JPH04192574A - Frequency-sweep laser apparatus - Google Patents

Frequency-sweep laser apparatus

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JPH04192574A
JPH04192574A JP32117190A JP32117190A JPH04192574A JP H04192574 A JPH04192574 A JP H04192574A JP 32117190 A JP32117190 A JP 32117190A JP 32117190 A JP32117190 A JP 32117190A JP H04192574 A JPH04192574 A JP H04192574A
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JP
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laser
frequency
amplification
laser beam
medium
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Application number
JP32117190A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuki Okamoto
達樹 岡本
Akihiko Iwata
明彦 岩田
Yasutoshi Takeda
保敏 武田
Hiroshi Ito
寛 伊藤
Tadashi Fukami
正 深見
Shigeo Eguri
成夫 殖栗
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To enhance the efficiency of a laser amplification operation and to ensure the output of a laser beam by a method wherein a polarization element is inserted between a frequency sweeping means and a laser amplification means and the polarization characteristic of the laser beam which is incident on the laser amplification means is set to be optimum. CONSTITUTION:A laser beam L2 which has been frequency-sweep is passed through a polarization element 70 which has been inserted between a crystal 31 inside a frequency sweeping means 30 and a laser amplification medium 51 inside a laser amplification means 50. Thereby, its polarization direction is corrected and its polarization characteristic is set to be optimum. The laser beam L2 whose polarization characteristic has been adjusted in this manner is passed through the laser amplification medium 51 inside the laser amplification means 50; it is amplified; it is radiated as a final laser medium L3. At this time, the polarization characteristic of the laser beam L2 which is incident on the laser amplification means 50 is corrected so as to be optimum with reference to the laser amplification medium 51. Thereby, the amplification efficiency of the laser amplification means 50 is enhanced, and the large-output laser beam L3 can be obtained by the small number of amplification stages.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、レーザ光の発振スペクトルが照射対象粒子
(以下、単に照射対象という)の光吸収スペクトル幅を
覆うようにした周波数掃引レーザ装置に関し、特に周波
数掃引後のレーザ光の増幅効率を向上させた周波数掃引
レーザ装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a frequency sweep laser device in which the oscillation spectrum of laser light covers the light absorption spectrum width of irradiation target particles (hereinafter simply referred to as irradiation target). In particular, the present invention relates to a frequency swept laser device with improved amplification efficiency of laser light after frequency sweeping.

[従来の技術] 一般に、色素レーザ媒質を用いたレーザ光は、可視領域
を中心とする前後の紫外領域及び近赤外領域で連続的に
波長を変更できるため、分光学の分野で用いられており
、例えば、照射対象が有する光の吸収作用を利用して照
射対象の選択励起又は同位体分離等に用いられている。
[Prior Art] Generally, laser light using a dye laser medium is used in the field of spectroscopy because its wavelength can be changed continuously in the ultraviolet and near-infrared regions before and after the visible region. For example, it is used for selective excitation or isotope separation of an irradiation target by utilizing the light absorption effect of the irradiation target.

このとき、照射対象の光吸収特性は、光の周波数に対し
である程度の幅を有しているので、高効率な選択励起を
行うためには、照射対象の光吸収スペクトルを十分に覆
う発振スペクトルからなるレーザ光が要求される。
At this time, the light absorption characteristics of the irradiation target have a certain range with respect to the frequency of light, so in order to perform highly efficient selective excitation, it is necessary to have an oscillation spectrum that sufficiently covers the light absorption spectrum of the irradiation target. A laser beam consisting of

従来より、周波数掃引された色素レーザ光は、第2図の
ような照射対象の光吸収スペクトルを覆うことにより、
照射対象のエネルギ状態において断熱反転を作ることが
でき、特に高効率な選択励起及び同位体分離ができるた
め、ウラン濃縮用等に用いられている。
Conventionally, frequency-swept dye laser light covers the light absorption spectrum of the irradiation target as shown in Figure 2.
It is used for uranium enrichment because it can create adiabatic inversion in the energy state of the irradiation target and can perform particularly highly efficient selective excitation and isotope separation.

第3図は、例えばバイク他(Pike et al)に
よる米国特許第4,636,287号明細書に記載され
た、従来の周波数掃引レーザ装置を示す構成図である。
FIG. 3 is a block diagram illustrating a conventional frequency swept laser device, as described, for example, in U.S. Pat. No. 4,636,287 by Pike et al.

