JPH04215485A - 前期電離される横方向に励起されたレーザの方法とその装置 - Google Patents
前期電離される横方向に励起されたレーザの方法とその装置Info
- Publication number
- JPH04215485A JPH04215485A JP3050627A JP5062791A JPH04215485A JP H04215485 A JPH04215485 A JP H04215485A JP 3050627 A JP3050627 A JP 3050627A JP 5062791 A JP5062791 A JP 5062791A JP H04215485 A JPH04215485 A JP H04215485A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power source
- energy
- electrodes
- discharge
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 9
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 6
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 claims 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 7
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
- H01S3/09713—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はコヒーレント光を生成す
ることに係り、特に気体レーザに於ける改良に係る。よ
り詳細には、本発明は、低エネルギ源及び高エネルギ源
を用いる共電離(co−ionization)を起こ
すことによって、パルス放電気体レーザ、特に横方向に
励起されたレーザの効率を高めることを教示するもので
ある。従って本発明の目的は、前記のような特性の新奇
なそして改良された方法及び装置を提供することである
。
ることに係り、特に気体レーザに於ける改良に係る。よ
り詳細には、本発明は、低エネルギ源及び高エネルギ源
を用いる共電離(co−ionization)を起こ
すことによって、パルス放電気体レーザ、特に横方向に
励起されたレーザの効率を高めることを教示するもので
ある。従って本発明の目的は、前記のような特性の新奇
なそして改良された方法及び装置を提供することである
。
【0002】
【従来の技術】本発明の用途は上記の分野に限定される
ものではないが、本発明は特に横方向に励起されたレー
ザに使用すること及びそのものによく適したものである
。パルス発振モード或いはCW(連続発振)モードにて
動作する横方向に励起された(TE)気体レーザは、こ
の分野に於てよく知られている。かかる公知のTEレー
ザが効果的に直流パルスによって付勢することができる
ようになる以前は、レーザ利得媒質となる領域を前期電
離(或いは、予備電離)(preionization
)をしなければならない。またよく知られているように
、パルス繰返し周波数が毎秒数パルス程度を越えると、
アーク放電の生成を避けるために、励起に続いて気体の
再循環或いはレーザ媒質の置換を行わなければならない
。
ものではないが、本発明は特に横方向に励起されたレー
ザに使用すること及びそのものによく適したものである
。パルス発振モード或いはCW(連続発振)モードにて
動作する横方向に励起された(TE)気体レーザは、こ
の分野に於てよく知られている。かかる公知のTEレー
ザが効果的に直流パルスによって付勢することができる
ようになる以前は、レーザ利得媒質となる領域を前期電
離(或いは、予備電離)(preionization
)をしなければならない。またよく知られているように
、パルス繰返し周波数が毎秒数パルス程度を越えると、
アーク放電の生成を避けるために、励起に続いて気体の
再循環或いはレーザ媒質の置換を行わなければならない
。
【0003】図1は、慣用されている紫外前期電離され
る、サイラトロン切換えの横方向に励起されたCO2
レーザの主な要素を模式的に示している。これらの要素
には一対の固体金属の主放電電極1及び2が含まれてお
り、電極の少なくとも一つは電極対の間の領域に於て一
様な電場を形成するように形作られている。加えて、従
来の技術のTEレーザ装置には、典型的に、気体の流れ
方向の下流に於て前記の電極間の放電が生じることとな
る空間に隣接した置かれた一組の前期電離用電極4が用
いられる。以下簡単に論ずると、前期電離は幾つかの異
なった方法によって達成される。一例としては、前期電
離用電極が一組の対向して置かれたピンとして配列され
る。典型的には、これらのピンの組はレーザ真空容器の
上方及び下方の内側表面から備えつけられている。これ
らのピンの間に高電圧パルスを印加すると、直線の強い
火花列が生成される。次にこれらの火花からの紫外光線
が火花列に隣接した空間に於て光電子を生成する。火花
の生成で消費されるエネルギは、典型的には、レーザ発
振を起すために主放電電極へ印加される全エネルギの凡
そ10%である。
る、サイラトロン切換えの横方向に励起されたCO2
レーザの主な要素を模式的に示している。これらの要素
には一対の固体金属の主放電電極1及び2が含まれてお
り、電極の少なくとも一つは電極対の間の領域に於て一
様な電場を形成するように形作られている。加えて、従
来の技術のTEレーザ装置には、典型的に、気体の流れ
方向の下流に於て前記の電極間の放電が生じることとな
る空間に隣接した置かれた一組の前期電離用電極4が用
いられる。以下簡単に論ずると、前期電離は幾つかの異
なった方法によって達成される。一例としては、前期電
離用電極が一組の対向して置かれたピンとして配列され
る。典型的には、これらのピンの組はレーザ真空容器の
上方及び下方の内側表面から備えつけられている。これ
らのピンの間に高電圧パルスを印加すると、直線の強い
火花列が生成される。次にこれらの火花からの紫外光線
が火花列に隣接した空間に於て光電子を生成する。火花
の生成で消費されるエネルギは、典型的には、レーザ発
振を起すために主放電電極へ印加される全エネルギの凡
そ10%である。
【0004】図1に於て模式的に示された従来の技術に
ついて更に論ずると、直線の火花列を生成するエネルギ
は、例えばキャパシタCs´の如き容量の中に蓄えられ
、容量は高電圧源Vs´からL´で示される如きインダ
クタンスを介して適当な電圧まで充電される。インダク
タンスL´は、パルス繰返し周波数を考慮に入れて、そ
のリアクタンスがレーザの各々のパルスの間に於て容量
Cs´が充電されることを妨げないように、同時に、火
花列から電流が逸れないようにリアクタンスが十分に高
くなるように、選択される。火花列に与えられる電圧パ
ルスは切換え装置SW1、例えば、サイラトロンを制御
することによって与えられる。かくして、図1に於て描
いた従来の技術のシステムに於て正のパルスをサイラト
ロンの制御格子へ与えることにより、負の方向へ進むパ
ルスが生成され、火花列へ与えられる。即ち、サイラト
ロンの陽極電圧が駆動され、数10或いは数100ナノ
秒のオーダーの期間に於てインピーダンスが接地から数
オームになる。紫外火花光子が吸収され続いて光電子が
生成されることにより、二つの主放電電極間の領域に於
て電離が最高レベルに達すると、充電されている主容量
Csから第二の電圧パルスがレーザの主放電電極の間に
印加される。容量Csから放電空間へ与えられるエネル
ギは、通常、前期電離のエネルギの10倍のオーダーで
ある。容量Csからの利得空間へのエネルギの結合の制
御は、第二の切換装置SW2を用いることによって達成
される。第二の切換装置SW2はまたサイラトロンであ
ってよい。
ついて更に論ずると、直線の火花列を生成するエネルギ
は、例えばキャパシタCs´の如き容量の中に蓄えられ
、容量は高電圧源Vs´からL´で示される如きインダ
クタンスを介して適当な電圧まで充電される。インダク
タンスL´は、パルス繰返し周波数を考慮に入れて、そ
のリアクタンスがレーザの各々のパルスの間に於て容量
Cs´が充電されることを妨げないように、同時に、火
花列から電流が逸れないようにリアクタンスが十分に高
くなるように、選択される。火花列に与えられる電圧パ
ルスは切換え装置SW1、例えば、サイラトロンを制御
することによって与えられる。かくして、図1に於て描
いた従来の技術のシステムに於て正のパルスをサイラト
ロンの制御格子へ与えることにより、負の方向へ進むパ
ルスが生成され、火花列へ与えられる。即ち、サイラト
ロンの陽極電圧が駆動され、数10或いは数100ナノ
秒のオーダーの期間に於てインピーダンスが接地から数
オームになる。紫外火花光子が吸収され続いて光電子が
生成されることにより、二つの主放電電極間の領域に於
て電離が最高レベルに達すると、充電されている主容量
Csから第二の電圧パルスがレーザの主放電電極の間に
印加される。容量Csから放電空間へ与えられるエネル
ギは、通常、前期電離のエネルギの10倍のオーダーで
ある。容量Csからの利得空間へのエネルギの結合の制
御は、第二の切換装置SW2を用いることによって達成
される。第二の切換装置SW2はまたサイラトロンであ
ってよい。
【0005】図1に於て模式的に描かれている回路につ
いての多くの変更及び改良が提案され実行されているが
、かかる改良は実質的には単に電極の構造をより複雑に
し、放電回路を複雑にして、与えられた装置空間からの
レーザ出力を改良しようとするだけのものである。かく
して、従来の技術に於ける前期電離パルスTEレーザは
全て、幾つかの共通の基本的な特性を有している。第一
に、最初の前期電離火花を生成する電圧パルスの強度は
、ピンの形状及びピンの間隔を考慮すると、レーザ気体
混合物の破壊レベルを越えた或るレベルでなければなら
