JPH04207051A - ウエハスケールインテグレーションデバイスの製造方法 - Google Patents

ウエハスケールインテグレーションデバイスの製造方法

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Publication number
JPH04207051A
JPH04207051A JP2340125A JP34012590A JPH04207051A JP H04207051 A JPH04207051 A JP H04207051A JP 2340125 A JP2340125 A JP 2340125A JP 34012590 A JP34012590 A JP 34012590A JP H04207051 A JPH04207051 A JP H04207051A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
element chip
communication path
manufacturing
signal wiring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2340125A
Other languages
English (en)
Inventor
Takaaki Suzuki
孝章 鈴木
Kiyoshi Miyasaka
宮坂 清
Fumio Baba
文雄 馬場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] ウェハスケールインテグレーションデバイスに関し、 通信経路の欠陥を原因としては製造工程に無駄がでない
ようにし、製造作業の効率化を図ることができるように
することを目的とし、 ウェハに、複数の要素チップと、それらの間の通信経路
となる信号配線とを形成した後、機能試験を行う前に、
隣接する要素チップ間の通信経路の試験を行う。
[産業上の利用分野] 本発明は、ウェハの全領域をひとつのデバイスとして回
路を集積して構成される、いわゆるウェハスケールイン
テグレーションデバイスく以下、ws’rという)の製
造方法に関する。
[従来の技術] 従来、WSIとして、第2図にその概略的な平面図、第
3図に信号配線の電気的内部結線を示すようなものが提
案されている。
このWSIは、ウェハスケールメモリの例であり、第2
図において、1はボード、2はボード1に接着されたウ
ェハ、3はウェハ2に配列された要素チップ、4はボー
ド1に形成されたVcc電源(例えば、+5 [V]電
源)用の端子、5はVss電源(例えば、接地)用の端
子、6は電源用のワイヤ、7は入力信号用の端子、8は
入力信号用のワイヤ、9は出力信号用の端子、10は出
力信号用のワイヤ、11はコネクタであって、このWS
Iはワイヤ6を介して各要素チップ3に電源を供給しよ
うとするものである。
ここに、各要素チップ3は、第3図に示すように、要素
チップ3の主たる機能を果たすべき主機能回路部として
のDRAM12と、要素チップ3の再構成、即ち、通信
経路を構成するためにDRAM12に付随して設けられ
た要素チップ再構成用回路部、いわゆるコンフィグレー
ションロジック(Configuration Log
ic、以下、Conlogという)13とを設けて構成
されている。
各Conlogl 3は、四方の隣り合ったConlo
gl Bと信号配線14でつながっており、外部から供
給される相互結線命令信号に応答したスイッチ制御によ
り、四方の隣り合ったConlogl 3のうち、いず
れか−のConlogl 3と結線できるように構成さ
れており、例えば、第3図に二重線で示すような双方向
の通信経路15が形成される。この通信経路15は隣接
した四方のConlogl3のどのConlogl3が
正常であるかを試験しながら形成される。
なお、XMITは入力線、RECVは出力線である。
また、Conlogl 3は、DRAMインタフェース
部を含んでおり、このDRAMインタフェース部を介し
てDRAMを動作させることができるようにされている
かかるWSIは、従来、第4図A〜Cに示すようにして
製造されていた。
即ち、まず、第4図Aに示すように、ウェハ2を用意し
、このウェハ2に要素チップ3及び隣接する要素チップ
3を相互に接続する信号配線14(第4図Aには図示せ
ず。第3図参照)を形成し、続いて、DRAM12(第
4図Aには図示せず。
第3図参照)について試験を行う。
次に、第4図Bに示すように、このウェハ2をボード1
に接着し、電源用のワイヤ6をボンディングし、続いて
、第4図Cに示すように、双方向の通信経路15を形成
する。ここに、WSIを得ることができる。
[発明が解決しようとする課題] ここに、例えば、第5図に示すように、ボード1に形成
された入力信号用の端子7及び出力信号用の端子9が接
続される要素チップ3Aが、通信経路の欠陥を原因とし
て、図上、上側の要素チップ3B及び図上、左側の要素
チップ3Cのいずれとも結線できない場合、このWSI
は不良品として取り扱う必要があるが、前述した第4図
従来例のWSIの製造方法においては、かかる通信経路
15の欠陥の存在はウェハ2をボード1に接着した後、
通信経路15を形成する工程でしか知ることができず、
このため、第5図例のような場合、ウェハ2をボード1
に接着し、電源用のワイヤ6をボンディングする工程及
びボード1が全く無駄になってしまうという問題点があ
った。
本発明は、かかる点に鑑み、通信経路の欠陥を原因とし
ては製造工程に無駄がでないようにし、製造作業の効率
化を図ることができるようにしたWSIの製造方法を提
供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明によるWSIの製造方法は、ウェハに、複数の要
素チップと、それらの間の通信経路となる信号配線とを
形成した後、機能試験を行う前に、隣接する要素チップ
間の通信経路の試験を行うことを、その特徴とする。
[作用] 本発明によれば、機能試験を行う前に隣接する要素チッ
プ間の通信経路の試験が行われるので、通信経路に欠陥
があり、このために使用できないウェハについては、こ
の時点で不良品として除くことができ、従来例のように
無駄な工程を行わないで済む。
[実施例コ 以下、第1図を参照して、本発明の一実施例につき説明
する。
本実施例は、第4図従来例のWSIの製造方法と同様、
