準ビート信号S
Rのビート数C3との偏差(CD−C,)を計数し、そ
の偏差(CD−CB)はラッチ回路62に一時記憶され
る。
また、上記パルス波形に整形された基準ビート信号SR
および計測ビート信号SMは、水晶振動子64から出力
される一定のクロック周波数fcの基準パルス信号KS
と共にA N D回路65に供給される。基準ビート信
号SRはNOT回路63を経て、へND回路65に供給
されるようになっており、AND回路65を通過した基
準パルス信号KSのパルス数CIかカウンタ回路66に
よって計数される。このパルス数C1は、基準ビート信
号SRと計測ビート信号S Niとの位相差に対応する
もので、ラッチ回路67に一時記憶される。上記基準パ
ルス信号KSのクロック周波数fcは、例えば100M
Hz程度に設定される。
そして、上記ラッチ回路62.67に一時記憶された偏
差(C,−C,) 、パルス数01はマイクロコンピュ
ータ68に読み込まれる。マイクロコンピュータ68が
データ処理手段に相当する。マイクロコンピュータ68
は、RO〜169に予め記憶されたプログラムにしたが
ってRA M 70を利用し信号処理を行い、駆動制御
回路71により前記駆動源35を作動させて移動テーブ
ル36をX−Y方向へ移動させつつ、上記偏差(CD−
CB)およびパルス数01に基づいて被測定物33の表
面34の凹凸形状を求め、その結果をデイスプレィ72
に表示させる。
すなわち、基準ビート信号SRと計測ビート信号SM間
の位相差の変化分は被測定物33の表面34の高さの変
化分に相当するので、被測定物33の高さ方向の形状を
得ることができる。表面34の高さの変化分をΔZとす
ると、次式(3)て表わされる。ΔZ1は次式(4)に
したがって算出されるか、これは172波長オーダーの
計測ビート信号SMの位相変化に相当する。またΔZ2
は1/2波長以下の計測ビート信号SMの位相変化に相
当し、次式(5)にしたがって算出される。基準ビート
信号の周波数fB3クロック周波数fCをそれぞれ10
0kHz、100MHzとすると、ΔZ2は17200
0波長のオーダーで算出されることとなる。
ΔZ=△Z、+ΔZ 2         (3)λ △Z、=−(CD−CB)     (4)λ  fI
IC。
△Z 2 = −=      (5)2    fc なお、(3)〜(5)式のλは、それぞれ計測ビームL
、の波長である。
次に、第1図乃至第6図、主に第3図のフローチャート
を参照して本実施例の光ヘテロダイン干渉測定装置の動
作を説明する。
ステップS1では、マイクロコンピュータ68は、駆動
制御回路71を介して前記駆動源35を作動させて移動
テーブル36をX−Y方向へ移動させつつ、上記偏差C
cv  cB)およびパルス数CIに基づいて被測定物
33の表面34の凹凸形状を求めた測定データを採取す
る。この測定データを第4図に示す。ここで、Azjは
X座標X+。
Y座標Y、での測定値を表わしている。この測定データ
A、1は移動テーブル36の運動精度の影響による測定
誤差を無視できる走査範囲(以下、狭い走査範囲と呼ぶ
。)で移動テーブル36を駆動し測定したデータである
ステップS2では、前記ステップS1の走査範囲に重複
しX方向にずらした狭い走査範囲で、測定データが採取
される。この測定データを第5図に示す。ここで、Bk
lはX座標Xk、Y座標Y1での測定値を表わしている
。測定データBk、 (k=1〜2.1=1〜5)は測
定データA、1(i=4〜5、j=1〜5)と同じX座
標、同じY座標での測定データであるか、移動テーブル
36の運動精度の影響を受は測定誤差を含んだ異なる値
を持っている。
ステップS3では、前記ステップS2で得られた測定デ
ータBkl (k=1〜2.1=1〜5)と測定データ
、A、、(i=4〜5、j−1〜5)のパターンマツチ
ングか線形モデルでの最小2乗法で行なわれる。線形モ
デルをy=ax+bで表わすと、最小2乗条件は S=Σ(a  Bh++b  A++)i、j、に、ま ただし、i=4〜5、j=1〜5、k=1〜2.1=1
〜5 となり、各パラメータに対して最小となるためには、そ
の微分か零となればよい。
S □=O a S □ =O b これを未知パラメータaXbに関して整理すると、Σ1
Σ13HA11−ΣBklΣA1゜Σ1ΣB、、”−(
ΣB、、)! ΣBk12ΣAlj−ΣBklΣBk1 A + Hb
=□ Σ1ΣB、、2  (ΣBk、) ’ となるため、パラメータa、bが算出される。