ない。更に前期電離に適用される光電子の密度は高くな
く、前期電離回路のエネルギの少量ではあるがその一部
が最終的に紫外光子になるということにより、主容量C
sに蓄積されているエネルギによる電圧パルス(或いは
、容量Csに荷電されていなければならない電圧)は、
主放電電極の間隔を考慮すると、やはり気体破壊レベル
以上でなければならない。もし容量Csの電圧が破壊レ
ベル以上でなければ、この容量に蓄えられているエネル
ギは全て、主放電回路内の切換装置が駆動されたときに
充電インダクタL或いは切換装置SW2に流れてしまう
ことになろう。更に、実験的に示されていることである
が、放電繰返し周波数が毎秒1或いは2パルスを越える
と、従来のパルスTE気体レーザは第二の連続的な放電
パルスに於ける放電アークを避けるために、或る種の真
空内部の気体再循環或いは気体流を必要とする。ここで
注意することは、気体再循環を必要とするということは
コロナ放電を用いて前期電離を達成することにより、或
いはX線源若しくは紫外領域での放射出力が大きいフラ
ッシュランプを用いて光電子を生成することにより回避
できるものではない、ということである。
いての多くの変更及び改良が提案され実行されているが
、かかる改良は実質的には単に電極の構造をより複雑に
し、放電回路を複雑にして、与えられた装置空間からの
レーザ出力を改良しようとするだけのものである。かく
して、従来の技術に於ける前期電離パルスTEレーザは
全て、幾つかの共通の基本的な特性を有している。第一
に、最初の前期電離火花を生成する電圧パルスの強度は
、ピンの形状及びピンの間隔を考慮すると、レーザ気体
混合物の破壊レベルを越えた或るレベルでなければなら
ない。更に前期電離に適用される光電子の密度は高くな
く、前期電離回路のエネルギの少量ではあるがその一部
が最終的に紫外光子になるということにより、主容量C
sに蓄積されているエネルギによる電圧パルス(或いは
、容量Csに荷電されていなければならない電圧)は、
主放電電極の間隔を考慮すると、やはり気体破壊レベル
以上でなければならない。もし容量Csの電圧が破壊レ
ベル以上でなければ、この容量に蓄えられているエネル
ギは全て、主放電回路内の切換装置が駆動されたときに
充電インダクタL或いは切換装置SW2に流れてしまう
ことになろう。更に、実験的に示されていることである
が、放電繰返し周波数が毎秒1或いは2パルスを越える
と、従来のパルスTE気体レーザは第二の連続的な放電
パルスに於ける放電アークを避けるために、或る種の真
空内部の気体再循環或いは気体流を必要とする。ここで
注意することは、気体再循環を必要とするということは
コロナ放電を用いて前期電離を達成することにより、或
いはX線源若しくは紫外領域での放射出力が大きいフラ
ッシュランプを用いて光電子を生成することにより回避
できるものではない、ということである。
【0006】以上をまとめると、従来の技術に於ける紫
外或いはコロナ前期電離技術は全て、レーザ真空容器内
に於て二つ以上の電極を必要とし、典型的には物質の選
択、物質の互換性及び装置全体の設計に於て十分に複雑
であり、又これらの不具合を妥協しなければならないよ
うな実質的に多数の電極を必要とする。更に、従来の技
術の前期電離を生成する構成は全て、毎秒1或いは2パ
ルス以上のパルス繰返し周波数を確実に達成するために
真空内の気体流を必要とする。気体流を必要とするとい
うことは、装置体積を比較的大きくしなければならず、
また真空容器の内側に機械的な回転要素を必要とするこ
とにより、装置の寿命及び確実性が疑わしいものとなる
。加えて、従来の前期電離を生成する構成は主放電回路
内に少なくとも一つの能動切換装置を必要とするので、
回路が複雑になり寿命が限られたものとなる。
外或いはコロナ前期電離技術は全て、レーザ真空容器内
に於て二つ以上の電極を必要とし、典型的には物質の選
択、物質の互換性及び装置全体の設計に於て十分に複雑
であり、又これらの不具合を妥協しなければならないよ
うな実質的に多数の電極を必要とする。更に、従来の技
術の前期電離を生成する構成は全て、毎秒1或いは2パ
ルス以上のパルス繰返し周波数を確実に達成するために
真空内の気体流を必要とする。気体流を必要とするとい
うことは、装置体積を比較的大きくしなければならず、
また真空容器の内側に機械的な回転要素を必要とするこ
とにより、装置の寿命及び確実性が疑わしいものとなる
。加えて、従来の前期電離を生成する構成は主放電回路
内に少なくとも一つの能動切換装置を必要とするので、
回路が複雑になり寿命が限られたものとなる。
【0007】更に従来の技術について論ずると、CO2
横方向レーザ励起のための“パルサ”/“サステイナ
”システムがレイリー(J.P.Reilly)による
「応用物理ジャーナル(The Journal of
Applied Physics, Vol.43,
No.8, August 1972 )」の中の記
事に論じられている。レイリーの記事に於て論じられて
いる技術は、低レベルのエネルギのパルス放電を用いて
切換えのないより強力な放電回路からエネルギの供給を
開始する電離を提供している。この記事で論じられてい
る手法は、高い過剰電圧のパルサ或いは前期電離する放
電パルスと、多数の互にてこ動作されるパルサ/サステ
イナ電極と、マッハ0.2の真空内気体グローとの組合
せを採用している。レイリーの記事に記載されている如
き動作原理は、フェンスタマッチヤ(Fensterm
acher et ar )及びストラトン(Stra
tton et ar)により記載された電子ビーム制
御レーザ装置に非常によく似たものである。 電子ビーム制御レーザ装置のパルサ部分は、「堅い」真
空チャンバ内に置かれた熱陰極電子銃を含んでいる。こ
のチャンバの一つの壁は少なくとも部分的に金属格子に
よって指示されたチタニウムフォイルによって郭定され
、フォイルは電子銃からの加速された電子に対して実質
的に透過性を示す。実際に実施する場合に於ては、電子
ビーム型イオナイザ/サステイナ装置は、電子ビームを
加速するのに非常に高い電圧が必要とされる点、電子銃
を駆動するために必要なスイッチの型式及びフォイル電
極が脆い特性を持つという点について見ると、信頼のな
いものである。加えて、レーザ真空容器内の壁の一つに
於ける電子銃の真空チャンバの位置はレーザを発してい
る気体から熱を除去することができない。かくして、考
えられることは、上記の紫外或いはコロナ前期電離を生
成する構成の場合、真空内気体流が毎秒1或いは2パル
スを越えるパルス繰返し周波数を達成するために必要と
なる。
横方向レーザ励起のための“パルサ”/“サステイナ
”システムがレイリー(J.P.Reilly)による
「応用物理ジャーナル(The Journal of
Applied Physics, Vol.43,
No.8, August 1972 )」の中の記
事に論じられている。レイリーの記事に於て論じられて
いる技術は、低レベルのエネルギのパルス放電を用いて
切換えのないより強力な放電回路からエネルギの供給を
開始する電離を提供している。この記事で論じられてい
る手法は、高い過剰電圧のパルサ或いは前期電離する放
電パルスと、多数の互にてこ動作されるパルサ/サステ
イナ電極と、マッハ0.2の真空内気体グローとの組合
せを採用している。レイリーの記事に記載されている如
き動作原理は、フェンスタマッチヤ(Fensterm
acher et ar )及びストラトン(Stra
tton et ar)により記載された電子ビーム制
御レーザ装置に非常によく似たものである。 電子ビーム制御レーザ装置のパルサ部分は、「堅い」真
空チャンバ内に置かれた熱陰極電子銃を含んでいる。こ
のチャンバの一つの壁は少なくとも部分的に金属格子に
よって指示されたチタニウムフォイルによって郭定され
、フォイルは電子銃からの加速された電子に対して実質
的に透過性を示す。実際に実施する場合に於ては、電子
ビーム型イオナイザ/サステイナ装置は、電子ビームを
加速するのに非常に高い電圧が必要とされる点、電子銃
を駆動するために必要なスイッチの型式及びフォイル電
極が脆い特性を持つという点について見ると、信頼のな
いものである。加えて、レーザ真空容器内の壁の一つに
於ける電子銃の真空チャンバの位置はレーザを発してい
る気体から熱を除去することができない。かくして、考
えられることは、上記の紫外或いはコロナ前期電離を生
成する構成の場合、真空内気体流が毎秒1或いは2パル
スを越えるパルス繰返し周波数を達成するために必要と
なる。
【0008】まとめると、パルスE−ビーム、紫外、フ
ラッシュランプ或いはコロナ前期電離TEレーザは幾つ
かの前記の如きエネルギ源を時間的に(一つのエネルギ
源を駆動した後にもう一つを駆動する)或いは空間的に
(異なる電極対、異なる気体領域)重ねて用いることに
より一つ或いはそれ以上の前期電離と主放電励起を与え
るものである。
ラッシュランプ或いはコロナ前期電離TEレーザは幾つ
かの前記の如きエネルギ源を時間的に(一つのエネルギ
源を駆動した後にもう一つを駆動する)或いは空間的に
(異なる電極対、異なる気体領域)重ねて用いることに
より一つ或いはそれ以上の前期電離と主放電励起を与え
るものである。
【0009】パルス横方向気体レーザと同様に、密封さ
れた再循環を行わない装置に於て、二つのみの単に延在
した金属の電極間の横方向の直流励起は従来の技術に於
て実用的でない、ということが証明されている。気体流
あるいはその他の気体放電を変動する影響力、例えば荷
電粒子と磁場によって導入される力、による或る乱気流
がないと、レーザ媒質内の望ましいグロー放電は素早く
電極間の一つの小さな領域に極在し、望ましくないアー
クに変化する。これまでの横方向に励起されたCW気体
レーザに於て二つの電極のみを使い、単純化及びレーザ
の費用を軽減するという好ましい特徴を得ようとする努
力は、かかる二つの電極のCW放電をどのように生成す
るかということについて払われた。望ましいグロー放電
がアークへ変化しないようにするためには、アークの生
