JPH0421186B2 - - Google Patents

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JPH0421186B2
JPH0421186B2 JP61270008A JP27000886A JPH0421186B2 JP H0421186 B2 JPH0421186 B2 JP H0421186B2 JP 61270008 A JP61270008 A JP 61270008A JP 27000886 A JP27000886 A JP 27000886A JP H0421186 B2 JPH0421186 B2 JP H0421186B2
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JP
Japan
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photosensitive layer
acid
treated
photosensitive
exposed
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JP61270008A
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JPS62143047A (ja
Inventor
Guroosa Mario
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EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS62143047A publication Critical patent/JPS62143047A/ja
Publication of JPH0421186B2 publication Critical patent/JPH0421186B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/28Processing photosensitive materials; Apparatus therefor for obtaining powder images
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明は、粉䜓で圢成され原画に察しおポゞで
あるパタヌンを少なくずも皮の−ゞヒド
ロピリゞン化合物を含有する感光局を甚いお圢成
するための方法に関する。
感光局の露光領域ず未露光領域の粘着性の差を
利甚しお像を圢成する耇写方法が知られおいる。
即ち、䟋えば米囜特蚱第3060024号、同第3620726
号、および同第3582327各号明现曞蚘茉の耇写方
法では、粘着性の光重合性耇写材料が像様露光に
より硬化し、これにより露光された像領域がその
粘着性を倱う。その埌、未露光の粘着性を有する
ずころには付着するが露光された非粘着性像領域
からはダスト凊理埌に陀去するこずのできる適圓
なトナヌを甚いおダスト凊理するこずにより像を
可芖化する。原画のポゞ像がこの方法により埗ら
れる。
ネガ型トナヌ凊理甚感光性耇写材料もたた知ら
れおいる。それらの奜たしい性質、ずりわけ酞玠
に察する非感受性およびそれらの良奜なトナヌ凊
理適正のために、少なくずも皮の感光性
−ゞヒドロピリゞン化合物を含有する材料は実甚
䞊極めお良奜な結果をもたらす。このような材料
は䟋えば米囜特蚱第4243741号、同第4346162号お
よび4604340各号明现曞に蚘茉されおおり、カラ
ヌプルヌフ法を行な぀たり、プリント回路を補䜜
したり、セラミツク物品䞊に像を圢成したり、ブ
ラりン管甚のリン光スクリヌンを補造するのに奜
適である。しなしながら広範囲の応甚、䟋えばド
ツトたたはストリツプリン光パタヌン甚黒色マト
リツクスの補造や゚ツチングたたはメツキしおト
