JPH04200722A - 排ガスの浄化方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、焼却炉等から排出された排ガス中に含有さ
れている、窒素酸化物、および、ポリ塩化ジベンゾダイ
オキシン、ポリ塩化ジベンゾフラン等の有機塩素化合物
、ならびに、アンモニアを除去して、排ガスを浄化する
ための方法に関するものである。

〔従来の技術〕

産業廃棄物や都市ごみを処理するための焼却炉等から発
生する排ガス中には、窒素酸化物（ＮＯｘ）と共に微量
ではあるが極めて毒性の強いポリ塩化ジベンゾダイオキ
シン（ＰＣＤＤｓ）　、ポリ塩化ジベンゾフラン（ＰＣ
ＤＰｓ）等の有機塩素化合物が含有されている。このよ
うな有害な窒素酸化物および有機塩素化合物の、排ガス
中からの除去は、公害防止上極めて重要である。

排ガス中からの窒素酸化物の除去方法として、例えば、
特公昭５４−２９４１９号公報には、排ガス中に還元剤
としてのアンモニアを添加し、このようにアンモニアが
添加された排ガスを、窒素酸化物還元用触媒に接触させ
ることにより、排ガス中の窒素酸化物を還元して除去す
る方法が開示されている。

排ガス中からの有機塩素化合物の除去方法として、例え
ば、特開昭６３−２９０３１４号公報には、排ガスを、
セラミック担体に担持させた白金等の酸化用触媒と３０
０〜９００℃の温度で接触させることにより、排ガス中
の有機塩素化合物を酸化させて除去する方法が開示され
ている。

また、特開昭６２−６５７２１号公報には、排ガス中に
アンモニアを添加し、このようにアンモニアが添加され
た排ガスを窒素酸化物還元用触媒に接触させ、排ガス中
の窒素酸化物を還元して除去し、次いで、窒素酸化物が
除去された排ガスを酸化用触媒に接触させて、排ガス中
に含有されている一酸化炭素、炭化水素および含酸素有
機化合物を酸化させて除去する方法が開示されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した特公昭５４−２９４１９号公報に開示された方
法によれば、排ガス中から窒素酸化物のみを除去するこ
とができ、また、特開昭６３−２９０３１４号公報に開
示された方法によれば、排ガス中から有機塩素化合物の
みを除去することはできる。しかしながら、上記何れの
方法も、窒素酸化物および有機塩素化合物の両者を共に
排ガス中から除去することはできない。更に、焼却炉等
から排出される排ガス中には、アンモニア（ＮＨ＊）が
含有されているが、上述した方法では、このようなアン
モニアを窒素酸化物および有機塩素化合物と共に除去す
ることはできない。

また、特開昭６２−６５７２１号公報に開示された方法
によれば、排ガス中から、窒素酸化物、−酸化炭素、炭
化水素および含酸素有機化合物の除去はできるが、排ガ
ス中に含有されている有機塩素化合物を除去することは
できない。

従って、この発明の目的は、焼却炉等から排出された排
ガス中に含有されている、有害な、窒素酸化物、有機塩
素化合物およびアンモニアを効率的に除去して、排ガス
を浄化するための方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者等は、上述した問題を解決すべく鋭意研究を重
ねた。その結果、排ガスを、アンモニアの存在下におい
て窒素酸化物還元用触媒と接触させて排ガス中の窒素酸
化物を還元し、次いで、有機塩素化合物酸化用触媒と接
触させて排ガス中の有機塩素化合物を酸化させれば、排
ガス中から、窒素酸化物、有機塩素化合物およびアンモ
ニアを高い効率で除去し得ることを知見した。

この発明は、上記知見に基づいてなされたものであって
、この発明の方法は、焼却炉等から排出された、窒素酸
化物、および、ポリ塩化ジベンゾダイオキシン、ポリ塩
化ジベンゾフラン等の有機塩素化合物、ならびに、アン
モニアを含有する排ガス中に還元剤としてのアンモニア
を連続的または間欠的に添加し、このようにアンモニア
が添加された排ガスを、２００〜５００℃の温度で窒素
酸化物還元用触媒に接触させることにより、前記排ガス
中に含有されている前記窒素酸化物を還元して除去し、
次いで、窒素酸化物が除去された排ガスを、２００〜５
００℃の温度で、有機塩素化合物酸化用触媒と接触させ
ることにより、前記排ガス中に含有されている前記有機
塩素化合物を酸化して除去し、且つ、前記排ガス中に含
有されているアンモニアを分解して除去することに特徴
を有する。