成を妨げる或る機構が必要である。かかる機構の一つと
して、真空内に対流する気体流を用いることがある。こ
れは、グローからアークへの遷移の初期段階にある高温
の気体を、隣接する気体領域へ輸送し、これによりアー
クの成長を抑制するというものである。もう一つの機構
として、外部より磁場を印加し、放電中の荷電粒子に力
を作用しアークを不安定なものにするというものがある
。これらの技術は全てより複雑でない装置を提供すると
いう希望に反するものである。過去10年間の密封され
たレーザの進歩により、より基本的なレベルに於てグロ
ーからアークへの遷移の形成を妨げる機構が提供されて
いる。米国特許第4,169,251号に於ては、電場
を印加する電極によって放電電子の僅かな相互作用を確
実にするほど十分に高い励起周波数を用いることが必要
であることが教示されている。米国特許第4,373,
202号に示されているように、従来の技術の装置に於
ける横方向のRF放電についての全レーザ効率は、もし
RF駆動周波数が望ましい値の最小値以下であると、低
レーザヘッド効率により損われる。米国特許第4,37
3,202号はこの低効率を解決するために縦RF放電
励起の手法を用いることが必要であるということを教示
している。チェナウスキー( Chenausky)と
ニューマン(Newman)は、レーザ ’82会議
にて示された「RF励起導波管CO2 レーザ技術」と
名付けられた手紙の中で、「横方向のRF励起の原理的
な際立った特徴は、印加された放電電圧の遷移のもとと
なるものが典型的には20メガヘルツから200メガヘ
ルツの間の周波数を持つ極性が反転するAC電場の形で
与えられる、ということである。」と指摘した。チェナ
ウスキーとニューマンはまた「唯一の適当だと思われる
一般的要件は、如何なる特別な放電のジオメトリ及び動
作条件に於ても、電場の反転する時間は望ましくないプ
ラズマ安定性の成長時間に比べて短くなければならない
というこである。」と報告している。横方向CW・RF
励起の利点は、米国特許第4,363,126号、同第
4,438,514号、同第4,443,877号、同
第4,719,640号に於て十分に論じられている。
れた再循環を行わない装置に於て、二つのみの単に延在
した金属の電極間の横方向の直流励起は従来の技術に於
て実用的でない、ということが証明されている。気体流
あるいはその他の気体放電を変動する影響力、例えば荷
電粒子と磁場によって導入される力、による或る乱気流
がないと、レーザ媒質内の望ましいグロー放電は素早く
電極間の一つの小さな領域に極在し、望ましくないアー
クに変化する。これまでの横方向に励起されたCW気体
レーザに於て二つの電極のみを使い、単純化及びレーザ
の費用を軽減するという好ましい特徴を得ようとする努
力は、かかる二つの電極のCW放電をどのように生成す
るかということについて払われた。望ましいグロー放電
がアークへ変化しないようにするためには、アークの生
成を妨げる或る機構が必要である。かかる機構の一つと
して、真空内に対流する気体流を用いることがある。こ
れは、グローからアークへの遷移の初期段階にある高温
の気体を、隣接する気体領域へ輸送し、これによりアー
クの成長を抑制するというものである。もう一つの機構
として、外部より磁場を印加し、放電中の荷電粒子に力
を作用しアークを不安定なものにするというものがある
。これらの技術は全てより複雑でない装置を提供すると
いう希望に反するものである。過去10年間の密封され
たレーザの進歩により、より基本的なレベルに於てグロ
ーからアークへの遷移の形成を妨げる機構が提供されて
いる。米国特許第4,169,251号に於ては、電場
を印加する電極によって放電電子の僅かな相互作用を確
実にするほど十分に高い励起周波数を用いることが必要
であることが教示されている。米国特許第4,373,
202号に示されているように、従来の技術の装置に於
ける横方向のRF放電についての全レーザ効率は、もし
RF駆動周波数が望ましい値の最小値以下であると、低
レーザヘッド効率により損われる。米国特許第4,37
3,202号はこの低効率を解決するために縦RF放電
励起の手法を用いることが必要であるということを教示
している。チェナウスキー( Chenausky)と
ニューマン(Newman)は、レーザ ’82会議
にて示された「RF励起導波管CO2 レーザ技術」と
名付けられた手紙の中で、「横方向のRF励起の原理的
な際立った特徴は、印加された放電電圧の遷移のもとと
なるものが典型的には20メガヘルツから200メガヘ
ルツの間の周波数を持つ極性が反転するAC電場の形で
与えられる、ということである。」と指摘した。チェナ
ウスキーとニューマンはまた「唯一の適当だと思われる
一般的要件は、如何なる特別な放電のジオメトリ及び動
作条件に於ても、電場の反転する時間は望ましくないプ
ラズマ安定性の成長時間に比べて短くなければならない
というこである。」と報告している。横方向CW・RF
励起の利点は、米国特許第4,363,126号、同第
4,438,514号、同第4,443,877号、同
第4,719,640号に於て十分に論じられている。
【0010】まとめると、従来の技術に於ける教示に基
くと、二つの延在する金属電極間の実質的な横方向直流
励起は、周波数が低すぎ、放電電極による僅かな相互作
用が起きないこと、或るいはアークの形成を阻止する、
例えば極性が反転する放電電場の過渡特性、等の或る変
動する機構が欠如しているという理由により失敗したも
のであるといえよう。かくして従来の技術は過渡状態に
おける横方向直流励起が少くとも空間的に及び時間的に
重ねられた前期電離手段により行われた場合のみ成功す
るということを教示している。
くと、二つの延在する金属電極間の実質的な横方向直流
励起は、周波数が低すぎ、放電電極による僅かな相互作
用が起きないこと、或るいはアークの形成を阻止する、
例えば極性が反転する放電電場の過渡特性、等の或る変
動する機構が欠如しているという理由により失敗したも
のであるといえよう。かくして従来の技術は過渡状態に
おける横方向直流励起が少くとも空間的に及び時間的に
重ねられた前期電離手段により行われた場合のみ成功す
るということを教示している。
【0011】
【発明の開示】本発明は、上述に於て簡単に述べた、ま
たは、その他の、従来の技術に於ける不備及び欠点を、
レーザの光空洞内に共空間的( co−volumet
ric)に、共時間的(co−temporal )に
気体放電を達成する新奇な改良された技術を提供するこ
とによって解決する。本発明は、また、その新奇な技術
により動作し、従来の技術に比して効率が向上し、複雑
さが軽減されていることを特徴としている改良された気
体レーザを含む。本発明によるレーザシステムの特徴と
するところは、更に、真空内気体流を用いることなく、
二つの電極のみを使用し、パルスモードによる動作が比
較的高いパルス繰返し周波数にて達成し得るということ
である。また驚くべきことに、気体流或いはその他の複
雑な変動機構を用いることなくCW励起を達成すること
ができる。
たは、その他の、従来の技術に於ける不備及び欠点を、
レーザの光空洞内に共空間的( co−volumet
ric)に、共時間的(co−temporal )に
気体放電を達成する新奇な改良された技術を提供するこ
とによって解決する。本発明は、また、その新奇な技術
により動作し、従来の技術に比して効率が向上し、複雑
さが軽減されていることを特徴としている改良された気
体レーザを含む。本発明によるレーザシステムの特徴と
するところは、更に、真空内気体流を用いることなく、
二つの電極のみを使用し、パルスモードによる動作が比
較的高いパルス繰返し周波数にて達成し得るということ
である。また驚くべきことに、気体流或いはその他の複
雑な変動機構を用いることなくCW励起を達成すること
ができる。
【0012】本発明によれば、低エネルギ回路、即ち気
体放電に対して比較的少量のエネルギを与える回路が切
換作動のない(non−switched) 高いエネ
ルギ回路を転流動作する。これらの低、及び高エネルギ
回路は異った周波数で動作する。高エネルギ回路は、単
極性の直流源、或いは、整流されていない低域から中域
の周波数の交流源を含んでいる。低エネルギ回路は高い
周波数の交流源を含み、好ましい実施例によれば、それ
はRF電力源或いはエネルギ源である。低エネルギ交流
源により与えられる電圧の強度は電圧の光空洞内の気体
の破壊電圧を超過するように選択されることとなる。高
エネルギ回路の最高電圧レベルはレーザ媒質の破壊電圧
以下になるように選択され、圧力に対する電場の比(E
/P)が、0からレーザの励起が最大になるのに、レー
ザ媒質の利得が最大になるのに、或いは、レーザの出力
が最大になるのに必要な値までの間の値なるように独立
に設定される。
体放電に対して比較的少量のエネルギを与える回路が切
換作動のない(non−switched) 高いエネ
ルギ回路を転流動作する。これらの低、及び高エネルギ
回路は異った周波数で動作する。高エネルギ回路は、単
極性の直流源、或いは、整流されていない低域から中域
の周波数の交流源を含んでいる。低エネルギ回路は高い
周波数の交流源を含み、好ましい実施例によれば、それ
はRF電力源或いはエネルギ源である。低エネルギ交流
源により与えられる電圧の強度は電圧の光空洞内の気体
の破壊電圧を超過するように選択されることとなる。高
エネルギ回路の最高電圧レベルはレーザ媒質の破壊電圧
以下になるように選択され、圧力に対する電場の比(E
/P)が、0からレーザの励起が最大になるのに、レー
ザ媒質の利得が最大になるのに、或いは、レーザの出力
が最大になるのに必要な値までの間の値なるように独立
に設定される。
【0013】本発明の特に魅力のある特徴は、必要な電
極が粗野で簡単に冷却できる固体金属の一対の電極のみ
であり、かくしてレーザ真空容器内に置かれる構成部品
の数が最小となるということである。更に、本発明は、
低周波数の電圧、高電力或いは高エネルギ源の電圧を変
化させることにより簡単にレーザの出力を変化させるこ