ナヌ凊理された゚レメントの耇合回路を補造する
ためには、これら耇写材料を䜿甚しお簡単な方法
で原画に察しおポゞのパタヌンを圢成するこずが
できる方法を必芁ずする。
埓぀お、本発明は粉䜓よりなり原画に察しおポ
ゞであるパタヌンを少なくずも皮の−ゞ
ヒドロピリゞン化合物を含有する感光局を甚いお
圢成するための方法を提䟛するこずを目的ずしお
いる。
この目的は、少なくずも皮の−ゞヒド
ロピリゞン化合物を含有するネガ型トナヌ凊理甚
感光局を基䜓䞊に適甚し、これを像様露光し、露
光䞭に圢成した粘着性光反応生成物をpKa倀2.0
たたはそれ以䞋の有機たたは無機の匷酞で凊理す
るこずにより非粘着性生成物ぞ倉換し、ひき続き
非像様露光たたは加熱により非像様露光領域䞭に
粘着性を生じさせ、そしおこれら粘着性領域に埮
现粉末を適甚するこずによりトナヌ凊理しお、原
画に察しおポゞの粉䜓よりなるパタヌンを圢成す
る方法により達成される。
本発明の出発点は、粘着性光反応生成物を非粘
着性化合物ぞ倉換するこずにより像反転が可胜に
なるずいう認識にある。
反転工皋を行なうのに適圓な匷酞は䟋えば、
HCl、HBr、HNO3、H2SO4、−トル゚ンスル
ホン酞、およびアミドスルホン酞であり、ずりわ
け良奜な結果を䞎えおいるのが揮発性酞である。
反転は皮々の方法で行なうこずができる。奜た
しい実斜態様によれば、像様露光した材料は酞の
蒞気にさらされる。実際䞊では、䟋えば、基䜓䞊
の像様露光局を、無氎たたは含氎の酞の蒞気、た
たは酞の蒞気を含有する空気混合物で充たされた
チダンバヌ内ぞ挿入する。
ずりわけ奜たしい方法では、チダンバヌ内の雰
囲気を、塩酞の25重量溶液の蒞気で25℃で飜和
させる。酞凊理の継続時間は感光局の厚みにより
決たり、䟋えば1Όの厚みの局に察しおは玄30
〜60秒である。酞凊理の埌、過剰な分は18〜40℃
の空気流䞭で吹きずばすこずにより陀去するこず
ができる。
凊理は酞の氎溶液でその濃床が奜たしくは0.5
〜重量のものを甚いお行なうこずもできる。
この堎合の凊理は、像様露光された材料を氎溶液
に浞挬し、その埌氎ですすぐ簡単な方法で行なう
こずができる。露光の皋床、䜿甚されるバむンダ
ヌの皮類、そしお局の機械的応力に応じお、この
埌、露光された領域を掗去するこずができる。
別の実斜態様によれば、凊理は匷酞を担持した
担䜓ずしお働く埮现粉末を適甚するこずにより行
なうこずができる。担䜓物質ずしお適圓である粉
末は倩然たたは合成の重合䜓、䟋えばポリアミ
ド、ポリアルキレンオキシド、ポリビニニルアル
コヌル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリレヌ
ト䟋えばポリアクリルメタクリレヌトおよびアク
リル酞ず無氎マレむン酞ずの共重合䜓である。カ
オリン、SiO2、CaSO4、Al2O3等も適圓である。
担䜓物質に酞を担持させるには、奜たしくは担
䜓物質ず氎性の酞ずを、粉末の流動性が保たれる
ような混合比で混合する。
䞊蚘方法によれば、高いトナヌ密床およびハむ
コントラストにおいお優れおいる粉䜓物質のポゞ
パタヌンが埗られる。少なくずも皮の−
ゞヒドロピリゞン化合物を含有する知られたネガ
型トナヌ凊理甚耇写材料の䞭で、䜍を2′−ピト
ロプニル環で眮換された−ゞヒドロピリ
ゞン類を含有するものが本発明の方法を実斜する
のに特に適しおいるずいうこずがわか぀た。奜た
しい化合物は䞋蚘匏 〔匏䞭、は2′−ニトロプニルただしプニ
ル基はC1〜C4アルキルたたはオキサルキル、
OH、ハロゲン、NH2基で眮換されうるものであ
るでありR1およびたたはR2はCN、
COOR′たたはCOR′であるが、ここでR′は〜11
炭玠原子を有するアルキル基ただしこれもたた
−OCH3たたは−OC2H5で眮換されおいおもよ
いを衚わし、さらにR1ずR2は同じでも異な぀
おいおもよく、R3およびR4はC1〜C4アルキルた
だしR3ずR4は同じでも異な぀おいおもよく、R1
ずR3およびたたはR2ずR4はカルボニル基を有
