JPH04215831A - 流動床装置 - Google Patents

流動床装置

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JPH04215831A
JPH04215831A JP3044537A JP4453791A JPH04215831A JP H04215831 A JPH04215831 A JP H04215831A JP 3044537 A JP3044537 A JP 3044537A JP 4453791 A JP4453791 A JP 4453791A JP H04215831 A JPH04215831 A JP H04215831A
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lance
trough
fluidized bed
guide vanes
gap
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JP3044537A
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Herbert Huettlin
ヒュットリン ヘルベルト
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Individual
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    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
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    • B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01J8/1818—Feeding of the fluidising gas

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】本発明は固体成形部品（ｓｏｌｉｄ　ｍｏ
ｌｄｅｄ　ｐａｒｔｓ）からなる注入しうる材料（ｐｏ
ｕｒａｂｌｅ　ｍａｔｅｒｉａ）を製造および／または
処理する流動床装置に関するもので、この装置は一般ガ
ス流（ｇｅｎｅｒａｌ　ｂｌｏｗ　ｏｆ　ｇａｓ）　を
生成する少なくとも１個のガス入口および少なくとも１
個のガス出口を含む少なくとも１個の処理チャンバー；
該処理チャンバーにおける一般ガス流を横切って延び、
中心面に関して対称である外形を有し、およびランスの
長手方向に延び、かつ材料についての排出ノズルに連結
するコンベヤーチャンネルを含む少なくとも１個の中空
ランス；および一般ガス流をランスのまわりに底部から
頂部に流すように配置したランス間の少なくとも１対の
案内羽根を含んでいる。
【０００２】
【背景技術】ドイツ特許出願明細書第３８３９７２３号
に記載されているこの種の流動床装置の場合、処理チャ
ンバーは垂直軸に関して回転対称である容器の円形内部
空間から形成されている。この処理チャンバーには容器
の軸の方向から見て、互いに重なり、上方ガス流に旋回
またはスピンを与える案内羽根リングを設けられている
。容器の軸に関して半径方向に配置されたランスを案内
羽根間に設けられている。これらの各ランスはガス流の
方向に位置する材料を送出する複数の排出ノズルを含ん
でいる。これらのノズルを介して、単位時間当り多量の
微粉および／または液体材料を案内羽根上に形成される
流動床に供給することができる。
【０００３】この既知の流動床装置において生成および
／または処理された粒状材料は極めて好ましい均質性に
よって特徴付けられている。例えば、成核粒体（ｎｕｃ
ｌｅａｔｉｎｇｇｒａｎｕｌｅｓ）　を作る場合、狭い
粒度範囲を達成でき、塗布において、特に均一厚さの塗