とができる。更に、本発明の真空容器は金属で構成する
ことができ、これにより容器を簡単に冷却することがで
きる。
極が粗野で簡単に冷却できる固体金属の一対の電極のみ
であり、かくしてレーザ真空容器内に置かれる構成部品
の数が最小となるということである。更に、本発明は、
低周波数の電圧、高電力或いは高エネルギ源の電圧を変
化させることにより簡単にレーザの出力を変化させるこ
とができる。更に、本発明の真空容器は金属で構成する
ことができ、これにより容器を簡単に冷却することがで
きる。
【0014】
【実施例】図2及び図3を参照すると、本発明の好まし
い実施例によるレーザシステムが模式的に示されている
。図2及び図3に於てレーザ真空容器は概ね10で示さ
れる。真空容器10の中には、平坦な形状の接地された
電極12、歪んだ形状を持つ第二の電極14、セラミッ
クのスペーサ16及び不導体のスペーサ18が置かれて
いる。変型した電極14は、典型的には曲面であり、高
圧パルスレーザのためのチャング( Chang)或い
はロゴスキー(Rogowski)型の形状であるが、
低圧CWレーザに用いるものは殆ど平坦でよい。セラミ
ックのスペーサ16は上方の電極14と接地された下方
の電極12の間の間隔を設定する。上方の電極14には
望ましい高さの電位が与えられる。スペーサ18は上方
の電極14及びスペーサ16を受入れ、支持している。 電極14への電気的接続が、真空容器10の外側から典
型的には容器の壁に取付けられ容器に適切に密封されて
いる単一の伝導体のコネクタを介して設けられている。 この容器10内の電気的結合は、スペーサ18を貫通す
る孔に適合させられるテフロン或いはセラミックの棒2
2の軸線方向に延在する伝導体20を含んでいてよい。 真空容器10は典型的には金属からなり、図に示されて
いるように接地されている。開示されている実施例に於
て、電極12と14は、共働して内部容量C1と、横方
向の放電が生ずる領域とを郭定している。レーザ回路は
また第二の外部容量C2を含み、この外部容量C2は電
極12に結合されている第一のプレートを有している。 従ってキャパシタC2の第一のプレートは接地されてい
る。インダクタL1は電極14とキャパシタC2の他方
のプレートの間に接続されている。かくして、キャパシ
タC2、インダクタL1及び内部容量C1は共働してパ
イ型インピーダンス整合回路を郭定している。キャパシ
タC2、インパルスL1、キャパシタC1は米国特許第
4,751,717号及び同第4,809,284号に
論じられているように動作周波数に於てRFエネルギに
対し低いインピーダンスを示す巻数比の固定されたRF
変圧器として機能する。RFエネルギ源は図2に於て2
4で示されている。RFエネルギ源24は、容量C3を
介して、巻数比の固定されたRF変圧器C2、L1、C
1と接続されている。実際に実施される場合、図3に示
されているように前期電離放電の動作インピーダンスレ
ベルを決定する前から、キャパシタC4及びC5とイン
ダクタL2及びL3を含む可変インピーダンス整合回路
がRFエネルギ源24とインピーダンス整合回路の間に
接続されている。従って、RFエネルギ源のインピーダ
ンスを、種々のポンピング条件及び気体混合物に於て、
気体が付勢されつつあるとき、レーザのインピーダンス
と整合することが可能となる。より具体的に言えば、R
Fエネルギ源を27.12メガヘルツにて動作した際、
インダクタL1及び容量C1及びC2を含むインピーダ
ンス整合回路はレーザの放電インピーダンスレベルを概
ね50オームに変換した。
い実施例によるレーザシステムが模式的に示されている
。図2及び図3に於てレーザ真空容器は概ね10で示さ
れる。真空容器10の中には、平坦な形状の接地された
電極12、歪んだ形状を持つ第二の電極14、セラミッ
クのスペーサ16及び不導体のスペーサ18が置かれて
いる。変型した電極14は、典型的には曲面であり、高
圧パルスレーザのためのチャング( Chang)或い
はロゴスキー(Rogowski)型の形状であるが、
低圧CWレーザに用いるものは殆ど平坦でよい。セラミ
ックのスペーサ16は上方の電極14と接地された下方
の電極12の間の間隔を設定する。上方の電極14には
望ましい高さの電位が与えられる。スペーサ18は上方
の電極14及びスペーサ16を受入れ、支持している。 電極14への電気的接続が、真空容器10の外側から典
型的には容器の壁に取付けられ容器に適切に密封されて
いる単一の伝導体のコネクタを介して設けられている。 この容器10内の電気的結合は、スペーサ18を貫通す
る孔に適合させられるテフロン或いはセラミックの棒2
2の軸線方向に延在する伝導体20を含んでいてよい。 真空容器10は典型的には金属からなり、図に示されて
いるように接地されている。開示されている実施例に於
て、電極12と14は、共働して内部容量C1と、横方
向の放電が生ずる領域とを郭定している。レーザ回路は
また第二の外部容量C2を含み、この外部容量C2は電
極12に結合されている第一のプレートを有している。 従ってキャパシタC2の第一のプレートは接地されてい
る。インダクタL1は電極14とキャパシタC2の他方
のプレートの間に接続されている。かくして、キャパシ
タC2、インダクタL1及び内部容量C1は共働してパ
イ型インピーダンス整合回路を郭定している。キャパシ
タC2、インパルスL1、キャパシタC1は米国特許第
4,751,717号及び同第4,809,284号に
論じられているように動作周波数に於てRFエネルギに
対し低いインピーダンスを示す巻数比の固定されたRF
変圧器として機能する。RFエネルギ源は図2に於て2
4で示されている。RFエネルギ源24は、容量C3を
介して、巻数比の固定されたRF変圧器C2、L1、C
1と接続されている。実際に実施される場合、図3に示
されているように前期電離放電の動作インピーダンスレ
ベルを決定する前から、キャパシタC4及びC5とイン
ダクタL2及びL3を含む可変インピーダンス整合回路
がRFエネルギ源24とインピーダンス整合回路の間に
接続されている。従って、RFエネルギ源のインピーダ
ンスを、種々のポンピング条件及び気体混合物に於て、
気体が付勢されつつあるとき、レーザのインピーダンス
と整合することが可能となる。より具体的に言えば、R
Fエネルギ源を27.12メガヘルツにて動作した際、
インダクタL1及び容量C1及びC2を含むインピーダ
ンス整合回路はレーザの放電インピーダンスレベルを概
ね50オームに変換した。
【0015】パルスDCエネルギは、直流源26により
充電された容量C6を放電することによってレーザへ供
給される。選択的に、DC或いは整流されていない低周
波数のAC電力がDC源26及び容量C6として置かれ
ている適当なエネルギ源からレーザへ与えられる。図2
に於てインダクタンスL4及びキャパシタC7によって
示されている、RF源24の周波数に対して並列共振す
る適当なフィルタが、RFエネルギがAC/DC源へ伝
送することを阻止する。言換えれば、RFトラップとし
て機能するフィルタは、RFがAC/DCエネルギ或い
は電力源へ侵入しないようにAC/DCエネルギ或いは
電力源を遮断している。RFエネルギ源24はキャパシ
タC3によって低周波エネルギ源から保護され、即ち分
離されている。図3に於て示されているように、AC/
DCエネルギ源26からレーザ放電への電流の立上り時
間を初めに遅らせるために可変インダクタL5が低周波
数のAC/DCエネルギ源とレーザのインピーダンス整
合回路と直列に接続されてよい。言換えれば、インダク
タL5が用いられた場合、インダクタL5は、キャパシ
タC6(図2)から気体放電への直流電流の流れを初め
に送らせ、レーザ空洞内の気体が放電のための高エネル
ギ源からのエネルギが供給される前に実質的に十分に電
離することを確実にする。
充電された容量C6を放電することによってレーザへ供
給される。選択的に、DC或いは整流されていない低周
波数のAC電力がDC源26及び容量C6として置かれ
ている適当なエネルギ源からレーザへ与えられる。図2
に於てインダクタンスL4及びキャパシタC7によって
示されている、RF源24の周波数に対して並列共振す
る適当なフィルタが、RFエネルギがAC/DC源へ伝
送することを阻止する。言換えれば、RFトラップとし
て機能するフィルタは、RFがAC/DCエネルギ或い
は電力源へ侵入しないようにAC/DCエネルギ或いは
電力源を遮断している。RFエネルギ源24はキャパシ
タC3によって低周波エネルギ源から保護され、即ち分
離されている。図3に於て示されているように、AC/
DCエネルギ源26からレーザ放電への電流の立上り時
間を初めに遅らせるために可変インダクタL5が低周波
数のAC/DCエネルギ源とレーザのインピーダンス整
合回路と直列に接続されてよい。言換えれば、インダク
タL5が用いられた場合、インダクタL5は、キャパシ
タC6(図2)から気体放電への直流電流の流れを初め
に送らせ、レーザ空洞内の気体が放電のための高エネル
ギ源からのエネルギが供給される前に実質的に十分に電
離することを確実にする。
【0016】上記の構成部品は全て、高エネルギ源及び
低エネルギ源、即ち直流或いは整流されていない交流源
と、高周波数の前期電離エネルギ源24を除いて、典型
的には密封されたエンクロージャ28の中に取付けられ
、エンクロージャ28は図3に於て破線にて示されてい
るように真空容器10に接しており、典型的にはそれに
取付けられている。図3はRF入力ポートを30と、D
C入力ポートを32と示している。
低エネルギ源、即ち直流或いは整流されていない交流源
と、高周波数の前期電離エネルギ源24を除いて、典型
的には密封されたエンクロージャ28の中に取付けられ
、エンクロージャ28は図3に於て破線にて示されてい
るように真空容器10に接しており、典型的にはそれに
取付けられている。図3はRF入力ポートを30と、D
C入力ポートを32と示している。
【0017】勿論レーザは、一対の隔置した対向する鏡