する員たたは員の炭玠環たたはヘテロ環を完
成するのに必芁な原子を衚わす〕に盞圓するもの
である。さらに適圓な化合物ずしお本明现曞に参
考たでに包含させた米囜特蚱第4604340号明现曞
蚘茉のものをあげるこずができる。
少なくずも皮の−ゞヒドロピリゞン化
合物および皮のヘキサアリヌルビスむミダゟヌ
ル化合物よりなる別の感光系は、米囜特蚱第
4243741号明现曞に蚘茉されおおり、その内容を
本明现曞に参考たでに蚘茉する。適圓なゞヒドロ
ピリゞン化合物は、その明现曞の衚に蚘茉され
おいる。具䜓的には、−トリメチル−
−ビスカルボ゚トキシ−−ゞヒ
ドロピリゞン−ゞメチル−−゚チル−
−ビスカルボ゚トキシ−−ゞヒ
ドロピリゞン−ゞメチル−−−プロ
ピル−−ビスカルボ゚トキシ−
−ゞヒドロピリゞンおよび−ゞメチル−
−ベンゞル−−ビス−カルボ゚トキシ
−−ゞヒドロピリゞンである。
適圓なヘキサアリヌルむビスむミダゟヌル化合
物、即ち感光系の第の成分は䞊蚘特蚱明现曞の
衚にたずめられおいる。ずりわけ奜たしいの
は、2′4′5′−ヘキサプニルビ
むミダゟヌル2′−ビス−クロロプニ
ル−4′5′−テトラキス−メトキ
シプニルビむミダゟヌルおよび2′−ビ
ス−メトキシプニル−4′5′−
テトラプニルビむミダゟヌルである。
感光性化合物は単独か、たたはバむンダヌず混
合するか䞀緒に合せるかしお知られた方法により
基䜓ぞ適甚するこずができる。奜適な局の厚みは
0.5〜5Όである。
適圓なバむンダヌはポリアクリル酞゚ステルた
たはポリメタクリル酞゚ステルおよびそれらずア
クリル酞たたはメタクリル酞たたは他のアクリル
たたはビニル単量䜓ずの共重合䜓無氎マレむン
酞、マレむン酞およびたたはそのゞ゚ステルた
たはセミ゚ステルずスチレンたたは他のビニル単
量䜓ずの共重合䜓塩玠含有ビニル重合䜓たたは
共重合䜓䟋えばポリ塩化ビニルおよびそのポリ塩
玠化物、ポリ塩化ビニリデン、塩玠化ポリ゚チレ
ン、等ポリスチレンおよびポリスチレン共重合
䜓、゚チレンおよび゚チレン共重合䜓䟋えばマレ
むン酞等ずの共重合䜓ブタゞ゚ン、クロロプレ
ン等をベヌスにした合成ゎム類、およびそれらの
共重合䜓䟋えば合成ゎム類ずスチレンおよびアク
リロニトリルずの共重合䜓ポリ゚ヌテル䟋えば
高分子量のポリ゚チレンオキシドたたはポリ゚ピ
クロロヒドリンである。
局は堎合により他の添加剀䟋えば増感剀、可塑
剀、安定剀、光茝剀、マツト剀、コヌテむング
剀、等を含有するこずができる。なかでも、ベン
ゟプノン、ミヒラヌケトン、たたは−
−ゞ゚チルアミノ−−メチル−クマリンが
増感剀ずしおずりわけ有甚であるこずがわか぀
た。
倚くの透明たたは䞍透明の材料が感光局の支持
䜓ずしお適圓である。䟋を挙げれば、堎合により
バラむタコヌトされおいおもよい玙ボヌル玙
金属ホむル䟋えばアルミホむル、銅ホむル、鋌ホ
むル等朚材ガラス磁噚陶噚フむルムた
たは倩然たたは合成重合䜓の䞍織垃である。
それ以倖の局䟋えば䞋ぬりも必芁なら局の支持
䜓䞊に存圚するこずができる。感光局を芆う特別
の保護被膜ただしトナヌ凊理前に剥がさなければ
ならないものは原理的には必芁ではない。しかし
ながら所望により、感光局が傷぀くのを防ぐため
に適甚するこずができる。
材料の像様露光はUV光を甚いお行なわれる。
300〜400nの波長が奜適である。有効量のこの
照射を䟛絊する適圓な照射光源は䟋えばキセノン
ランプ、氎銀蒞気灯、蛍光灯である。感光材料の
感光性および䜿甚される光源ずの距離や光源の皮
類および匷床に応じ、露光時間は〜100秒であ
る。
拡散即ち非像様埌露光は䞊蚘光源を甚いお
同様に行なわれる。所望のトナヌ付着量たたは密
床は露光の匷床および時間を調節するこずにより
達成するこずができる。䞀般的には、埌露光は像
様露光より20短い。
熱凊理を行なうにあ぀おは、材料は䞀般的に、
知られた方法により各々の感光材料のガラス転移
枩床より玄30℃䞊の枩床にたで䞊げるこずができ
る。個々の感光性組成物の粘着枩床はそれぞれの
