JPH04196565A - 半導体素子収納用パッケージ - Google Patents
半導体素子収納用パッケージInfo
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- JPH04196565A JPH04196565A JP2332822A JP33282290A JPH04196565A JP H04196565 A JPH04196565 A JP H04196565A JP 2332822 A JP2332822 A JP 2332822A JP 33282290 A JP33282290 A JP 33282290A JP H04196565 A JPH04196565 A JP H04196565A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor element
- insulating base
- external lead
- glass
- glass material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は半導体素子を収容するための半導体素子収納用
パッケージの改良に関するものである。
パッケージの改良に関するものである。
(従来技術及びその課題)
従来、半導体素子を収容するためのパッケージ、特にガ
ラスの溶着によって封止するガラス封止型の半導体素子
収納用パッケージは、アルミナセラミックス等の電気絶
縁材料から成り、中央部に半導体素子を収容する空所を
形成するための凹部を有し、上面に封止用のガラス層が
被着された絶縁基体と、同じく電気絶縁材料から成り、
中央部に半導体素子を収容する空所を形成するための凹
部を有し、下面に封止用のガラス層か被着された蓋体と
、内部に収容する半導体素子を外部の電気回路に電気的
に接続するための外部リード端子とにより構成されてお
り、絶縁基体の上面に外部リード端子を載置させるとと
もに予め被着させておいた封止用のガラス層を溶融させ
ることによって外部リード端子を絶縁基体に仮止めし、
次に前記絶縁基体の凹部に半導体素子を取着するととも
に該半導体素子の各電極(信号電極、電源電極、接地電
極等)をボンディングワイヤを介して外部り一ト端子に
接続し、しかる後、絶縁基体と蓋体とをその相対向する
主面に被着させておいた封止用のガラス層を溶融一体化
させ、絶縁基体と蓋体とから成る容器を気密に封止する
ことによって最終製品としての半導体装置となる。
ラスの溶着によって封止するガラス封止型の半導体素子
収納用パッケージは、アルミナセラミックス等の電気絶
縁材料から成り、中央部に半導体素子を収容する空所を
形成するための凹部を有し、上面に封止用のガラス層が
被着された絶縁基体と、同じく電気絶縁材料から成り、
中央部に半導体素子を収容する空所を形成するための凹
部を有し、下面に封止用のガラス層か被着された蓋体と
、内部に収容する半導体素子を外部の電気回路に電気的
に接続するための外部リード端子とにより構成されてお
り、絶縁基体の上面に外部リード端子を載置させるとと
もに予め被着させておいた封止用のガラス層を溶融させ
ることによって外部リード端子を絶縁基体に仮止めし、
次に前記絶縁基体の凹部に半導体素子を取着するととも
に該半導体素子の各電極(信号電極、電源電極、接地電
極等)をボンディングワイヤを介して外部り一ト端子に
接続し、しかる後、絶縁基体と蓋体とをその相対向する
主面に被着させておいた封止用のガラス層を溶融一体化
させ、絶縁基体と蓋体とから成る容器を気密に封止する
ことによって最終製品としての半導体装置となる。
尚、かかる従来の半導体素子収納用パッケージは内部に
収容する半導体素子か供給電源電圧の変動の影響を受け
ないようにするために通常、容量素子か付加されており
、該半導体素子収納用パッケージへの容量素子の付加は
一般に容器を構成する絶縁基体内部に多層電極を配し、
多層電極間に絶縁基体材料を誘電体として一定の静電容
量を形成したり、絶縁基体の半導体素子を収容する凹部
底面にチタン酸バリウム磁器からなる容量素子を取着し
たりすることによって行われている。
収容する半導体素子か供給電源電圧の変動の影響を受け
ないようにするために通常、容量素子か付加されており
、該半導体素子収納用パッケージへの容量素子の付加は
一般に容器を構成する絶縁基体内部に多層電極を配し、
多層電極間に絶縁基体材料を誘電体として一定の静電容
量を形成したり、絶縁基体の半導体素子を収容する凹部
底面にチタン酸バリウム磁器からなる容量素子を取着し
たりすることによって行われている。
しかしながら、この従来の半導体素子収納用パッケージ