図において、(10)は狭スペクトル幅のレーザ光L1
を放射するレーザ発振器であり、例えば、CW(連続発
振)タイプの色素レーザ媒質(11)と、色素レーザ媒
質(11)と同軸上に配列された波長選択素子(12)
と、色素レーザ媒質(11)及び波長選択素子(12)
を両側から挟み込むように配置された全反射ミラー(1
3)及び部分反射ミラー(14)とを備えている。
In the figure, (10) is the laser beam L1 with a narrow spectrum width.
It is a laser oscillator that emits, for example, a CW (continuous wave) type dye laser medium (11) and a wavelength selection element (12) arranged coaxially with the dye laser medium (11).
, a dye laser medium (11) and a wavelength selection element (12)
A total reflection mirror (1
3) and a partially reflecting mirror (14).

波長選択素子(12)は、例えば、複屈折フィルタ、エ
タロン、回折格子等で構成されており、必要に応じて設
けられている。
The wavelength selection element (12) is composed of, for example, a birefringence filter, an etalon, a diffraction grating, etc., and is provided as necessary.

(20)はレーザ発振器(10)を励起するための励起
レーザであり、例えばエキシマレーザやアルゴンレーザ
等の励起レーザ光LOを色素レーザ媒質(11)に放射
するようになっている。更に、励起レーザ(20)は、
銅蒸気レーザ、窒素レーザ、YAGレーザの高調波、フ
ラッシュランプなど1色素レーザ媒質(11)を励起で
きるものであれば何を用いてもよい。
(20) is an excitation laser for exciting the laser oscillator (10), and is adapted to emit excitation laser light LO, such as an excimer laser or an argon laser, to the dye laser medium (11). Furthermore, the excitation laser (20) is
Any device that can excite the single dye laser medium (11), such as a copper vapor laser, a nitrogen laser, a harmonic of a YAG laser, or a flash lamp, may be used.

(30)はレーザ発振器(10)から放射されたレーザ
光L1の周波数を掃引するための周波数掃引手段であり
、レーザ光L1が通過するように配置された結晶(31
)と、結晶(31)に電圧信号Eを印加するための電力
増幅器(32)とを備えている。
(30) is a frequency sweeping means for sweeping the frequency of the laser beam L1 emitted from the laser oscillator (10), and is a crystal (31) arranged so that the laser beam L1 passes through.
) and a power amplifier (32) for applying a voltage signal E to the crystal (31).

結晶(31)は、電気光学素子からなり、例えば、Li
Nb0.、LiTaO5、KDP、^DP、 DKDP
、DADP等で構成されている。又、電力増幅器(32
)は、半導体素子からなり直接スイッチングできるよう
になっている。
The crystal (31) is made of an electro-optical element, for example, Li
Nb0. , LiTaO5, KDP, ^DP, DKDP
, DADP, etc. In addition, a power amplifier (32
) is made of semiconductor elements and is capable of direct switching.

(40)は電力増幅器(32)を駆動するための周波数
信号を生成する発振器である。
(40) is an oscillator that generates a frequency signal for driving the power amplifier (32).

(50)は周波数掃引手段(30)を介したレーザ光L
2を増幅するためのレーザ増幅手段であり、レーザ光L
2が通過するように配置された色素溶液等からなるレー
ザ増幅媒質(51)と、レーザ増幅媒質(51)を励起
するための増幅用励起源(52)とを備えている。
(50) is the laser beam L passing through the frequency sweeping means (30).
It is a laser amplification means for amplifying the laser beam L.
The laser amplification medium (51) made of a dye solution or the like is arranged so that the laser amplification medium (51) passes through the laser amplification medium (51), and an amplification excitation source (52) for exciting the laser amplification medium (51).

増幅用励起源(52)は、例えば、銅蒸気レーザ、エキ
シマレーザ、アルゴンレーザ、クリプトンレーザ、窒素
レーザ、YAGレーザの高調波、又は、フラッシュラン
プ等から構成されており、レーザ増幅媒質(51)を励
起できるものなら何でもよい。
The amplification excitation source (52) is composed of, for example, a copper vapor laser, an excimer laser, an argon laser, a krypton laser, a nitrogen laser, a harmonic of a YAG laser, a flash lamp, etc., and the laser amplification medium (51) Anything that can excite can be used.

L3は周波数掃引され且つ増幅されて最終的に出力され
るレーザ光である。
L3 is a laser beam that is frequency swept, amplified, and finally output.

(60)は発振器(40)に接続された検波器であり、
発振器(40)と共にタイミング制御手段を構成し、レ
ーザ光L2の増幅タイミングを周波数掃引タイミングに
同期させている。
(60) is a detector connected to the oscillator (40),
Together with the oscillator (40), it constitutes a timing control means, and synchronizes the amplification timing of the laser beam L2 with the frequency sweep timing.