堎合に぀いお経隓的にただし圓業者により容易に
埗るこずができる。
拡散埌露光たたは熱凊理に続いお、原画のポゞ
像を衚わす圢成された粘着性の領域は、所望の色
を耇写するために適圓なトナヌでトナヌ凊理され
る。
トナヌは䟋えばコツトンパツドを甚いお手操䜜
でか、たたは特別の適甚噚たたは適甚装眮を甚い
るかしお露光局䞊に適甚するこずができる。適圓
な方法は圓業者の知るずころである。
非垞に倚皮の組成の埮现粉末トナヌは露光領域
のトナヌ凊理に䜿甚するこずができる。䟋えば、
有機たたは無機の顔料、リン、金属粉、たたは玔
粋な圢のたたは有機たたは無機の粉末状担䜓䞊の
可溶性有機染料が適しおいる。
蚘茉された反転工皋はカラヌテレビ管の蛍光ス
クリヌン甚の黒色マトリツクスを補造するのに極
めお有利に䜿甚するこずができる。コントラスト
を改良するために、個々のカラヌパタヌンの間の
スペヌスが光吞収材料で充おんされるが被芆され
おいるような倚重スクリヌンを甚いるこずが知ら
れおいる。実際には、このような像スクリヌンは
通垞は第段階で黒色マトリクスを圢成し、ひき
続き第補造段階で像の色芁玠を圢成するこずに
より補造される。
本発明の方法はテレビスクリヌン甚の黒色マト
リクスの補造を䟋ずしお甚いながら以䞋に詳述す
る。
感光局を内偎に備えた像スクリヌンを埓来のテ
レビ露光テヌブル䞊で基本色の異な぀た䜍眮に
円圢の穎を有するシダドりマスクを通しお露光さ
せおマトリツクスパタヌンを圢成させる。次に、
像スクリヌンを酞凊理に付し、拡散的に埌露光す
るか加熱するかしお、それから黒色顔料粉末でト
ナヌ凊理する。円圢シダドりマスクに察応したポ
ゞ像が埗られ、埓぀お、埌で適甚されるはずのリ
ン光ドツト間の空間は黒色にトナヌ凊理される。
原画に察しおポゞであり粉䜓より圢成されるポ
ゞパタヌンを圢成させるための本発明の方法は、
それを実斜するために甚いられる感光材料が埓来
の光重合に基いた材料ずは察称的に酞玠に察しお
非感受性であるずいうこず即ち露光䞭に被芆局、
コンデむシペニングたたは保護ガス雰囲気のよう
な特別の保護手段を必芁ずしない点においおずり
わけ優れおいる。実際の䜿甚にあ぀おは、倧気酞
玠による障害を受けるこずなく材料を薄局におい
お䜿甚するこずができるずいうこずは決定的な利
点である。
さらに有利な点は、感光性出発物質は非粘着性
であり、これがそれらの取り扱いをかなり容易に
しおいる点である。さらにたた原画に察しおポゞ
がネガであり粉䜓からなるパタヌンが同じ感光性
材料を甚いお単玔な方法で補造するこずができる
利点もある。
さらに、トナヌ凊理可胜な密床は拡散埌露光を
倉化させるこずにより、調敎された像様コントラ
ストや解像床をそこなうこずなく所望のずおりに
調節するこずができる。
以䞋の実斜䟋により本発明を説明する。は党
お重量によるものずする。
実斜䟋  メチル゚チルケトン200ml䞭の−ゞメチ
ル−−2′−ニトロプニル−−ゞヒド
ロピリゞン−−ゞカルボン酞のゞメチル゚
ステル7.5および−ゞメチル−−2′−
ニトロプニル−−ゞヒドロピリゞン−
−ゞカルボン酞のゞ゚チル゚ステル7.5
の溶液を぀のガラスプレヌトおよびに塗垃
した。也燥埌、局の厚みは1.2Όであ぀た。䞡プ
レヌトを線画の埌方で60秒間1000Wの氎銀蒞気灯
を甚いお40cmの距離から露光した。プレヌトは
25氎性塩酞の蒞気に30秒間さらし、空気で吹き
ずばし、30秒間拡散的に露光し、それから赀色顔
料粉䜓でトナヌ凊理した。
プレヌトは露光埌氎性塩酞90mlず゚タノ
ヌル10mlの混合物に分間浞挬し、氎ですすぎ、
也燥した。次にプレヌトを同様に30秒間拡散的に
露光し、赀色顔料粉䜓でトナヌ凊理した。䞡方の
堎合においお原画のポゞ像が埗られた。
実斜䟋  メチル゚チルケトン150ml䞭の−ゞメチ
ル−−2′−ニトロプニル−−ゞヒド
ロピリゞン−−ゞカルボン酞のゞメチル゚
ステル7.0および−ゞメチル−−2′−
ニトロプニル−−ゞヒドロピリゞン−
−ゞカルボン酞のゞ゚チル゚ステル7.0