第2図にその概略的な平面図、第3図に信号配線の電気
的内部結線を示すようなWSIを製造する場合を例とす
るものである。したがって、第1図において、第2図〜
第4図に対応する部分には同一符号を付している。
本実施例においては、まず、第1図Aに示すように、ウ
ェハ2を用意し、このウェハ2に第4図Aに示すと同様
にして要素チップ3及び隣接する要素チップ3を相互に
接続する信号配線14(第1図Aには図示せず。第3図
参照)を形成する。
次に、第1図Bに示すように、要素チップ3Dに着目し
、この要素チップ3Dと、この要素チップ3Dに図上、
上下左右において隣接する要素チップ3E〜3Hについ
て、Vcc電源用のプローブ16〜20及びVss電源
用のプローブ21〜25を介して電源電圧を供給すると
共に、信号用のプローブ(図示せず)を介して要素チッ
プ3D〜3Hの機能試験を行い、続いて、要素チップ3
D〜3Hの間の相互の通信経路(信号配線及びConl
og)の試験を行う。これをウェハ2上の全要素チップ
3について行う。
次に、第1図Cに示すように、試験をパスしたウェハ2
をボード1に接着し、電源用のワイヤ6をボンディング
し、続いて、第1図りに示すように、双方向の通信経路
15を形成する。ここに、wsrを得ることができる。
かかる本実施例においては、ウェハ2をボード1に接着
する前に、通信経路の試験を行っているので、通信経路
に欠陥があり、このために使用できないウェハについて
は、この時点で不良品として除くことができ、この場合
には全く無駄であるウェハ2のボード1への接着工程、
電源用のワイヤ6のボンディング工程を行わないで済み
、また、ボード1を無駄にすることもない。
したがって、本実施例によれば、通信経路の欠陥を原因
としては、製造工程及びボード1に無駄がでないように
することができ、製造作業の効率化と、歩留まりの向上
化を図ることができる。
なお、上述の実施例においては、WSI中、DRAMと
Con I ogとを要素とするウェハスケールメモリ
の製造に本発明を適用した場合につき述べたが、その他
、本発明は、プロセッサとConlogとを要素とする
ウェハスケールプロセッサ等、およそConlogを使
用して要素チップを再構成するように構成される全ての
WSIの製造に適用することができるものである。
[発明の効果] 本発明によれば、機能試験を行う前に、隣接する要素チ
ップ間の通信経路の試験を行うようにしたことにより、
通信経路に欠陥があり、このために使用できないウェハ
については、この時点で不良品として除くことができ、
従来例のように無駄な工程を行わないで済むので、製造
作業の効率化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるウェハスケールインテグレーショ
ンデバイス(wsBの製造方法の一実施例を示す図、 第2図はWSIの一例を示す概略的な平面図、第3図は
第2図例のWSIにおける信号配線の電気的内部結線を
示す図、 第4図は従来のWSIの製造方法を示す図、第5図は第
4図従来例のWSIの製造方法が有する問題点を説明す
るための図である。 1・・・ボード 2・・・ウェハ 3・・・要素チップ 4・・・Vcc電源用の端子 5・・・Vss電源用の端子 6・・・電源用のワイヤ 7・・・入力信号用の端子 8・・・入力信号用のワイヤ 9・・・出力信号用の端子 10・・・出力信号用のワイヤ 12・・・DRAM 13−−−ConIog 14・・・信号配線 15・・・通信経路 第1図 WSIの一例を示す概略的な平面図 第2図 □・通信経路 第2図例のWSIにおける信号配線 の電気的内部結線を示す図 第3図 (B) 従来のWSIの製造方法を示す図 第4図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ウェハに、複数の要素チップと、それらの間の通
    信経路となる信号配線とを形成した後、機能試験を行う
    前に、隣接する要素チップ間の通信経路の試験を行う工
    程を含むことを特徴とするウェハスケールインテグレー
    ションデバイスの製造方法。
  2. (2)ウェハに、要素チップの主たる機能を果たす主機
    能回路部及び要素チップを再構成するための要素チップ
    再構成用回路部を有してなる要素チップと、隣接する要
    素チップの要素チップ再構成用回路部間を相互に接続す
    る信号配線とを形成した後、 このウェハをボードに固定し、各要素チップに共通して
    配線されるべき電源線の形成と、相互結線命令信号によ
    る要素チップ再構成用回路部を介した双方向の通信経路
    の形成とを行う前に、 隣接する要素チップにつき、プローブを介して電源電圧
    を供給し、信号配線及び要素チップ再構成用回路部から
    なる通信経路の試験を行う工程を含むことを特徴とする
    ウェハスケールインテグレーションデバイスの製造方法
JP2340125A 1990-11-30 1990-11-30 ウエハスケールインテグレーションデバイスの製造方法 Pending JPH04207051A (ja)

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ID=18333964

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JP2340125A Pending JPH04207051A (ja) 1990-11-30 1990-11-30 ウエハスケールインテグレーションデバイスの製造方法

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JP (1) JPH04207051A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003347373A (ja) * 2002-05-24 2003-12-05 Agilent Technol Inc ウエハ上の回路を試験するシステム及び方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003347373A (ja) * 2002-05-24 2003-12-05 Agilent Technol Inc ウエハ上の回路を試験するシステム及び方法

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