においては容量素子の付加が容器を構成する絶縁基体の
内部に多層電極を配することによって行われている場合
、絶縁基体は一般にアルミナセラミックスから成り、該
アルミナセラミックスは誘電率か低い(誘電率9〜10
)ことから多層電極間に形成される静電容量も極めて小
さいものとなり、その結果、半導体素子の電源電圧変動
に起因する誤動作を完全に防止することかできないとい
う欠点を有していた。
においては容量素子の付加が容器を構成する絶縁基体の
内部に多層電極を配することによって行われている場合
、絶縁基体は一般にアルミナセラミックスから成り、該
アルミナセラミックスは誘電率か低い(誘電率9〜10
)ことから多層電極間に形成される静電容量も極めて小
さいものとなり、その結果、半導体素子の電源電圧変動
に起因する誤動作を完全に防止することかできないとい
う欠点を有していた。
尚、この欠点を解消するために多層電極の層数や電極対
向面積を増大させ、多層電極間に形成される静電容量を
大きくすることも考えられるか、電極の層数や面積を増
大させるとパッケージ自体の形状か大きく成り、内部に
半導体素子を収容し、半導体装置とすると該半導体装置
か極めて大型のものとなる欠点を誘発する。
向面積を増大させ、多層電極間に形成される静電容量を
大きくすることも考えられるか、電極の層数や面積を増
大させるとパッケージ自体の形状か大きく成り、内部に
半導体素子を収容し、半導体装置とすると該半導体装置
か極めて大型のものとなる欠点を誘発する。
また絶縁基体の半導体素子を収容する凹部内にチタン酸
バリウム磁器から成る容量素子を取着することによって
半導体素子収納用パッケージに容量素子を付加した場合
、絶縁基体の半導体素子を収容する凹部がチタン酸バリ
ウム磁器から成る容量素子を取着するために大きくなり
、その結果、上述と同様、製品としての半導体装置か大
型化してしまうという欠点を有する。
バリウム磁器から成る容量素子を取着することによって
半導体素子収納用パッケージに容量素子を付加した場合
、絶縁基体の半導体素子を収容する凹部がチタン酸バリ
ウム磁器から成る容量素子を取着するために大きくなり
、その結果、上述と同様、製品としての半導体装置か大
型化してしまうという欠点を有する。
更に前記絶縁基体の外観形状をそのままとし、半導体素
子を収容する凹部のみの形状を容量素子か取着し得る程
度に大きくすることも考えられるか凹部の形状のみを大
きくすると絶縁基体と蓋体とを接合させ容器の内部を気
密封止する際、絶縁基体と蓋体との接合面積が狭くなっ
て容器の気密封止の信頼性か大きく低下するという欠点
を誘発してしまう。
子を収容する凹部のみの形状を容量素子か取着し得る程
度に大きくすることも考えられるか凹部の形状のみを大
きくすると絶縁基体と蓋体とを接合させ容器の内部を気
密封止する際、絶縁基体と蓋体との接合面積が狭くなっ
て容器の気密封止の信頼性か大きく低下するという欠点
を誘発してしまう。
そこて上記欠点を解消するために絶縁基体上面にメタラ
イズ金属層を被着させておき、該メタライズ金属層上に
高誘電率のガラス部材を介して外部リード端子を固定し
、メタライズ金属層と外部リード端子との間に容量素子
を形成することによって半導体素子収納用パッケージに
容量素子を付加することが考えられる。
イズ金属層を被着させておき、該メタライズ金属層上に
高誘電率のガラス部材を介して外部リード端子を固定し
、メタライズ金属層と外部リード端子との間に容量素子
を形成することによって半導体素子収納用パッケージに
容量素子を付加することが考えられる。
しかしながら、メタライズ金属層と外部リード端子との
間に形成される容量素子はその静電容量値を半導体素子
に供給電源電圧変動の影響を与えないような大きな値と
するのにガラス部材の誘電率を大きくしなければならず
、ガラス部材の誘電率を大きくすると次の欠点か誘発さ
れる。
間に形成される容量素子はその静電容量値を半導体素子
に供給電源電圧変動の影響を与えないような大きな値と
するのにガラス部材の誘電率を大きくしなければならず
、ガラス部材の誘電率を大きくすると次の欠点か誘発さ
れる。
即ち、隣接する外部リード端子の各々を伝播する電気信
2号はその間に介在するガラス部材の誘電率か大きいと
互いに大きく影響し合って各電気信号にノイズを発生さ
せてしまい、そのノイズか電気信号とともに内部に収容
する半導体素子に伝播され、半導体素子に誤動作を起こ
させてしまうという欠点か誘発される。
2号はその間に介在するガラス部材の誘電率か大きいと
互いに大きく影響し合って各電気信号にノイズを発生さ
せてしまい、そのノイズか電気信号とともに内部に収容
