JPH04206947A - 薄板状部材の吸着装置 - Google Patents
薄板状部材の吸着装置Info
- Publication number
- JPH04206947A JPH04206947A JP2338594A JP33859490A JPH04206947A JP H04206947 A JPH04206947 A JP H04206947A JP 2338594 A JP2338594 A JP 2338594A JP 33859490 A JP33859490 A JP 33859490A JP H04206947 A JPH04206947 A JP H04206947A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- vacuum chuck
- thin plate
- centering
- attracted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野コ
本発明は、例えば半導体製造工程において、半導体ウェ
ーハ等の薄い板状体を吸着して移動、加工等を行なうた
めに用いる薄板状部材の吸着装置に関する。
ーハ等の薄い板状体を吸着して移動、加工等を行なうた
めに用いる薄板状部材の吸着装置に関する。
[従来の技術]
従来、半導体製造]二程においで、゛1工導体ウコ−−
ハをポリシンク(表面加工)する場合には、第、3図に
示したように回動可能なウェーハ保持装置1のl\ツl
’ 2の先端下面に装着した真空チャック5にウェーハ
4を吸着させた後、」−記ノ\ツト2を回動させで加工
用定盤3−1−に搬送し、イ欠い−C・\ソト2を下降
ざぜ、−・定方向に回転しでいる該定盤:3ζこウェー
ハ4を接触させで研石な行っている。
ハをポリシンク(表面加工)する場合には、第、3図に
示したように回動可能なウェーハ保持装置1のl\ツl
’ 2の先端下面に装着した真空チャック5にウェーハ
4を吸着させた後、」−記ノ\ツト2を回動させで加工
用定盤3−1−に搬送し、イ欠い−C・\ソト2を下降
ざぜ、−・定方向に回転しでいる該定盤:3ζこウェー
ハ4を接触させで研石な行っている。
6はウェーハ収納部7のウコーーハ、4をウェーハ待機
部8に順次搬送するヘルドてあり、該ウェーハ待機部8
において上記ヘット2が下降して巨空チャック5にウコ
ユーハ11が吸着される。
部8に順次搬送するヘルドてあり、該ウェーハ待機部8
において上記ヘット2が下降して巨空チャック5にウコ
ユーハ11が吸着される。
[発明が解決しようとする課題]
しかるに、後のポリシンク工程における加1−精度を維
持するためには、ウェーハ4か真空チャック5の所定の
位置に正確に吸着されなけれ(、vならないが、前記従
来の装置てはウェーハ/lおよびヘット2の夫々の正確
な位置決めが困難であり、この問題を解決するためには
ウェーハ4およびヘツ1・2の各位置制御機構が極めて
複雑になり設置晶費の高眩を招いていた。
持するためには、ウェーハ4か真空チャック5の所定の
位置に正確に吸着されなけれ(、vならないが、前記従
来の装置てはウェーハ/lおよびヘット2の夫々の正確
な位置決めが困難であり、この問題を解決するためには
ウェーハ4およびヘツ1・2の各位置制御機構が極めて
複雑になり設置晶費の高眩を招いていた。
本光明は」−記実情に鑑みてなされたもので、筒中な構
造で、薄析状部伺を真空チャックの所定のIX′1置に
正確に吸着ざぜることがてきる薄板状部材の吸着装置を
提供ずろことを目的とする。
造で、薄析状部伺を真空チャックの所定のIX′1置に
正確に吸着ざぜることがてきる薄板状部材の吸着装置を
提供ずろことを目的とする。
[課題を解決するための二F段]
本発明は、搬送手段によって待機部に搬送された。°ル
桁状部+Aを、4゛L空すA・ツクに吸着ざぜて移動、
加圧等を11なう装置において、前記時機部の搬送方向
前方に薄板状部(イの停市I装置を規制するストッパを
設けるとともに、該待機部の両側に、薄板状部+Aの左
右方向位置を規制するセンタリング手段を設置し、かつ
該待機部の下方には、薄板状部材を前記真空チャックま
て押1−げる押1.げ手段を1、下動可能に設けたこと
を特徴とする。
桁状部+Aを、4゛L空すA・ツクに吸着ざぜて移動、
加圧等を11なう装置において、前記時機部の搬送方向
前方に薄板状部(イの停市I装置を規制するストッパを
設けるとともに、該待機部の両側に、薄板状部+Aの左
右方向位置を規制するセンタリング手段を設置し、かつ
該待機部の下方には、薄板状部材を前記真空チャックま
て押1−げる押1.げ手段を1、下動可能に設けたこと
を特徴とする。
[(’r JTI ]
搬送手段ここより収納部から搬送された薄板状部+Aは
、センサーの作用で搬送手段か停止」−ずろことζこよ
り、(う機部て停止l−ずろ。その場合、薄板状部祠の
先端部はストッパに当接ずろため、その前後方向の位置
が規制される。吹いて両側のセンタリンイア手段が夫々
内方へ作動して薄板状部+1のセンタリングを行ない、
薄板状部(4の左右方向の117置決めがなされる。
、センサーの作用で搬送手段か停止」−ずろことζこよ
り、(う機部て停止l−ずろ。その場合、薄板状部祠の
先端部はストッパに当接ずろため、その前後方向の位置
が規制される。吹いて両側のセンタリンイア手段が夫々
内方へ作動して薄板状部+1のセンタリングを行ない、
薄板状部(4の左右方向の117置決めがなされる。
し・かる後、押上は手段か」二冒し・で、薄社I状部柵
を真空チャックに当接ずろ、Lで押1−1げた後、H!
