JPH04206947A - 薄板状部材の吸着装置 - Google Patents

薄板状部材の吸着装置

Info

Publication number
JPH04206947A
JPH04206947A JP2338594A JP33859490A JPH04206947A JP H04206947 A JPH04206947 A JP H04206947A JP 2338594 A JP2338594 A JP 2338594A JP 33859490 A JP33859490 A JP 33859490A JP H04206947 A JPH04206947 A JP H04206947A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
vacuum chuck
thin plate
centering
attracted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2338594A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuaki Kamitari
神足 勝昭
Takashi Araki
隆 荒木
Kazuya Okubo
一也 大久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Ceramics Co Ltd filed Critical Toshiba Ceramics Co Ltd
Priority to JP2338594A priority Critical patent/JPH04206947A/ja
Publication of JPH04206947A publication Critical patent/JPH04206947A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野コ 本発明は、例えば半導体製造工程において、半導体ウェ
ーハ等の薄い板状体を吸着して移動、加工等を行なうた
めに用いる薄板状部材の吸着装置に関する。
[従来の技術] 従来、半導体製造]二程においで、゛1工導体ウコ−−
ハをポリシンク(表面加工)する場合には、第、3図に
示したように回動可能なウェーハ保持装置1のl\ツl
’ 2の先端下面に装着した真空チャック5にウェーハ
4を吸着させた後、」−記ノ\ツト2を回動させで加工
用定盤3−1−に搬送し、イ欠い−C・\ソト2を下降
ざぜ、−・定方向に回転しでいる該定盤:3ζこウェー
ハ4を接触させで研石な行っている。
6はウェーハ収納部7のウコーーハ、4をウェーハ待機
部8に順次搬送するヘルドてあり、該ウェーハ待機部8
において上記ヘット2が下降して巨空チャック5にウコ
ユーハ11が吸着される。
[発明が解決しようとする課題] しかるに、後のポリシンク工程における加1−精度を維
持するためには、ウェーハ4か真空チャック5の所定の
位置に正確に吸着されなけれ(、vならないが、前記従
来の装置てはウェーハ/lおよびヘット2の夫々の正確
な位置決めが困難であり、この問題を解決するためには
ウェーハ4およびヘツ1・2の各位置制御機構が極めて
複雑になり設置晶費の高眩を招いていた。
本光明は」−記実情に鑑みてなされたもので、筒中な構
造で、薄析状部伺を真空チャックの所定のIX′1置に
正確に吸着ざぜることがてきる薄板状部材の吸着装置を
提供ずろことを目的とする。
[課題を解決するための二F段] 本発明は、搬送手段によって待機部に搬送された。°ル
桁状部+Aを、4゛L空すA・ツクに吸着ざぜて移動、
加圧等を11なう装置において、前記時機部の搬送方向
前方に薄板状部(イの停市I装置を規制するストッパを
設けるとともに、該待機部の両側に、薄板状部+Aの左
右方向位置を規制するセンタリング手段を設置し、かつ
該待機部の下方には、薄板状部材を前記真空チャックま
て押1−げる押1.げ手段を1、下動可能に設けたこと
を特徴とする。
[(’r JTI ] 搬送手段ここより収納部から搬送された薄板状部+Aは
、センサーの作用で搬送手段か停止」−ずろことζこよ
り、(う機部て停止l−ずろ。その場合、薄板状部祠の
先端部はストッパに当接ずろため、その前後方向の位置
が規制される。吹いて両側のセンタリンイア手段が夫々
内方へ作動して薄板状部+1のセンタリングを行ない、
薄板状部(4の左右方向の117置決めがなされる。
し・かる後、押上は手段か」二冒し・で、薄社I状部柵
を真空チャックに当接ずろ、Lで押1−1げた後、H!
i空ヂA・ツクの1°(字源を(′I動ざぜ゛てi’、
li 1チに状部+Aを1’1′/aチヤツクに吸着ざ
ぜ、押」二げ手1゛セを下降させ−る。
このように薄板状部材の吸着(ご際して、薄板状部材が
前後および左右方向に正確に1〜′J、置注めされ、一
方真空チャックは全く移動させないので、薄板状部材を
真空チャックの所定の位置こご正確ζご吸着させること
ができる。
[実施例] 第1図、第2図は′:1コ導体ウェーハのポリシック装
置のウェーハ待機部18を示し・たもので、ポリシンク
装置の基本的構成は前記従来のポリシンク装置(第3図
)と同様である。
10はポリシンク装置の台座等に固定された支1S板で
、その両側にはぐノ]−−ハ搬送用の一対の幅狭ヘルド
11か取りpjCjられている。なお順送中のつ1−ハ
1が支持板10に接触し・ないよ−)(ご、l\ルト1
14]に面が支持板1 o Cl) 1−而より上方に
1i7.置するよ・)に設置されている。該ノ\ルト1
1の搬送方向nij方には、ウェーハ1の停d′、位置
を規制ずろストッパ12か設げである。またJ\ルト1
10両側方には、山上−ハ1の左右方向の1!″1置を
現4ノ1する一対のセンタリング用チャック1;3か左
右方向に移動LI丁能に設置されている。
I−記支持板lOO前端部中央、即ち侍莢部18の略中
央には円孔15カ)”i’設し−Cあり、該円孔15の
下方に押」二(jロッI’ I 、1か1−1下動i′
I丁能に設Gtである。
また第2図において、5は回動可能なウェーハ(緊持装
置1(第、3図)の\ツl’ 2の左端下面ここ装着し
た真空チャッ′ノて、例えは真空源ζこ連通した多数の
吸引孔を設けたセラミ・ソクスプレートからなるもので
ある。
次に1−記装置の作用を説明する。J\ルト11により
ウコーーハ収納部7(第二3図)から搬送されたウェー
ハ4は、図示しないセンサーの作用てヘルド11が停止
1−することにより、1ノ1機部18てI<j +l−
する。その場合、つ]−−ハllのソe喘部はストツバ
12に当接するため、その+tii後方向の位置゛が規
制される。次いて両側のセンタリング用チャック1.3
か夫々内方へ作動してウコ”、−ハ、/1のセンタリン
グを行ない、ウコ″、−ハ、′1の左右方向の1)″L
置置注かなされる。
しかる後、押−ヒげロソF 111が1−冒し・て円孔
15を貫通し、ウコーーハ4を真空チャック5に当接す
るよで押上けた後、真空チャック5の真空源を作動させ
でウェーハ4を真空チャック5に吸着させ、押上げロッ
ト14を下降さぜる。
このようにウェーハ4のII及若に際して、−))コ、
−ハ4が前後および左右方向に正確に1〜″i置決めさ
れ、一方真空チャック5は全く移動させないので、ウェ
ーハ・1を真空チャック5の所定の1j″ノ置ζJ正確
に吸着させることかできるものである。
[発明の効果] −〇− 以1、説明し・た、L−)に木ヅヒ明(Jよれは、薄板
状部(オの吸着に際して、薄板状部伺が前復旧よび左右
方向にIF確ここ位置決めされ、一方真空チャックは全
く移動させないので、薄板状部+Aをα空チャックの所
定の位置に正確りご吸着させろことかできる。
4:た吸4時に貞空チャック即ち・\ツトの位置制御か
不要となるので、パ\ットの構造が簡易化されろととも
ζこ、操作も大幅ここ容易化される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示ず11也面図、第2図G
、を第1図の、へ−1\線■1血図、第:3図は()C
来例として半導体”) 、T1−ハのボリンツク装置を
示す斜視図である・ 2・・・・′\ツト 4・・・つ]、−ハ(薄板状部伺) 5復旧・!;L空チャック 11・・・・\ルl−(搬送手段) 12・・・ストツバ l:3・・・センタリング用−Tヤソク14・・・押−
1−けロット 18・・・待機部 j]3願人:東芝セラミックス株式会社く←」