〔作用〕

この発明においては、先ず、排ガス中に還元剤としての
アンモニアを添加し、このようなアンモニアが添加され
た排ガスを窒素酸化物還元用触媒に接触させることによ
り、排ガス中に含有されている窒素酸化物を還元して除
去し、次いで、窒素酸化物が除去された排ガスを有機塩
素化合物酸化用触媒と接触させることにより、排ガス中
に含有されているアンモニアを酸化して除去する。

従って、窒素酸化物の除去効率を高めるために、ＮＨｓ
／Ｎ０ｘ（モル比）が１以上となるように、排ガス中に
アンモニアを添加しても、排ガス中の未反応のアンモニ
アは、有機塩素化合物除去用反応器において殆ど除去さ
れるので、問題が生ずることはない。

有機塩素化合物酸化用触媒として、ＴＩＴ　Ｓｌｌ　Ａ
ｌおよびＺｒからなる群から選択された少なくとも１種
の金属の酸化物からなる基体の表面上に、Ｐｔ、　Ｐｄ
。

Ｒｕ、　Ｍｎ、　Ｃｕ、　ＣｒおよびＦｅからなる群か
ら選択された少なくとも１種の金属またはその酸化物を
担持さセタ触媒を使用することにより、ＮＯｘ、　ＳＯ
ｘ、　ＨＣＩ、　ＣＯおよびハロゲンガス等の存在する
環境下において、ポリ塩化ジベンゾダイオキシン、ポリ
塩化ジベンゾフラン等の毒性を有する有機塩素化合物を
、長期にわたり効率よ（分解して除去することができる
。

また、１つの反応器内に、窒素酸化物還元用触媒と有機
塩素化合物酸化用触媒とを積層して設けることができ、
これによって装置をコンノくクト化することが可能にな
る。

次に、この発明を、図面を参照しながら説明する。第１
図は、この発明方法の１実施態様を示す工程図である。

第１図に示すように、この発明の方法においては、先ず
、混合室１において、排ガス中に、アンモニア（ＮＨ＊
）を、連続的または間欠的に添加しそして混合する。そ
して、このようにアンモニアが添加された排ガスを、２
００〜５００℃の温度で、窒素酸化物還元用触媒が設け
られた脱硝用反応器２に導（。この結果、排ガス中の窒
素酸化物（ＮＯｘ）は、脱硝用反応器２において、窒素
酸化物還元用触媒と接触しそして還元され、選択的に除
去さる。

このようにして、脱硝用反応器２において窒素酸化物が
除去された排ガスを、２００〜５００℃の温度で、有機
塩素化合物酸化用触媒が設けられた有機塩素化合物除去
用反応器３に導（。この結果、排ガス°中の有機塩素化
合物は、有機塩素化合物除去用反応器３において、有機
塩素化合物酸化用触媒と接触しそして酸化され、除去さ
れる。

上述した、脱硝用反応器２によって、窒素酸化物が選択
的に除去された後の排ガス中に残存するアンモニアは、
その量が過多（約２００ｐｐｍ以上）でない限り、有機
塩素化合物除去用反応器３において、窒素と水とに分解
しそして除去される。

排ガスの温度は、２００〜５００℃の範囲内であること
が必要である。排ガスの温度が２００’Ｃ未満では、脱
硝用反応器２における窒素酸化物の還元反応、および、
有機塩素化合物除去用反応器３における有機塩素化合物
の酸化反応が不十分となり１、窒素酸化物および有機塩
素化合物を、排ガス中から効率的に除去することができ
ない。一方、排ガスの温度が５００℃を超えると、有機
塩素化合物除去用反応器３において、排ガス中に残存す
るアンモニアが窒素と水とに分解されず、逆に、窒素酸
化物になる問題が生ずる。

脱硝用反応器２における窒素酸化物の除去効率を高める
ためには、ＮＨｓ／Ｎ０ｘ（モル比）が１以上となるよ
うに、排ガス中にアンモニアを添加することが望ましい
。このような割合で排ガス中にアンモニアを添加しても
、排ガス中の未反応のアンモニアは、前述したように、
有機塩素化合物除去用反応器８において殆ど除去される
ので、問題が生ずることはない。

脱硝用反応器２および有機塩素化合物除去用反応器Ｓを
別個に設けることなく、１つの反応器となし、この１つ
の反応器内に、窒素酸化物還元用触媒と有機塩素化合物
酸化用触媒とを積層して設けもよい。このようにすれば
、装置をコンパクト化することができる。