する半導体素子に伝播され、半導体素子に誤動作を起こ
させてしまうという欠点か誘発される。
一ジては外部リード端子の電気信号の伝播速度か極めて
遅くなってパッケージ内部に信号の伝播速度が速い高速
駆動を行う半導体素子はその収容か不可となってしまう
。
遅くなってパッケージ内部に信号の伝播速度が速い高速
駆動を行う半導体素子はその収容か不可となってしまう
。
(発明の目的)
本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、その目的は
内部に高速駆動を行う半導体素子の収容を可能とし、且
つ収容する半導体素子を長期間にわたり誤動作すること
なく安定に作動させることができる小型の半導体素子収
納用パッケージを提供することにある。
内部に高速駆動を行う半導体素子の収容を可能とし、且
つ収容する半導体素子を長期間にわたり誤動作すること
なく安定に作動させることができる小型の半導体素子収
納用パッケージを提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明は半導体素子を収容するための凹部を育する絶縁
基体と蓋体とから成る半導体素子収納用パッケージにお
いて、前記絶縁基体はその上面にメタライズ金属層が被
着され、且つ該メタライズ金属層上に外部リード端子か
誘電率17.0以上の下ガラス材と誘電率14.0以下
の上ガラス材の二層構造を有するガラス部材を介して固
定されるとともに外部リード端子のうち半導体素子の電
源電極もしくは接地電極と接続される端子か前記メタラ
イズ金属層に電気的に接続していることを特徴とするも
のである。
基体と蓋体とから成る半導体素子収納用パッケージにお
いて、前記絶縁基体はその上面にメタライズ金属層が被
着され、且つ該メタライズ金属層上に外部リード端子か
誘電率17.0以上の下ガラス材と誘電率14.0以下
の上ガラス材の二層構造を有するガラス部材を介して固
定されるとともに外部リード端子のうち半導体素子の電
源電極もしくは接地電極と接続される端子か前記メタラ
イズ金属層に電気的に接続していることを特徴とするも
のである。
(実施例)
次に本発明を添付図面に示す実施例に基つき詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明の半導体素子収納用パッケージの一実施
例を示す断面図であり、1はアルミナセラミックス等の
電気絶縁材料より成る絶縁基体、2は同じく電気絶縁材
料より成る蓋体である。この絶縁基体1と蓋体2とによ
り半導体素子3を収容するための容器か構成される。
例を示す断面図であり、1はアルミナセラミックス等の
電気絶縁材料より成る絶縁基体、2は同じく電気絶縁材
料より成る蓋体である。この絶縁基体1と蓋体2とによ
り半導体素子3を収容するための容器か構成される。
前記絶縁基体l及び蓋体2にはそれぞれの中央部に半導
体素子3を収容する空所を形成するための四部が設けて
あり、絶縁基体lの凹部1a底面には半導体素子3か接
着材を介し取着固定される。
体素子3を収容する空所を形成するための四部が設けて
あり、絶縁基体lの凹部1a底面には半導体素子3か接
着材を介し取着固定される。
前記絶縁基体1及び蓋体2は従来周知のプレス成形法を
採用することよって形成され、例えは絶縁基体1及び蓋
体2かアルミナセラミックスから成る場合には第1図に
示すような絶縁基体1または蓋体2に対応した形状を有
するプレス型内にアルミナセラミックスの粉末を充填さ
せるとともに一定圧力を印加して成形し、しかる後、成
形品を約1500°Cの温度で焼成することによって製
作される。
採用することよって形成され、例えは絶縁基体1及び蓋
体2かアルミナセラミックスから成る場合には第1図に
示すような絶縁基体1または蓋体2に対応した形状を有
するプレス型内にアルミナセラミックスの粉末を充填さ
せるとともに一定圧力を印加して成形し、しかる後、成
形品を約1500°Cの温度で焼成することによって製
作される。
また前記絶縁基体1はその上面にメタライズ金属層4が
被着されており、更にメタライズ金@層4の上部には外
部リード端子5か上ガラス材6aと下ガラス材6bとの
二層構造を有するガラス部材6を介して固定され、メタ
ライズ金属層4と外部リード端子5との間にガラス部材
6を誘電体材料とした容量素子Aが形成されている。こ
の容量素子Aは半導体素子3の電源電極と接地電極の間
に接続され、半導体素子3に供給電源電圧の変動に起因
した悪影響か及はさないように作用する。
被着されており、更にメタライズ金@層4の上部には外
部リード端子5か上ガラス材6aと下ガラス材6bとの