によって部分的に郭定された光空洞を含んでいる。気体
放電は、これらの鏡の間と電極12及び14の間の領域
に於て生ずる。より具体的に言えば、両方の電極はアル
ミニウムから作られ、電極間の最小の間隔は1cmであ
る。電極12は平坦であり、電極15は端点が僅かに丸
くなっており、電極間隔が僅かに増加している。パルス
RF/DCレーザは33トルの圧力で200ヘルツを越
える繰返し周波数にて、如何なることがあっても気体再
循環を行わない完全に密封された状態で動作する。この
場合、縦横1cm長さ17cmのレーザ媒質からの全平
均出力は空洞の何れの端点に於ても反射率が99%の鏡
を用いた完全には繋ぎ合されていない、フレネル数(F
resnel number)9.1のガウス自由空間
安定空洞から0.46ワットであった。これらの実験に
用いられたレーザの気体混合物はCO2 −N2 −H
e:4.5%−13.5%−82%であった。最大出力
は、直流電圧400ボルト或いはE/Pが12ボルト毎
cmで得られた。
によって部分的に郭定された光空洞を含んでいる。気体
放電は、これらの鏡の間と電極12及び14の間の領域
に於て生ずる。より具体的に言えば、両方の電極はアル
ミニウムから作られ、電極間の最小の間隔は1cmであ
る。電極12は平坦であり、電極15は端点が僅かに丸
くなっており、電極間隔が僅かに増加している。パルス
RF/DCレーザは33トルの圧力で200ヘルツを越
える繰返し周波数にて、如何なることがあっても気体再
循環を行わない完全に密封された状態で動作する。この
場合、縦横1cm長さ17cmのレーザ媒質からの全平
均出力は空洞の何れの端点に於ても反射率が99%の鏡
を用いた完全には繋ぎ合されていない、フレネル数(F
resnel number)9.1のガウス自由空間
安定空洞から0.46ワットであった。これらの実験に
用いられたレーザの気体混合物はCO2 −N2 −H
e:4.5%−13.5%−82%であった。最大出力
は、直流電圧400ボルト或いはE/Pが12ボルト毎
cmで得られた。
【0018】もう一つの実施例に於ては、両方の電極は
ステンレススチールで作られ、平坦な電極12は酸化ア
ルミニウムのスペーサ16によって一定に1.07cm
の間隔でk=0.2を有する公称長さが13.5cmの
チャング形状の電極(チャングの「TEAレーザと高電
圧印加のための改良された一様な場を作る電極形状(T
.Y.Chang,”Improved Unifor
m−Field Electrodes Profil
es for TEALaser and HighV
oltage Applications”,Revi
ew of Scientific Instrume
nts, Vol.44,No.4 April197
3, page 405−407 )) 、から保持さ
れた。10ヘルツ以上のパルス繰返し周波数で73mJ
/パルスのレーザ出力エネルギが255トルの圧力にて
得られた。この時、28キロワット、1マイクロ秒幅、
27.12メガヘルツのRFパルスが3450ボルトに
帯電された105ナノファラッドのキャパシタから62
6mJのエネルギを転流した。この場合、特に146J
/LAの全レーザ入力エネルギは、11.2%の効率で
レーザ出力に変換され、切換作動のない主(高)放電エ
ネルギ源(26,C6)から626mJのDCエネルギ
を滴定するために必要なRFエネルギは28mJであっ
た。これは、DC/RF転流比が22:1となる。さら
にいくらか低い圧力で、70:1の転流比が得られた。 好ましい実施例によれば、真空容器は密封され触媒作用
を受けないCO2 、N2 及びHeの混合物のみ使用
され、従って装置は循環を行わない、横方向に励起され
たレーザとなる。
ステンレススチールで作られ、平坦な電極12は酸化ア
ルミニウムのスペーサ16によって一定に1.07cm
の間隔でk=0.2を有する公称長さが13.5cmの
チャング形状の電極(チャングの「TEAレーザと高電
圧印加のための改良された一様な場を作る電極形状(T
.Y.Chang,”Improved Unifor
m−Field Electrodes Profil
es for TEALaser and HighV
oltage Applications”,Revi
ew of Scientific Instrume
nts, Vol.44,No.4 April197
3, page 405−407 )) 、から保持さ
れた。10ヘルツ以上のパルス繰返し周波数で73mJ
/パルスのレーザ出力エネルギが255トルの圧力にて
得られた。この時、28キロワット、1マイクロ秒幅、
27.12メガヘルツのRFパルスが3450ボルトに
帯電された105ナノファラッドのキャパシタから62
6mJのエネルギを転流した。この場合、特に146J
/LAの全レーザ入力エネルギは、11.2%の効率で
レーザ出力に変換され、切換作動のない主(高)放電エ
ネルギ源(26,C6)から626mJのDCエネルギ
を滴定するために必要なRFエネルギは28mJであっ
た。これは、DC/RF転流比が22:1となる。さら
にいくらか低い圧力で、70:1の転流比が得られた。 好ましい実施例によれば、真空容器は密封され触媒作用
を受けないCO2 、N2 及びHeの混合物のみ使用
され、従って装置は循環を行わない、横方向に励起され
たレーザとなる。
【0019】動作に於て、高周波数の交流源24からの
エネルギはレーザ媒質を前期電離するために電極12及
び14の間に与えられる。交流源24からの電力は弱い
気体放電が生成されるのに必要な値を越える電圧が印加
されるように電極12及び14の間に与えらなければな
らない。放電が低エネルギ源24によって光空洞内に生
成されたとき、容量C6の放電のための電流路(或いは
適当なエネルギ源からの低周波で整流されていない交流
電流の電流路)が作られ、これにより、エネルギは高エ
ネルギ源から流れ、即ち低エネルギ源24が高エネルギ
源26、C6を転流動作する。
エネルギはレーザ媒質を前期電離するために電極12及
び14の間に与えられる。交流源24からの電力は弱い
気体放電が生成されるのに必要な値を越える電圧が印加
されるように電極12及び14の間に与えらなければな
らない。放電が低エネルギ源24によって光空洞内に生
成されたとき、容量C6の放電のための電流路(或いは
適当なエネルギ源からの低周波で整流されていない交流
電流の電流路)が作られ、これにより、エネルギは高エ
ネルギ源から流れ、即ち低エネルギ源24が高エネルギ
源26、C6を転流動作する。
【0020】本発明の一つの目的は、より小さいRF電
力を用いることと、より高価でないDC或いは整流され
ていないAC電力を用いることによってCWレーザから
の出力を増加することである。
力を用いることと、より高価でないDC或いは整流され
ていないAC電力を用いることによってCWレーザから
の出力を増加することである。
【0021】本発明のもう一つの目的は、この分野に於
て励起するのに最も適した電圧は放電破壊の生ずる電圧
よりも低いということがよく知られているように、全放
電電力のうちの少量を用いて前期電離放電を行い、レー
ザの励起のために最も適した電圧にてエネルギ源24か
ら残りのレーザ入力電力を導入することである。
て励起するのに最も適した電圧は放電破壊の生ずる電圧
よりも低いということがよく知られているように、全放
電電力のうちの少量を用いて前期電離放電を行い、レー
ザの励起のために最も適した電圧にてエネルギ源24か
ら残りのレーザ入力電力を導入することである。
【0022】更に本発明のもう一つの目的は、RF源2
4に対するインピーダンス整合回路を調節しなければな
らないということなく、慣用されている横方向に励起さ
れたRFパルス、或いは、CWレーザの出力を変化でき
る簡単な手段を持つことである。
4に対するインピーダンス整合回路を調節しなければな
らないということなく、慣用されている横方向に励起さ
れたRFパルス、或いは、CWレーザの出力を変化でき
る簡単な手段を持つことである。
【0023】更に本発明のもう一つの目的は、低エネル
ギ源24のエネルギに対する高エネルギ源26、C6か
らの放電に与えられるエネルギの比を最高にすることで
ある。現在までの実験では、少くとも70:1のエネル
ギの転流比が達成できている。
ギ源24のエネルギに対する高エネルギ源26、C6か
らの放電に与えられるエネルギの比を最高にすることで
ある。現在までの実験では、少くとも70:1のエネル
ギの転流比が達成できている。
【0024】高エネルギ源26、C6により与えられる
実質的な励起を得るということは、経済的にも非常に重
要である。100ワットのCW・RF励起CO2 レー
ザについての典型的な放電効率は10%程度であり、そ
れ故約1000ワットのRF電力がレーザ媒質に印加さ
れると、100ワットの出力を生成する。もし横放電レ
ーザが約1cmの電極間隔及び約25トルの圧力を有し
ており、1000ワットのうち500が高エネルギ源2
6により供給されれば、この高エネルギ源の電圧レベル
は単に約5V/cmT若しくは約125ボルトにすれば
よいであろう。125トルで動作する1/5cmの放電
ギャップを有する導波管レーザは同程度の電圧が必要と
なる。RF電力の500ワットは、500ワット、12
5ボルト直流源よりもワット当り2ドル多くかかる。ま
た125ボルト100キロヘルツの矩形波源は更に安い
。 何故なら、ACは整流される必要はなく、これにより直
流電源のダイオード整流器及び瀘波キャパシタの両方を
取除くことができる。多くの場合、RF源の効率は、5
0%にすぎず、これより500ワットのシステムのRF
電力を減ずることは1000ワットのシステムの元電力
を減ずることを意味する。かくして、本願発明による教
示に基けば、1990年の米国ドルに於て100ワット
のCWレーザの製造費用が1000ドル〜1500ドル
低減することができる。
実質的な励起を得るということは、経済的にも非常に重
要である。100ワットのCW・RF励起CO2 レー
ザについての典型的な放電効率は10%程度であり、そ
