JPH04217982A - シクロペンタン誘導体およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は３位に種々の置換基を有
する光学活性シクロペンタン誘導体およびその製造法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】ヌクレオシドの分野において、それらの
医薬品としての薬効や安定性を改善する目的で、糖部分
の２位あるいは３位の水酸基を種々の置換基に変換した
誘導体が合成されている。たとえば２′，　３′−ジデ
オキシ−２′−フルオロ−β−Ｄ−アラビノフラノシル
−ヌクレオシド誘導体（　Ｖ．　Ｅ．　Ｍａｒｑｕｅｚ
　他、Ｂｉｏｃｈｅｍ．　Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．，　第
３６巻，　２７１９−２７２２頁（１９８７年））、３
′−アジド−３′−デオキシチミジン（ＡＺＴ）（Ｈ．
　Ｍｉｔｓｕｙａ他、Ｐｒｏｃ．　Ｎａｔｌ．　Ａｃａ
ｄ．　Ｓｃｉ．　Ｕ．Ｓ．Ａ．，　第８２巻，７０９６
−７１００頁（１９８５年））は、ヒト免疫不全ウイル
ス（ＨＩＶ）に対して阻害活性を示すことが知られてい
る。また３′−［（Ｌ−ｐ−メトキシフェニルアラニル
）アミノ］−３′−デオキシ−β−Ｄ−リボフラノシル
−ヌクレオシド誘導体（Ｄ．　Ｎａｔｈａｎｓ，　Ｐｒ
ｏｃ．　Ｎａｔｌ．　Ｓｃｉ．　Ｕ．Ｓ．Ａ．，第　５
１巻，５８５−５９２頁（１９６４年））は、抗菌活性
と抗腫瘍活性を示すことが知られている。

【０００３】一方、ヌクレオシドの糖部分の環内酸素原
子を炭素原子に置き換えた、いわゆるカルボサイクリッ
クヌクレオシドの中には、抗ウイルス作用を示すものが
知られている。そして、これらのカルボサイクリックヌ
クレオシドにおいても、抗ウイルス作用の増強を志向し
て、シクロペンチル部分に種々の置換基を導入した誘導
体が合成されている。すなわち、フッ素原子を導入した
誘導体としては、たとえば２−フルオロ−３−ヒドロキ
シ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導体（
Ｊ．　Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．　Ｃｏｍｍｕｎ
．，２５１−２５４頁（１９８７年）；Ｊ．　Ｃｈｅｍ
．　Ｓｏｃ．，　Ｃｈｅｍ．　Ｃｏｍｍｕｎ．，　６５
６−６５８頁（１９８８年）；Ｊ．　Ｃｈｅｍ．　Ｓｏ
ｃ．，　Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，８９８−９００頁
（１９８８年）；特開昭６２−８４０８６）、５−フル
オロ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導体
（Ｊ．　Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，第３１巻，１７９８−１
８０４頁（１９８８年））、５−フルオロ−３−ヒドロ
キシ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導体
（Ｊ．　Ｃｈｅｍ．　Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．　Ｃｏｍｍ
ｕｎ．，　２５５−２５６頁（１９８７年））が得られ
ており、これらの含フッ素カルボサイクリックヌクレオ
シドは単純ヘルペスウイルス（ＨＳＶ）に対して阻害作
用を有していることが知られている。また、３−フルオ
ロ−２−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シクロ
ペンチル誘導体（特開平１−１５１５４１）、４−フル
オロ−２−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シク
ロペンチル誘導体（特開平１−１５１５４１）、３−フ
ルオロ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導
体（特開平１−１５１５４２）が合成されている。

【０００４】アジド基を有する誘導体としては、たとえ
ば３−アジド−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチ
ル誘導体（Ｍ．　Ｂｏｄｅｎｔｅｉｃｈ　他、Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ．，第２８巻，５３１１−５
３１２頁（１９８７年）；Ｙ．Ｆ．　Ｓｈｅａｌｙ他、
　Ｊ．　Ｍｅｄ．　Ｃｈｅｍ．，第２９巻，４８３−４
８８頁（１９８６年））、２−アジド−３−ヒドロキシ
−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導体（Ｔ
−Ｓ．　Ｌｉｎ　他、　Ｊ．　Ｍｅｄ．　Ｃｈｅｍ．，
　第３１巻，４８４−４８６頁（１９８８年））、３−
アジド−２−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シ
クロペンチル誘導体（　Ｒ．　Ｖｉｎｃｅ　他、Ｂｉｏ
ｃｈｅｍ．　Ｂｉｏｐｈｙｓ．　Ｒｅｓ．　Ｃｏｍｍｕ
ｎ．，第１５６巻，１０４６−１０５３頁（１９８８年
））が知られており、これらのなかで３−アジド−４−
（ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導体は、ＨＳＶ
に対して阻害作用を有していることが知られている。