二層構造を有するガラス部材6を介して固定され、メタ
ライズ金属層4と外部リード端子5との間にガラス部材
6を誘電体材料とした容量素子Aが形成されている。こ
の容量素子Aは半導体素子3の電源電極と接地電極の間
に接続され、半導体素子3に供給電源電圧の変動に起因
した悪影響か及はさないように作用する。
前記絶縁基体1の上面に被着されるメタライズ金属層4
は金(Au)、銀−白金(Ag−Pt)、銀−パラ4ウ
ム(Ag−Pd)等の金属材料から成り、金粉末等に適
当な有機溶剤、溶媒を添加混合して得た金属ペーストを
絶縁基体1の上面に従来周知のスクリーン印刷法を採用
することによって印刷塗布し、しかる後、これを約45
0°Cの温度で焼成し、金粉末等を絶縁基体1の上面に
焼き付けることによって被着される。
は金(Au)、銀−白金(Ag−Pt)、銀−パラ4ウ
ム(Ag−Pd)等の金属材料から成り、金粉末等に適
当な有機溶剤、溶媒を添加混合して得た金属ペーストを
絶縁基体1の上面に従来周知のスクリーン印刷法を採用
することによって印刷塗布し、しかる後、これを約45
0°Cの温度で焼成し、金粉末等を絶縁基体1の上面に
焼き付けることによって被着される。
前記メタライズ金属層4は半導体素子3に供給される電
源電圧の変動を平滑化して半導体素子3の誤動作を有効
に防止する容量素子Aの一方の電極として作用し、該メ
タライズ金属層4には半導体素子3の電源電極、或いは
接地電極が電気的に接続される。
源電圧の変動を平滑化して半導体素子3の誤動作を有効
に防止する容量素子Aの一方の電極として作用し、該メ
タライズ金属層4には半導体素子3の電源電極、或いは
接地電極が電気的に接続される。
前記メタライズ金属層4か被着された絶縁基体1の上部
にはまた外部リード端子5がガラス部材6を介して固定
されており、該ガラス部材6は絶縁基体1上に外部リー
ド端子5を固定するとともに容量素子Aの誘電体材料と
して作用する。
にはまた外部リード端子5がガラス部材6を介して固定
されており、該ガラス部材6は絶縁基体1上に外部リー
ド端子5を固定するとともに容量素子Aの誘電体材料と
して作用する。
前記ガラス部材6は下ガラス材6aと上ガラス材6bと
から成る二層構造を有しており、下ガラス材6aは誘電
率か17.0以上(室温IMHz)のガラス材料で、ま
た上ガラス材6bは誘電率か14.0以下(室温IMH
z)のガラス材料で形成されている。
から成る二層構造を有しており、下ガラス材6aは誘電
率か17.0以上(室温IMHz)のガラス材料で、ま
た上ガラス材6bは誘電率か14.0以下(室温IMH
z)のガラス材料で形成されている。
前記ガラス部材6を構成する下ガラス材6aは例えば、
酸化鉛60.0乃至90.0重量%、酸化ホウ素5゜0
乃至15.0重量%に、フィラーとしてのペロブスカイ
ト型のチタン酸塩を5.0乃至50.0重量%含存させ
たガラスから成り、該各ガラス原料粉末に適当な有機溶
剤、溶媒を添加混合して得たガラスペーストを絶縁基体
1の上面に従来周知のスクリーン印刷法により印刷塗布
し、しかる後、これを約500″Cの温度で焼き付ける
ことによって絶縁基体1の上面に被着される。
酸化鉛60.0乃至90.0重量%、酸化ホウ素5゜0
乃至15.0重量%に、フィラーとしてのペロブスカイ
ト型のチタン酸塩を5.0乃至50.0重量%含存させ
たガラスから成り、該各ガラス原料粉末に適当な有機溶
剤、溶媒を添加混合して得たガラスペーストを絶縁基体
1の上面に従来周知のスクリーン印刷法により印刷塗布
し、しかる後、これを約500″Cの温度で焼き付ける
ことによって絶縁基体1の上面に被着される。
前記下ガラス材6aはその誘電率か17.0以上と高い
ことからメタライズ金属層4と外部リード端子6との間
に形成される容量素子Aの静電容量値か極めて大きな値
となり、その結果、容量素子Aによって供給電源電圧の
変動に起因する半導体素子への悪影響を有効に防止する
ことかでき、内部に収容する半導体素子を誤動作させる
ことなく安定に作動させることかできる。
ことからメタライズ金属層4と外部リード端子6との間
に形成される容量素子Aの静電容量値か極めて大きな値
となり、その結果、容量素子Aによって供給電源電圧の
変動に起因する半導体素子への悪影響を有効に防止する
ことかでき、内部に収容する半導体素子を誤動作させる
ことなく安定に作動させることかできる。
尚、前記下ガラス材6aはその誘電率か17.0未満で
あるとメタライズ金属層4と外部リード端子5との間に
形成される容量素子Aの静電容量値かガラス部材6aの
厚みを薄くしない限り所望する大きな値とならず、ガラ
ス部材6aの厚みを薄くすると外部リード端子5の絶縁