れ故約1000ワットのRF電力がレーザ媒質に印加さ
れると、100ワットの出力を生成する。もし横放電レ
ーザが約1cmの電極間隔及び約25トルの圧力を有し
ており、1000ワットのうち500が高エネルギ源2
6により供給されれば、この高エネルギ源の電圧レベル
は単に約5V/cmT若しくは約125ボルトにすれば
よいであろう。125トルで動作する1/5cmの放電
ギャップを有する導波管レーザは同程度の電圧が必要と
なる。RF電力の500ワットは、500ワット、12
5ボルト直流源よりもワット当り2ドル多くかかる。ま
た125ボルト100キロヘルツの矩形波源は更に安い
。 何故なら、ACは整流される必要はなく、これにより直
流電源のダイオード整流器及び瀘波キャパシタの両方を
取除くことができる。多くの場合、RF源の効率は、5
0%にすぎず、これより500ワットのシステムのRF
電力を減ずることは1000ワットのシステムの元電力
を減ずることを意味する。かくして、本願発明による教
示に基けば、1990年の米国ドルに於て100ワット
のCWレーザの製造費用が1000ドル〜1500ドル
低減することができる。
【0025】100ワットのCWレーザについて、もし
レーザの出力電力が10ワットまで軽減すると、レーザ
入力電力は、レーザは低入力電力に於て通常より効果的
になるので、50〜100ワット低減されなければなら
ない。この入力電力の幅を越えると、放電インピーダン
スが変化し、オームの法則を使うと10〜20倍になる
。従って、自動的に固定されたRF源のインピーダンス
とレーザの放電インピーダンスを整合する可変整合回路
が設けられなければならない。本発明の教示に基くと、
低周波数の整流されていないAC或いはDC電圧のレベ
ルを代えるだけでよく、このことは、可変インピーダン
ス整合回路を設けることと比較すると取るに足らないこ
とである。
レーザの出力電力が10ワットまで軽減すると、レーザ
入力電力は、レーザは低入力電力に於て通常より効果的
になるので、50〜100ワット低減されなければなら
ない。この入力電力の幅を越えると、放電インピーダン
スが変化し、オームの法則を使うと10〜20倍になる
。従って、自動的に固定されたRF源のインピーダンス
とレーザの放電インピーダンスを整合する可変整合回路
が設けられなければならない。本発明の教示に基くと、
低周波数の整流されていないAC或いはDC電圧のレベ
ルを代えるだけでよく、このことは、可変インピーダン
ス整合回路を設けることと比較すると取るに足らないこ
とである。
【0026】高い転流比が特に特に重要であるのは、そ
れがRF前期電離エネルギ源に対する電力に於ける要求
を低減するからである。できる限り高い転流比を達成す
るという点については、もし短いパルスのCO2 レー
ザから10J/パルスの出力が望まれ、もしレーザが慣
用されている技術によって組立てられていれば、気体再
循環器、及び多重の電極配列が必要である。本発明の教
示するところによれば、放電効率10%出力パルス幅1
マイクロ秒及び転流比50:1について100ジュール
/パルスの入力は98J/パルスはエネルギを蓄積して
いるキャパシタから、2J/パルスはRF前期電離源か
ら得られる。2000KW、1マイクロ秒パルス幅、低
衝撃係数のRF源は、気体再循環器を使わなければなら
ないことよりも好ましい。本発明によるかかるレーザシ
ステムの大きさは、従来の技術(図1参照)に於て通常
採用されている、サイラトロンの如き切換装置を取除く
ことによって最小とすることができる。本発明は、また
、レーザに於てその複雑さを低減することができ、電極
を二つのみしか使用していないにも拘らず、その信頼性
を向上することができる。
れがRF前期電離エネルギ源に対する電力に於ける要求
を低減するからである。できる限り高い転流比を達成す
るという点については、もし短いパルスのCO2 レー
ザから10J/パルスの出力が望まれ、もしレーザが慣
用されている技術によって組立てられていれば、気体再
循環器、及び多重の電極配列が必要である。本発明の教
示するところによれば、放電効率10%出力パルス幅1
マイクロ秒及び転流比50:1について100ジュール
/パルスの入力は98J/パルスはエネルギを蓄積して
いるキャパシタから、2J/パルスはRF前期電離源か
ら得られる。2000KW、1マイクロ秒パルス幅、低
衝撃係数のRF源は、気体再循環器を使わなければなら
ないことよりも好ましい。本発明によるかかるレーザシ
ステムの大きさは、従来の技術(図1参照)に於て通常
採用されている、サイラトロンの如き切換装置を取除く
ことによって最小とすることができる。本発明は、また
、レーザに於てその複雑さを低減することができ、電極
を二つのみしか使用していないにも拘らず、その信頼性
を向上することができる。
【0027】まとめると、本発明において、励起する二
つのエネルギ源は特に空間的及び時間的に重合されてお
り、一方、これらの周波数は互に異なっている。言換え
れば、励起源は共時間的に及び共空間的にレーザ媒質を
共電離し、それらのキャリア周波数については多重化さ
れない。
つのエネルギ源は特に空間的及び時間的に重合されてお
り、一方、これらの周波数は互に異なっている。言換え
れば、励起源は共時間的に及び共空間的にレーザ媒質を
共電離し、それらのキャリア周波数については多重化さ
れない。
【0028】好ましい実施例について述べたが、種々の
改良及び代替が本発明の精神及び視点から逸脱すること
なく作られるであろう。従って本発明は例について述べ
たがこれに限定されるものではないうことが理解できる
であろう。
改良及び代替が本発明の精神及び視点から逸脱すること
なく作られるであろう。従って本発明は例について述べ
たがこれに限定されるものではないうことが理解できる
であろう。
【図1】従来の技術による前期電離レーザの模式図。
【図2】本発明によるレーザ周波数の模式的なブロック
図。
図。
【図3】図2に示されているレーザシステムのより詳細
な。
な。
1,2…電極
4…前期電離用電極
10…レーザ真空容器
12…平坦な接地された電極
14…変型した電極
16,18…スペーサ
20…伝導体
22…ロッド
24…高周波のRFエネルギ源
26…直流エネルギ源或いは整流されていない低周波の
交源 28…シールドされたエンクロージャ 30…RF入力ポート 32…DC入力ポート SW1,SW2…切換えスイッチ(サイダトロン)Vs
´…前期電離用電源 L´…前期電離用インダクタ Cs´…前期電離用容量 Vs…主放電電源或いは電圧 L…主放電用インダクタ C…主放電用容量 C1…内部容量 C2,C3,C6,C7…固定キャパシタC4,C5…
可変キャパシタ L1,L2,L3,L4…固定インダクタL5…可変イ
ンダクタ
交源 28…シールドされたエンクロージャ 30…RF入力ポート 32…DC入力ポート SW1,SW2…切換えスイッチ(サイダトロン)Vs
´…前期電離用電源 L´…前期電離用インダクタ Cs´…前期電離用容量 Vs…主放電電源或いは電圧 L…主放電用インダクタ C…主放電用容量 C1…内部容量 C2,C3,C6,C7…固定キャパシタC4,C5…
可変キャパシタ L1,L2,L3,L4…固定インダクタL5…可変イ
ンダクタ
Claims (22)
- 【請求項1】気体レーザ媒質に於て、該レーザ媒質の前
期電離を惹起こすために該レーザ媒質へエネルギを供給
することなく、高エネルギ放電を生成することにより、
コヒーレント性の光を生成する方法であって、一対の隔
置された電極の間で第一の周波数にて第一の電力源から
電圧を印加する過程であって、前記電極がレーザの真空
容器内に置かれており、前記レーザ媒質が前記電極間に
置かれているレーザ発振する気体混合物を含み、前記第
一の電力源からのエネルギが前記レーザ媒質内にて生ず
る第一の放電内に与えられることにより前記第一の電力
源からの印加された電圧が前記第一の放電を生成する電
圧印加過程と、前記レーザ媒質内の前記第一の放電へ第
二の電力源からエネルギを供給する過程であって、前記
第二の電力源は前記第一の周波数と異なった周波数にて
電圧を供給し、前記第二の電力源は前記電極の間に前記
第一の電力源からの電圧が印加される前から前記電極間
に接続されており、前記第一の電力源が気体放電のため
の比較的少量のエネルギを供給し前記第一の電力源より
も多量の放電のためのエネルギを供給する切換作動され
ない前記第二の電力源を転流動作することにより、前記
レーザ媒質内の前記第一の放電が行われているところへ
前記第二の電力源からのエネルギと共に前記レーザ媒質
内の前記第一の放電へ前記第一の電力源からのエネルギ
を共供給するエネルギ供給過程と、を含むコヒーレント
光を生成する方法。 - 【請求項2】請求項1による方法であって、前記第一の
電力源がCW源であるコヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項3】請求項1による方法であって、前記第一の
電力源がパルス源であるコヒーレント光を生成する方法
。 - 【請求項4】請求項1による方法であって、前記第一の
電力源の周波数が前記第二の電力源の周波数より高いコ
ヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項5】請求項1による方法であって、前記第一の
電力源の周波数が前記第二の電力源の周波数より低いコ
ヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項6】請求項1による方法であって、前記第二の
電力源が切換作動のない容量性放電を介してレーザ媒質
内に電力を与えるコヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項7】請求項1による方法であって、前記第二の
電力源によりレーザ媒質内へ供給される電力がインダク
タンスに蓄積されているコヒーレント光を生成する方法
。 - 【請求項8】請求項1による方法であって、前記第二の