ここで、Σはi=4〜5、j=1〜5、k=1〜2、I
=1〜5に対して演算が行なわれる。
ステップS4では、前記ステップS3で求められたパラ
メータa、  bを利用して、測定データBk1(k=
1〜5.1=1〜5)を、 B kl”=  aB hl+ b のように変換して変換データBk、”(k=1〜5.1
=1〜5)が得られる。
ステップ5では、前記ステップS4で得られた変換デー
タBkl”(k=1〜2.1=1〜5)は測定データA
++(i=4〜5、j=1〜5)と同じX座標、同じY
座標での測定データであるため、移動テーブル36の運
動精度の影響による測定誤差を除去した広い走査範囲の
測定データA、1(i=1〜5、j=1〜5) 、B、
、” (k=3〜5.1=1〜5)が第6図のように求
められる。
このようなパターンマツチングを繰り返しX。
Y方向に行なうことで、移動テーブルの運動精度の影響
による測定誤差を除去して、X−Y2次元の任意の走査
範囲の測定データを得れるのである。
次に、本発明の他の実施例を説明する。なお、以下の実
施例において前記第1実施例と実質的に共通する部分に
は同一の符号を付して説明を省略する。
第7図に示す第2実施例は、前記音響光学変調器14を
ミラー16と音響光学変調器17との間に配置し、計測
ビームLMの周波数は、f、のままにする一方、参照ビ
ームLRの周波数かf0+f、−f2となるようにした
もので、前記実施例と実質的に同じものである。
本発明は以上詳述した実施例に限定されるものではなく
、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加え
ることができる。
例えば、第1の実施例では、レーザー光源10及び音響
光学変調器14.17により計測ビームLMの周波数が
f。+f、とされ、参照ビームL、lの周波数がf0+
f2とされているが、横ゼーマンレーザー等の2周波直
交レーザー光を放射するレーザー光源を用いることも可
能である。なお、2個の音響光学変調器14.17が用
いられているが、必要に応じて1個、或は3個以上の音
響光学変調器やその他の光学素子を採用することもでき
る。
また、第1の実施例の集光レンズ22.28は必ずしも
必要なく、省略することが可能である。
また、第1の実施例では、無偏光ビームスプリッタ30
、レンズ40、円筒レンズ41、光検出器42、増幅器
43、焦点位置制御手段44、Z軸モータ45を使用し
て、対物レンズ32による収束光のビームウェスト位置
か常に被測定物33の表面34に位置するようにZ軸モ
ータ45か駆動されるでいるが、ナイフェツジ法や臨界
角法などのフォーカス検出光学系を使用してもよい。Z
軸モータ45の代わりに圧電アクチュエータなどの他の
アクチュエータを使用してもよい。
また、第1の実施例では、無偏光ビームスプリッタ30
、レンズ40、円筒レンズ41、光検出器42、増幅器
43、焦点位置制御手段44、Z軸モータ45を使用し
て、対物レンズ32による収束光のビームウェスト位置
が常に被測定物33の表面34に位置するように駆動さ
れているが、無偏光ビームスプリッタ30、レンズ40
、円筒レンズ41、光検出器42、増幅器43、焦点位
置制御手段44、Z軸モータ45を省略して、光検出器
29の出力信号強度が最大になるようにZ軸モータ45
を駆動して、対物レンズ32による収束光のビームウェ
スト位置が常に被測定物33の表面34に位置するよう
にしてもよい。これは対物レンズ32による収束光のビ
ームウェスト位置か被測定物33の表面34にある場合
か最も効率的に光検出器29に計測ビームLMか照射さ
れることを利用している。
また、第1の実施例では、移動テーブル36を移動させ
ることにより被測定物33の表面34を走査しているが
、被測定物33を固定し光ヘテロダイン干渉測定装置を
移動して走査してもよい。
また、第1の実施例では、対物レンズ32を光軸方向へ
移動させるようになっているが、被測定物33を光軸方
向へ移動させるようにしても差し支えない。その場合に
、被測定物33の表面34の凹凸形状測定と並行してオ
ートフォーカス制御を行なう場合には、対物レンズ32
の光軸方向における被測定物33の移動量をモニタして
凹凸形状を測定することとなる。
また、第1の実施例では、測定データをAII(i=1
〜5、j=1〜5)のようにしたが、X−Y平面上の走
査範囲をさらに拡大、或は縮小した測定データとしても