基体l上での固定強度か大幅に低下してしまう。従って
、前記ガラス部材6aはその誘電率が17.0(室温I
MHz)以上に特定される。
あるとメタライズ金属層4と外部リード端子5との間に
形成される容量素子Aの静電容量値かガラス部材6aの
厚みを薄くしない限り所望する大きな値とならず、ガラ
ス部材6aの厚みを薄くすると外部リード端子5の絶縁
基体l上での固定強度か大幅に低下してしまう。従って
、前記ガラス部材6aはその誘電率が17.0(室温I
MHz)以上に特定される。
また前記下ガラス材6aはその厚みか0.05mm未満
であると絶縁基体lに外部リード端子5を強固に固定て
きな(なる危険性があり、また0、 5mmを越えると
外部リード端子5とメタライズ金属層4との間に形成さ
れる容量素子Aの静電容量値か小さな値となって半導体
素子3への電源電圧変動の影響を有効に防止できなくな
る危険性がある。従って、前記ガラス部材6aはその厚
みを0,05乃至0゜5mmの範囲としておくことか好
ましい。
であると絶縁基体lに外部リード端子5を強固に固定て
きな(なる危険性があり、また0、 5mmを越えると
外部リード端子5とメタライズ金属層4との間に形成さ
れる容量素子Aの静電容量値か小さな値となって半導体
素子3への電源電圧変動の影響を有効に防止できなくな
る危険性がある。従って、前記ガラス部材6aはその厚
みを0,05乃至0゜5mmの範囲としておくことか好
ましい。
更に前記ガラス材6を構成する上ガラス材6bは例えば
、酸化鉛50.0乃至80.0重量%、酸化ホウ素5.
0乃至15.0重量%、酸化亜鉛15.0重量%以下、
酸化ケイ素10.0重量%以下、酸化アルミニウムl0
10重量%以下を含むガラスから成り、該各ガラス原料
粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して得たガラス
ペーストを下ガラス材6aの上面に従来周知のスクリー
ン印刷法により印刷塗布し、しかる後、これを約400
°Cの温度で焼き付けることによって下ガラス材6aの
上面に被着される。
、酸化鉛50.0乃至80.0重量%、酸化ホウ素5.
0乃至15.0重量%、酸化亜鉛15.0重量%以下、
酸化ケイ素10.0重量%以下、酸化アルミニウムl0
10重量%以下を含むガラスから成り、該各ガラス原料
粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して得たガラス
ペーストを下ガラス材6aの上面に従来周知のスクリー
ン印刷法により印刷塗布し、しかる後、これを約400
°Cの温度で焼き付けることによって下ガラス材6aの
上面に被着される。
前記上ガラス材6bはその誘電率が14.0以下と低い
ことがら該上ガラス材6bに固定される外部リード端子
5の信号伝播速度を極めて速いものとなすことができ、
その結果、パッケージ内部に信号の伝播速度が速い高速
駆動を行う半導体素子を収容することも可能となる。
ことがら該上ガラス材6bに固定される外部リード端子
5の信号伝播速度を極めて速いものとなすことができ、
その結果、パッケージ内部に信号の伝播速度が速い高速
駆動を行う半導体素子を収容することも可能となる。
尚、前記ガラス部材6bはその厚みが0.05mm未満
であると下ガラス材6aが外部リード端子5に影響を与
え、外部リード端子5を伝わる信号の伝播速度を遅いも
のとなす傾向にある。従って、上ガラス材6bはその厚
みを0.05mmpl上としておくことか好ましい。
であると下ガラス材6aが外部リード端子5に影響を与
え、外部リード端子5を伝わる信号の伝播速度を遅いも
のとなす傾向にある。従って、上ガラス材6bはその厚
みを0.05mmpl上としておくことか好ましい。
また前記ガラス部材6を介して絶縁基体1の上部に固定
される外部リード端子5は例えば、コバール金属(Fe
−Ni−Co合金)や42Alloy(Fe−Ni合金
)等の金属から成り、該コバール金属等のインゴット(
塊)を従来周知の圧延加工法及び打ち抜き加工法を採用
することによって所定の板状に形成される。
される外部リード端子5は例えば、コバール金属(Fe
−Ni−Co合金)や42Alloy(Fe−Ni合金
)等の金属から成り、該コバール金属等のインゴット(
塊)を従来周知の圧延加工法及び打ち抜き加工法を採用
することによって所定の板状に形成される。
前記外部リード端子5は内部に収容する半導体素子3の
信号電極、電源電極及び接地電極を外部電気回路に接続
する作用を為し、その一端には半導体素子3の各電極か
ボンディングワイヤ7を介して接続され、外部リード端
子5を外部電気回路に接続することによって半導体素子
3は外部電気回路と接続されることとなる。