の溶液をガラスプレヌト䞊に也燥埌の局厚みが
0.9Όになるように塗垃した。次にガラスプレヌ
トを√段階光孊くさびを通しお40秒間UV−
発光けい光管光出力cm2を装備した光
源を甚いお露光した。
その埌プレヌトを60氎性臭化氎玠酞の蒞気に
30秒間さらし、40℃の空気で吹きずばした。次に
拡散的に40秒間蒞気光源を甚いお埌露光し、ひき
続いお青色顔料粉䜓でトナヌ凊理した。くさび原
画のポゞ像が圢成された。
実斜䟋  メチル゚チルケトン100ml䞭の−ゞメチ
ル−−2′−ニトロプニル−−ゞヒド
ロピリゞン−−ゞカルボン酞のゞ゚チル゚
ステル7.0の溶液を10×cm銅プレヌト䞊に也
燥埌の局厚みが1.0Όになるように塗垃した。そ
の埌線画を介しお30秒間実斜䟋ず同様にしお露
光し、露光されたプレヌトを、17氎性塩酞重
量郚および沈降ケむ酞重量郚を混合しお埗られ
た粉末30ずずもに容噚䞭で振ずうした。粉末を
吹き飛ばした埌、プレヌトを青色顔料粉末で30℃
でトナヌ凊理した。原画のポゞ像が埗られた。
実斜䟋  メチル゚チルケトン100ml䞭の−ゞメチ
ル−−2′−ニトロ−4′5′−ゞメトキシプニ
ル−−ゞヒドロピリゞン−−ゞカ
ルボン酞のゞ−β−メトキシ゚チル−゚ステル
の溶液をガラスプレヌト䞊に也燥埌の局厚み
が0.9Όずなるように塗垃した。次にこれを60秒
間√段階光孊くさびを介しお1000Wの氎銀蒞
気灯を甚いお40cmの距離から露光し、ひき続き沈
降ケむ酞平均凝集塊埄40Όおよび18
氎性臭化氎玠酞mlよりなる粉末混合物ずずもに
30秒間振ずうし、それから粉末を空気で吹き去぀
た。
段階光孊くさびを介しお露光された領域を次に
䞊蚘光源を甚いお拡散的に40秒間露光し、そしお
青色顔料粉末でトナヌ凊理した。光孊くさびのポ
ゞ像が埗られた。
実斜䟋  メチル゚チルケトン60ml䞭の−ゞメチル
−−2′−ニトロプニル−−ゞヒドロ
ピリゞン−−ゞカルボン酞のゞ゚チル゚ス
テル5.0の溶液を也燥埌の局厚みが0.8Όずな
るように遠心によりカラヌ像管のスクリヌンの内
偎に塗垃した。次にスクリヌンを原色の各䜍眮
においおスリツトシダドりマスクを介しお埓来の
テレビ露光テヌブル䞊で1000Wの氎銀蒞気灯を甚
いお露光した。灯ずスクリヌンの距離は22cmであ
り、露光時間は60秒であ぀た。シダドりマスクを
ずり去぀た埌、感光局は(a)氎性塩酞で凊理し
そしお氎ですすぐか、(b)20氎性塩酞の蒞気に
分間さらすかし、そしお吹いお也燥した。次にこ
れを拡散的に即ちシダドりマスクなしで30秒間前
蚘光源を甚いお露光しそしお黒色酞化鉄粉末を甚
いおトナヌ凊理した。䞡方の堎合においおシダド
りマスクに察応したポゞ像が埗られ、これはテレ
ビスクリヌン甚のマトリツクスずしお優れお適し
おいた。
実斜䟋  塩化メチレン250ml䞭の−トリメチ
ル−−ゞヒドロピリゞン−−ゞカル
ボン酞ゞメチル゚ステル3.0、−ゞメチ
ル−−゚チル−−ゞヒドロピリゞン−
−ゞカルボン酞ゞメチル゚ステル3.0、
−ゞメチル−−む゜プロピル−−
ゞヒドロピリゞン−−ゞカルボン酞ゞメチ
ル゚ステル3.0、2′−ビス−クロロフ
゚ニル−4′5′−テトラキス−メ
トキシフむ゚ニルビむミダゟヌル7.5、
2′−ビス−゚トキシプニル−4′
5′−−メトキシプニルビむミダゟヌル
14.0、ポリスチレン4.0、およびメチルアク
リレヌトずブチルアクリレヌトの共重合䜓比
1090Tg℃20.0の溶液を100Όの厚
みのポリ゚ステル支持䜓䞊に也燥埌の局厚みが
7Όずなるように塗垃した。材料は線画の埌方
で1000Wの氎銀蒞気灯を甚いお40cmの距離から
分間露光し、そしおひき続き(a)æ°Ž100ml䞭のアミ
ドスルホン酞3.0の溶液たたは(b)æ°Ž100ml䞭の
−トル゚ンスルホン酞3.0の溶液に分間浞挬
し、氎ですすぎ、也燥し、前蚘光源で90秒間拡散
的に埌露光し、グラフアむト粉末でトナヌ凊理し
た。䞡方の堎合においお原画のポゞ像が圢成され
た。
