JPH041940A - 光ヘッド装置 - Google Patents
光ヘッド装置Info
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- JPH041940A JPH041940A JP2154564A JP15456490A JPH041940A JP H041940 A JPH041940 A JP H041940A JP 2154564 A JP2154564 A JP 2154564A JP 15456490 A JP15456490 A JP 15456490A JP H041940 A JPH041940 A JP H041940A
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- light beam
- light
- incident
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title abstract 6
- 101150052012 PPP1R14B gene Proteins 0.000 abstract 1
- 101100013829 Zea mays PHI1 gene Proteins 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract 1
Landscapes
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光記録媒体に情報の記録、再生を行うための
光ヘッド装置に関するものである。
光ヘッド装置に関するものである。
(従来の技術)
光記録媒体に情報の記録、再生を行うための光ヘッド装
置において、光源の半導体レーザから発散光として出射
する光ビームは、通常p−n接合面に平行な方向の放射
角がp−n接合面に垂直な方向の放射角に比べて狭いと
いう性質を有している。光記録媒体上に直径1pm程度
の微小スポットを形成するためには、この光ビームの断
面形状を略円形に変換して対物レンズに入射させる必要
がある。再生専用型の光ヘッド装置においては、半導体
レーザから出射した光ビームを平行光に変換するコリメ
ータレンズとして開口数の小さいものを用い、光ビーム
の中心部分だけを取り出すことにより断面形状が略円形
の光ビームを得るという方法が一般に用いられている。
置において、光源の半導体レーザから発散光として出射
する光ビームは、通常p−n接合面に平行な方向の放射
角がp−n接合面に垂直な方向の放射角に比べて狭いと
いう性質を有している。光記録媒体上に直径1pm程度
の微小スポットを形成するためには、この光ビームの断
面形状を略円形に変換して対物レンズに入射させる必要
がある。再生専用型の光ヘッド装置においては、半導体
レーザから出射した光ビームを平行光に変換するコリメ
ータレンズとして開口数の小さいものを用い、光ビーム
の中心部分だけを取り出すことにより断面形状が略円形
の光ビームを得るという方法が一般に用いられている。
しかし、この方法はコリメータレンズでの光量の損失が
大きく、光8己録媒体上で低い光出力しか得られないた
め、光磁気や追記型、相変化型等の記録動作を行う光ヘ
ッド装置には適用できない。これらの光ヘッド装置にお
いては、コリメータレンズでの光量の損失を小さくする
ため、コリメータレンズとして開口数の太きいものが用
いられる。この場合コリメータレンズを透過した光ビー
ムの断面形状は、半導体レーザのp−n接合面に平行な
方向を短軸、p−n接合面に垂直な方向を長軸とする楕
円形になる。従って、この楕円の短軸方向の径を拡大し
て断面形状が略円形の光ビームを得るための手段が必要
になる。このような手段としては、例えば特公昭61−
53775号公報に記載のプリズムが知られている。
大きく、光8己録媒体上で低い光出力しか得られないた
め、光磁気や追記型、相変化型等の記録動作を行う光ヘ
ッド装置には適用できない。これらの光ヘッド装置にお
いては、コリメータレンズでの光量の損失を小さくする
ため、コリメータレンズとして開口数の太きいものが用
いられる。この場合コリメータレンズを透過した光ビー
ムの断面形状は、半導体レーザのp−n接合面に平行な
方向を短軸、p−n接合面に垂直な方向を長軸とする楕
円形になる。従って、この楕円の短軸方向の径を拡大し
て断面形状が略円形の光ビームを得るための手段が必要
になる。このような手段としては、例えば特公昭61−
53775号公報に記載のプリズムが知られている。
第5図にこのプリズムを用いた従来の光磁気用光ヘッド
装置の構成例を示す。光源の半導体レーザ1から発散光
として出射した光ビームは、コリメータレンズ2で平行