排ガス中へのアンモニアの添加は、連続的でも間欠的で
もよい。排ガス中へのアンモニアの添加を間欠的に行っ
ても、脱硝用反応器２内の窒素酸化物還元用触媒に付着
したアンモニアによって、排ガス中に含有されている窒
素酸化物の還元が行われる。

排ガス中へのアンモニアの添加量を制御するために、第
２図に示すように、有機塩素化合物除去用反応器３の出
側に窒素酸化物濃度測定器４を設置し、窒素酸化物濃度
測定器４によって測定された、排ガス中の窒素酸化物の
濃度によって、混合室１における排ガス中へのアンモニ
ア添加量を制御することが望ましい。

第３図は、このようなアンモニアの添加量の制御を自動
的に行うための工程図である。第３図に示すように、有
機塩素化合物除去用反応器３の出側に第１窒素酸化物濃
度測定器４が設けられ、そして、混合室ｌの入側に第２
窒素酸化物濃度測定器５が設けられている。６は演算器
である。第２窒素酸化物濃度測定器５によって測定され
た、処理前の排ガス中の窒素酸化物の濃度、および、有
機塩素化合物除去用反応器３の出側の第１窒素酸化物濃
度測定器４によって測定された、処理後の排ガス中の窒
素酸化物の濃度は、演算器６に送られ、演算器６によっ
て、両者の差が演算される。

このようにして、演算された窒素酸化物の濃度差に基づ
いて、適切な量のアンモニアが、混合室１において排ガ
ス中に添加される。

窒素酸化物還元用触媒としては、市販の触媒、例えば、
チタンを含有する酸化物からなる基体の表面上に、バナ
ジウム、タングステン等を担持させてなる触媒等を使用
することができる。

有機塩素化合物酸化用触媒としては、Ｔｉ、　Ｓｉ、　
Ａｌおよび２「からなる群から選択された少なくとも１
種の金属の酸化物からなる基体の表面上に、Ｐｔ、　Ｐ
ｄ＋　Ｒｕ、　Ｍｎ＋　Ｃｕ、　ＯｒおよびＦｅからな
る群から選択された少なくとも１種の金属またはその酸
化物を担持させた触媒を使用することが好ましい。

特に、好ましい触媒は、ＴｉＯ，−５ｉＯ□またはＴｉ
ｅ。

−Ｚｒ０ｚの２元系複合酸化物、３Ａ１２０１　”　２
ＳｉＯ，を含有する酸化物の表面上にＴｉＯ２が被覆さ
れた酸化物、または、Ｔｉ０ｔ−３１０＊−ＡｌＪｓ　
、ＴｉＯｘ−５１０＊−ＺｒＯｚの３元系複合酸化物を
基体とし、この基体の表面上に、上述した、Ｐｔ、　Ｐ
ｄ、　Ｒｕ、　Ｍｎ、　Ｃｕ、　ＯｒおよびＦｅからな
る群から選択された少なくとも１種の金属またはその酸
化物を担持させた触媒である。

このような触媒は、ＮＯｘ、　ＳＯｘ、　ＨＣＩ、　Ｃ
Ｏおよびハロゲンガス等の存在する環境下において、ポ
リ塩化ジベンゾダイオキシン、ポリ塩化ジベンゾフラン
等の有機塩素化合物を、長期にわたり、効率よく分解し
て除去することができる。

特に、基体を、３ＡｌＪｓ・２ＳＩ０２即ちムライトを
含有する酸化物の表面上にＴｉｅｓが被覆された構造と
すれば、ムライトの表面上に被覆されたＴｉ　（Ｌによ
り、基体の表面に微細な凹凸が形成されるので、ｐｔ等
の触媒成分を担持させて高活性を得るのに必要な表面積
を十分に確保することができ、且つ、ムライトの表面上
を被覆するＴｉ　Ｏ，によって、優れた耐酸性が付与さ
れる。

窒素酸化物還元用触媒および有機塩素化合物酸化用触媒
の形状は、円柱状、円筒状、板状、リボン状、ハニカム
状、ペレット状等、一体成形された任意の形状のものを
選ぶことができる。特に、第５図に断面図で示すような
、断面が格子状のハニカム構造体Ａ、または、第６図に
断面図で示すような、断面がコルゲート状のハニカム構
造体Ｂからなる触媒が好ましい。触媒をこのようなハニ
カム構造体によって構成すれば、排ガス中に存在するダ
ストが触媒に付着することはな（、従って、ダストの付
着による圧力損失の増大や性能の低下等が生ぜずに、安
定した操業を行うことができる。

