JPH04204534A - フィルム露光装置 - Google Patents
フィルム露光装置Info
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- JPH04204534A JPH04204534A JP2330551A JP33055190A JPH04204534A JP H04204534 A JPH04204534 A JP H04204534A JP 2330551 A JP2330551 A JP 2330551A JP 33055190 A JP33055190 A JP 33055190A JP H04204534 A JPH04204534 A JP H04204534A
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- JP
- Japan
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- reticle
- projection lens
- film
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、レチクルに描かれた回路パターンを、フィル
ムに露光するフィルム露光装置に関するものであり、特
にその装置の中で、レチクルや投影レンズ及びフィルム
面に塵や埃か付着しないようにする構造に関するもので
ある。
ムに露光するフィルム露光装置に関するものであり、特
にその装置の中で、レチクルや投影レンズ及びフィルム
面に塵や埃か付着しないようにする構造に関するもので
ある。
物体の表面に微細加工を施す技術としては、フォトリソ
クラフィの技術かある。最近では、この技術かフィルム
回路基板の制作にも応用されている。
クラフィの技術かある。最近では、この技術かフィルム
回路基板の制作にも応用されている。
この技術に使う露光装置は、光源を有する光源部と、光
源部からの放射光が照射され露光されるべき回路パター
ンを描かれたレチクルと、レチクルを通過した光をフィ
ルムに投影する投影レンズと、フィルムを保持するフィ
ルムステージと、フィルムステージへ露光するへきフィ
ルムの１コマを搬送する搬送機構等より構成される。
源部からの放射光が照射され露光されるべき回路パター
ンを描かれたレチクルと、レチクルを通過した光をフィ
ルムに投影する投影レンズと、フィルムを保持するフィ
ルムステージと、フィルムステージへ露光するへきフィ
ルムの１コマを搬送する搬送機構等より構成される。
そして、この露光装置についても、露光するへき回路パ
ターンの微細化か要求されてきている。
ターンの微細化か要求されてきている。
このように、微細化か要求されている露光装置では、露
光線幅かかなり小さいレヘルまて実用化していくことか
検討されている。しかしなから露光装置周辺の雰囲気中
に塵、埃等の異物か浮遊して、パターンか描かれたレチ
クルの上面及び下面に塵埃か付着するとパターン欠陥を
生じることかある。このことはフィルムのレジスト面や
投影レンズについてもいえる。投影レンズの場合は長時
間使用すれば、その」−下面に塵埃か付着して像のボケ
や光量の現象を生じる。さらには光源部におけるコンデ
ンサレンズについても同様に光量減少等が生じる。
光線幅かかなり小さいレヘルまて実用化していくことか
検討されている。しかしなから露光装置周辺の雰囲気中
に塵、埃等の異物か浮遊して、パターンか描かれたレチ
クルの上面及び下面に塵埃か付着するとパターン欠陥を
生じることかある。このことはフィルムのレジスト面や
投影レンズについてもいえる。投影レンズの場合は長時
間使用すれば、その」−下面に塵埃か付着して像のボケ
や光量の現象を生じる。さらには光源部におけるコンデ
ンサレンズについても同様に光量減少等が生じる。
このような塵埃の影響を防止するためには、操作室全体
をクリーンルーム化すればよいか、設備費かかかり、採
算的に問題かある。また露光装置全体を加圧して、装置
の中に塵埃か侵入しない構造も考えられているか、装置
自体、特にフィルム搬送系、から発生する塵埃は防ぎき
れない。
をクリーンルーム化すればよいか、設備費かかかり、採
算的に問題かある。また露光装置全体を加圧して、装置
の中に塵埃か侵入しない構造も考えられているか、装置
自体、特にフィルム搬送系、から発生する塵埃は防ぎき
れない。