光に変換されたのちプリズム3に入射する。このプリズ
ム3の入射面は半導体レーザ1のp−n接合面に垂直で
あり入射した光ビームが所定の角度だけ屈折されるよう
に設けられ、出射面は入射面で屈折された光ビームが略
垂直に出射するように設けられている。光ビームはこの
プリズム3を透過後、半導体レーザ1のp−n接合面に
平行な方向(第5図において紙面に平行な方向)の径の
み拡大され断面形状が略円形となる。このとき、入射す
る光ヒームの波長に対するプリズム3の屈折率をn、プ
リズム3における光ビームの径のp−n接合面に平行な
方向の拡大率をkとすると、入射面における入射角φお
よび屈折角θ(θはプリズム3の頂角に等しい)は、 を満たすように定めればよい。例えば、光ビームの波長
が780nmで に=2.0 の場合、プリズム3の材料としてBK7を用いるとする
と、 n=1.510722 であるから φ=66.6°、θ=37.4゜ となる。プリズム3で断面形状が略円形に変換された光
ビームはビームスプリッタ6および7を透過したのち、
対物レンズ10で収束光に変換されて光磁気記録媒体1
1上に照射される。光磁気記録媒体11からの反射光は
対物レンズ10を逆向きに透過して再び平行光に変換さ
れたのち、一部がビームスプリッタ7で反射され、残り
はビームスプリッタ7を透過する。ビームスプリッタフ
の反射光は1/2波長板18を透過して偏光面が45°
回転したのち、偏光ビームスプリッタ19で透過光と反
射光に分離される。
装置の構成例を示す。光源の半導体レーザ1から発散光
として出射した光ビームは、コリメータレンズ2で平行
光に変換されたのちプリズム3に入射する。このプリズ
ム3の入射面は半導体レーザ1のp−n接合面に垂直で
あり入射した光ビームが所定の角度だけ屈折されるよう
に設けられ、出射面は入射面で屈折された光ビームが略
垂直に出射するように設けられている。光ビームはこの
プリズム3を透過後、半導体レーザ1のp−n接合面に
平行な方向(第5図において紙面に平行な方向)の径の
み拡大され断面形状が略円形となる。このとき、入射す
る光ヒームの波長に対するプリズム3の屈折率をn、プ
リズム3における光ビームの径のp−n接合面に平行な
方向の拡大率をkとすると、入射面における入射角φお
よび屈折角θ(θはプリズム3の頂角に等しい)は、 を満たすように定めればよい。例えば、光ビームの波長
が780nmで に=2.0 の場合、プリズム3の材料としてBK7を用いるとする
と、 n=1.510722 であるから φ=66.6°、θ=37.4゜ となる。プリズム3で断面形状が略円形に変換された光
ビームはビームスプリッタ6および7を透過したのち、
対物レンズ10で収束光に変換されて光磁気記録媒体1
1上に照射される。光磁気記録媒体11からの反射光は
対物レンズ10を逆向きに透過して再び平行光に変換さ
れたのち、一部がビームスプリッタ7で反射され、残り
はビームスプリッタ7を透過する。ビームスプリッタフ
の反射光は1/2波長板18を透過して偏光面が45°
回転したのち、偏光ビームスプリッタ19で透過光と反
射光に分離される。
偏光ビームスプリッタ19の透過光および反射光は、そ
れぞれ収束レンズ20および21で収束光に変換された
のち、光検出器22および23で受光される。光検出器
22および23からの出力の差をとることにより、光磁
気記録媒体11に記録された情報が再生される。一方、
ビームスプリッタ7の透過光は一部がビームスプリッタ
6で反射される。ビームスプリッタ6の反射光は収束レ
ンズ13で収束光に変換されたのち、ハーフミラ−14
で透過光と反射光に分離される。ハーフミラ−14の反
射光はナイフエツジ15を介して2分割光検出器16で
受光される。
れぞれ収束レンズ20および21で収束光に変換された
のち、光検出器22および23で受光される。光検出器
22および23からの出力の差をとることにより、光磁
気記録媒体11に記録された情報が再生される。一方、
ビームスプリッタ7の透過光は一部がビームスプリッタ
6で反射される。ビームスプリッタ6の反射光は収束レ
ンズ13で収束光に変換されたのち、ハーフミラ−14
で透過光と反射光に分離される。ハーフミラ−14の反
射光はナイフエツジ15を介して2分割光検出器16で
受光される。
2分割光検出器16の二つの受光面からの出力の差をと
ることにより、公知のナイフェツジ法の原理を用いてフ
ォーカスエラー信号が検出される。ハーフミラ−14の
透過光は直接2分割光検出器17で受光される。2分割
光検出器17の二つの受光面からの出力の差をとること
により、公知のプッシュプル法の原理を用いてトラック
エラー信号が検出される。
ることにより、公知のナイフェツジ法の原理を用いてフ