次に、周波数掃引状態を示す第2図の説明図を参照しな
がら、第3図に示した従来の周波数掃引レーザ装置の動
作について説明する。
Next, the operation of the conventional frequency sweep laser device shown in FIG. 3 will be described with reference to the explanatory diagram of FIG. 2 showing the frequency sweep state.

レーザ発振器(10)内の色素レーザ媒質(11)は、
励起レーザ(20)からの励起レーザ光LOにより励起
され、波長選択素子(12)、全反射ミラー(13)及
び部分反射ミラー(14)により、単一の縦モードのス
ペクトルで発振する。
The dye laser medium (11) in the laser oscillator (10) is
It is excited by the excitation laser beam LO from the excitation laser (20), and oscillates in a single longitudinal mode spectrum by the wavelength selection element (12), the total reflection mirror (13), and the partial reflection mirror (14).

レーザ発振器(10)から放射されたレーザ光L1は、
周波数掃引手段(30)内の結晶(31)を通過する。
The laser beam L1 emitted from the laser oscillator (10) is
It passes through the crystal (31) in the frequency sweep means (30).

このとき、結晶(31)には、発振器(40)の周波数
(例えば、数kHz)で駆動される電力増幅器(32)
により、所定振幅及び所定周波数の電圧信号Eが印加さ
れている。従って、結晶(31)の屈折率が変化し、こ
れにより、レーザ光L1は位相変調を受けて、第4図の
矢印のように周波数が掃引され、照射対象の光吸収スペ
クトル(第2図参照)を覆うようなレーザ光L2となる
。このときのレーザ光L2の周波数掃引量は、結晶(3
1)の大きさ、並びに、電圧信号Eの立ち上がり速度即
ち電力増幅器(32)の容量に比例する。
At this time, the crystal (31) is equipped with a power amplifier (32) driven by the frequency (for example, several kHz) of the oscillator (40).
A voltage signal E having a predetermined amplitude and a predetermined frequency is applied. Therefore, the refractive index of the crystal (31) changes, and as a result, the laser beam L1 undergoes phase modulation, the frequency is swept as shown by the arrow in Figure 4, and the light absorption spectrum of the irradiation target (see Figure 2). ) becomes a laser beam L2 that covers the area. The frequency sweep amount of the laser beam L2 at this time is crystal (3
1) and the rising speed of the voltage signal E, that is, the capacity of the power amplifier (32).

こうして周波数掃引されたレーザ光L2は、続いて、レ
ーザ増幅手段(50)内のレーザ増幅媒質(51)を通
過する。このとき、レーザ増幅媒質(51)は増幅用励
起源(52)により励起されており、増幅用励起源(5
2)は、発振器(40)の周波数信号を検波した検波器
(60)の出力により発光タイミングが制御されている
。従って、レーザ光L2は、周波数掃引と同期して、線
形掃引に近い部分がレーザ増幅媒質(51)により増幅
され、最終的なレーザ光L3となって出力される。
The laser light L2 frequency-swept in this way then passes through the laser amplification medium (51) in the laser amplification means (50). At this time, the laser amplification medium (51) is excited by the amplification excitation source (52), and the amplification excitation source (52)
2), the light emission timing is controlled by the output of the detector (60) which detects the frequency signal of the oscillator (40). Therefore, in synchronization with the frequency sweep, a portion of the laser beam L2 that is close to a linear sweep is amplified by the laser amplification medium (51), and is output as the final laser beam L3.

ところで、周波数掃引手段(30)内の結晶(30)及
びレーザ増幅手段(50)内のレーザ増幅媒質(51)
は入射レーザ光Ll及びL2に対してそれぞれ偏光特性
を有している。従って、レーザ光Ll及びL2が最適な
偏光特性に設定されていない場合、結晶(31)及びレ
ーザ増幅媒質(51)は、十分に周波数掃引機能及び増
幅機能を達成することができない。
By the way, the crystal (30) in the frequency sweep means (30) and the laser amplification medium (51) in the laser amplification means (50)
has polarization characteristics for the incident laser beams Ll and L2, respectively. Therefore, if the laser beams Ll and L2 are not set to optimal polarization characteristics, the crystal (31) and the laser amplification medium (51) cannot sufficiently achieve the frequency sweep function and the amplification function.