i空ヂA・ツクの1°(字源を(′I動ざぜ゛てi’、
li 1チに状部+Aを1’1′/aチヤツクに吸着ざ
ぜ、押」二げ手1゛セを下降させ−る。
を真空チャックに当接ずろ、Lで押1−1げた後、H!
i空ヂA・ツクの1°(字源を(′I動ざぜ゛てi’、
li 1チに状部+Aを1’1′/aチヤツクに吸着ざ
ぜ、押」二げ手1゛セを下降させ−る。
このように薄板状部材の吸着(ご際して、薄板状部材が
前後および左右方向に正確に1〜′J、置注めされ、一
方真空チャックは全く移動させないので、薄板状部材を
真空チャックの所定の位置こご正確ζご吸着させること
ができる。
前後および左右方向に正確に1〜′J、置注めされ、一
方真空チャックは全く移動させないので、薄板状部材を
真空チャックの所定の位置こご正確ζご吸着させること
ができる。
[実施例]
第1図、第2図は′:1コ導体ウェーハのポリシック装
置のウェーハ待機部18を示し・たもので、ポリシンク
装置の基本的構成は前記従来のポリシンク装置(第3図
)と同様である。
置のウェーハ待機部18を示し・たもので、ポリシンク
装置の基本的構成は前記従来のポリシンク装置(第3図
)と同様である。
10はポリシンク装置の台座等に固定された支1S板で
、その両側にはぐノ]−−ハ搬送用の一対の幅狭ヘルド
11か取りpjCjられている。なお順送中のつ1−ハ
1が支持板10に接触し・ないよ−)(ご、l\ルト1
14]に面が支持板1 o Cl) 1−而より上方に
1i7.置するよ・)に設置されている。該ノ\ルト1
1の搬送方向nij方には、ウェーハ1の停d′、位置
を規制ずろストッパ12か設げである。またJ\ルト1
10両側方には、山上−ハ1の左右方向の1!″1置を
現4ノ1する一対のセンタリング用チャック1;3か左
右方向に移動LI丁能に設置されている。
、その両側にはぐノ]−−ハ搬送用の一対の幅狭ヘルド
11か取りpjCjられている。なお順送中のつ1−ハ
1が支持板10に接触し・ないよ−)(ご、l\ルト1
14]に面が支持板1 o Cl) 1−而より上方に
1i7.置するよ・)に設置されている。該ノ\ルト1
1の搬送方向nij方には、ウェーハ1の停d′、位置
を規制ずろストッパ12か設げである。またJ\ルト1
10両側方には、山上−ハ1の左右方向の1!″1置を
現4ノ1する一対のセンタリング用チャック1;3か左
右方向に移動LI丁能に設置されている。
I−記支持板lOO前端部中央、即ち侍莢部18の略中
央には円孔15カ)”i’設し−Cあり、該円孔15の
下方に押」二(jロッI’ I 、1か1−1下動i′
I丁能に設Gtである。
央には円孔15カ)”i’設し−Cあり、該円孔15の
下方に押」二(jロッI’ I 、1か1−1下動i′
I丁能に設Gtである。
また第2図において、5は回動可能なウェーハ(緊持装
置1(第、3図)の\ツl’ 2の左端下面ここ装着し
た真空チャッ′ノて、例えは真空源ζこ連通した多数の
吸引孔を設けたセラミ・ソクスプレートからなるもので
ある。
置1(第、3図)の\ツl’ 2の左端下面ここ装着し
た真空チャッ′ノて、例えは真空源ζこ連通した多数の
吸引孔を設けたセラミ・ソクスプレートからなるもので
ある。
次に1−記装置の作用を説明する。J\ルト11により
ウコーーハ収納部7(第二3図)から搬送されたウェー
ハ4は、図示しないセンサーの作用てヘルド11が停止
1−することにより、1ノ1機部18てI<j +l−
する。その場合、つ]−−ハllのソe喘部はストツバ
12に当接するため、その+tii後方向の位置゛が規
制される。次いて両側のセンタリング用チャック1.3
か夫々内方へ作動してウコ”、−ハ、/1のセンタリン
グを行ない、ウコ″、−ハ、′1の左右方向の1)″L
置置注かなされる。
ウコーーハ収納部7(第二3図)から搬送されたウェー
ハ4は、図示しないセンサーの作用てヘルド11が停止
1−することにより、1ノ1機部18てI<j +l−
する。その場合、つ]−−ハllのソe喘部はストツバ
12に当接するため、その+tii後方向の位置゛が規
制される。次いて両側のセンタリング用チャック1.3
か夫々内方へ作動してウコ”、−ハ、/1のセンタリン
グを行ない、ウコ″、−ハ、′1の左右方向の1)″L
置置注かなされる。
しかる後、押−ヒげロソF 111が1−冒し・て円孔
15を貫通し、ウコーーハ4を真空チャック5に当接す
るよで押上けた後、真空チャック5の真空源を作動させ
でウェーハ4を真空チャック5に吸着させ、押上げロッ
ト14を下降さぜる。
15を貫通し、ウコーーハ4を真空チャック5に当接す
るよで押上けた後、真空チャック5の真空源を作動させ
でウェーハ4を真空チャック5に吸着させ、押上げロッ
ト14を下降さぜる。
このようにウェーハ4のII及若に際して、−))コ、
−ハ4が前後および左右方向に正確に1〜″i置決めさ
れ、一方真空チャック5は全く移動させないので、ウェ
ーハ・1を真空チャック5の所定の1j″ノ置ζJ正確
に吸着させることかできるものである。
−ハ4が前後および左右方向に正確に1〜″i置決めさ
れ、一方真空チャック5は全く移動させないので、ウェ