ォーカスエラー信号が検出される。ハーフミラ−14の
透過光は直接2分割光検出器17で受光される。2分割
光検出器17の二つの受光面からの出力の差をとること
により、公知のプッシュプル法の原理を用いてトラック
エラー信号が検出される。
第6図には、第5図と同様のプリズムを2個用いた従来
の光磁気用光ヘッド装置の構成例を示す。ここでは第5
図におけるプリズム3が、同じ材料、同じ形状の第一の
プリズム4および第二のプリズム5に置き換えられてい
る。第一のプリズム4および第二のプリズム5の入射面
は共に半導体レーザ1のp−n接合面に垂直であり入射
した光ビームが互いに逆向きに所定の角度だけ屈折され
るように設けられ、出射面は共に入射面で屈折された光
ビームが略垂直に出射するように設けられている。入射
する光ビームの波長に対する第一のプリズム4および第
二のプリズム5の屈折率をそれぞれnl、n2、第一の
プリズム4および第二のプリズム5における光ビームの
径のp−n接合面に平行な方向の拡大率をそれぞれに1
、k2とすると、第一のプリズム4の入射面における入
射角φ□および屈折角θ0、第二のプリズム5の入射面
における入射角Φ2および屈折角θ2(θ1、θ2はそ
れぞれ第一のプリズム4および第二のプリズム5の頂角
に等しい)は、 を満たすように定めればよい。例えば、光ビームの波長
が780nmで に1に2=2.0、k1=に2 の場合、第一のプリズム4および第二のプリズム5の材
料として共にBK7を用いるとすると、n1=n2=1
.510722 であるから φ1=Φ2=53.2°、θ1=θ2:32.0゜とな
る。この場合、第一のプリズム4に入射する光ビームと
第二のプリズム5がら出射する光ビームは略平行になる
ため、第5図に比べて光ヘッド装置の設計が容易になる
。他の部分の構成は第5図と同一であるので説明は省略
する。
の光磁気用光ヘッド装置の構成例を示す。ここでは第5
図におけるプリズム3が、同じ材料、同じ形状の第一の
プリズム4および第二のプリズム5に置き換えられてい
る。第一のプリズム4および第二のプリズム5の入射面
は共に半導体レーザ1のp−n接合面に垂直であり入射
した光ビームが互いに逆向きに所定の角度だけ屈折され
るように設けられ、出射面は共に入射面で屈折された光
ビームが略垂直に出射するように設けられている。入射
する光ビームの波長に対する第一のプリズム4および第
二のプリズム5の屈折率をそれぞれnl、n2、第一の
プリズム4および第二のプリズム5における光ビームの
径のp−n接合面に平行な方向の拡大率をそれぞれに1
、k2とすると、第一のプリズム4の入射面における入
射角φ□および屈折角θ0、第二のプリズム5の入射面
における入射角Φ2および屈折角θ2(θ1、θ2はそ
れぞれ第一のプリズム4および第二のプリズム5の頂角
に等しい)は、 を満たすように定めればよい。例えば、光ビームの波長
が780nmで に1に2=2.0、k1=に2 の場合、第一のプリズム4および第二のプリズム5の材
料として共にBK7を用いるとすると、n1=n2=1
.510722 であるから φ1=Φ2=53.2°、θ1=θ2:32.0゜とな
る。この場合、第一のプリズム4に入射する光ビームと
第二のプリズム5がら出射する光ビームは略平行になる
ため、第5図に比べて光ヘッド装置の設計が容易になる
。他の部分の構成は第5図と同一であるので説明は省略
する。
(発明が解決しようとする課題)
以上に述べた従来の光ヘッド装置においては、プリズム
に入射する光ビームの波長が周囲温度等により変化した
場合、それに伴ってプリズムの屈折率も変化する。従っ
て、プリズムから出射する光ビームに角度ずれが生じ、
それに伴って光記録媒体上に形成される光スポットに位
置ずれが生じるという問題がある。半導体レーザのp−
n接合面に平行な方向が光記録媒体のトラックに直交す
る方向の場合、光スポットの位置ずれはトラックオフセ
ットとして観測される。この場合の位置ずれの許容量は
±0.1pm程度と比較的大きい。一方、半導体レーザ
のp−n接合面に平行な方向が光記録媒体のトラックに
平行な方向の場合、光スポットの位置ずれは再生信号の
ジッタとして観測される。この場合の位置ずれの許容量
はかなり小さい。例えば、5.25インチの光記録媒体
に2−7変調で記録を行う場合、最内周における最短ピ
ット長は0.7611mとなる。再生信号のジッタの許
容値をこの±2%とすると、光スポットの位置ずれの許
容量は±0.015μmとなる。
に入射する光ビームの波長が周囲温度等により変化した
場合、それに伴ってプリズムの屈折率も変化する。従っ
て、プリズムから出射する光ビームに角度ずれが生じ、
それに伴って光記録媒体上に形成される光スポットに位