実斜䟋  メチル゚チルケトン150ml䞭の−ゞメチ
ル−−メチル−−ゞヒドロピリゞン−
−ゞカルボン酞ゞ゚チル゚ステル3.0、
−ゞメチル−−゚チル−−ゞヒド
ロピリゞン−−ゞカルボン酞ゞ゚チル゚ス
テル3.0、−ゞメチル−−む゜プロピ
ル−−ゞヒドロピリゞン−−ゞカル
ボン酞ゞ゚チル゚ステル3.0、および2′−
ビス−クロロプニル−4′5′−
テトラキス−メトキシプニル−ビむミダ
ゟヌル4.0、およびメチルアクリレヌトず゚チ
ルアクリレヌトの共重合䜓Tg40℃2.0の
溶液を也燥埌の局厚みが1.5Όずなるようにポリ
゚ステル局支持䜓䞊に被芆した。次に材料を線画
の埌方で90秒間1000Wの氎銀蒞気灯を甚いお40cm
の距離から露光した。次に材料を分間氎性
硫酞䞭に浞挬し、氎ですすぎ、也燥し、䞊蚘光源
を甚いお90秒間拡散的に埌露光しグラフアむト粉
末を甚いおトナヌ凊理した。原画のポゞ像が埗ら
れた。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (a) 少なくずも皮の−2′−ニトロプ
    ニル−−ゞヒドロピリゞン化合物を含
    有する感光性組成物の局たたは少なくずも皮
    の−ゞヒドロピリゞン化合物ず少なくず
    も皮のヘキサアリヌルビスむミダゟヌル化合
    物ずを含む感光系を含有する感光性組成物の局
    を掻性線に像露光しお粘着性の像領域を圢成さ
    せる工皋、 (b) pKa倀≊2.0を有する無機たたは有機匷酞で
    前蚘感光局を凊理する工皋、 (c) 掻性線に非像様に露光するか、たたは加熱し
    お工皋(a)で掻性線に露光されなか぀た領域に粘
    着性を生じさせる工皋、そしお (d) 粘着性の領域を埮现粉末でトナヌ凊理する工
    繋 より順次なる、前蚘感光局を少なくずも䞀方の面
    に担持しおいる基䜓の少なくずも䞀方の面䞊に原
    画に察しおポゞの粉䜓像を圢成させる方法。  工皋(b)においお、感光局を揮発性匷酞で凊理
    する特蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。  工皋(b)においお、感光局を塩酞で凊理する特
    蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。  揮発性匷酞が塩酞である特蚱請求の範囲第
    項に蚘茉の方法。  工皋(b)においお、感光局を揮発性匷酞の蒞気
    で凊理する特蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。  感光局が揮発性匷酞の蒞気で凊理される特蚱
    請求の範囲第項に蚘茉の方法。  感光局が塩酞の蒞気で凊理される特蚱請求の
    範囲第項に蚘茉の方法。  工皋(b)においお、感光局が匷酞を担持した埮
    现担䜓物質で凊理される特蚱請求の範囲第項に
    蚘茉の方法。  感光局を揮発性匷酞を担持した埮现担䜓物質
    で凊理する特蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。  感光局を塩酞を担持した埮现担䜓物質で凊
    理する特蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。  工皋(b)においお、感光局を塩酞を担持した
    埮现ケむ酞で凊理する特蚱請求の範囲第項に蚘
    茉の方法。  感光局を塩酞を担持した埮现ケむ酞で凊理
    する特蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。
JP61270008A 1985-11-16 1986-11-14 トナ−凊理可胜なポゞ像を圢成する方法 Granted JPS62143047A (ja)

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