【０００５】アミノ基を有する誘導体としては、たとえ
ば３−アミノ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチ
ル誘導体（Ｙ．　Ｆ．　Ｓｈｅａｌｙ　他、　Ｊ．　Ｍ
ｅｄ．　Ｃｈｅｍ．，　第２９巻，４８３−４８８頁（
１９８６年））、２−アミノ−３−ヒドロキシ−４−（
ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導体（　Ｔ−Ｓ．
　Ｌｉｎ　他、　Ｊ．　Ｍｅｄ．　Ｃｈｅｍ．，第３１
巻，４８４−４８６頁（１９８８年））、３−アミノ−
２−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペン
チル誘導体（　Ｒ．　Ｖｉｎｃｅ　他、　Ｂｉｏｃｈｅ
ｍ．　Ｂｉｏｐｈｙｓ．　Ｒｅｓ．　Ｃｏｍｍｕｎ．，
第１５６巻，１０４６−１０５３頁（１９８８年）；Ｓ
．　Ｄａｌｕｇｅ　他、　Ｊ．　Ｏｒｇ．　Ｃｈｅｍ．
，　第４３巻，　２３１１−２３２０頁（１９７８年）
）、　２−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）−３
−［Ｌ−ｐ−メトキシフェニルアラニル）アミノ］シク
ロペンチル誘導体（Ｒ．　Ｖｉｎｃｅ　他、　Ｊ．　Ｍ
ｅｄ．　Ｃｈｅｍ．，　第２９巻，２４００−２４０３
頁（１９８６年））、２−ヒドロキシ−３−メタンスル
ホニルアミノ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンチ
ル誘導体（　Ｓ．　Ｄａｌｕｇｅ　他、　Ｊ．　Ｏｒｇ
．　Ｃｈｅｍ．，　第４３巻，２３１１−２３２０頁　
（１９７８年））が知られており、これらのなかで３−
アミノ−２−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シ
クロペンチル誘導体は、ＨＳＶに対して阻害作用を有し
ていることが知られている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】これまで得られている
種々の置換基を有するカルボサイクリックヌクレオシド
の中で、２−フルオロ−３−ヒドロキシ−４−（ヒドロ
キシメチル）シクロペンチル誘導体、５−フルオロ−４
−（ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導体、５−フ
ルオロ−３−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シ
クロペンチル誘導体、３−アジド−２−ヒドロキシ−４
−（ヒドロキシメチル）シクロペンチル誘導体および３
−アミノ−２−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）
シクロペンチル誘導体はＨＳＶに対して阻害作用を有し
ているが、その活性はまだ満足のいくものではない。

【０００７】カルボサイクリックヌクレオシド誘導体が
抗ウイルス作用を示す理由は、カルボサイクリックヌク
レオシドの化学構造がヌクレオシドに類似している点が
挙げられる。すなわち、カルボサイクリックヌクレオシ
ドが天然ヌクレオシドと間違えられてウイルスのＤＮＡ
あるいはＲＡＮに取り込まれ、その結果抗ウイルス作用
を示すと考えられている。しかし、カルボサイクリック
ヌクレオシドは宿主細胞のＤＮＡあるいはＲＡＮにも取
り込まれる可能性があり、これが、カルボサイクリック
ヌクレオシドの毒性発現の一つとみなされている。そこ
で、カルボサイクリックヌクレオシドのシクロペンチル
部分の３位の水酸基に換えて種々の置換基を導入すると
、宿主細胞のＤＮＡあるいはＲＡＮに取り込まれても、
それ以上の核酸の伸長が不可能である。すなわち、この
ような３−置換カルボサイクリックヌクレオシドを含有
する高分子のＲＡＮあるいはＤＮＡが生成できないため
、毒性の低減が期待できる。