そこで、通常、結晶(31)のレーザ光入射側には偏光
素子(図示せず)が配置されており、レーザ光L1が結
晶(31)に対して最適な偏光特性となるように設定さ
れている。しかしながら、レーザ増幅媒質(51)の入
射側に対しては何ら対策がとられていないため、レーザ
増幅媒質(51)の設置誤差等により最適な偏光特性に
設定されない場合、レーザ光L2を十分に増幅できない
おそれがある。特に、結晶(31)を通過したレーザ光
L2は、偏光方向が回転されているため、レーザ光L2
に対してレーザ増幅媒質(51)を最適に設置すること
は困難である。
Therefore, a polarizing element (not shown) is usually placed on the laser beam incident side of the crystal (31), and is set so that the laser beam L1 has optimal polarization characteristics for the crystal (31). There is. However, since no measures have been taken on the incident side of the laser amplification medium (51), if the optimum polarization characteristics are not set due to installation errors of the laser amplification medium (51), the laser beam L2 may not be There is a possibility that it cannot be amplified. In particular, since the polarization direction of the laser beam L2 that has passed through the crystal (31) has been rotated, the laser beam L2
It is difficult to optimally install the laser amplification medium (51) for the laser amplification medium (51).

[発明が解決しようとする課題] 従来の周波数掃引レーザ装置は以上のように、周波数掃
引手段(30)からのレーザ光L2をレーザ増幅手段(
50)に直接入射しているので、増幅効率が低下すると
いう問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, the conventional frequency sweep laser device converts the laser beam L2 from the frequency sweep means (30) into the laser amplification means (
50), there was a problem in that the amplification efficiency decreased.

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、レーザ増幅効率を向上させてレーザ光の出力
を十分に確保できる周波数掃引レーザ装置を得ることを
目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to improve the laser amplification efficiency and obtain a frequency swept laser device that can secure a sufficient output of laser light.

[課題を解決するための手段] この発明に係る周波数掃引レーザ装置は、周波数掃引手
段とレーザ増幅手段との間に偏光素子を挿入したもので
ある。
[Means for Solving the Problems] A frequency sweep laser device according to the present invention has a polarizing element inserted between a frequency sweep means and a laser amplification means.

[作用] この発明においては、偏光素子によりレーザ光の偏光方
向を回転させ、レーザ増幅手段に入射されるレーザ光の
偏光特性を最適に設定する。
[Operation] In the present invention, the polarization direction of the laser beam is rotated by the polarizing element to optimally set the polarization characteristics of the laser beam incident on the laser amplification means.

[実施例] 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実施例を示す構成図であり、(10)
〜(60)は前述と同様のものである。
[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. 1st
The figure is a configuration diagram showing one embodiment of the present invention, (10)
~(60) are similar to those described above.

増幅タイミングを制御する検波器(60)は、遅延回路
で構成されてもよい。
The detector (60) that controls the amplification timing may be configured with a delay circuit.

(70)は周波数掃引手段(30)内の結晶(31)と
レーザ増幅手段(50)内のレーザ増幅媒質(51)と
の間に挿入された偏光素子であり、水晶板又は雲母板な
ど(レーザ光L2の波長λに対して1/4の回転補正を
行うλ/4板の組み合わせ)から構成されている。
(70) is a polarizing element inserted between the crystal (31) in the frequency sweep means (30) and the laser amplification medium (51) in the laser amplification means (50), such as a quartz plate or a mica plate ( It is composed of a combination of λ/4 plates that perform 1/4 rotational correction for the wavelength λ of the laser beam L2.

次に、第1図に示したこの発明の一実施例の動作につい
て説明する。
Next, the operation of the embodiment of the present invention shown in FIG. 1 will be explained.

レーザ励起源(20)からの励起用レーザ光LOにより
励起されたレーザ発振器(10)は、前述と同様に狭ス
ペクトル幅で例えば単一縦モードのレーザ光L1を放射
し、周波数掃引手段(30)は、結晶(31)を介して
レーザ光L1の周波数を第4図の矢印のように掃引する
The laser oscillator (10) excited by the excitation laser beam LO from the laser excitation source (20) emits, for example, a single longitudinal mode laser beam L1 with a narrow spectral width as described above, ) sweeps the frequency of the laser beam L1 through the crystal (31) as indicated by the arrow in FIG.

周波数掃引されたレーザ光L2は、偏光素子(70)を
通過することにより偏光方向が補正され、レーザ増幅媒
質(51)に対して最適な偏光特性に設定される。こう
して偏光特性が調整されたレーザ光L2は、レーザ増幅
手段(50)内のレーザ増幅媒質(51)を通過して増
幅され、最終的なレーザ光L3となって放射される。
The frequency-swept laser beam L2 passes through a polarizing element (70), so that the polarization direction is corrected and the polarization characteristics are set to be optimal for the laser amplification medium (51). The laser light L2 whose polarization characteristics have been adjusted in this way passes through the laser amplification medium (51) in the laser amplification means (50), is amplified, and is emitted as the final laser light L3.