本発明は、このように装置周辺に浮遊する塵や埃の影響
を受けることなく、露光することができる露光装置を提
供することを目的とする。
を受けることなく、露光することができる露光装置を提
供することを目的とする。
このような課題を解決するために、本発明のフィルム露
光装置は、 光源部と、光源部から光が照射されるレチクルと、レチ
クルを保持して光軸方向に移動可能なレチクル保持台と
、レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパ
ターンを投影する投影レンズと、投影レンズによる像の
投影位置に、フィルムを載せて保持するフィルムステー
ジとを有し、第１の構成として、レチクルをその内部に
有し、光源部と繋かった第１のレチクルケースと、レチ
クル保持台に繋がった、第２のレチクルケースと第１の
投影レンズケースからなるレチクル加圧室とレチクル加
圧室に接続された圧力供給器とを有することを特徴とす
る。
光装置は、 光源部と、光源部から光が照射されるレチクルと、レチ
クルを保持して光軸方向に移動可能なレチクル保持台と
、レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパ
ターンを投影する投影レンズと、投影レンズによる像の
投影位置に、フィルムを載せて保持するフィルムステー
ジとを有し、第１の構成として、レチクルをその内部に
有し、光源部と繋かった第１のレチクルケースと、レチ
クル保持台に繋がった、第２のレチクルケースと第１の
投影レンズケースからなるレチクル加圧室とレチクル加
圧室に接続された圧力供給器とを有することを特徴とす
る。
さらに第２の構成として、投影レンズと繋がった、第２
の投影レンズケースと、フィルムステージに繋がったス
テージケースからなるステージ加圧室と、ステージ加圧
室に接続された圧力供給器とを有することを特徴とする
。
の投影レンズケースと、フィルムステージに繋がったス
テージケースからなるステージ加圧室と、ステージ加圧
室に接続された圧力供給器とを有することを特徴とする
。
さらには第３の構成として、レチクルをその内部に有し
、光源部と繋がった第１のレチクルケースと、レチクル
保持台に繋かった、第２のレチクルケースと第１の投影
レンズケースからなるレチクル加圧室と、投影レンズと
繋かった第２の投影レンズケースと、フィルムステージ
に繋かったステージケースからなるステージ加圧室と、
レチクル加圧室及びステージ加圧室に接続された圧力供
給器とを有することを特徴とする。
、光源部と繋がった第１のレチクルケースと、レチクル
保持台に繋かった、第２のレチクルケースと第１の投影
レンズケースからなるレチクル加圧室と、投影レンズと
繋かった第２の投影レンズケースと、フィルムステージ
に繋かったステージケースからなるステージ加圧室と、
レチクル加圧室及びステージ加圧室に接続された圧力供
給器とを有することを特徴とする。
本発明の装置では、回路パターンか描かれたレチクルは
、第１のレチクルケースと、第２のレチクルケースと、
第１の投影レンズケースからなるレチクル加圧室に配置
されている。そしてカスを′帛に供給することによって
、レチクル加圧室外部からの塵埃の混入を防止すること
かできる。さらには第２の投影レンズケースとステージ
ケースからなるステージ加圧室によって、同様に塵埃の
混入を防止することかできる。
、第１のレチクルケースと、第２のレチクルケースと、
第１の投影レンズケースからなるレチクル加圧室に配置
されている。そしてカスを′帛に供給することによって
、レチクル加圧室外部からの塵埃の混入を防止すること
かできる。さらには第２の投影レンズケースとステージ
ケースからなるステージ加圧室によって、同様に塵埃の
混入を防止することかできる。
以下、本発明の詳細な説明する。第１図は本発明のフィ
ルム露光装置の全体の概略図である。
ルム露光装置の全体の概略図である。
装置の働きを説明するために第１のレチクルケース、第
２のレチクルケース、第１の投影レンズケース、第２の
投影レンズケース、ステージケース及びこれらで構成さ
れる加圧室や圧力供給器は省略している。
２のレチクルケース、第１の投影レンズケース、第２の
投影レンズケース、ステージケース及びこれらで構成さ
れる加圧室や圧力供給器は省略している。
フィルムＦには、フォトレジスト層か設けられて、この