よい。同様に、測定データの重なり部分を測定データA
、1(i=4〜5、j=1〜S)と測定データBk、(
k=1〜2、I=1〜5)としているが、重なり部分を
さらに拡大、或は縮小してもよい。
また、第1の実施例では、パターンマツチングを2次元
測定データA、1(i=4〜5、j=1〜5)と測定デ
ータBk、(k=1〜2、I=1〜5)とで行なったが
、1次元データで行なってもよい。
また、第1の実施例では、パターンマツチングを線形モ
デルy=ax+bで行なったが、GAUSS−NEWT
ON法や修正MARQUARDT法などの非線形最小2
乗法で行なってもよい。
また、第1の実施例では、パターンマツチングを最小2
乗法で行なったが、動的計画法などの他の方法を用いて
もよい。
その他−々例示はしないが、本発明は当業者の知識に基
づいて種々の変更、改良を加えた態様で実施することが
できる。
[発明の効果] 以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、重なり合う複数の狭い走査範囲の測定データを重複部
分でのパターンマツチングにより任意の走査範囲の測定
データに変換するため、被測定物との間の相対移動を利
用した走査の運動精度により生じる測定誤差を除去でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図から第7図までは本発明を具体化した実施例を示
すもので、第1図は、パターンマツチング型光ヘテロダ
イン干渉測定装置の光学的構成を説明する図である。第
2図は第1図における計測装置の構成を説明するブロッ
ク線図である。第3図はパターンマツチング型光ヘテロ
ダイン干渉測定装置のデータ処理手段でのパターンマツ
チング手順を表わすフローチャートである。第4図、第
5図、および第6図はパターンマツチング型光ヘテロダ
イン干渉測定装置におけるパターンマツチングを説明す
るための測定データのパターンを表わす図である。第7
図は本発明の他の実施例の要部を説明する図である。 10 レーザー光源 14 音響光学変調器 17 音響光学変調器 21 偏光板 22 レンズ 23 光検出器 25174波長板 26 ミラー 27 偏光板 28 レンズ 29 光検出器 32 対物レンズ 33 被測定物 34 表面 35 駆動源 36 移動テーブル52 計測装置 68 マイクロコンピュータ(データ処理手段)69 
 ROM 70  RAM 71 駆動制御回路 72 デイスプレィ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、同一の光源から出射された互いに周波数が異なる計
    測ビームと参照ビームとを用いて、該計測ビームを対物
    レンズにより被測定物の表面に集光させると共に該表面
    で反射された反射光と前記参照ビームとを干渉させ、該
    干渉光を光センサに入射させることにより計測ビート信
    号を取り出し、該計測ビート信号の周波数変化や位相変
    化に基づいて、測定方向への被測定物との間の相対移動
    を伴って測定を行なう光ヘテロダイン干渉測定装置にお
    いて、 測定方向への被測定物との間の相対移動を狭い範囲にわ
    たり行い測定した狭走査範囲測定データを複数且つ重な
    り合うように得て、該重なり合う複数の狭走査範囲測定
    データを重複部分でのデータ整合をとることにより、任
    意の走査範囲の測定データに変換するデータ処理手段を
    備えることを特徴とするパターン・マッチング型光ヘテ
    ロダイン干渉測定装置。
JP2318737A 1990-11-22 1990-11-22 パターン・マッチング型光ヘテロダイン干渉測定装置 Pending JPH04188003A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343222A (ja) * 2000-06-05 2001-12-14 Canon Inc 三次元形状計測方法及び装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343222A (ja) * 2000-06-05 2001-12-14 Canon Inc 三次元形状計測方法及び装置

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