層が得られている。
【０００４】しかしながら、かかる均一性は常に必要で
ない。特に、ある有効物質を人間の胃腸系のある部分に
おいて放出することを目的とするときには、製薬分野に
おけるカプセルの装填の場合、例えば時にはペリットの
場合には、異なる組成または異なる厚さの塗層を設ける
必要がある。これまで、かかる異なるペレットは既知装
置において順次に回分形式で形成しており、異なる操作
条件を機械類に適応するために長い操業停止を回避する
ことができない。所定の容器大きさにおいて、既知の装
置の回分量は比較的に狭い制限範囲内で変えることがで
きるけれども、異なる操作要件に適合するように変える
ことは容易でない。
【０００５】
【発明の開示】本発明の目的は、上述する異なる要件に
容易に適合することのできる固体形成部品からなる注入
しうる材料を製造および／または処理する流動床装置に
関する。
【０００６】本発明においては、上述する流動床装置に
おいて、ランスの中心面を少なくともほぼ垂直に配置し
；１対の半シェル（ｓｅｍｉｓｈｅｌｌｓ）を案内羽根
上に形成し、案内羽根と共に中心面に関して少なくとも
ほぼ対称である直立トラフを形成し；および圧力勾配を
ガス入口とガス出口との間に生じさせることができ、こ
の勾配において直線（ｒｅｃｔｉｌｉｎｅａｒ）　流動
床をトラフ内に形成するように構成したことに特徴を有
している。
【０００７】与えられた全長の本発明におけるトラフは
、相当する細長いハウジングにおける単一直線処理通路
を構成することができ、また共通ハウジングにスペース
を取らないで並置状態に配置できる複数のセクションに
細分することができる。いかなる場合においても、処理
の同じまたは異なる段階を、必要に応じて、トラフの幾
分長いセクションにおいて同時に行うことができると共
に、使用しないセクションを、例えば間仕切を設けるこ
とによって運転停止することができる。同様に、例えば
異なる粒子のある混合物を有する最終製品を得ることが
できるように、異なる組成および／または大きさのペレ
ット、結晶、タブレットまたは粒状材料のような異なる
出発材料を、トラフの異なるセクションに供給できるよ
うに設計することができる。
【０００８】次に、本発明を添付図面に基づいて説明す
る。第１〜４図に示す流動床装置は水平方向に細長い形
状の平行六面体を示し、かつ断熱壁を有するハウジング
１０を含んでいる。６個の処理チャンバー１２は共通底
１４、この底１４に位置する各２個のガス入口１６、お
よび２個の隣接処理チャンバー１２に関連する各５個の
ガス出口１８を有している。
【０００９】処理チャンバー１２は、ガス入口１６を介
して、底１４の下に配置し、かつ接続２２を介して処理
する除湿熱風または他のガスを受ける共通空気供給チャ
ンバー２０に連通する。ガス出口１８はハウジング１０
の長手方向側面に配置し、かつ底１４の下に延びる使用
済み空気チャンバー２４に開放し、接続２６を介して通
常のブロアーの吸込み端に連結するようにする。作動中
、各処理チャンバー１２は頂部において、例えばガラス
から作られ、かつ清浄の目的のために回動して開放する
ふた２８によって閉じる。
【００１０】金属またはプラスチックワイヤ螺旋体の既
知の関節または連結バンドのようなガスを透過するコン
ベヤーベルト３０は底１４上に通し、ハウジング１０を
長手方向に貫通して延在させる。コンベヤーベルト３０
は巻出リール３２から取出し、使用後、巻取リール３４
に巻き揚げる。これら２個のリール３２および３４の代
りに、エンドレス　　コンベヤーベルトを通すように偏
向プーリを設けることができる。一般に、コンベヤーベ
ルト３０がハウジング１０を出入する面端はそれぞれフ
ラップ３６で閉鎖する。
【００１１】処理チャンバー１２が空になると、箔３８
をハウジング１０より幾分長いコンベヤーベルト３０の
セクション上に配置する。コンベヤーベルト３０の可動
によって、この箔はハウジングに送出され、その上に処
