JPH04190843A - ガス反応装置 - Google Patents

ガス反応装置

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Publication number
JPH04190843A
JPH04190843A JP32041990A JP32041990A JPH04190843A JP H04190843 A JPH04190843 A JP H04190843A JP 32041990 A JP32041990 A JP 32041990A JP 32041990 A JP32041990 A JP 32041990A JP H04190843 A JPH04190843 A JP H04190843A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas reaction
reaction tubes
gas
reaction tube
support plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP32041990A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Niwa
博志 丹羽
Yasuhiko Aida
安彦 相田
Yoshiyuki Sakurai
桜井 義行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH04190843A publication Critical patent/JPH04190843A/ja
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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/008Details of the reactor or of the particulate material; Processes to increase or to retard the rate of reaction

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、例えば燃料電池発電プラントにおける未処理
の炭化水素燃料を、水素に富む気体燃料に改質するため
等に用いられるガス反応装置に関する。
(従来の技術) 従来より知られているように、燃料電池は陰極燃料に水
素ガスを用いるものであり、発電プラントとして稼動さ
せるためには多量の燃料を必要とする。このため事業用
の発電プラントでは天然ガスあるいはナフサ等の未処理
の炭化水素燃料を、触媒を用いて高温度下で処理し、水
素に富む気体燃料に改質して発電を行っている。また発
電効率か高(、公害等の問題か少ないことなどから発電
プラントは大規模化する方向にあり、これにともない改
質のためのガス反応装置もより大形なものになってきて
いる。
そして、このようなガス反応装置は、例えば「特開昭6
3−222002号公報」に示されている。
以下、従来のガス反応装置の一つについて、第8図及び
第9図を参照して説明する。
第8図は縦断面図であり、第9図は横断面図である。図
において、1は外底部に複数の脚2が固着された円筒状
の圧力容器であって、この圧力容器1の内面には断熱材
3が張られている。圧力容器1内の下部にはマニホール
ド4が、圧力容器1の内壁面に6個の吊り具5によって
結合されて配設されている。マニホールド4は直径がそ
れぞれ異なる環状の第1.第2.第3のマニホールド4
a。
4b、 4cで構成されており、各マニホールド4a、
 4b。
4Cは同心状に配置され、互いに複数の連結管6によっ
て連通ずるように結合されている。さらに第2のマニホ
ールド4bには圧力容器1の壁面を貫通して設けられた
排出管70片端部が接続されていて、マニホールド4内
の処理済ガスを圧力容器1の外に排出するように形成さ
れている。なお、圧力容器1内に設けられた図示しない
熱源によって圧力容器1内の温度は昇降温し、この温度
変化により膨張収縮して生じたマニホールド4の熱変形
は、吊り具5が変位することによって吸収される。
また、各マニホールド4a、 4b、 4cには長さが
数mにおよぶ長尺の二重円管構造の複数のガス反応管8
が、内管8aの下端開口をマニホールド4a、 4b。
4C内に連通させて結合し、上端部を遊端にするように
して植設されている。ガス反応管8には、内管8aと同
軸に外管8bか設けられ、内管8aと外管8bとの間に
内管8aの上端開口に通じる流通路か形成されている。
そして各ガス反応管8の外管8bと内管8aとの間の流
通路は接続管9を設けることによって互いに連通してい
る。さらに一部の外管8bには圧力容器1の壁面を貫通
して設けられた供給管10の片端部が接続されていて、
外管8bと内管8aとの間の流通路に、圧力容器1の外
から未処理ガスが導入できるようになっている。
なお、ガス反応管8の内管8aと外管8bの間の流通路
には触媒が充填されており、また圧力容器1内の排出管
7及び供給管10の中間部には、マニホールド4及び反
応管8の位置の変動を吸収する可撓管11.12が設け
られている。
このように構成されたものにおいての未処理ガス、すな