レジストに、光源からのレジスト感光波長か照射される
。そしてフィルムＦは搬送系で露光位置５に１コマずつ
ステップ送りされる。
レジストに、光源からのレジスト感光波長か照射される
。そしてフィルムＦは搬送系で露光位置５に１コマずつ
ステップ送りされる。
光源部１０は、超高圧水銀ランプのようなレジスト感光
波長を良好に放射するランプ１１と、この放射光を効率
よく反射集束する凹面鏡１２と、放射光を導く平面鏡１
４と、シャッター１５と、コンデンサレンズ１３等より
構成される。
波長を良好に放射するランプ１１と、この放射光を効率
よく反射集束する凹面鏡１２と、放射光を導く平面鏡１
４と、シャッター１５と、コンデンサレンズ１３等より
構成される。
一方、光源部１０からの放射光を受ける投影系２０は、
レチクル２と、レチクル保持台２１、レチクル２を通過
した光を効率よくフィルムＦに投影する投影レンズ３と
投影レンズ保持台３１より構成される。
レチクル２と、レチクル保持台２１、レチクル２を通過
した光を効率よくフィルムＦに投影する投影レンズ３と
投影レンズ保持台３１より構成される。
搬送系は、フィルムＦか巻かれていて、露光位置５に供
給するフィルム供給リール４１と、露光後のフィルムＦ
を巻き取るフィルム巻き取りり一ル４２と、レジストを
保護するためのスペイサ−のためのリール４３．４４を
それぞれに有する。
給するフィルム供給リール４１と、露光後のフィルムＦ
を巻き取るフィルム巻き取りり一ル４２と、レジストを
保護するためのスペイサ−のためのリール４３．４４を
それぞれに有する。
またフィルムＦの駆動ローラ４６と、これに従動される
ローラ４５かスプロケット式に構成される。
ローラ４５かスプロケット式に構成される。
そして補助ローラ４６．４７かある。
５は露光位置であり、フィルムステージ５１上に構成さ
れる。またステージには、図示路のフィルム吸着機構や
、フィルムやレチクルの位置検出用センサ一部５２を有
する。ＦＩＯはフィルムＦの幅方向に２つ設けられた位
置検出用の穴であり、これによって露光されるへきｌコ
マか正しく搬送されたことを検出する。５３はフィルム
Ｆの搬送の度にフィルムステージ５１を昇降させる昇降
機構である。
れる。またステージには、図示路のフィルム吸着機構や
、フィルムやレチクルの位置検出用センサ一部５２を有
する。ＦＩＯはフィルムＦの幅方向に２つ設けられた位
置検出用の穴であり、これによって露光されるへきｌコ
マか正しく搬送されたことを検出する。５３はフィルム
Ｆの搬送の度にフィルムステージ５１を昇降させる昇降
機構である。
このような露光装置において、露光位置５は、レチクル
２や投影レンズ３と正しい位置関係をもって、設定され
ている。特にこの間の距離は、焦点や倍率を決定するう
えて重要である。そして位置関係かずれた時は、レチク
ル２や投影レンズ３を専用の移動機構によって光軸方向
に移動させることによって制御できる。
２や投影レンズ３と正しい位置関係をもって、設定され
ている。特にこの間の距離は、焦点や倍率を決定するう
えて重要である。そして位置関係かずれた時は、レチク
ル２や投影レンズ３を専用の移動機構によって光軸方向
に移動させることによって制御できる。
第２図は、本発明を具体的に説明するための要部拡大図
である。光源部１０内のコンデンサレンズ１３は、コン
デンサレンズ保持部材１３０に保持される。一方レチク
ル２はレチクルカバー２′に載置されて、レチクル保持
部材２１に保持されている。レチクル保持部（Ａ２１は
カイト部（Ａ２４に沿って、光軸方向に移動する。この
移動は専用の移動機構、例えばモータよりなる、によっ
て行われる。ガイド部材２４は基板２５に固着されてい
る。一方投影レンズ３は第２の投影レンズケース３２に
よって保持されて、さらに第２の投影レンズケース３２
は投影レンズ保持台３１に保持される。投影レンズ保持
台３１はカイト部材２４に沿って、光軸方向に移動する
。
である。光源部１０内のコンデンサレンズ１３は、コン
デンサレンズ保持部材１３０に保持される。一方レチク
ル２はレチクルカバー２′に載置されて、レチクル保持
部材２１に保持されている。レチクル保持部（Ａ２１は
カイト部（Ａ２４に沿って、光軸方向に移動する。この
移動は専用の移動機構、例えばモータよりなる、によっ
て行われる。ガイド部材２４は基板２５に固着されてい
る。一方投影レンズ３は第２の投影レンズケース３２に