電力源によりレーザ媒質内へ供給される電力が容量とイ
ンダクタンスの中に蓄積されているコヒーレント光を生
成する方法。 - 【請求項9】請求項1による方法であって、前記第二の
電力源が前記電極の間に整流されていない矩形波を印加
するコヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項10】請求項1による方法であって、前記第二
の電力源が前記電極の間に整流されていない正弦波を印
加するコヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項11】請求項1による方法であって、前記第二
の電力源の出力電圧が0ボルト以上に於て、それが0ボ
ルト以下の時の振れ幅より大きい振れ幅を有しているコ
ヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項12】請求項1による方法であって、前記第二
の電力源の出力電圧が0ボルト以上に於て、それが0ボ
ルト以下の時の振れ幅より小さい振れ幅を有しているコ
ヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項13】請求項1による方法であって、更に、放
電の生成の初期に於て前記第二の電力源からレーザ媒質
への電力の供給を遅延させる過程を含むコヒーレント光
を生成する方法。 - 【請求項14】請求項1による方法であって、更に、前
記第一の電力源からのエネルギが前記第二の電力源へ帰
還することを防止する過程を含むコヒーレント光を生成
する方法。 - 【請求項15】請求項1による方法であって、更に、前
記第二の電力源からの電力が前記第一の電力源へ供給さ
れることを防ぐ過程を含むコヒーレント光を生成する方
法。 - 【請求項16】請求項1による方法であって、更に、前
記電極の長さが前記電極間の間隔を越えており、前記電
極間に電圧を印加することにより放電が横方向に励起さ
れるコヒーレント光を生成する方法。 - 【請求項17】レーザであって、真空エンクロージャと
、互いに隔置された状態で前記真空エンクロージャ内に
支持されている一対の長く伸ばされた電極と、前記真空
エンクロージャ内にあって前記電極の間にある電離可能
の気体と、少くとも直列に接続されたインダクタンスと
容量を含み、前記隔置された電極の間に接続されたイン
ピーダンス整合回路と、前記隔置された電極の間に於て
前記気体を電離するのに十分な強度を有する交流電圧を
供給する第一の電力源と、前記交流電圧が前記電極の間
に印加され、これにより気体が電離され前記電極間に前
記気体を通って放電が生じ、前記放電内に前記第一の電
力源からエネルギが与えられるよう前記第一の電力源と
前記インピーダンス整合回路を結合する結合手段と、前
記電極の間の前記気体の破壊電圧を越えない強度を有す
る電圧を与える第二の電力源と前記第一の電力源により
気体放電が生成された時前記第二の電力源が前記第一の
電力源によって転流動作されエネルギが前記第一及び第
二の電力源の両方から供給されることとなる機構にて、
前記第二の電力源から前記インピーダンス整合回路へ電
流を流す連続的な電流路を生成する手段であって、前記
第一の電力源が気体放電へ比較的少量のエネルギを供給
し、前記第一の電力源よりも多量の放電のためのエネル
ギを与える切換作動のない前記第二の電力源を転流動作
する連続的な電流路を生成する手段と、を含むレーザ。 - 【請求項18】請求項18による方法であって、前記電
極の間の間隔が前記電極の長さを越えているコヒーレン
ト光を生成する方法。 - 【請求項19】容量内に蓄積されているエネルギを負荷
インピーダンスへ切換える方法であって、一対の隔置さ
れた電極の間に第一の周波数にて第一の電力源から電圧
を印加する過程であって、前記電極が真空エンクロージ
ャ内に設置され、気体混合物が前記電極間に置かれ、前
記第一の電力源からのエネルギ源が前記気体内へ供給さ
れることにより前記混合物内へ前記第一の電力源からの
電圧が前記気体を電離する電圧印加過程と、前記電離さ
れた気体に第二の電力源からエネルギを与える過程であ
って、前記第二の電力源は前記第一の周波数と異なった
周波数にて電圧を与え、前記第二の電力源は前記第一の
電力源の電圧が前記電極間に印加される前から前記電極
の間で負荷インピーダンスと直列に接続されており、前
記第一の電力源が電離された気体へ比較的少量のエネル
ギを供給することにより、電離された気体へ、前記第一
の電力源よりも大きい量のエネルギを供給する切換作動
のない前記第二のエネルギ源を転流動作する機構にて、
前記電力源による電圧が印加されることにより生ずる前
記気体の電離が、前記第二の電力源からのエネルギを前
記電離された気体及び直列の負荷インピーダンスへ不均
等に供給し、前記第一及び第二の電力源からのエネルギ
が共に電離された気体へ共供給されるエネルギ供給過程
と、を含むエネルギを負荷インピーダンスへ切換える方
法。 - 【請求項20】光を生成する方法であって、一対の隔置
された電極の間に或る周波数にて第一の電力源を接続す
る過程であって、気体が前記電極間に置かれ、前記第一
の周波数と異なる第二の電力源が前記電極間に前もって
接続されており、前記第二の電力源からのエネルギが前
記気体内へ前記第一の電力源からのエネルギと共に供給
され、前記第一の電力源が放電へ比較的少量のエネルギ
を供給し前記第一の電力源よりも大きい量の放電のため
のエネルギを与える切換作動のない前記第二電力源を転
流動作する機構にて、前記第一の電力源が単独で付勢さ
れていない気体を通して放電を起す前記第一の電力源を
接続する過程を含む光を生成する方法。 - 【請求項21】一対の互いに隔置され実質的に平行な電
極の間の高圧気体媒質内に均一な高エネルギ放電を生成
する方法であって、前記隔置された電極の間の領域を気
体媒質で満す過程と、前記隔置された一対の電極に前記
気体媒質の破壊電圧より低い直流電位差をかける過程と
、前記一対の隔置された電極間の前記直流電位差からの
エネルギの流れが生じ、前記電極間の領域に共空間的及
び共時間的放電を開始する機構にて、前記媒質に前期電
離のためのエネルギを供給することなく前記一対の隔置
された電極間の領域に前記直流電位差からの高エネルギ
放電を転流するエネルギを供給する低エネルギ放電を生
成する過程と、を含む均一な高エネルギ放電を生成する
方法。 - 【請求項22】請求項21による方法であって、低エネ
ルギ放電を生成する過程が一対の隔置された電極の間に
交流源を結合することを含み、前記交流源により与えら
れた電圧の強度が前記が気体媒質の電離を惹起こすのに
十分である均一な高エネルギ放電を生成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US483243 | 1990-02-22 | ||
| US07/483,243 US5097472A (en) | 1990-02-22 | 1990-02-22 | Preionized transversely excited laser |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04215485A true JPH04215485A (ja) | 1992-08-06 |
Family
ID=23919289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3050627A Pending JPH04215485A (ja) | 1990-02-22 | 1991-02-22 | 前期電離される横方向に励起されたレーザの方法とその装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5097472A (ja) |
| JP (1) | JPH04215485A (ja) |
| DE (1) | DE4105053A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5181217A (en) * | 1991-02-27 | 1993-01-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser oscillator circuit |
| JPH04326584A (ja) * | 1991-04-25 | 1992-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 放電励起ガスレーザ装置 |
| GB9214796D0 (en) * | 1992-07-11 | 1992-08-26 | Lumonics Ltd | A laser system |
| US5348979A (en) * | 1992-12-23 | 1994-09-20 | Iowa State University Research Foundation Inc. | Method of promoting nitrogen retention in humans |
| US5528613A (en) * | 1993-04-12 | 1996-06-18 | Macken; John A. | Laser apparatus utilizing a magnetically enhanced electrical discharge with transverse AC stabilization |
| DE69501917T2 (de) | 1994-06-08 | 1998-11-05 | Qsource Inc | Gaslaser mit rechteckigem Entladungsraum |
| ATE226766T1 (de) | 1995-11-27 | 2002-11-15 | Qsource Inc | Gaslaser mit rechteckigem entladungsraum |