わち天然ガスあるいはナフサ等の未処理の炭化水素燃料
の改質は、次のように行われる。
先ず、図示しない熱源によって圧力容器1内を加熱し、
ガス反応管8を高温に保持する。次に、高温のガス反応
管8の外管8bと内管8aとの間の流通路に、供給管1
0を介して圧力容器1の外から未処理ガスを導入すると
、未処理ガスは高温となって流通し、流通路内の触媒に
よる触媒反応よって改質されて処理済ガス、すなわち水
素に富む気体燃料となってマニホールド4に流入する。
マニホールド4に流入した処理済ガスは排出管7を介し
て圧力容器1の外に取出される。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら上記の従来技術においては、ガスの改質を
行うために圧力容器1の内部を高温にすることが必須で
あり、マニホールド4を熱膨張に対して拘束しないよう
に支持しなければならず、また空間の占有率を高くして
効率的な改質を行うために、マニホールド4に植設され
たガス反応管8は自ずと多数の長尺のものとなる。この
ため固有振動数は数Hzと低く、同じ数Hzと低い振動
数の地震等に際しては、ガス反応管8は共振して大きく
振動することになる。そして隣接するガス反応管8同志
が衝突したり、圧力容器1の内壁にガス反応管8が衝突
したりして場合によっては装置の破損を招き、またガス
の漏洩を引起こす虞があった。
上記のような状況に鑑みて本発明はなされたもので、そ
の目的とするところは地震等に際しても破損やガス洩れ
を引起こすなどの虞がないように、熱的な膨張収縮に対
しては拘束しないよう支持しながら、耐震性を向上させ
、大規模化を可能にしたガス反応装置を提供することに
ある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明のガス反応装置は、圧力容器と、この圧力容器内
の下部に配設されたマニホールドと、このマニホールド
に一端部を固着して植設された複数のガス反応管とを備
えて成るものにおいて、ガス反応管は、少なくとも一部
のガス反応管に共通の支持板をこの支持板に形成された
支持孔によって所定の間隙を設けるようにして遊嵌して
おり、かつ支持板によって可動範囲が制限されているこ
とを特徴とするものである。
(作用) 上記のように構成されたガス反応装置は、少なくとも一
部のガス反応管に共通の支持板が遊嵌されていて、個々
のガス反応管は所定の間隙の範囲内では水平方向の変位
については制限を受けないが、さらに大きな変位につい
ては支持板によってガス反応管全体が拘束されて可動範
囲の制限を受ける。このためガス反応管全体が拘束され
た状態では剛性が高くなり、地震等が発生して低い振動
数で加振された場合においても、ガス反応管が共振して
大きく振動することがなくなり、ガス反応管に過大な応
力が生ずることもなく、装置の破損等を引起こすことか
なくなる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を第1図乃至第7図を参照して説
明する。尚、従来と同一部分は同一符号を付して説明を
省略し、従来と異なる本発明の構成について説明する。
先ず、第1の実施例を第1図及び第2図により説明する
第1図は縦断面図であり、第2図は横断面図である。図
において、15は従来例と同様にマニホールド4に植設
された二重円管構造の複数のガス反応管で、これらのガ
ス反応管15の少なくとも一部のガス反応管15aには
外面の中間部に突起部17が形成されている。18は直
径が圧力容器1に内張すされた断熱材3の内直径より小
径に形成された円板状の支持板である。この支持板18
には、マニホールド4に植設されたガス反応管15の取
着位置と同じ位置間隔で、ガス反応管15の外径より大
径で、かつ突起部17の高さを含むガス反応管15aの
最大外形寸法より小さい直径を有し、高温時においても
ガス反応管15との間に所定の間隙を有する支持孔19
が貫通して形成されている。さらに支持板18には、支
持板18の上面側と下面側の圧力容器1内の温度差を小
さくするために、貫通した複数の熱の貫流孔20が形成
されている。
そして支持板18はガス反応管15に支持孔19を遊嵌
し、ガス反応管15aの突起部17上に載置されること
により略水平に支持されている。これによりガス反応管
15の上端部に於ける水平方向の個々の動きは支持孔1
9の内径とガス反応管15の外径との差の範囲内では拘
束されないが、範囲外では拘束されたものとなる。
以上のように形成された本実施例によれば、従来例と同
様に図示しない熱源で圧力容器1内を加熱して昇温し、
改質触媒が充填されたガス反応管15に未処理ガスを通
流させ、触媒反応によって改質することで水素に富んだ
処理済ガスが得られる。
そしてこの過程でのマニホールド4の膨張収縮による変
形は、従来例と同様に吊り具5が変位することで吸収さ
れる。またガス反応管15には、支持孔19がガス反応
管15の外径よりも大きく、支持板18がガス反応管1
5aの突起部17上に単に載置されているのみで軸方向
の上端側部分を拘束するものではないために、膨張収縮
によって変形しても熱応力が生じるものではない。
さらに、地震等が発生して本装置全体が数Hzの低い振
動数で加振された場合には、ガス反応管15は、支持板
18によってガス反応管15同志の相対変位が拘束され
、複数のガス反応管15全体とじて圧力容器1との相対