【０００８】これらの３位の置換基としては、水酸基と
電子等価性を示すフッ素原子、生体内で酸化還元反応に
深くかかわっている硫黄を介する一価の基、抗ＨＩＶ活
性の発現が期待されるアジド基または生体内に存在する
カルボン酸やリン酸と強く相互作用を示すアミノ基等が
注目に価する。したがって、シクロペンチル部分の３位
に硫黄または窒素を介する一価の基が導入されたカルボ
サイクリックヌクレオシドは、すぐれた抗ウイルス剤と
なることが期待される。しかしながら、プリン塩基残基
を有するカルボサイクリックヌクレオシドにおいて、そ
のシクロペンチル部分の２位が無置換で、３位に上記の
置換基を有する化合物は知られていない。このためこれ
らの化合物を、効率よく合成することが強く求められて
いた。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記のよう
な状況下で、光学活性な３−ヒドロキシ−４−（ヒドロ
キシメチル）シクロペンチル誘導体を出発原料として用
い、　ワルデン反転をともなった置換反応を種々検討し
、　要すれば酸化反応、還元反応あるいは脱保護反応を
検討し、本発明を完成したものである。すなわち本発明
は（１）一般式

【化４】 ［式中、Ｂは９位に結合手を有するプリン塩基残基を、
Ｒ１およびＲ２はいずれか一方がＨで他は硫黄または窒
素を介する一価の基を、Ｒ３はリン酸エステル化または
保護されていてもよい水酸基を示す］で表される化合物
またはその塩および（２）一般式

【化５】 ［式中、Ｂは９位に結合手を有するプリン塩基残基を、
Ｒ４およびＲ５はいずれか一方が活性化された水酸基で
他はＨを、Ｒ６は保護された水酸基を示す］で表わされ
る化合物を、チオール類の塩あるいはアジド化剤と反応
させ、要すれば酸化反応あるいは還元反応に付し、　要
すれば保護基を除去することを特徴とする一般式

【化６
】 ［式中、Ｂは９位に結合手を有するプリン塩基残基を、
Ｒ７およびＲ８はいずれか一方がＨで他は硫黄を介する
一価の基，アジド基またはアミノ基を、Ｒ３′は保護さ
れていてもよい水酸基を示す］で表される化合物の製造
法に関するものである。　　一般式［１］，［１′］お
よび［２］において、Ｂで表されるプリン塩基残基とし
て　は、例えば一般式

【化７】 ［式中、Ｙは−ＯＨ，−ＮＨ２または−ＳＨを、Ｚは−
Ｈ，−ＮＨ２またはハロゲンを示す］で表される基があ
げられる。これらのプリン塩基残基のアミノ基は保護さ
れていてもよく、該保護基としては、核酸の化学でプリ
ン型塩基のアミノ基の保護基として用いられる保護基、
たとえばアルキル型保護基、アラルキル型保護基、アリ
ール型保護基、シッフ塩基型保護基およびアシル型保護
基が用いられる。

【００１０】アルキル型保護基としては、たとえばメチ
ル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブ
チル，ｓｅｃ−ブチル，ｔｅｒｔ−ブチル，ペンチル等
の炭素数１〜５の低級アルキル基、トリメチルシリル，
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル，ｔｅｒｔ−ブチルジ
フェニルシリル等の、炭素数１〜５の低級アルキル基，
フェニル基等が置換基であるトリ置換シリル基、テトラ
ヒドロフラニル基、　テトラヒドロピラニル，４−メト
キシテトラヒドロピラニル等のテトラヒドロピラニル基
等が用いられる。アラルキル型保護基としては、たとえ
ばベンジル，ｐ−メトキシベンジル，ｐ−ニトロベンジ
ル，ｐ−クロロベンジル，トリフェニルメチル（トリチ
ル），ｐ−メトキシフェニルジフェニルメチル（ｐ−メ
トキシトリチル）等の炭素数１〜５の低級アルコキシ基
，ニトロ基，ハロゲンで置換されていてもよいベンジル
基，トリフェニルメチル基等が有利に用いられる。アリ
ール型保護基としては、たとえばフェニル，ｐ−メトキ
シフェニル，ｐ−クロロフェニル等の炭素数１〜５の低
級アルコキシ基，ハロゲンで置換されていてもよいフェ
ニル基が挙げられる。シッフ塩基型保護基としては、例
えば、メチリデン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチリデン
，ベンジリデン，エチリデン，プロピリデン，ブチリデ
ン，ペンチリデン等のジメチルアミノ基，フェニル基で
置換されていてもよい炭素数１〜５の低級アルキリデン
基が用いられる。アシル型保護基としては、後述の水酸
基の保護基におけるアシル型保護基が同様に用いられる
。