| US5596593A (en) * | 1996-02-09 | 1997-01-21 | Luxar Corporation | Orthogonal RFDC transverse excited gas laser |
| US6465965B2 (en) * | 1998-07-23 | 2002-10-15 | Lawrence Nelson | Method and system for energy conversion using a screened-free-electron source |
| US6442185B1 (en) | 1998-09-28 | 2002-08-27 | Peter Vitruk | All-metal, DC excited laser with RF pre-ionization |
| US6603792B1 (en) | 2000-03-23 | 2003-08-05 | Doron Chomsky | High power pulsed medium pressure CO2 laser |
| JP3829175B2 (ja) * | 2000-04-20 | 2006-10-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | レーザ誘導放電によるスイッチング装置 |
| US6535540B1 (en) * | 2000-09-13 | 2003-03-18 | Komatsu Ltd. | Discharge device for pulsed laser |
| US20020107510A1 (en) * | 2001-02-05 | 2002-08-08 | Andrews Robert R. | Laser apparatus useful for myocardial revascularization |
| EP1738443A4 (en) * | 2004-01-12 | 2008-07-02 | Litelaser L L C | LASER SYSTEM WITH MULTIPLE TRAINS |
| US7426948B2 (en) * | 2004-10-08 | 2008-09-23 | Phibrowood, Llc | Milled submicron organic biocides with narrow particle size distribution, and uses thereof |
| CN101379666A (zh) * | 2006-02-03 | 2009-03-04 | 录象射流技术公司 | 具有减小横截面尺寸和/或减小光轴畸变的波导激光器 |
| US8969489B2 (en) | 2010-08-10 | 2015-03-03 | Eastman Chemical Company | Thermosetting coating composition |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4380079A (en) * | 1980-09-12 | 1983-04-12 | Northrop Corp. | Gas laser preionization device |
| US4534035A (en) * | 1983-08-09 | 1985-08-06 | Northrop Corporation | Tandem electric discharges for exciting lasers |
| US4689819B1 (en) * | 1983-12-08 | 1996-08-13 | Knowles Electronics Inc | Class D hearing aid amplifier |
| US4612643A (en) * | 1984-01-30 | 1986-09-16 | Northrop Corporation | Electric glow discharge using prepulse and charge storage device |
| US4748635A (en) * | 1986-03-05 | 1988-05-31 | Mclellan Edward J | Apparatus and method for uniform ionization of high pressure gaseous media |
-
1990
- 1990-02-22 US US07/483,243 patent/US5097472A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-02-19 DE DE4105053A patent/DE4105053A1/de not_active Withdrawn
- 1991-02-22 JP JP3050627A patent/JPH04215485A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5097472A (en) | 1992-03-17 |
| DE4105053A1 (de) | 1991-08-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5097472A (en) | Preionized transversely excited laser | |
| EP0463815B1 (en) | Vacuum ultraviolet light source | |
| US5309462A (en) | Magnetic spiker gas laser excitation circuit | |
| JPS6335117B2 (ja) | ||
| US4937832A (en) | Methods and apparatus for producing soft x-ray laser in a capillary discharge plasma | |
| Garnsworthy et al. | Atmospheric‐pressure pulsed CO2 laser utilizing preionization by high‐energy electrons | |
| US4054846A (en) | Transverse-excitation laser with preionization | |
| US4509176A (en) | Longitudinal-discharge-pulse laser with preionization obtained by corona effect | |
| US4748635A (en) | Apparatus and method for uniform ionization of high pressure gaseous media | |
| Letardi et al. | Some design limitations for large-aperture high-energy per pulse excimer lasers | |
| Crocker et al. | Pulsed atmospheric-pressure carbon-dioxide laser initiated by a cold-cathode glow-discharge electron gun | |
| Kholin | High-power, high-pressure IR Ar—Xe lasers | |
| RU2017289C1 (ru) | Устройство для накачки газового проточного лазера | |
| Bhadani et al. | Efficient switchless multi‐Joule TE‐CO2 laser | |
| RU2029423C1 (ru) | Способ получения генерации в газовом электроразрядном лазере и газовый электроразрядный лазер | |
| Skakun et al. | High-power UV excilamps excited by a glow discharge | |
| US4360924A (en) | Laser bottlenecking technique | |
| US6442185B1 (en) | All-metal, DC excited laser with RF pre-ionization | |
| US4596017A (en) | Electron beam method and apparatus for obtaining uniform discharges in electrically pumped gas lasers | |
| Anufrick et al. | Powerful Exciplex XeCl Laser with a Modular Excitation System | |
| Zhupikov et al. | Excimer KrF laser with He buffer gas, 0.8 J energy, and 2% efficiency | |
| Tarasenko et al. | Characteristics of a high-power nitrogen laser | |
| Burtsev et al. | Pulsed CO2 laser pumped by a self-sustained volume discharge | |
| Urai et al. | High-repetition-rate operation of the wire ion plasma source using a novel method | |
| Kolbychev et al. | Control of a self-sustained discharge by runaway electron beams |