変位は許容されるものの剛性か高くなり、過大な応力が
生ずることもない。すなわち従来例のようにガス反応管
15が共振して大きく振動することがなくなる。そのた
め隣接するガス反応管15同志が衝突したり、圧力容器
1の内壁にガス反応管15が衝突したりして装置の破損
等を引起こすことがない。そしてガス反応管15を長尺
なものとすることかでき、占有面積に対しより多量のガ
スの改質処理が可能となり、発電プラントの大規模化が
可能となる。
次に、第2の実施例を第3図及び第4図により説明する
第3図は横断面図であり、第4図は支持板の部分斜視図
である。図において、21は直径が圧力容器1に内張す
された断熱材3の内直径より小径に形成された円形の格
子状に組まれた構造の支持板である。この支持板21は
外周に沿って連続した周壁22が形成され、周壁22の
内側に格子状の組み構造23が形成されている。また支
持板21は格子状に組まれた構造であるため、格子の方
形孔24を通じて支持板21の上面側と下面側とが連通
している。
さらに支持板21には、マニホールド4に植設されたガ
ス反応管15の取着位置と同じ位置間隔で、ガス反応管
15の外径より大径で、かつ突起部17の高さを含むガ
ス反応管15aの最大外形寸法より小さい直径を有し、
高温時においてもガス反応管15との間に所定の間隙を
有する支持孔25が貫通して形成されている。
そして上記のように形成された支持板21は第1の実施
例と同様にガス反応管15に支持孔25を遊嵌し、ガス
反応管15aの突起部17上に載置されることにより圧
力容器1内に略水平に支持されている。
これによりガス反応管15の上端部に於ける水平方向の
個々の動きは支持孔25の内径とガス反応管15の外径
との差の範囲内では拘束されないか、範囲外では拘束さ
れたものとなる。
以上のように形成された本実施例によっても、第1の実
施例と同様に未処理ガスを触媒反応によって改質するこ
とで水素に富んだ処理済ガスが得られる。そして改質の
過程及び地震等が発生して数Hzの低い振動数で加振さ
れた場合等においても第1の実施例と同様の作用、効果
が得られる。
さらに本実施例では、支持板21が格子状の構造を有す
るために軽量に構成できると共に、熱の貫流が円滑に行
われるために支持板21の上面側と下面側との温度差が
小さなものとすることかできる。
次に、第3の実施例を第5図により説明する。
第5図は横断面図であって、図において、26は直径か
圧力容器1に内張すされた断熱材3の内直径より小径の
円板を略6等分した形状の扇形の支持板である。この支
持板26には、マニホールド4に植設された複数のガス
反応管15の取着位置が同形状に分割されるように6等
分したガス反応管15の取着位置と、同じ位置間隔とな
るような位置に支持孔27が貫通して形成されている。
この支持孔27はガス反応管15の外径より大径で、か
つ突起部17の高さを含むガス反応管15aの最大外形
寸法より小さい直径を有し、高温時においてもガス反応
管15との間に所定の間隙を有する。さらに支持板26
には、支持板2Bの上面側と下面側の圧力容器1内の温
度差を小さくするために、貫通した複数の熱の貫流孔2
8が形成されている。
そして6枚の支持板26はガス反応管15に支持孔27
を遊嵌し、ガス反応管15aの突起部17上に載置され
ることにより略水平に支持されている。なお、支持板2
6は、6枚を略円板状に配置してガス反応管15aに載
置した状態で、各支持板2B相互の間に高温時において
も隙間が設けられているように形成されている。これに
よりガス反応管15の上端部に於ける水平方向の個々の
動きは支持孔27の内径とガス反応管15の外径との差
の範囲内では拘束されないが、範囲外では拘束されたも
のとなる。
以上のように形成された本実施例によっても、第1の実
施例と同様に未処理ガスを触媒反応によって改質するこ
とで水素に冨んだ処理済ガスが得られる。そして改質の
過程及び地震等が発生して数Hzの低い振動数で加振さ
れた場合等においても第1の実施例と同様の作用、効果
が得られる。
さらに本実施例では、支持板26が6分割した形状であ
るため施工性においてより良好であり、大形の装置に対
して有効である。また等形状に形成されたものであるた
め製造性や施工性がさらに良好である。
次に、第4の実施例を第6図及び第7図により説明する
第6図は横断面図であり、第7図は要部斜視図である。
図において、29は従来例と同様にマニホールド4に植
設された二重円管構造の複数のガス反応管で、これらの
ガス反応管29のうち最外周の第1のマニホールド4a
に植設された外側ガス反応管29aには中間部の外面全
周に鍔状の突出部30が形成されている。また第2.第
3のマニホールド4b、 4cに植設された第1及び第
2の内側ガス反応管29b 、 29cには中間部の外
周面に、第1及び第2の内側ガス反応管29b 、 2
9cがそれぞれ配列されて形成する円周に沿った環状板
を、円周方向に略等分した扇形の突出部31a 、 3
1bが形成されている。なお、突出部31aと突出部3
1bとはガス反応管29の管軸方向における高さは同じ
である。
また、32は外径が圧力容器1に内張すされた断熱材3
の内直径より小径に形成され、内径が大1の内側ガス反
応管29bの突出部31aで形成される円の直径より大
径に形成された環状の支持板である。この支持板32に