【００１１】次に、一般式［１］，［１′］および［２
］において、Ｒ３，Ｒ３′およびＲ６が保護されている
水酸基の場合、該保護基としては、糖の化学で水酸基の
保護基として用いられる保護基、たとえばエーテル型保
護基、アシル型保護基が用いられる。エーテル型保護基
としては、たとえばハロゲン，炭素数１〜５の低級アル
コキシ基，ベンジルオキシ基，フェニル基で置換されて
いてもよい炭素数１〜５の低級アルキル基；炭素数２〜
４の低級アルケニル基；炭素数１〜５の低級アルキル基
，フェニル基，ベンジル基等が置換基であるトリ置換シ
リル基；炭素数１〜５の低級アルコキシ基，ニトロ基で
置換されていてもよいベンジル基；炭素数１〜５の低級
アルコキシ基，ハロゲンで置換されていてもよいテトラ
ヒドロピラニル基等が用いられる。

【００１２】上記のハロゲンとしてはフッ素（Ｆ），塩
素（Ｃｌ），臭素（Ｂｒ），ヨウ素（Ｉ）が、炭素数１
〜５のアルキル基としては、例えば、メチル，エチル，
プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓｅｃ
−ブチル，　ｔｅｒｔ−ブチル，ペンチル，イソペンチ
ル，ネオペンチル基等が、炭素数１〜５のアルコキシ基
としては、たとえばハロゲンで置換されていてもよいメ
トキシ，エトキシ，プロポキシ，ブトキシ，ペンチルオ
キシ，ビニルオキシ，アリルオキシ基等が挙げられる。 　　エーテル型保護基をさらに具体的に示せば、メチル
，メトキシメチル，ベンジルオキシメチル，　ｔｅｒｔ
−ブトキシメチル，２−メトキシエトキシメチル，２，
２，２−トリクロロメトキシメチル，エチル，１−エト
キシエチル，１−メチル−１−メトキシエチル，２，２
，２−トリクロロエチル，プロピル，イソプロピル，ブ
チル，イソブチル，ｓｅｃ−ブチル，　ｔｅｒｔ−ブチ
ル，エトキシエチル，トリフェニルメチル，ｐ−メトキ
シフェニルジフェニルメチル；アリル；トリメチルシリ
ル，ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル，ｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル；ベンジル，ｐ−メトキシベンジル
，ｐ−ニトロベンジル，ｐ−クロロベンジル；テトラヒ
ドロピラニル，４−メトキシテトラヒドロピラニル，テ
トラヒドロフラニル等である。

【００１３】アシル型保護基としては、たとえばハロゲ
ン，炭素数１〜５の低級アルコキシ基，ハロゲンを有し
ていてもよいフェノキシ基で置換されていてもよい炭素
数１〜５のアルカノイル基、ニトロ基，フェニル基，ハ
ロゲンで置換されていてもよい炭素数１〜５の低級アル
キル基で置換されていてもよいベンゾイル基、炭素数２
〜６の低級アルキルオキシカルボニル基で置換されてい
てもよいベンゾイル基、ハロゲンで置換されていてもよ
い炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、炭素数３〜
５のアルケニルオキシカルボニル基、炭素数１〜５の低
級アルコキシ基またはニトロ基で置換されていてもよい
ベンジルオキシカルボニル基、ニトロ基で置換されてい
るフェノキシカルボニル基等が用いられる。上記のハロ
ゲン、炭素数１〜５の低級アルコキシ基および炭素数２
〜４のアルケニル基としてはエーテル型保護基の場合に
例示したものと同様のものが用いられる。