信号電極、電源電極及び接地電極を外部電気回路に接続
する作用を為し、その一端には半導体素子3の各電極か
ボンディングワイヤ7を介して接続され、外部リード端
子5を外部電気回路に接続することによって半導体素子
3は外部電気回路と接続されることとなる。
尚、前記外部リード端子5はその外表面にニッケル、金
等から成る良導電性で、且つ耐蝕性に優れた金属をメツ
キにより2.0乃至20.0μmの厚みに層着させてお
(と外部リード端子5の酸化腐食を有効に防止するとと
もに外部リード端子5と外部電気回路との電気的接続を
良好となすことかてきる。そのため外部リード端子5は
その外表面にニッケル、金等をメツキにより2.0乃至
20.0μmの厚みに層着させておくことか好ましい。
等から成る良導電性で、且つ耐蝕性に優れた金属をメツ
キにより2.0乃至20.0μmの厚みに層着させてお
(と外部リード端子5の酸化腐食を有効に防止するとと
もに外部リード端子5と外部電気回路との電気的接続を
良好となすことかてきる。そのため外部リード端子5は
その外表面にニッケル、金等をメツキにより2.0乃至
20.0μmの厚みに層着させておくことか好ましい。
前記外部リード端子5は該外部リード端子5に直接接触
する上ガラス材6bの誘電率か14.0以下と低いこと
から隣接する外部リード端子5の各々を伝わる電気信号
は互いに大きく影響し合って各電気信号にノイズを発生
させることはなく、該ノイズによって内部に収容する半
導体素子に誤動作を起こさせることもない。
する上ガラス材6bの誘電率か14.0以下と低いこと
から隣接する外部リード端子5の各々を伝わる電気信号
は互いに大きく影響し合って各電気信号にノイズを発生
させることはなく、該ノイズによって内部に収容する半
導体素子に誤動作を起こさせることもない。
また前記外部リード端子5は半導体素子3に供給される
電源電圧の変動を平滑化して半導体素子3の誤動作を有
効に防止する容量素子Aの一方の電極としても作用し、
該外部リード端子5のうち半導体素子3の電源電極ある
いは接地電極が接続される端子5aはボンディングワイ
ヤ7aを介して絶縁基体lの上面に被着させたメタライ
ズ金属層4に電気的に接続され、これによって外部リー
ド端子5とメタライズ金属層4との間に形成される容量
素子Aは半導体素子3の電源電極と接地電極の間に電気
的に接続されることとなる。
電源電圧の変動を平滑化して半導体素子3の誤動作を有
効に防止する容量素子Aの一方の電極としても作用し、
該外部リード端子5のうち半導体素子3の電源電極ある
いは接地電極が接続される端子5aはボンディングワイ
ヤ7aを介して絶縁基体lの上面に被着させたメタライ
ズ金属層4に電気的に接続され、これによって外部リー
ド端子5とメタライズ金属層4との間に形成される容量
素子Aは半導体素子3の電源電極と接地電極の間に電気
的に接続されることとなる。
前記半導体素子3の電源電極と接地電極との間に接続さ
れる容量素子Aは、メタライズ金属層4を被着させた絶
縁基体1の上部に外部リード端子5を高誘電率の下ガラ
ス材6aを含むガラス部材6を介し固定することによっ
て形成されることから絶縁基体1の半導体素子3を取着
する凹部1aの大きさを容量素子Aを取着するために特
別大きくする必要は一切ない。そのため後述する絶縁基
体1と蓋体2とを接合させ容器を気密封止することによ
って半導体装置となす際、絶縁基体1と蓋体2とはその
外観形状を大きくすることなく両者の接合面積を広くな
すことかてき、その結果、容器の気密封止の信頼性を高
いものとして、且つ半導体装置の形状も小型となすこと
かできる。
れる容量素子Aは、メタライズ金属層4を被着させた絶
縁基体1の上部に外部リード端子5を高誘電率の下ガラ
ス材6aを含むガラス部材6を介し固定することによっ
て形成されることから絶縁基体1の半導体素子3を取着
する凹部1aの大きさを容量素子Aを取着するために特
別大きくする必要は一切ない。そのため後述する絶縁基
体1と蓋体2とを接合させ容器を気密封止することによ
って半導体装置となす際、絶縁基体1と蓋体2とはその
外観形状を大きくすることなく両者の接合面積を広くな
すことかてき、その結果、容器の気密封止の信頼性を高
いものとして、且つ半導体装置の形状も小型となすこと
かできる。
また前記半導体素子3の電源電極と接地電極との間に接
続される容量素子Aはその静電容量値か大きいため供給
電源電圧の変動に起因する半導体素子3への影響を有効
に防止することもでき、これによって半導体素子3は供
給電源電圧の変動に左右されることなく安定に作動する
ことが可能となる。
続される容量素子Aはその静電容量値か大きいため供給