置ずれが生じるという問題がある。半導体レーザのp−
n接合面に平行な方向が光記録媒体のトラックに直交す
る方向の場合、光スポットの位置ずれはトラックオフセ
ットとして観測される。この場合の位置ずれの許容量は
±0.1pm程度と比較的大きい。一方、半導体レーザ
のp−n接合面に平行な方向が光記録媒体のトラックに
平行な方向の場合、光スポットの位置ずれは再生信号の
ジッタとして観測される。この場合の位置ずれの許容量
はかなり小さい。例えば、5.25インチの光記録媒体
に2−7変調で記録を行う場合、最内周における最短ピ
ット長は0.7611mとなる。再生信号のジッタの許
容値をこの±2%とすると、光スポットの位置ずれの許
容量は±0.015μmとなる。
第3図には第5図の光ヘッド装置のプリズム3における
、光ビームの波長変化に伴うプリズム出射時の角度ずれ
の様子を示す。光ビームの波長が中心波長の近傍で1n
m増加したときのプリズム3の屈折率の増加量をΔn、
そのときのプリズム出射時の角度ずれ量をαとすると、 a= lΔntanθ1 が成り立つ。
、光ビームの波長変化に伴うプリズム出射時の角度ずれ
の様子を示す。光ビームの波長が中心波長の近傍で1n
m増加したときのプリズム3の屈折率の増加量をΔn、
そのときのプリズム出射時の角度ずれ量をαとすると、 a= lΔntanθ1 が成り立つ。
例えば、光ビームの中心波長が780nm、プリズム3
の材料がBK7、入射角および屈折角がΦ=66.6°
、θ=37.4゜ の場合、 Δn= −2,09X10= であるため α=1.60X10−5 となる。ここで、光ビームの波長の変化量を5nm、対
物レンズ10の焦点距離を3.0mmとすると、光記録
媒体上での光スポットの位置ずれ量は0.2411mと
なり、許容量を大きく上回る。
の材料がBK7、入射角および屈折角がΦ=66.6°
、θ=37.4゜ の場合、 Δn= −2,09X10= であるため α=1.60X10−5 となる。ここで、光ビームの波長の変化量を5nm、対
物レンズ10の焦点距離を3.0mmとすると、光記録
媒体上での光スポットの位置ずれ量は0.2411mと
なり、許容量を大きく上回る。
第4図には第6図の光ヘッド装置の第一のプリズム4お
よび第二のプリズム5における、光ビームの波長変化に
伴うプリズム出射時の角度ずれの様子を示す。光ビーム
の波長が中心波長の近傍で1nm増加したときの第一の
プリズム4および第二のプリズム5の屈折率の増加量を
それぞれΔn0、Δ−1そのときのプリズム出射時の角
度ずれ量をαとすると、が成り立つ。
よび第二のプリズム5における、光ビームの波長変化に
伴うプリズム出射時の角度ずれの様子を示す。光ビーム
の波長が中心波長の近傍で1nm増加したときの第一の
プリズム4および第二のプリズム5の屈折率の増加量を
それぞれΔn0、Δ−1そのときのプリズム出射時の角
度ずれ量をαとすると、が成り立つ。
例えば、光ビームの中心波長が780nm、第一のプリ
ズム4および第二のプリズム5の材料が共にBK7、入
射角および屈折角が φ□=Φ2=53.2°、θ1=θ2:32.0゜の場
合、 Δn1=Δn2=−2.09刈0−5 であるため α=3.83X10−6 となる。ここで同様に、光ビームの波長の変化量を5n
m、対物レンズ10の焦点距離を3.0mmとすると、
光記録媒体上での光スポットの位置ずれ量は0.057
pmとなる。このように、プリズムを2個にすることに
より位置ずれ量はかなり小さくすることができるが、そ
れでもまだ許容値を上回る。
ズム4および第二のプリズム5の材料が共にBK7、入
射角および屈折角が φ□=Φ2=53.2°、θ1=θ2:32.0゜の場
合、 Δn1=Δn2=−2.09刈0−5 であるため α=3.83X10−6 となる。ここで同様に、光ビームの波長の変化量を5n
m、対物レンズ10の焦点距離を3.0mmとすると、
光記録媒体上での光スポットの位置ずれ量は0.057
pmとなる。このように、プリズムを2個にすることに
より位置ずれ量はかなり小さくすることができるが、そ
れでもまだ許容値を上回る。
本発明の目的は、このような従来の課題を解決し、光ビ
ームの波長変化に伴うプリズム出射時の角度ずれ量が小
さく、その結果として光記録媒体上での光スポットの位
置ずれ量が許容値以下と小さい光ヘッド装置を提供する
ことにある。
ームの波長変化に伴うプリズム出射時の角度ずれ量が小
さく、その結果として光記録媒体上での光スポットの位
置ずれ量が許容値以下と小さい光ヘッド装置を提供する
ことにある。
(課題を解決するための手段)
本発明の光ヘッド装置は、半導体レーザと、該半導体レ
ーザから発散光として出射した光ビームを平行光に変換
するコリメータレンズと、該コリメータレンズで平行光