ーハ・1を真空チャック5の所定の1j″ノ置ζJ正確
に吸着させることかできるものである。
[発明の効果]
−〇−
以1、説明し・た、L−)に木ヅヒ明(Jよれは、薄板
状部(オの吸着に際して、薄板状部伺が前復旧よび左右
方向にIF確ここ位置決めされ、一方真空チャックは全
く移動させないので、薄板状部+Aをα空チャックの所
定の位置に正確りご吸着させろことかできる。
状部(オの吸着に際して、薄板状部伺が前復旧よび左右
方向にIF確ここ位置決めされ、一方真空チャックは全
く移動させないので、薄板状部+Aをα空チャックの所
定の位置に正確りご吸着させろことかできる。
4:た吸4時に貞空チャック即ち・\ツトの位置制御か
不要となるので、パ\ットの構造が簡易化されろととも
ζこ、操作も大幅ここ容易化される。
不要となるので、パ\ットの構造が簡易化されろととも
ζこ、操作も大幅ここ容易化される。
第1図は本発明の一実施例を示ず11也面図、第2図G
、を第1図の、へ−1\線■1血図、第:3図は()C
来例として半導体”) 、T1−ハのボリンツク装置を
示す斜視図である・ 2・・・・′\ツト 4・・・つ]、−ハ(薄板状部伺) 5復旧・!;L空チャック 11・・・・\ルl−(搬送手段) 12・・・ストツバ l:3・・・センタリング用−Tヤソク14・・・押−
1−けロット 18・・・待機部 j]3願人:東芝セラミックス株式会社く←」
、を第1図の、へ−1\線■1血図、第:3図は()C
来例として半導体”) 、T1−ハのボリンツク装置を
示す斜視図である・ 2・・・・′\ツト 4・・・つ]、−ハ(薄板状部伺) 5復旧・!;L空チャック 11・・・・\ルl−(搬送手段) 12・・・ストツバ l:3・・・センタリング用−Tヤソク14・・・押−
1−けロット 18・・・待機部 j]3願人:東芝セラミックス株式会社く←」
Claims (1)
- 搬送手段によって待機部に搬送された薄板状部材を、真
空チャックに吸着させで移動、加工等を行なう装置にお
いて、前記待機部の搬送方向前方に薄板状部材の停止位
置を規制するストッパを設けるとともに、該待機部の両
側に、薄板状部材の左右方向位置を規制するセンタリン
グ手段を設置し、かつ該待機部の下方には、薄板状部材
を前記真空チャックまで押上げる押上げ手段を上下動可
能に設けたことを特徴とする薄板状部材の吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2338594A JPH04206947A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 薄板状部材の吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2338594A JPH04206947A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 薄板状部材の吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04206947A true JPH04206947A (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=18319643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2338594A Pending JPH04206947A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 薄板状部材の吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04206947A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000061202A (ko) * | 1999-03-24 | 2000-10-16 | 윤종용 | 센터링 수단이 있는 웨이퍼 척 |
| JP2003197710A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-11 | Sharp Corp | 板状物の薄層加工装置及び板状物の薄層加工方法 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2338594A patent/JPH04206947A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000061202A (ko) * | 1999-03-24 | 2000-10-16 | 윤종용 | 센터링 수단이 있는 웨이퍼 척 |
| JP2003197710A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-11 | Sharp Corp | 板状物の薄層加工装置及び板状物の薄層加工方法 |
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