電源電圧の変動に起因する半導体素子3への影響を有効
に防止することもでき、これによって半導体素子3は供
給電源電圧の変動に左右されることなく安定に作動する
ことが可能となる。
前記外部リード端子5か固定された絶縁基体1はまたそ
の上面に蓋体2かガラス材6cを介して接合され、これ
によって絶縁基体lと蓋体2とから成る容器内部に半導
体素子3が気密に封止される。
の上面に蓋体2かガラス材6cを介して接合され、これ
によって絶縁基体lと蓋体2とから成る容器内部に半導
体素子3が気密に封止される。
前記蓋体2を絶縁基体1に接合させるガラス材6cは低
融点のガラス材料から成り、該ガラス材6cは予め蓋体
2の下面に被着されている。
融点のガラス材料から成り、該ガラス材6cは予め蓋体
2の下面に被着されている。
尚、前記ガラス材6cは酸化鉛50.0乃至SO,O重
量%、酸化ホウ素5.0乃至15.0重量%、酸化亜鉛
15.0重量%以下、酸化ケイ素10.0重量%以下、
酸化アルミニウム10.0重量%以下を含むガラスから
成り、該各ガラス原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添
加混合して得たガラスペーストを蓋体2の下面に従来周
知のスクリーン印刷法により印刷塗布するとともにこれ
を約400℃の温度で焼成することによって蓋体2下面
に被着される。
量%、酸化ホウ素5.0乃至15.0重量%、酸化亜鉛
15.0重量%以下、酸化ケイ素10.0重量%以下、
酸化アルミニウム10.0重量%以下を含むガラスから
成り、該各ガラス原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添
加混合して得たガラスペーストを蓋体2の下面に従来周
知のスクリーン印刷法により印刷塗布するとともにこれ
を約400℃の温度で焼成することによって蓋体2下面
に被着される。
かくしてこの半導体素子収納用パッケージによれば絶縁
基体lの凹部1a底面に半導体素子3を取着するととも
に該半導体素子3の各電極をボンディングワイヤ7によ
り外部リード端子4に接続させるとともに半導体素子3
の電源電極、或いは接地電極か接続される外部リード端
子5aをボンディングワイヤ7aを介して絶縁基体1の
上面に被着させたメタライズ金属層4に接続させ、しか
る後、絶縁基体1と蓋体2とを蓋体2の下面に予め被着
させておいたガラス材6cを加熱溶融させ、接合させる
ことによって内部に半導体素子3を気密封止し、これに
よって最終製品としての半導体装置が完成する。
基体lの凹部1a底面に半導体素子3を取着するととも
に該半導体素子3の各電極をボンディングワイヤ7によ
り外部リード端子4に接続させるとともに半導体素子3
の電源電極、或いは接地電極か接続される外部リード端
子5aをボンディングワイヤ7aを介して絶縁基体1の
上面に被着させたメタライズ金属層4に接続させ、しか
る後、絶縁基体1と蓋体2とを蓋体2の下面に予め被着
させておいたガラス材6cを加熱溶融させ、接合させる
ことによって内部に半導体素子3を気密封止し、これに
よって最終製品としての半導体装置が完成する。
(発明の効果)
以上の通り、本発明の半導体素子収納用パッケージによ
れば、絶縁基体の上面にメタライズ金属層を被着し、更
にその上部に外部リード端子を誘電率が17.0以上の
下ガラス材と誘電率か14.0以下の上ガラス材との二
層構造を有するガラス部材を介して固定するとともに該
外部リード端子のうち半導体素子の電源電極もしくは接
地電極か接続される端子を前記メタライズ金属層に電気
的に接続したことからメタライズ金属層と外部リード端
子との間に大きな静電容量を有した容量素子を形成する
ことかでき、その結果、前記容量素子によって供給電源
電圧の変動に起因する半導体素子への悪影響を有効に防
止し、半導体素子を長期間にわたり正常、且つ安定に作
動させことが可能となる。
れば、絶縁基体の上面にメタライズ金属層を被着し、更
にその上部に外部リード端子を誘電率が17.0以上の
下ガラス材と誘電率か14.0以下の上ガラス材との二
層構造を有するガラス部材を介して固定するとともに該
外部リード端子のうち半導体素子の電源電極もしくは接
地電極か接続される端子を前記メタライズ金属層に電気
的に接続したことからメタライズ金属層と外部リード端
子との間に大きな静電容量を有した容量素子を形成する
ことかでき、その結果、前記容量素子によって供給電源
電圧の変動に起因する半導体素子への悪影響を有効に防
止し、半導体素子を長期間にわたり正常、且つ安定に作
動させことが可能となる。
また外部リード端子に接するガラス材の誘電率か低いこ