に変換された光ビームが入射する第一の入射面と前記光
ビームが出射する第一の出射面を有する第一のプリズム
であって、前記第一の入射面は前記半導体レーザのp−
n接合面に垂直であり入射した光ビームが所定の角度だ
け屈折されるように設けられ、かつ前記第一の出射面は
前記第一の入射面で屈折された光ビームが略垂直に出射
するように設けられた第一のプリズムと、該第一のプリ
ズムから出射した光ビームが入射する第二の入射面と前
記光ビームが出射する第二の出射面を有する第二のプリ
ズムであって、前記第二の入射面は前記半導体レーザの
p−n接合面に垂直であり入射した光ビームが前記第一
の入射面とは逆向きに所定の角度だけ屈折されるように
設けられ、かつ前記第二の出射面は前記第二の入射面で
屈折された光ビームが略垂直に出射するように設けられ
た第二のプリズムと、該第二のプリズムから出射した光
ビームを収束光に変換して光記録媒体上に照射する対物
レンズと、前記光記録媒体から反射した光ビームを受光
する光検出器を有する光ヘッド装置であって、前記光ビ
ームの前記第一の入射面における入射角、屈折角をそれ
ぞれΦ1、θ1、前記第二の入射面における入射角、屈
折角をそれぞれΦ2、θ2とし、前記光ビームの波長が
中心波長の近傍で1nm増加したときの前記第一のプリ
ズムおよび前記第二のプリズムの屈折率の増加量をそれ
ぞれΔn1、Δn2とするとき、 φ1−01=φ2−02 および を満足することを特徴とする。
ーザから発散光として出射した光ビームを平行光に変換
するコリメータレンズと、該コリメータレンズで平行光
に変換された光ビームが入射する第一の入射面と前記光
ビームが出射する第一の出射面を有する第一のプリズム
であって、前記第一の入射面は前記半導体レーザのp−
n接合面に垂直であり入射した光ビームが所定の角度だ
け屈折されるように設けられ、かつ前記第一の出射面は
前記第一の入射面で屈折された光ビームが略垂直に出射
するように設けられた第一のプリズムと、該第一のプリ
ズムから出射した光ビームが入射する第二の入射面と前
記光ビームが出射する第二の出射面を有する第二のプリ
ズムであって、前記第二の入射面は前記半導体レーザの
p−n接合面に垂直であり入射した光ビームが前記第一
の入射面とは逆向きに所定の角度だけ屈折されるように
設けられ、かつ前記第二の出射面は前記第二の入射面で
屈折された光ビームが略垂直に出射するように設けられ
た第二のプリズムと、該第二のプリズムから出射した光
ビームを収束光に変換して光記録媒体上に照射する対物
レンズと、前記光記録媒体から反射した光ビームを受光
する光検出器を有する光ヘッド装置であって、前記光ビ
ームの前記第一の入射面における入射角、屈折角をそれ
ぞれΦ1、θ1、前記第二の入射面における入射角、屈
折角をそれぞれΦ2、θ2とし、前記光ビームの波長が
中心波長の近傍で1nm増加したときの前記第一のプリ
ズムおよび前記第二のプリズムの屈折率の増加量をそれ
ぞれΔn1、Δn2とするとき、 φ1−01=φ2−02 および を満足することを特徴とする。
(作用)
本発明の光ヘッド装置は
の条件を満足させることにより、光ビームの波長の変化
量を5nm、対物レンズの焦点距離を3.0mmとする
と、光記録媒体上での光スポットの位置ずれ量は0.0
15pmとなり、許容値以下に抑えることができる。さ
らに、 φ1−θ1=Φ2−θ2 の条件を満足させることにより第一のプリズムに入射す
る光ビームと第二のプリズムから出射する光ビームは略
平行になるため、第6図の場合と同様に光ヘッド装置の
設計は容易である。
量を5nm、対物レンズの焦点距離を3.0mmとする
と、光記録媒体上での光スポットの位置ずれ量は0.0
15pmとなり、許容値以下に抑えることができる。さ
らに、 φ1−θ1=Φ2−θ2 の条件を満足させることにより第一のプリズムに入射す
る光ビームと第二のプリズムから出射する光ビームは略
平行になるため、第6図の場合と同様に光ヘッド装置の
設計は容易である。
(実施例)
以下に図面を参照して本発明の実施例につき説明する。
第1図に本発明の光磁気用光ヘッド装置の実施例の構成
を示す。第一のプリズム4および第二のプリズム5以外
の部分の構成は第6図と同一であるので説明は省略−す
る。第1図において、例えば光ビームの波長が780n
mで に1に2=2.0 の場合、第一のプリズム4の材料としてBaSF4、第
二のプリズム5の材料としてBK7を用いれば、n1=
1.640350、n、=1.510722であるか
ら Φ、=49.9°、Φ2=54.9°、θ1=27.8
°、θ2=32.8゜とすればよい。このとき Δn1=−3.74刈O1Δn2==−2,09刈0−
5であるため、プリズム出射時の角度ずれ量はα=1.