第４図は、比較のための、この発明の範囲外の方法の一
例を示す工程図である。第４図に示す例においては、排
ガスは、先ず、有機塩素化合物酸化用触媒が設けられた
有機塩素化合物除去用反応器３に導かれ、排ガス中の有
機塩素化合物が酸化、除去される。次いで、有機塩素化
合物が除去された排ガス中に、混合室１においてアンモ
ニアが添加、混合される。このようにアンモニアが添加
された排ガスは、窒素酸化物還元用触媒が設けられた脱
硝用反応器２に導かれ、排ガス中の窒素酸化物が還元、
除去される。

上述した方法の場合には、次に述べるような問題が生ず
る。

■　有機塩素化合物が除去された後の排ガス中にアンモ
ニアが添加されるために、アンモニアを排ガス中に十分
に分散及び混合させる必要上、混合室１と脱硝用反応器
２との間に十分な距離をお（必要があり、且つ、有機塩
素化合物除去用反応器３と脱硝用反応器２とを１つの反
応器にコンパクトにまとめることはできず、装置が大型
化する。

■　排ガス中に含有されているアンモニアは、有機塩素
化合物除去用反応器３において酸化され、窒素酸化物に
なる。この結果、有機塩素化合物除去用反応器８の出側
における排ガス中の窒素酸化物の量が増加する。このよ
うに増加した窒素酸化物を除去するためには、混合室１
において、排ガス中に多量のアンモニアを添加すること
が必要になる。

■　窒素酸化物の除去効率を高めるため、特に上記■に
述べた理由によって、排ガス中へのアンモニアの添加量
を、ＮＨｔ／Ｎ０ｘ（モル比）が１以上となるように、
多くしなけらばならない。しかしながら、このように多
量のアンモニアを排ガス中に添加すると、処理後の排ガ
ス中に未反応のアンモニアが残る。このような未反応の
アンモニアは、脱硝用反応器２内またはその出側におい
て、排ガス中のＳＯｘと反応して、酸性硫安等の硫安化
合物になり、脱硝用反応器２より下流側の機器に付着す
る。この結果、上記機器の腐食を招く。

■　上述した排ガス中の未反応のアンモニアによる問題
を防止するためには、排ガス中へのアンモニアの添加量
を、ＮＨｍ／Ｎ０ｘ（モル比）が１未満例えば０．７〜
０．９位となし、排ガス中に未反応のアンモニアが残存
しないようにすることが必要である。しかしながら、排
ガス中へのアンモニアの添加量を上記のように減らすと
、排ガス中からの窒素酸化物の除去率が、約７０％程度
にまで減少する。

次に、この発明を、実施例により比較例と対比しながら
更に詳細に説明する。

〔実施例１〕 窒素酸化物還元用触媒として、酸化チタニウムからなる
基体にバナジウムを担持させた、第５図に示す、断面が
格子状のハニカム構造体からなる、目開き：６ｍｍ、壁
厚：１ｍｍの触媒を使用した。有機塩素化合物酸化用触
媒として、Ｔｉ：Ｓｉ・８．５：１．５（モル比）であ
るＴｔＯｚ−３ｉＯｔ複合酸化物からなる基体にＰｔ（
１，５ｇ／触媒ｉｉ）を担持させた、第５図に示す断面
が格子状のハニカム構造体からなる、目開き＋３．２ｍ
ｍ、壁厚：０．５１の触媒を使用した。

なお、上記窒素酸化物還元用触媒が設けられた脱硝用反
応器の空間速度＜ＳＶ＞は５０００ｈｒ−’であり、そ
して、上記有機塩素化合物酸化用触媒が設けられた有機
塩素化合物除去用反応器の空間速度（ＳＶ）は２０００
ｈ「−’である。

上述した触媒を使用し、第１図に示した工程図に従って
、この発明の方法により、ＮＯＸ、　ＰＣＤ［ｌＳおよ
びＮＨ，を下記のように含有する排ガス中から、窒素酸
化物（ＮＯｘ）　、ポリ塩化ジベンゾダイオキシン（Ｐ
ＣＤＤｓ）およびアンモニア（ＮＨ＊）を除去した。