よって保持されて、さらに第２の投影レンズケース３２
は投影レンズ保持台３１に保持される。投影レンズ保持
台３１はカイト部材２４に沿って、光軸方向に移動する
。
レチクル２に対しては、コンデンサレンズ保持部材１３
０に繋かった第１のレチクルケース２２とレチクル保持
部材２１に繋かった第２のレチクルケース２３、及び第
１の投影レンズケース３０によって、レチクル加圧室１
か形成される。
０に繋かった第１のレチクルケース２２とレチクル保持
部材２１に繋かった第２のレチクルケース２３、及び第
１の投影レンズケース３０によって、レチクル加圧室１
か形成される。
また投影レンズ３に対しては、第２の投影レンズケース
３２とステージケース３３によってステ−ジ加圧室１′
か形成される。
３２とステージケース３３によってステ−ジ加圧室１′
か形成される。
これら加圧室（乙は、浄化作用も合わせて持つ、圧力供
給器６か管６０．６２によって接続されている。６１、
’、６３は流量調節器である。圧力供給器６としてはコ
ンプレッサか適用される。
給器６か管６０．６２によって接続されている。６１、
’、６３は流量調節器である。圧力供給器６としてはコ
ンプレッサか適用される。
一方、各々の加圧室は、前述の如く光軸方向に移動する
ため、加圧室には隙間が設定される。例えばレチクル加
圧室１の場合、隙間から、外部向けて洗浄な空気Ａ、Ｂ
か流れる。またステージケースビの場合、空気Ｃ，Ｄか
流れる。これは加圧室内の方か圧力は高いためである。
ため、加圧室には隙間が設定される。例えばレチクル加
圧室１の場合、隙間から、外部向けて洗浄な空気Ａ、Ｂ
か流れる。またステージケースビの場合、空気Ｃ，Ｄか
流れる。これは加圧室内の方か圧力は高いためである。
このため塵埃が加圧室内に混入することはなく、その影
響を受けることもない。とくにレチクル２に塵埃か付着
しないので、（レチクルの上面、下面両方）パターン欠
陥を生じることかない。さらに投影レンズ３の上面及び
下面、さらにはコンデンサレンズ１３の下面１３′にお
いてもその影響は受けない。
響を受けることもない。とくにレチクル２に塵埃か付着
しないので、（レチクルの上面、下面両方）パターン欠
陥を生じることかない。さらに投影レンズ３の上面及び
下面、さらにはコンデンサレンズ１３の下面１３′にお
いてもその影響は受けない。
またステージケース１′については風りによって、フィ
ルムＦのレジスト面に付着した塵埃を吹き飛ばすことか
できる。
ルムＦのレジスト面に付着した塵埃を吹き飛ばすことか
できる。
以上説明したように、加圧室はレチクル加圧室、ステー
ジ加圧室の両方を有するフィルム露光装置について説明
したか５、何れか一方でも可能である。
ジ加圧室の両方を有するフィルム露光装置について説明
したか５、何れか一方でも可能である。
また圧力供給器６は、両方の加圧室に別々に設けてもよ
い。
い。
以上説明したように、本考案のフィルム露光装置によれ
ば、レチクル、投影レンズ、コンデンサレンズ、フィル
ムのレジスト面に対して塵埃か付着しないように加圧室
の設けたので、投影像のボケや光量の減少を生じること
はない。
ば、レチクル、投影レンズ、コンデンサレンズ、フィル
ムのレジスト面に対して塵埃か付着しないように加圧室
の設けたので、投影像のボケや光量の減少を生じること
はない。
第１図は、本発明のフィルム露光装置の全体の概略図を
示す。 第２図は、本発明を説明するための要部拡大図である。 図中、 ｌ ニレチクル加圧室 １′：ステージ加圧室 ２ ・レチクル ３ ：投影レンズ １０：光源部 ２１ニレチクル保持台 ５１：フィルムステージ ２２：第１のレチクルケース ３０：第１の投影レンズケース ３２：第２の投影レンズケース ３３ ・ステージケース ６ ：圧力供給器
示す。 第２図は、本発明を説明するための要部拡大図である。 図中、 ｌ ニレチクル加圧室 １′：ステージ加圧室 ２ ・レチクル ３ ：投影レンズ １０：光源部 ２１ニレチクル保持台 ５１：フィルムステージ ２２：第１のレチクルケース ３０：第１の投影レンズケース ３２：第２の投影レンズケース ３３ ・ステージケース ６ ：圧力供給器
Claims (3)
- （１）光源部と、 光源部から光が照射されるレチクルと、 レチクルを保持して、光軸方向に移動可能なレチクル保