25刈0−8 と全0− 8るいは、第一のプリズム4の材料としてF8、第二の
プリズム5の材料としてBK7を用いれば、nl =
1.585694、n2=1.510722であるから Φ1=51゜1°、Φ2=54.3°、θ1=29.4
°、θ2=32.5’とすればよい。このとき Δn1=−3,38×10、Δn2:== 2−09
X 10−5であるため、プリズム出射時の角度ずれ量
はα=1.26X10−7 となる。
を示す。第一のプリズム4および第二のプリズム5以外
の部分の構成は第6図と同一であるので説明は省略−す
る。第1図において、例えば光ビームの波長が780n
mで に1に2=2.0 の場合、第一のプリズム4の材料としてBaSF4、第
二のプリズム5の材料としてBK7を用いれば、n1=
1.640350、n、=1.510722であるか
ら Φ、=49.9°、Φ2=54.9°、θ1=27.8
°、θ2=32.8゜とすればよい。このとき Δn1=−3.74刈O1Δn2==−2,09刈0−
5であるため、プリズム出射時の角度ずれ量はα=1.
25刈0−8 と全0− 8るいは、第一のプリズム4の材料としてF8、第二の
プリズム5の材料としてBK7を用いれば、nl =
1.585694、n2=1.510722であるから Φ1=51゜1°、Φ2=54.3°、θ1=29.4
°、θ2=32.5’とすればよい。このとき Δn1=−3,38×10、Δn2:== 2−09
X 10−5であるため、プリズム出射時の角度ずれ量
はα=1.26X10−7 となる。
BaSF4には一般にあまり使われないため値段がやや
高価になるという問題があるが、F8にはそのような問
題はない。
高価になるという問題があるが、F8にはそのような問
題はない。
また、例えば光ビームの波長が780nmでに1に2=
2.5 の場合、第一のプリズム4の材料として8F9、第二の
プリズム5の材料としてBK7を用いれば、n1= 1
.642089、n2:=: 1−510722である
から φ1=55.2°、φ2=60.3°、θ□=30.0
°、θ2=35.1゜とすればよい。このとき ム、=−4,19X10 、嶋=−2,09X10−5
であるため、プリズム出射時の角度ずれ量はα=4.1
2X10−8 となる。
2.5 の場合、第一のプリズム4の材料として8F9、第二の
プリズム5の材料としてBK7を用いれば、n1= 1
.642089、n2:=: 1−510722である
から φ1=55.2°、φ2=60.3°、θ□=30.0
°、θ2=35.1゜とすればよい。このとき ム、=−4,19X10 、嶋=−2,09X10−5
であるため、プリズム出射時の角度ずれ量はα=4.1
2X10−8 となる。
また、例えば光ビームの波長が830nmでに1に2=
2.0 の場合、第一のプリズム4の材料としてF3、第二のプ
リズム5の材料としてBK7を用いれば、n□= 1.
600638、−=1.509744であるから φ、=50.7°、φ2=54.4°、θ=28.9°
、θ2=32.6゜とすればよい。このとき ム、= −3,10X10 、嶋=−1,84X10
−5であるため、プリズム出射時の角度ずれ量はα=4
.88xlO−8 となる。
2.0 の場合、第一のプリズム4の材料としてF3、第二のプ
リズム5の材料としてBK7を用いれば、n□= 1.
600638、−=1.509744であるから φ、=50.7°、φ2=54.4°、θ=28.9°
、θ2=32.6゜とすればよい。このとき ム、= −3,10X10 、嶋=−1,84X10
−5であるため、プリズム出射時の角度ずれ量はα=4
.88xlO−8 となる。
また、例えば光ビームの波長が830nmでに1に2=
2.5 の場合、第一のプリズム4の材料としてSF5、第二の
プリズム5の材料としてBK7を用いれば、n1= 1
.657424、−= 1.509744であるから φ1=55.0°、φ2=60.5°、θ1=29.6
°、θ2=35.2゜とすればよい。このとき 社、: −3,76X10 、嶋= −1,84X10
−5であるため、プリズム出射時の角度ずれ量はα=1
.04xlO−7 となる。
2.5 の場合、第一のプリズム4の材料としてSF5、第二の
プリズム5の材料としてBK7を用いれば、n1= 1
.657424、−= 1.509744であるから φ1=55.0°、φ2=60.5°、θ1=29.6
°、θ2=35.2゜とすればよい。このとき 社、: −3,76X10 、嶋= −1,84X10
−5であるため、プリズム出射時の角度ずれ量はα=1
.04xlO−7 となる。
第2図には本発明の追記型または相変化型光ヘッド装置
の実施例の構成を示す。第一のプリズム4および第二の
プリズム5には第1図と同じものが用いられている。第
一のプリズム4および第二のプリズム5で断面形状が略
円形に変換された光ビームは偏光ビームスプリッタ8お
よび1/4波長板9を透過したのち、対物レンズ10で
収束光に変換されて追記型または相変化型の光記録媒体
12上に照射される。
の実施例の構成を示す。第一のプリズム4および第二の
プリズム5には第1図と同じものが用いられている。第
一のプリズム4および第二のプリズム5で断面形状が略
円形に変換された光ビームは偏光ビームスプリッタ8お
よび1/4波長板9を透過したのち、対物レンズ10で
収束光に変換されて追記型または相変化型の光記録媒体
12上に照射される。
光記録媒体12からの反射光は対物レンズ10を逆向き
に透過して再び平行光に変換され、1/4波長板9を透
過したのち偏光ビームスプリッタ8で全て反射される。
に透過して再び平行光に変換され、1/4波長板9を透
過したのち偏光ビームスプリッタ8で全て反射される。
偏光ビームスプリッタ8の反射光は収束レンズ13で収
束光に変換されたのち、ハーフミラ−14で透過光と反
射光に分離される。ハーフミラ−14の反射光はナイフ
ェツジ15を介して2分割光検出器16で受光される。
束光に変換されたのち、ハーフミラ−14で透過光と反
射光に分離される。ハーフミラ−14の反射光はナイフ
ェツジ15を介して2分割光検出器16で受光される。
2分割光検出器16の二つの受光面からの出力の差をと
ることにより、公知のナイフェツジ法の原理を用いてフ
ォーカスエラー信号が検出される。ハーフミラ−14の
透過光は直接2分割光検出器17で受光される。2分割
光検出器17の二つの受光面からの出力の差をとること
により、公知のプッシュプル法の原理を用いてトラック
エラー信号が検出される。また、2分割光検出器17の
二つの受光面からの出力の和をとることにより、光記録
媒体12に記録された情報が再生される。
ることにより、公知のナイフェツジ法の原理を用いてフ
ォーカスエラー信号が検出される。ハーフミラ−14の
透過光は直接2分割光検出器17で受光される。2分割
光検出器17の二つの受光面からの出力の差をとること
により、公知のプッシュプル法の原理を用いてトラック
エラー信号が検出される。また、2分割光検出器17の
二つの受光面からの出力の和をとることにより、光記録
媒体12に記録された情報が再生される。
以上に述べた実施例においては、第二のプリズム5の材
料としてBK7が用いられているため、第1図のビーム
スプリッタ6や第2図の偏光ビームスプリッタ8の材料
がBK7であれば、第二のプリズム5とこれらを一体化
することも可能である。もちろん、第二のプリズム5の
材料としてはBK7以外のものを用いても構わない。
料としてBK7が用いられているため、第1図のビーム
スプリッタ6や第2図の偏光ビームスプリッタ8の材料
がBK7であれば、第二のプリズム5とこれらを一体化
することも可能である。もちろん、第二のプリズム5の
材料としてはBK7以外のものを用いても構わない。
(発明の効果)
以上に述べたように、本発明によれば、光ビームの波長
変化に伴うプリズム出射時の角度ずれ量が小さく、その
結果として光記録媒体上での光スポットの位置ずれ量を
許容値以下に抑えることができると共に、第一のプリズ
ムに入射する光ビームと第二のプリズムから出射する光
ビームが略平行になるため設計が容易な光ヘッド装置を
実現することができる。
変化に伴うプリズム出射時の角度ずれ量が小さく、その
結果として光記録媒体上での光スポットの位置ずれ量を
許容値以下に抑えることができると共に、第一のプリズ
ムに入射する光ビームと第二のプリズムから出射する光
ビームが略平行になるため設計が容易な光ヘッド装置を
実現することができる。
第1図は本発明の光磁気用光ヘッド装置の実施例の構成
を示す図、第2図は本発明の追記型または相変化型光ヘ
ッド装置の実施例の構成を示す図、第3図は第5図の光
ヘッド装置のプリズムにおける、光ビームの波長変化に
伴うプリズム出射時の角度ずれの様子を示す図、第4図
は第6図の光ヘッド装置の第一のプリズムおよび第二の
プリズムにおける、光ビームの波長変化に伴うプリズム
出射時の角度ずれの様子を示す図、第5図はプリズムを
用いた従来の光磁気用光ヘッド装置の構成例を示す図、
第6図はプリズムを2個用いた従来の光磁気用光ヘッド
装置の構成例を示す図である。 図において、 11.・半導体レーザ、2・・・コリメータレンズ、3
・・・プリズム、4・・・第一のプリズム、5・・・第
二のプリズム、6,7・・・ビームスプリッタ、8・・
・偏光ビームスプリッタ、9・・・174波長板、10
・・・対物レンズ、11・・・光磁気記録媒体、12・
・・光記録媒体、13・・・収束レンズ、14・・・ハ
ーフミラ−115・・・ナイフェツジ、16、17・・
・2分割光検出器、18・・・172波長板、19・・
・偏光ビームスプリッタ、 20、21・・・収束レンズ、22.23・・・光検出
器である。 第1図 1、半導体レーザ 2:コリメータレンズ 4、第一のプリズム(BaSF4) 10、対物レンズ 11:光磁気記録媒体
を示す図、第2図は本発明の追記型または相変化型光ヘ
ッド装置の実施例の構成を示す図、第3図は第5図の光
ヘッド装置のプリズムにおける、光ビームの波長変化に
伴うプリズム出射時の角度ずれの様子を示す図、第4図
は第6図の光ヘッド装置の第一のプリズムおよび第二の
プリズムにおける、光ビームの波長変化に伴うプリズム
出射時の角度ずれの様子を示す図、第5図はプリズムを
用いた従来の光磁気用光ヘッド装置の構成例を示す図、
第6図はプリズムを2個用いた従来の光磁気用光ヘッド
装置の構成例を示す図である。 図において、 11.・半導体レーザ、2・・・コリメータレンズ、3
・・・プリズム、4・・・第一のプリズム、5・・・第
二のプリズム、6,7・・・ビームスプリッタ、8・・
・偏光ビームスプリッタ、9・・・174波長板、10
・・・対物レンズ、11・・・光磁気記録媒体、12・
・・光記録媒体、13・・・収束レンズ、14・・・ハ
ーフミラ−115・・・ナイフェツジ、16、17・・
・2分割光検出器、18・・・172波長板、19・・
・偏光ビームスプリッタ、 20、21・・・収束レンズ、22.23・・・光検出
器である。 第1図 1、半導体レーザ 2:コリメータレンズ 4、第一のプリズム(BaSF4) 10、対物レンズ 11:光磁気記録媒体
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体レーザと、該半導体レーザから発散光として出射
した光ビームを平行光に変換するコリメータレンズと、
該コリメータレンズで平行光に変換された光ビームが入
射する第一の入射面と前記光ビームが出射する第一の出
射面を有する第一のプリズムであって、前記第一の入射
面は前記半導体レーザのp−n接合面に垂直であり入射
した光ビームが所定の角度だけ屈折されるように設けら
れ、かつ前記第一の出射面は前記第一の入射面で屈折さ
れた光ビームが略垂直に出射するように設けられた第一
のプリズムと、該第一のプリズムから出射した光ビーム
が入射する第二の入射面と前記光ビームが出射する第二
の出射面を有する第二のプリズムであって、前記第二の
入射面は前記半導体レーザのp−n接合面に垂直であり
入射した光ビームが前記第一の入射面とは逆向きに所定
の角度だけ屈折されるように設けられ、かつ前記第二の
出射面は前記第二の入射面で屈折された光ビームが略垂
直に出射するように設けられた第二のプリズムと、該第
二のプリズムから出射した光ビームを収束光に変換して
光記録媒体上に照射する対物レンズと、前記光記録媒体
から反射した光ビームを受光する光検出器を有する光ヘ
ッド装置において、前記光ビームの前記第一の入射面に
おける入射角、屈折角をそれぞれΦ_1、Θ_1、前記
第二の入射面における入射角、屈折角をそれぞれΦ_2
、Θ_2とし、前記光ビームの波長が中心波長の近傍で
1nm増加したときの前記第一のプリズムおよび前記第
二のプリズムの屈折率の増加量をそれぞれΔn_1、Δ
n_2とするとき、 Φ_1−Θ_1=Φ_2−Θ_2 および |Δn_2tanΘ_2−Δn_1tanΘ_1(co
sΦ_2/cosΘ_2)|<10^−^6を満足する
ことを特徴とする光ヘッド装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2154564A JPH041940A (ja) | 1990-04-18 | 1990-06-13 | 光ヘッド装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-102436 | 1990-04-18 | ||
| JP10243690 | 1990-04-18 | ||
| JP2154564A JPH041940A (ja) | 1990-04-18 | 1990-06-13 | 光ヘッド装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH041940A true JPH041940A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=26443158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2154564A Pending JPH041940A (ja) | 1990-04-18 | 1990-06-13 | 光ヘッド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH041940A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998013556A1 (en) | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method of production of large tank, system using such large tank and submerged tunneling method using the tank |
-
1990
- 1990-06-13 JP JP2154564A patent/JPH041940A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998013556A1 (en) | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method of production of large tank, system using such large tank and submerged tunneling method using the tank |
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