は、第1のマニホールド4aに植設されたガス反応管2
9aの取着位置と同じ位置間隔で、ガス反応管29aの
管外径より大きく、かつ突出部30の外径より小さい直
径を有し、高温時においてもガス反応管29aとの間に
所定の間隙を有する支持孔33が貫通して形成されてい
る。さらに支持板32には、支持板32の上面側と下面
側の圧力容器1内の温度差を小さくするために、貫通し
た複数の熱の貫流孔33が形成されている。
そして支持板32はガス反応管29aに支持孔33を遊
嵌し、突出部30上に載置されることにより略水平に支
持されている。なお、支持板32は突出部31aに対し
管軸方向における高さが同じに高さになるように支持さ
れている。またガス反応管29aの上に載置された支持
板32及びガス反応管29b。
29cの突出部31a 、 31bは、各々の相互の間
に高温時においても隙間が設けられているように形成さ
れている。これによりガス反応管29aの上端部に於け
る水平方向の個々の動きは支持孔33の内径とガス反応
管29aの外径との差の範囲内では拘束されないが、範
囲外では拘束されたものとなる。
またガス反応管29b 、 29c水平方向の個々の動
きは、突出部31a 、 31bの各々の間の隙間の範
囲内では拘束されないが、範囲外では拘束されたものと
なる。
以上のように形成された本実施例によっても、第1の実
施例と同様に未処理ガスを触媒反応によって改質するこ
とで水素に富んだ処理済ガスが得られる。そして改質の
過程及び地震等が発生して数Hzの低い振動数で加振さ
れた場合等においても第1の実施例と同様の作用、効果
が得られる。
尚、上記の各実施例においては支持板をガス反応管の中
間部に設けるようにしているが、上端部に設けるように
してもよく、また形状も上記したものに限定されるもの
ではない等、要旨を逸脱しない範囲内で本発明は適宜変
更して実施し得るものである。
[発明の効果] 以上の説明から明らかなように、本発明は、少なくとも
一部のガス反応管に共通の支持板を遊嵌してガス反応管
の可動範囲を制限する構成としたことにより、次のよう
な効果が得られる。即ち、熱的な膨張収縮に対しては拘
束しないよう支持しながら耐震性を向上させ、低い振動
数で加振する地震等に際しても破損やガス洩れを引起こ
すなどの虞かなく、大規模化を可能にする等の効果を奏
する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示す縦断面図、第2図
は第1図における■−■矢方同方向断面図、第3図は第
2の実施例を示す横断面図、第4図は第2の実施例にお
ける支持板の部分斜視図、第5図は第3の実施例を示す
横断面図、第6図は第4の実施例を示す横断面図、第7
図は第4の実施例における要部斜視図、第8図は従来例
を示す縦断面図、第9図は第8図におけるIX−IXX
力方向横断面図である。 1・・・圧力容器、 4、4a、 4b、 4cm・・マニホールド、15、
15a・・・ガス反応管、 17・・・突起部、18・
・・支持板、      19・・・支持孔。 代理人  弁理士  大 胡 典 夫 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 29     29b 第7図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 圧力容器と、この圧力容器内の下部に配設されたマニホ
    ールドと、このマニホールドに一端部を固着して植設さ
    れた複数のガス反応管とを備えて成るものにおいて、前
    記ガス反応管は、少なくとも一部の前記ガス反応管に共
    通の支持板をこの支持板に形成された支持孔によって所
    定の間隙を設けるようにして遊嵌しており、かつ前記支
    持板によって可動範囲が制限されていることを特徴とす
    るガス反応装置。
JP32041990A 1990-11-22 1990-11-22 ガス反応装置 Pending JPH04190843A (ja)

Priority Applications (1)

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JP32041990A JPH04190843A (ja) 1990-11-22 1990-11-22 ガス反応装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008523968A (ja) * 2004-12-17 2008-07-10 ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット 接触転化反応用反応装置
JP2015180499A (ja) * 2007-07-05 2015-10-15 サウディ ベーシック インダストリーズ コーポレイション 触媒プロセスのための反応装置パネル
US9492803B2 (en) 2007-07-05 2016-11-15 Saudi Basic Industries Corporation Process for performing an endothermic reaction

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