ＮＯＸ含有量　：　　１３０〜１８０ｐｐｍＰＣＤＤｓ
含有量：　２０００〜４０００ｎｇ／Ｎｍ”ＮＨＩ含有
量　：　　３０〜５０ｐｐｍ第１表に、排ガス温度、還
元剤としてのアンモニアの添加量（ＮＨｍ／Ｎ０ｘ（モ
ル比）］、　ＮＯＸ除去率、ＰＣＤＤｓ除去率および処
理排ガス中の残留ＮＨｓ　ｓ度を示す。

第１表 〔比較例１〕 第４図の、比較のための方法を示す工程図に従い、有機
塩素化合物除去用反応器において排ガス中から有機塩素
化合物を除去し、次いで、有機塩素化合物が除去された
排ガス中にアンモニアを添加した上、脱硝用反応器にお
いて排ガス中から窒素酸化物を除去することからなる方
法により、実施例１と同じ触媒を使用し、実施例１と同
じ量のＮＯｘ、　ＰＣＤＤｓおよびＮＨ，を含有す、る
排ガス中から、窒素酸化物（ＮＯｘ）　、ポリ塩化ジベ
ンゾダイオキシン（ＰＣＤＤｓ）およびアンモニア（Ｎ
ＨＩ）を除去した。

第２表に、排ガス温度、還元剤としてのアンモニアの添
加量（ＮＨＩ／Ｎ０ｘ（モル比）］、ＮＯｘ除去率、Ｐ
ＣＤＤｓ除去率および処理排ガス中の残留ＮＨ，濃度を
示す。

第２表 実施例Ｉの結果を示す第１表と、比較例１の結果を示す
第２表とを比較すれば明らかなように、この発明の方法
によれば、排ガス中から、窒素酸化物（ＮＯｘ）および
ポリ塩化ジベンゾダイオキシン（ＰＣＤＤｓ）を、高い
効率で除去することができ、処理後の排ガス中の残留ア
ンモニア量は、１．０ｐｐｍ以下であって極めて微量で
あった。

〔実施例２〕 窒素酸化物還元用触媒として、酸化チタニウムからなる
基体にバナジウムを担持させた、第５図に示す断面が格
子状のハニカム構造体からなる、目開き：６ｍｍ、壁厚
：１ｍｍの触媒を使用した。有機塩素化合物酸化用触媒
として、ムライトを含む酸化物の表面にＴｉ０ａが被覆
された、Ｔｉｅ、の含有量が６０ｗｔ％である基体に、
Ｐｔ　（２，０ｇ／触媒Ｉｆ）を担持させた、第６図に
示す断面がコルゲート状のハニカム構造体からなる触媒
を使用した。触媒の各部の寸法は、次の通りである。

幅方向ピッチ（ａ）　　　：　　３．７ｍｍ長さ方向ピ
ッチ（ｂ）　　：　　７．５ｍｍ波状壁の厚さ（ｃ）　
　　：　　０，４ｍｍ側壁の厚さ（山　　　：　　０．
５ｍｍなお、上記窒素酸化物還元用触媒が設けられた脱
硝用反応器の空間速度（ＳＶ）、および、上記有機塩素
化合物酸化用触媒が設けられた有機塩素化合物除去用反
応器の空間速度（ＳＶ）は、何れも、５０００ｈｒりで
ある。

上述した触媒を使用し、第１図に示した工程図に従って
、この発明の方法により、実施例１と同じ量のＮＯｘ、
　ＰＣＤＤｓおよびＮＨ，を含有する排ガス中から、窒
素酸化物（ＮＯｘ）　、ポリ塩化ジベンゾダイオキシン
（ＰＣＤＤｓ）およびアンモニア（ＮＨｘ）を除去した
。排ガス中への還元剤としてのアンモニアの添加量は、
ＮＨｓ／Ｎ０ｘ（モル比）で、０．９とした。

第３表に、排ガス温度、ＮＯｘ除去率、ＰＣＤＤｓ除去
率および処理排ガス中の残留ＮＨ，濃度を示す。

第３表 〔比較例２〕 第４図の、比較のための方法を示す工程図に従い、有機
塩素化合物除去用反応器において排ガス中から有機塩素
化合物を除去し、次いで、有機塩素化合物が除去された
排ガス中にアンモニアを添加した上、脱硝用反応器にお
いて排ガス中から窒素酸化物を除去することからなる方
法により、実施例２と同じ触媒を使用し、実施例１と同
じ量のＮＯｘ、　ＰＣＤＤｓおよびＮＨｘを含有する排
ガス中から、窒素酸化物（ＮＯｘ）　、ポリ塩化ジベン
ゾダイオキシン（ＰＣＤＤｓ）およびアンモニア（ＮＨ
，）を除去した。