理チャンバー１２で作られまたは処理された材料が載置
され、次いでコンベヤーベルト３０の更新移動によって
材料と一緒にハウジング１０から送出される。第１図に
示すように、生成されおよび処理される組成物によりコ
ンベヤーベルト３０が汚染されるのを避けるように、箔
３８を処理チャンバー１２の横境界部分（ｌａｔｅｒａ
ｌ　ｌｉｎｉｔｓ）で箔３８を上方に引出す。
【００１２】後述するすべての内部構造部材は個々の処
理チャンバー１２の垂直中心面Ａに関して対称であり、
かかる中心面はハウジング１０の長手方向を横切って延
びている。ランス４０は、各チャンバー１２において中
心面Ａによ沿って底１４上を水平に、離間して延在して
いる。各ランス４０の輪郭は中心面Ａに関して対称のド
ロップ形状をしており、しかもその底部が丸く、かつ頂
部がとがっている。この輪郭の両側面に、対応するラン
ス４０と平行に配置した、それぞれ２個の案内羽根４２
および４４を設けている。
【００１３】ランス４０の１側および他側における２個
の案内羽根４２および４４は、それぞれ垂直縦断面に延
び、かつランス４０に平行に延びる軸４８に固定したプ
レート４６によって互いに連結する。軸４８は、各ピポ
ット駆動手段５０、例えば水圧または空気回転羽根モー
ターに連結し、これによって関連する案内羽根４２およ
び４４を、例えば３０゜の角度範囲にわたって前後に旋
回できるようにする。
【００１４】半シェル（ｓｅｍｉｓｈｅｌｌ）５２　は
ランス４０のいずれかの側に、ランスに平行に延びるよ
うに配置する。対応する案内羽根４２および４４、およ
びランス４０は半シェル５２と共にトラフ５３を形成し
、このトラフ５３は、案内羽根がその作動位置にある場
合に、底部をほぼ完全に閉鎖するが（図２の右から第２
および３番目のチャンバー１２参照）、しかしランス４
０のいずれかの側の３つの間隙Ｂ，ＣおよびＤを開いた
状態にしておく。これらの間隙は処理チャンバー１２の
幅にわたって延在する。形態において、一般ガス流Ｅの
形態の処理に用いられた空気（図２および３参照）は、
上記間隙Ｂ，ＣおよびＤを通り、対応するガス入口１６
から出発し、ランス４０のまわりを上方に向って流れ、
トラフ５３によって画成される流動床Ｆを形成する（図
２および３の右から第２番目のチャンバー参照）。
【００１５】案内羽根４２および４４はこれらの作動位
置から空になる位置にピポット駆動手段５０によって旋
回することができる（図２の右から第１番目のチャンバ
ー参照）。この位置において、空気流の停止後、トラフ
５３に蓄積した材料を間隙Ｂ、ＣおよびＤを介して箔３
８上に少しずつ落下する。
【００１６】中間空間が隣接処理チャンバー１２の半シ
ェル５２の上縁間に束縛されずに存在し、この空間は下
から見た場合に凹んでいる屋根部材または造形カバー５
４によって覆うようにする。各半シェル５２の上縁と対
応する造形カバー５４との間には間隙Ｄ′が存在し、こ
の間隙を通して一般ガス流Ｅの他の部分を個々のトラフ
５３に頂部から底部に流すようにする。造形カバー５４
は、材料が一方のトラフ５３において一定レベルを超え
る場合に、材料がかかるカバーを横切って流れるように
固定する。あるいは、また隣接トラフ５３を間仕切５６
で分離することができる。高いレベルに設けられている
ガス出口１８はそらせ板５８で覆うようにする。このた
めに、いくらよく見ても、組成物のダスト状粒子が使用
済み空気チャンバー２４に進入し、このダスト粒子を濾
過によってガス流から既知のようにして分離することが
できる。
【００１７】すべての処理チャンバー１２において、図
１〜４に示す装置は、個々のトラフ５３に上から注入さ
れたペレットまたはタブレットのような予らかじめ作ら
れた成形品Ｐを被覆および乾燥する流動床のために適合
させる。他方において、図５〜９に示す装置では、まづ
プレミックス成形材料（ｄｏｕｇｈｙ　ｍａｓｓ）　の
粒子を押出し、次いで被覆し、最後にこれを乾燥するこ
とができる。従って、図５〜９に示す装置を用いる分野
を製造工程の前の段階において開始する場合、この装置
の細部について、両装置の他の共通の要部について説明
する前に、次のように説明する。
【００１８】図５〜７に示すように、図１〜４に示す処
理チャンバーに相当する３個の細長い処理チャンバー１
２をハウジング１０内に順次に配置する。これらの３個
の処理チャンバー１２の図５および６に示す左側のチャ
ンバー１２は押出す役目をし、中心のチャンバーは被覆
する役目をし、および右側のチャンバーは乾燥の役目を
する。３個の整列したセクションに分割された各処理チ
ャンバー１２についての単一ランス４０は３個の処理チ
ャンバー１２にわたって延在している。これらの長さに
わたって、ランス４０のすべての部分は図７に示すよう
な外形を有しており、これに対して左側の処理チャンバ
ー１２の部分だけは図８および９に示す細部構造を有し
ており、これについて次に記載する。
【００１９】図５および６の左側の第１処理チャンバー
１２におけるランス４０の部分は円形断面のコンベヤー
チャンネル６０を含んでおり、このコンベヤーチャンネ
ルは長手方向に配向し、かつ第１処理チャンネル１２の
全長に延びる円弧状のランス外形の下部と同軸に配置す
る。各ポンプ６２をコンベヤーチャンネル６０の端部を
横切って連結する。ポンプとしては、モーター６４によ
って駆動し、かつ容器６６からコンベヤー　　チャンネ
ル６０に押し出すプレミックス成形材料（ｄｏｕｇｈｙ
　ｍａｓｓ）を押圧する普通の偏心ウォームタイプのポ
ンプを用いることができる。第１処理チャンネル１２に
位置するランス４０のセクションはそのコンベヤー　　
チャンネル６０の攪拌機６８を含んでおり、この攪拌機
６８はそれ自体のモーター６９によって駆動するように
適応させ、コンベヤー　　チャンネル６０の内側の組成
物を常に攪拌して固まらないようにする。
【００２０】図８および９に示すように、コンベヤー　
　チャンネル６０を縦スロット７０を介して、ランス４
０の長手方向に延びる分配器チャンネル７２に連通させ
、これからランス４０の表面に斜め上方に通る孔を等間
隔で設ける。 各孔は肩部を有し、この肩部は外方に拡大しており、こ
こにシールリングを嵌め込む。押出ノズルに組み入れら
れる、材料についての排出ノズル８０を、各孔の拡大外
部区域の肩部まで押し込む。
【００２１】第１処理チャンバー１２に配置し、図８〜
９に示す材料についての各排出ノズル８０は、材料につ
いての排出ノズル８０において生ずるプレミックス成形
材料のストランドの断面を定める軸方向に内方に向う狭
い部分、およびストランドの乾燥を促進すための外部か
ら少なくとも１個の漏出部（ｂｒｅａｋｔｈｒｏｕｇ）
８６　を介して排出するように適応させた軸方向に外方
に拡大した部分８４を有する。図８および９に示すよう
に、漏出部８６は一般ガス流Ｅに関して材料についての
排出ノズル８０の風上側に位置し、かつ拡大部分８４の
発端から材料についての排出ノズル８０の自由端まで延
びる軸方向スロットの形態で設ける。
【００２２】第１処理チャンバー１２に位置する材料に
ついてのすへでの排出ノズル８０の場合において、拡大
部分８４の軸方向外方部分において一般ガス流Ｅに関し
て風下側に存在するノズル８０の半分を、例えばフライ
ス削りにより除去し、このために半管状シールド８８を
風上側に残留すると共に、開放縁９０を風下側に形成す
る。第１処理チャンバー１２に延びるランス４０には、
図８に示すように２個のタイボルト（ｔｉｅｂｏｌｔｓ
）　を設け、それぞれをランス４０の長手方向の中心面
Ａの１側に延ばし、かつ軸方向移動および回転に対しラ
ンス４０の各半分の部分に加圧する材料についての排出
ノズル８０を閉鎖するように作用する。
【００２３】更に、第１処理チャンバー１２におけるラ
ンス４０の部分はコンベヤー　　チャンネル６０に平行
に延びる２個の下部加圧ガス導管９４を含んでおり、加
圧ガス導管９４から加圧ガスノズル９６を材料について
の各排出ノズル８０の漏出部８６により、１個の加圧ガ
スノズル９６が排出ノズル８０に向かうように導びく。 加圧ガス導管９４は、乾燥および予熱する圧縮空気を既
知構造の電磁弁により断続的に供給する。かようにして
、低圧ガスノズル９６は、加圧空気を材料についての関
連排出ノズル８０の開口区域に向けパルス状に放射する
。著しく集束された射出流では、加圧空気は材料につい
ての個々の排出ノズル８０における漏出部を通るストラ
ンドに脈動的に（ｐｕｌｓａｔｉｎｇｌｙ）　作用し、
これによって押出された粒子Ｈはストランドから各噴射
空気において切断される。
【００２４】同様に、コンベヤー　　チャンネル６０と
平行する他の加圧ガス導管９８を第１処理チャンバー１
２に設けたランス４０部分の上部区域に設ける。加熱、
乾燥加圧空気を連続的に供給する。材料についての排出
ノズル８０の開口区域に対し、上から鋭角で向ける加圧
ガスノズル１００　は上部加圧ガス導管９８からそらす
。かようにして、排出ノズルにおいて形成される押出粒
子Ｈは熱風射出流により乾燥される。この場合、圧力は
押出粒子の自由端がシールド８８の端部に達する前に、
押出粒子を早期に切断しないようにする。
【００２５】切断された後、押出粒子Ｈは第１処理チャ
ンバー１２における一般ガス流Ｅにより上方に向けて運
ばれる。同時に、流動床または旋回床が半シエル５２お
よび案内羽根４２および４４により画成されたトラフ５
３内に形成し、更に押出粒子Ｈは乾燥される。間隙Ｂ、
ＣおよびＤを通過する一般ガス流Ｅの部分流れが前方に
向かう流れ成分を有しているから、上記流動床Ｆは図５
および６の右に、ランス４０の両側に沿って徐々にでは
あるが、着実に前進する。この流れ成分は、案内羽根４
２および４４、並びに半シエル５２がランス４０の両側
において左の方向に上る、すなわち、図５の上面図の右
に向う点を有する矢筈パターンを示す上方に向う斜め突
出波状部またはひれ状部１０２　によって形成される。 図５〜９に示す装置の中央処理チャンバー１２において
、案内羽根４２および４４、並びに半シエル５２は第１
処理チャンバー１２におけると同じ構造および矢筈パタ
ーンを有している。中央処理チャンバー１２にわたるラ
ンス４０の部分は、押出粒子Ｈ上に噴霧するために単に
設計されており、それ故多種物質排出についての排出ノ
ズル８０を具える。材料についてのこれらの排出ノズル
８０はランス外形の上縁における個々のくぼみ１０４　
に配置し、中心面Ａにおいて垂直に上方に向ける。 ランス４０の対応する中心部分は液体導管１０６　、湿
り空気導管１０８　および乾燥空気導管１１０　に連結
する。これらの導管により供給された材料についての排
出ノズル８０は、被覆物質、例えば水溶液または有機溶
液、または分散物のミストを流出し、これによって流動
床Ｆに向い着実に前進する押出粒子Ｈを被覆する。適当
な多種物質ノズルはドイツ特許出願公開第３８０６５３
７　号明細書、特に図５〜７に示されている。
【００２６】第３処理チャンバー１２、すなわち、図２
および６の右側のチャンバーにおいては、被覆押出粒子
Ｈを単に乾燥すると共に、これを絶え間なく移動させる
。 トラフ５３における一般ガス流Ｅにより形成する流動床
Ｆは十分に乾燥することができる。しかしながら、また
第３処理チャンバー１２においては、乾燥を促進するた
めに、ランス４０には、例えば付加熱風を流動床Ｆに導
入するノズルを含ませることがてきる。第３処理チャン
バー１２の末端において、乾燥押出粒子Ｈをシュート１
１２　に落下する。ふた２８を旋回開放する場合、処理
チャンバー１２を清浄するようにできる。噴霧すべき液
体を清浄にするために、ノズル１１４　を両空気供給チ
ャンバー２０および使用済み空気チャンバー２４に設け
る。この事は両チャンバーに示している。
【００２７】図１〜４に示す装置はバッチ式で操作する
。すべての処理チャンバー１２におけるランス４０には
、ドイツ特許出願公開第３８０６５３７　号明細書に記
載されている既知の多種物質ノズルの形態の材料につい
ての押出ノズル８０を設ける。図３に示すように、これ
らの排出ノズルはそれぞれ両端において液体導管１０６
　、湿り空気導管１０８　および乾燥空気導管１１０　
に連結する。
【００２８】図４に示すように、案内羽根４２および４
４、および／または半シエル５２は斜め波状部またはひ
れ状部１０２　により形成されている。しかしながら、
この波状部またはひれ状部は頂部から見てランス４０の
両側に同じ勾配を有している。上記ひれ状部１０２　は
一般ガス流Ｅに向ける斜角を与え、このためにランス４
０の両側における流動床Ｆをランスに沿い反対方向に移
動させ、これにより、特に押出粒子Ｈを緊密に混合する
。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は予らかじめ作った成形部分を塗布および
乾燥する装置の図３のＩ　−Ｉ　線上における垂直縦断
面図である。
【図２】図２は図１の１部拡大縦断面図である。
【図３】図３は図１のＩＩＩ−ＩＩＩ　線上における垂
直断面図である。
【図４】図４は図１の矢ＩＶの方向に見た上面図である
。
【図５】図５は成形部分を押出し、塗布および乾燥する
装置の上面図である。
【図６】図６は図５のＶＩ−ＶＩ　線上における縦断面
図である。
【図７】図７は図５のＶＩＩ−ＶＩＩ　線上における断
面図である。
【図８】図８は図７の１部拡大断面図である。
【図９】図９は図８のＩＸ−ＩＸ　線上の部分断面を示
す側面図である。
【符号の説明】
１０　　ハウジング １２　　処理チャンバー １４　　共通底 １６　　ガス入口 １８　　ガス出口 ２０　　共通空気供給チャンバー ２２　　接続 ２４　　使用済み空気チャンバー ２６　　接続 ２８　　ふた ３０　　コンベヤーベルト ３２　　巻出リール ３４　　巻取リール ３６　　フラップ ３８　　箔 ４０　　ランス ４２　　案内羽根 ４４　　案内羽根 ４６　　プレート ４８　　軸 ５０　　ピポット駆動手段 ５２　　半シエル ５３　　トラフ ５４　　屋根部材または造形カバー ５６　　間仕切 ５８　　そらせ板 ６０　　コンベヤー　　チャンネル ６２　　ポンプ ６４　　モーター ６６　　容器 ６８　　攪拌機 ６９　　モーター ７０　　縦スロット ７２　　分配器チャンネル ８０　　排出ノズル ８４　　軸方向に外方に拡大した部分（拡大部分）８６
　　漏出部 ８８　　半管状シールド ９０　　開放縁 ９４　　下部加圧ガス導管 ９６　　加圧ガスノズル ９８　　他の（上部）加圧ガス導管 １００　　加圧ガスノズル １０２　　斜め波状部またはひれ状部 １０４　　くぼみ １０６　　液体導管 １０８　　湿り空気導管 １１０　　乾燥空気導管 １１２　　シュート １１４　　ノズル Ａ　　中心面 Ｂ，Ｃ，Ｄ　　間隙 Ｅ　　一般ガス流 Ｆ　　流動床 Ｈ　　押出粒子 Ｐ　　予じめ作られた成形品

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　一般ガス流（Ｅ）　を生成する少なく
    とも１個のガス入口（１６）および少なくとも１個のガ
    ス出口（１８）を含む少なくとも１個の処理チャンバー
    （１２）；該処理チャンバー（１２）における一般ガス
    流（Ｅ）　を横切って延び、中心面（Ａ）　に関して対
    称の外形を有し、長手方向に延びて材料についての排出
    ノズル（８０）に連結するコンベヤーチャンネル（６０
    ）を含む少なくとも１個の中空ランス（４０）；および
    一般ガス流（Ｅ）　をランスのまわりに底部から頂部に
    流すように配置したランス（４０）間の少なくとも１対
    の案内羽根（４２，４４）　を含む固体成形構成部分の
    注入しうる材料を製造および／または処理する流動床装
    置において、ランス（４０）の中心面（Ａ）　を少なく
    ともほぼ垂直に配置し、１対の半シェル（５２）を案内
    羽根（４２，４４）　上に形成し、案内羽根（４２，４
    ４）　と共に中心面（Ａ）　に関して少なくともほぼ対
    称の直立トラフ（５３）を形成し、および圧力勾配をガ
    ス入口（１６）とガス出口（１８）との間に生じさせ、
    この勾配において直線流動床（Ｆ）　をトラフ（５３）
    内に形成するように構成したことを特徴とする流動床装
    置。
  2. 【請求項２】　　材料についての排出ノズル（８０）に
    向けて通す一般ガス流（Ｅ）　の部分について、間隙（
    Ｄ）　を各半シェル（５２）と隣接案内羽根（４４）と
    の間に解放するようにした請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】　　２個の案内羽根（４２，４４）　のそ
    れぞれには、ランス（４０）のいずれかの側に、一般ガ
    ス流（Ｅ）　の部分についての開口を形成して材料につ
    いての排出ノズル（８０）に向ける間隙（Ｃ）　を設け
    た請求項１〜３のいずれか一つの項記載の装置。
  4. 【請求項４】　　上縁区域において、各半シェル（５２
    ）は造形カバー（５４）と共に間隙（Ｄ′）　を形成し
    、これを介して半シェル（５２）における一般ガス流（
    Ｅ）　の間隙部分を下方に向けるようにした請求項１〜
    ３のいずれか一つの項記載の装置。
  5. 【請求項５】　　トラフ（５３）を含む２または３個以
    上の処理チャンバーのそれぞれを共通ハウジング（１０
    ）において並置した請求項１〜４のいずれか一つの項記
    載の装置。
  6. 【請求項６】　　隣接トラフ（５３）のそれぞれに接す
    る半シェル（５２）の上縁区域を１つのトラフ（５３）
    から過剰材料を隣接トラフ（５３）に向けて流すように
    した請求項５記載の装置。
  7. 【請求項７】　　隣接トラフ（５３）の半シェルのそれ
    ぞれに接する上縁区域を、２個の半シェル（５２）のそ
    れぞれにより間隙（Ｄ′）　を形成する共通造形カバー
    （５４）によっておおい、間隙（Ｄ′）　を介して一般
    ガス流（Ｅ）　の部分を下方に向けるようにした請求項
    ６記載の装置。
  8. 【請求項８】　　コンベヤーベルト（３０）を処理チャ
    ンバー（１２）を介してトラフ（５３）の下に延在させ
    て処理材料をハウジング（１０）から移動させるように
    した請求項５〜７のいずれか一つの項記載の装置。
  9. 【請求項９】　　案内羽根（４２，４４）　および／ま
    たは半シェル（５２）を、上から見てランス（４０）の
    両側において同じ方向に延びる斜め波状部またはひれ状
    部で形成した請求項５〜８のいずれか一つの項記載の装
    置。
  10. 【請求項１０】　　複数の処理チャンバー（１２）を共
    通ハウジング（１０）において互いに順次に配置し、各
    チャンバーは共通ランス（４０）の部分および共通トラ
    フ（５３）の部分を含む請求項１〜４のいずれか一つの
    項記載の装置。
  11. 【請求項１１】　　ランス（４０）には種々の処理チャ
    ンバー（１２）における材料についての異なる排出ノズ
    ル（８０）を設けた請求項１０記載の装置。
  12. 【請求項１２】　　案内羽根（４２，４４）　および／
    または半シェル（５２）を、上から見て、ランス（４０
    ）の両側において矢筈波状パターンに集合する斜め波状
    部またはひだ状部（１０２）　から形成した請求項１０
    または１１記載の装置。
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