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 搬送手段によって待機部に搬送された薄板状部材を、真
    空チャックに吸着させで移動、加工等を行なう装置にお
    いて、前記待機部の搬送方向前方に薄板状部材の停止位
    置を規制するストッパを設けるとともに、該待機部の両
    側に、薄板状部材の左右方向位置を規制するセンタリン
    グ手段を設置し、かつ該待機部の下方には、薄板状部材
    を前記真空チャックまで押上げる押上げ手段を上下動可
    能に設けたことを特徴とする薄板状部材の吸着装置。
JP2338594A 1990-11-30 1990-11-30 薄板状部材の吸着装置 Pending JPH04206947A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2338594A JPH04206947A (ja) 1990-11-30 1990-11-30 薄板状部材の吸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2338594A JPH04206947A (ja) 1990-11-30 1990-11-30 薄板状部材の吸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04206947A true JPH04206947A (ja) 1992-07-28

Family

ID=18319643

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2338594A Pending JPH04206947A (ja) 1990-11-30 1990-11-30 薄板状部材の吸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04206947A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000061202A (ko) * 1999-03-24 2000-10-16 윤종용 센터링 수단이 있는 웨이퍼 척
JP2003197710A (ja) * 2001-12-27 2003-07-11 Sharp Corp 板状物の薄層加工装置及び板状物の薄層加工方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000061202A (ko) * 1999-03-24 2000-10-16 윤종용 센터링 수단이 있는 웨이퍼 척
JP2003197710A (ja) * 2001-12-27 2003-07-11 Sharp Corp 板状物の薄層加工装置及び板状物の薄層加工方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101559018B1 (ko) 판형 부재 반전 시스템 및 그 반전 이송 방법
CN101407283B (zh) 衬底输送装置
JP4600856B2 (ja) 基板保持装置
JP5138108B1 (ja) 乾燥装置
JPH09289241A (ja) ウェーハ搬送装置
JP2004083180A (ja) シート状基板の搬送装置及び搬送方法
WO2007049341A1 (ja) 組立対象物・部品載置パレット及び組立装置
JP2004121990A (ja) ワーク搬送収納装置及びワーク搬送収納方法
CN103974608A (zh) 基板输送装置、基板的输送方法
JP6402227B2 (ja) ウェーハ受け渡し装置
JPH01161846A (ja) 移載装置
JPH04332129A (ja) 被洗浄体の移載方法及びその装置並びに被移載体の位置決め装置
CN110312415B (zh) 基板输送装置及电子部件安装装置
TWI806946B (zh) 切削裝置
JP2005046916A (ja) ワーク授受装置及び加工システム
JPH04356381A (ja) ブレードチップ自動溶接装置
JP3758932B2 (ja) マウンタの基板セット装置及びバックアップピン切替え方法
KR100240578B1 (ko) 반도체패키지용 웨이퍼 마운팅 시스템의 웨이퍼 이송장치
JP4346811B2 (ja) ウェハ移載装置
JPS6243339B2 (ja)
JP2010165882A (ja) 半導体ウエハの搬送装置及び搬送方法
JPH10313196A (ja) 基板供給装置
JPS61136841A (ja) 半導体ウエハ−等の取出移送装置
JPH08227927A (ja) 処理装置
JPS62249442A (ja) 処理装置