第４表に、排ガス温度、ＮＯｘ除去率、ＰＣＤＤｓ除去
率および処理排ガス中の残留ＮＨ１濃度を示す。

第４表 実施例２の結果を示す第３表と、比較例２の結果を示す
第４表とを比較すれば明らかなように、この発明の方法
によれば、排ガス中から、窒素酸化物（ＮＯりおよびポ
リ塩化ジベンゾダイオキシン（ＰＣＤＤｓ）を、高い効
率で除去することができ、処理後の排ガス中の残留アン
モニア量は、１．０ｐｐｍ以下であって極めて微量であ
った。

〔発明の効果〕

以上述べたように、この発明によれば、焼却炉から排出
された排ガス中に含有されている、窒素酸化物、および
、ポリ塩化ジベンゾダイオキシン、ポリ塩化ジベンゾフ
ラン等の有機塩素化合物、ならびに、アンモニアを、排
ガス中から高い効率で除去して、排ガスを浄化すること
ができ、しかも、装置をコンパクト化することができる
等、多くの工業上有用な効果がもたらされる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明方法の１実施態様を示す工程図、第
２図および第３図は、この発明方法の他の実施態様を示
す工程図、第４図は、比較のための、この発明の範囲外
の方法の一例を示す工程図、第５図および第６図は、こ
の発明方法に使用される触媒の形状の一例を示す断面図
である。 図面において、 １・−・〜混合室、　　　　　２・・・−脱硝用反応器
、３・・・・有機塩素化合物除去用反応器、４．５・・
−窒素酸化物濃度測定器、 ６−・−演算器、 Ａ、Ｂ−・・・触媒。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、焼却炉等から排出された、窒素酸化物、および、ポ
   リ塩化ジベンゾダイオキシン、ポリ塩化ジベンゾフラン
   等の有機塩素化合物、ならびに、アンモニアを含有する
   排ガス中に、還元剤としてのアンモニアを連続的または
   間欠的に添加し、このようにアンモニアが添加された排
   ガスを、２００〜５００℃の温度で、窒素酸化物還元用
   触媒に接触させることにより、前記排ガス中に含有され
   ている前記窒素酸化物を還元して除去し、次いで、窒素
   酸化物が除去された排ガスを、２００〜５００℃の温度
   で、有機塩素化合物酸化用触媒と接触させることにより
   、前記排ガス中に含有されている前記有機塩素化合物を
   酸化して除去し、且つ、前記排ガス中に含有されている
   アンモニアを分解して除去することを特徴とする排ガス
   の浄化方法。 ２、前記有機塩素化合物酸化用触媒と接触させて、前記
   排ガス中に含有されている前記有機塩素化合物および前
   記アンモニアを除去した後の、前記排ガス中の窒素酸化
   物の濃度を測定し、得られた窒素酸化物の濃度に基づい
   て、前記還元剤としてのアンモニアの前記排ガス中への
   添加量を制御する、請求項１記載の方法。 ３、前記有機塩素化合物酸化用触媒として、Ｔｉ、Ｓｉ
   、ＡｌおよびＺｒからなる群から選択された少なくとも
   １種の金属の酸化物からなる基体の表面上に、Ｐｔ、Ｐ
   ｄ、Ｒｕ、Ｍｎ、Ｃｕ、ＣｒおよびＦｅからなる群から
   選択された少なくとも１種の金属またはその酸化物を担
   持させた触媒を使用する、請求項１または２記載の方法
   。 ４、前記有機塩素化合物酸化用触媒の前記基体が、３Ａ
   ｌ＿２Ｏ＿３・２ＳｉＯ＿２を含有する酸化物の表面上
   にＴｉＯ＿２が被覆された酸化物からなっている、請求
   項３記載の方法。 ５、前記有機塩素化合物酸化用触媒の前記基体が、Ｔｉ
   Ｏ＿２−ＳｉＯ＿２、ＴｉＯ＿２−ＺｒＯ＿２、ＴｉＯ
   ＿２−ＳｉＯ＿２−Ａｌ＿２Ｏ＿３およびＴｉＯ＿２−
   ＳｉＯ＿２−ＺｒＯ＿２のうちの何れか１つの複合酸化
   物からなっている、請求項３記載の方法。