持台と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージと、 前記レチクルをその内部に有し、 光源部と繋がった第１のレチクルケースと レチクル保持台に繋がった、第２のレチク ルケースと第１の投影レンズケース からなるレチクル加圧室と レチクル加圧室に接続された圧力供給器と、を有するこ
とを特徴とするフィルム露光装置。 - （２）光源部と、 光源部から光が照射されるレチクルと、 レチクルを保持して、光軸方向に移動可能なレチクル保
持台と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージと、 前記投影レンズと繋がった、第２の投影レンズズケース
と、フィルムステージに繋がったステージケースからな
るステージ加圧室と、 ステージ加圧室に接続された圧力供給器と、を有するこ
とを特徴とするフィルム露光装置。 - （３）光源部と、 光源部から光が照射されるレチクルと、 レチクルを保持して、光軸方向に移動可能なレチクル保
持台と、 レチクルを通過した光を露光面に結び、レチクルのパタ
ーンを投影する投影レンズと、 投影レンズによる像の投影位置に、フィルムを載せて保
持するフィルムステージと、 前記レチクルをその内部に有し、 光源部と繋がった第１のレチクルケースと、レチクル保
持台に繋がった第２のレチクルケースと、第１の投影レ
ンズケースからなる レチクル加圧室と 前記投影レンズと繋がった第２の投影レンズケースと、
フィルムステージに繋がったステージケースからなるス
テージ加圧室と、 レチクル加圧室及びステージ加圧室に接続された圧力供
給器と、 を有することを特徴とするフィルム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2330551A JP2891769B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | フィルム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2330551A JP2891769B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | フィルム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04204534A true JPH04204534A (ja) | 1992-07-24 |
| JP2891769B2 JP2891769B2 (ja) | 1999-05-17 |
Family
ID=18233913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2330551A Expired - Fee Related JP2891769B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | フィルム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2891769B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101887217A (zh) * | 2009-05-15 | 2010-11-17 | 三荣技研股份有限公司 | 曝光装置 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2330551A patent/JP2891769B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101887217A (zh) * | 2009-05-15 | 2010-11-17 | 三荣技研股份有限公司 | 曝光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2891769B2 (ja) | 1999-05-17 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090226 Year of fee payment: 10 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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