とから隣接する外部リード端子の各々を伝播する電気信
号は互いに大きく影響し合ってノイズを発生することは
なく、該ノイズによって内部に収容する半導体素子に誤
動作を起こさせることもない。
とから隣接する外部リード端子の各々を伝播する電気信
号は互いに大きく影響し合ってノイズを発生することは
なく、該ノイズによって内部に収容する半導体素子に誤
動作を起こさせることもない。
更に前記容量素子はメタライズ金属層を被着させた絶縁
基体の上部に外部リード端子を誘電率が17.0以上の
ガラス部材を介し固定することによって形成されること
から絶縁基体の半導体素子を取着する凹部の大きさを容
量素子を取着するために特別大きくする必要は一切ない
。そのため絶縁基体と蓋体とを接合させ容器を気密封止
することによって半導体装置となす際、絶縁基体と蓋体
とはその外観形状を大きくすることなく両者の接合面積
を広くなすことかでき、その結果、容器の気密封止の信
頼性を高いものとして、且つ半導体装置も小型となすこ
とかできる。
基体の上部に外部リード端子を誘電率が17.0以上の
ガラス部材を介し固定することによって形成されること
から絶縁基体の半導体素子を取着する凹部の大きさを容
量素子を取着するために特別大きくする必要は一切ない
。そのため絶縁基体と蓋体とを接合させ容器を気密封止
することによって半導体装置となす際、絶縁基体と蓋体
とはその外観形状を大きくすることなく両者の接合面積
を広くなすことかでき、その結果、容器の気密封止の信
頼性を高いものとして、且つ半導体装置も小型となすこ
とかできる。
第1図は本発明の半導体素子収納用パッケージの一実施
例を示す断面図である。 ■・・・絶縁基体 2・・・蓋体 4・・・メタライズ金属層 5・・・外部リード端子 6・・・ガラス部材 6a ・・下ガラス材 6b ・・上ガラス材
例を示す断面図である。 ■・・・絶縁基体 2・・・蓋体 4・・・メタライズ金属層 5・・・外部リード端子 6・・・ガラス部材 6a ・・下ガラス材 6b ・・上ガラス材
Claims (1)
- 半導体素子を収容するための凹部を有する絶縁基体と
蓋体とから成る半導体素子収納用パッケージにおいて、
前記絶縁基体はその上面にメタライズ金属層が被着され
、且つ該メタライズ金属層上に外部リード端子が誘電率
17.0以上の下ガラス材と誘電率14.0以下の上ガ
ラス材の二層構造を有するガラス部材を介して固定され
るとともに外部リード端子のうち半導体素子の電源電極
もしくは接地電極と接続される端子が前記メタライズ金
属層に電気的に接続していることを特徴とする半導体素
子収納用パッケージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2332822A JP2808043B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 半導体素子収納用パッケージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2332822A JP2808043B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 半導体素子収納用パッケージ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04196565A true JPH04196565A (ja) | 1992-07-16 |
| JP2808043B2 JP2808043B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=18259191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2332822A Expired - Fee Related JP2808043B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 半導体素子収納用パッケージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2808043B2 (ja) |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP2332822A patent/JP2808043B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2808043B2 (ja) | 1998-10-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |