JPH0419541A - セラミックの溶射膜体並びにその気孔率の測定方法 - Google Patents

セラミックの溶射膜体並びにその気孔率の測定方法

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JPH0419541A
JPH0419541A JP12346790A JP12346790A JPH0419541A JP H0419541 A JPH0419541 A JP H0419541A JP 12346790 A JP12346790 A JP 12346790A JP 12346790 A JP12346790 A JP 12346790A JP H0419541 A JPH0419541 A JP H0419541A
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JP
Japan
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porosity
ceramic
film
sprayed
film body
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JP12346790A
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English (en)
Inventor
Seijiro Kagawa
香川 征二郎
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Ishigaki Mechanical Industry Co Ltd
Original Assignee
Ishigaki Mechanical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、セラミック粉末を溶射した微細な通孔を有
するセラミ、ツクの溶射膜体並びにその溶射膜体の気孔
率の測定方法に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、微細な通孔を有するセラミックとしては、高温で
焼成した一体型のカー) IJッジフィルターがよく知
られており、円筒状に構成した 炉材として用いられて
いる。
また、セラミックを金属面や合成樹脂面に溶射してその
表面にセラミックの皮膜を形成することもよく知られて
いる。すなわち、金属面の防錆や摩耗防止のために行な
われている。
然しなから、セラミックの溶射皮膜は多孔質であり、こ
の微細通孔を通じて母材が腐蝕等するので、皮膜を形成
する上でその気孔率を知っておく必要がある。この気孔
率を知る方法としては、溶着した皮膜であるだけに金属
面等に溶射したものでは、7エロシアン化鉄の青色斑点
で調べるフェロキシル法を用いており、また、皮膜単体
の気孔率を知りたい場合には、基材(母材)を薬品で溶
解して皮膜だけにしてその気孔率を測定している。
〔発明が解決しようとする課題〕
然しなから、従来のセラミックの高温焼成体では、その
焼成炉がその大きさ、形状等によって制限を受け、また
、使用材料も多く必要とする上、焼成にも時間を要する
。また、気孔率を測定するにしても従来の方法では、別
に試験片を作成しなければならず、また、薬品を使用す
る危険性もある0 〔課題を解決するだめの手段〕 この発明は、次のような手段、手法を用いて上述のよう
な課題を解決したものである。
(1) 直径100μm以下の微細通孔を有するメタル
メツシュ上に、直径40μm以下のセラミックを付着さ
せて溶射膜体を構成した。
(2)  予め気孔率の判明している微細通孔を有する
メタルメソシュ面にセラミックを溶射付着させ、この溶
射膜体を真空吸引源に接続した試験器に取付け、直接真
空吸引して、その気孔率を知る↓うにした。すなわち、
この気孔率の測定方法は、従来の方法が薬品等を用いて
手数を要するとともに、危険性も伴なうのに対して、こ
の発明では、溶射したセラミ・ンク皮膜そのものの気孔
率を直接測定できるもので、手数を要せず、危険性も全
くないものである。また、この発明に係るセラミック溶
射膜体は、膜体であるだけに材料を要せず、焼成するの
に比較して格段に短時間で且つ種々の形状のものを簡単
に製作することができる。
以下、この発明を具体的に説明する。
〔実施例〕
第1図は、溶射基材であるメタルメツシュの平面図、第
2図はその断面図であり、平織りに編成されており、符
号1は縦線、2は横線である。縦線1と横線2とで構成
される目3は、円形ではないが直径約40μmのものを
用いている。尚、基材とするメタルメソシュは、綾織り
にしたもの、薄板をパンチングしたもの、また、これら
を層状に重ねたもの等、種々のものを用いることができ
る。第3図は、溶射の概念を示すもので、溶射皮膜は加
工が困難のために、基材4を所望の形状に予め加工した
ものに溶射する。図示のものは、円筒状に加工したメタ
ルメツシュの基材4に溶射する状態を示しているが、均
一な溶射皮膜を形成するために基材4回転台5で支持し
ている。Gはセラミックの噴射ガンである。このように
、支持具等(治具)を工夫することによって、平板状の
もの、その他複雑な形状のものにも均一な溶射皮膜を形
成することが可能である。
上述のようにして、メタルメツシュ面に形成される皮膜
6は微細な通孔を有する基材4の上に溶融した微細な粒
子のセラミックが吹きつけられ、この吹きつけの際、粒
子が溶融しているので、基材4に衝突することによって
偏平に変形し、基材4の百3から抜けることなく、固化
する。従って、基材4の微細な通孔よりもさらに微細な
通孔を有する 皮膜6が形成される。
この基材面に形成されるセラミックの皮膜6は、その通
孔がセラミックの種類、その粉末粒の大きさ、また、基
材4の目3の大きさ等で調節できる。
このセラミックをフーティングした基材4は、特に精密
濾過に用いるP材として、従来の焼成したセラミックカ
ートリッジに比較して製作に手数を要せず、薄いだけに
小量の材料で済む上、目詰りした場合に再生が容易であ
る等数々の利点を有する0 また、この発明に係るセラミック溶射皮膜は、P材とし
て利用できるばかりでなく、メタルメツシュを含めた溶
射膜体の通気度を直接測定することができるので、セラ
ミックを溶射して金属等の表面処理をするに当ってその
溶射材料によるピンホール等の発生度を簡単に確認する
ことができる。
すなわち、通気度の判明しているメタルメツシュにある
条件を定めてセラミックを溶射して皮膜を形成し、この
皮膜を形成した膜体の通気度を測定すればよいもので、
すなわち、その通気度が基材であるメタルメツシュの通
気度よりも低い場合は、それが皮膜の通気度である。従
来、金属面のセラミックを溶射して表面処理を行なう場
合、セラミック皮膜のピンホールが錆や腐蝕の原因とな
り問題となったのであるが、この発明によれば、形成さ
れる皮膜の通気度、すなわち、ピンホールの発生状況が
即確詔できるので、その確認結果に基づいて使用材料、
膜厚等を調整すればよく、従来のナス1ピースを用いた
り、薬品を用いたりする方法に比較すれば、その手数を
著しく軽減し得るものである。
第4図は、セラミックを溶射したメタルメツシュの通気
度の測定装置の概要を示すもので、図中Aはテスター 
Bはセットされた溶射膜体、C1・Gはバルブ、Dはメ
スシリンダー Eは真空ゲージ、qは真空ポンプである
テスターAに溶射膜体Bをセットし、テスターAに一定
量水を注入し、バルブC1を開いて真空ポンプVによっ
て吸引し、単位時間当りの吸引水量を測定すれば、溶射
膜体Bの気孔率を知ることができ、これからピンホール
の発生状況を知ることができる。
〔発明の効果〕
このように、この発明に係るセラミックの溶射膜体は、
フィルターのP材として利用できるばかりでなく、従来
、測定が困難であったセラミックの溶射膜体の気孔率を
簡単に知ることができるもので、セラミックコーティン
グ上も大いに役立つもので、工業上得られる利益は著大
なものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明に用いるメタルメツシュの一部の平
面図、第2図は、その断面図、第3図は、セラミックの
溶射状態を示す模式図、第4図は、溶射膜体の気孔率を
測定する方法の概念図である。 第19 3ffi

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)直径100μm以下の微細通孔を有するメタルメ
    ッシュ面に、直径40μm以下の粒子のセラミックを溶
    射付着させたセラミックの溶射膜体。
  2. (2)予め気孔率の判明している微細通孔を有するメタ
    ルメッシュ面にセラミックの微細粉末を溶射付着させ、
    この溶射膜体を真空吸引源に接続した試験器に取付け、
    直接真空吸引してその気孔率を測定することを特長とす
    る溶射膜体の気孔率の測定方法。
JP12346790A 1990-05-14 1990-05-14 セラミックの溶射膜体並びにその気孔率の測定方法 Pending JPH0419541A (ja)

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