このとき、レーザ増幅手段(5o)に入射されるレーザ
光L2の偏光特性は、レーザ増幅媒質(51)に対して
最適となるように補正されているので、レーザ増幅手段
(50)の増幅効率が向上し、小数の増幅段により大出
力のレーザ光L3を得ることができる。
At this time, since the polarization characteristics of the laser beam L2 incident on the laser amplification means (5o) are corrected to be optimal for the laser amplification medium (51), the amplification efficiency of the laser amplification means (50) is is improved, and a high-output laser beam L3 can be obtained with a small number of amplification stages.

従って、小形のレーザ増幅手段(50)を用いて、照射
対象に対して高効率の選択励起又は同位体分離を行うと
共に、照射対象の光吸収スペクトルを覆い、照射対象の
エネルギ状態において断熱反転状態を作り出すことがで
きる。
Therefore, by using a small laser amplification means (50), highly efficient selective excitation or isotope separation is performed on the irradiation target, and the optical absorption spectrum of the irradiation target is covered, so that the energy state of the irradiation target is in an adiabatic inversion state. can be produced.

[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、周波数掃引手段とレー
ザ増幅手段との間に偏光素子を挿入して、周波数掃引さ
れたレーザ光の偏光方向を回転補正し、レーザ増幅手段
に入射されるレーザ光の偏光特性を最適に設定したので
、レーザ増幅効率が向上し、小形で大出力のレーザ光を
放射可能な周波数掃引レーザ装置が得られる効果がある
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a polarizing element is inserted between the frequency sweeping means and the laser amplifying means to rotationally correct the polarization direction of the frequency swept laser beam, and the laser amplifying means Since the polarization characteristics of the laser beam incident on the laser beam are optimally set, the laser amplification efficiency is improved and a frequency swept laser device that is small and can emit a high-output laser beam can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例を示す構成図、第2図は一
般的な照射対象の光吸収スペクトルを示す説明図、第3
図は従来の周波数掃引レーザ装置を示す構成図、第4図
は一般的な周波数掃引状態を示す説明図である。 (10)・・・レーザ発振器  (30)・・・周波数
掃引手段(31)・・・結晶      (50)・・
・レーザ増幅手段(51)・・・レーザ増幅媒質 (7
0)・・・偏光素子L1〜L3・・・レーザ光   E
・・・電圧信号面、図中、同一符号は同−又は相当部分
を示す。
Fig. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of the present invention, Fig. 2 is an explanatory diagram showing the light absorption spectrum of a general irradiation target, and Fig. 3 is an explanatory diagram showing the light absorption spectrum of a general irradiation target.
This figure is a configuration diagram showing a conventional frequency sweep laser device, and FIG. 4 is an explanatory diagram showing a general frequency sweep state. (10)...Laser oscillator (30)...Frequency sweep means (31)...Crystal (50)...
・Laser amplification means (51)...Laser amplification medium (7
0)...Polarizing elements L1 to L3...Laser light E
. . . Voltage signal plane. In the figures, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  狭スペクトル幅のレーザ光を放射するレーザ発振器と
、 前記レーザ光が通過するように配置された結晶を含み、
この結晶に電圧信号を印加したときの位相変調により前
記レーザ光の周波数を掃引するための周波数掃引手段と
、 この周波数掃引手段を介したレーザ光が通過するように
配置されたレーザ増幅媒質を含み、周波数掃引された前
記レーザ光を増幅するためのレーザ増幅手段とを備えた
周波数掃引レーザ装置において、 前記周波数掃引手段と前記レーザ増幅手段との間に偏光
素子を挿入し、 前記レーザ増幅手段に入射されるレーザ光の偏光特性を
最適に設定したことを特徴とする周波数掃引レーザ装置
[Claims] A laser oscillator that emits laser light with a narrow spectral width, and a crystal arranged so that the laser light passes through,
It includes a frequency sweeping means for sweeping the frequency of the laser beam by phase modulation when a voltage signal is applied to the crystal, and a laser amplification medium arranged so that the laser beam passed through the frequency sweeping means. , a frequency swept laser device comprising a laser amplifying means for amplifying the frequency swept laser light, a polarizing element being inserted between the frequency sweeping means and the laser amplifying means, and a polarizing element being inserted into the laser amplifying means. A frequency sweep laser device characterized by optimally setting the polarization characteristics of an incident laser beam.
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