【００１４】アシル型保護基をさらに具体的に示せば、
ホルミル，アセチル，クロロアセチル，ジクロロアセチ
ル，トリクロロアセチル，トリフルオロアセチル，メト
キシアセチル，トリフェニルメトキシアセチル，フェノ
キシアセチル，ｐ−クロロフェノキシアセチル，プロピ
オニル，イソプロピオニル，３−フェニルプロピオニル
，イソブチリル，ピバロイル；ベンゾイル，ｐ−ニトロ
ベンゾイル，ｐ−フェニルベンゾイル，ｏ−（メトキシ
カルボニル）ベンゾイル，２，４，６−トリメチルベン
ゾイル；メトキシカルボニル，２，２，２−トリクロロ
エトキシカルボニル，イソブチリルオキシカルボニル；
ビニルオキシカルボニル，アリルオキシカルボニル；ベ
ンジルオキシカルボニル，ｐ−メトキシベンジルオキシ
カルボニル，３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボ
ニル，ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル；ｐ−ニト
ロフェノキシカルボニル等である。

【００１５】一般式［１］および［１′］において、Ｒ
１，Ｒ２，Ｒ７あるいはＲ８で示される硫黄を介する一
価の基の例としては、たとえばチオール基、式−Ｓ（Ｏ
）ｎ−　Ｒａ［式中、Ｒａは置換されていてもよいアル
キル，アルケニル，アリール，アラルキルまたは複素環
基を示し、ｎは０，１または２を示す］で表される基、
スルホン基（ＳＯ３Ｈ）、式−ＳＯ２ＮＲｂＲｃ　［式
中、ＲｂおよびＲｃは、　同一または相異なり水素，ア
ルキル基，アリール基またはアラルキル基を示す］で表
される基などが挙げられる。ここにおいて、Ｒａで示さ
れる「置換されていてもよいアルキル基」におけるアル
キル基としては、たとえば直鎖状または分枝状の炭素数
１〜６のものが好ましく、　　その例としては、　たと
えばメチル，エチル，ｎ−プロピル，イソプロピル，ｎ
−ブチル，イソブチル，ｓｅｃ−ブチル，ｔｅｒｔ−ブ
チル，１，１−ジメチルプロピル，ｎ−ペンチル，イソ
ペンチル，ｎ−ヘキシル，イソヘキシルなどが挙げられ
、　これらの中で炭素数１〜３のものが特に好ましい。 Ｒａで示される「置換されていてもよいアルケニル基」
におけるアルケニル基としては、たとえば炭素数２〜６
のものが好ましく、その例としては、たとえばビニル，
アリル，イソプロペニル，１−プロペニル，２−ブテニ
ル，３−メチル−３−ブテニル，１，３−ブタジエニル
，１，３−ペンタジエニル，４−ペンテニル，１，３−
ヘキサジエニルなどが挙げられ、　これらの中で炭素数
２〜４のものが特に好ましい。Ｒａで示される「置換さ
れていてもよいアリール基」におけるアリール基として
は、たとえばフェニル，ナフチル，ビフェニル，アンス
リル，インデニルなどが挙げられる。Ｒａで示される「
置換されていてもよいアラルキル基」におけるアラルキ
ル基としては、たとえばベンジル，フェネチル，フェニ
ルプロピルなどが挙げられる。 Ｒａで示される「置換されていてもよい複素環基」にお
ける複素環基としては、たとえば１個の硫黄原子，窒素
原子または酸素原子を含む５〜７員複素環基，２〜４個
の窒素原子を含む５〜６員複素環基，１〜２個の窒素原
子および１個の硫黄　原子または酸素原子を含む５〜６
員複素環基が挙げられる。

【００１６】上記の複素環基の具体例としては、たとえ
ば２−ピリジル，３−ピリジル，４−ピリジル，ピリミ
ジニル，ピラジニル，ピリダジニル，ピペラジニル，ピ
ラゾリル，イミダゾリル，チアゾリル，イソチアゾリル
，ベンゾチアゾリル，オキサゾリル，イソキサゾリル，
ベンゾピラニル，キノリル，チエノ［２，３−ｂ］ピリ
ジル，テトラゾリル，チアジアゾリル，オキサジアゾリ
ル，トリアジニル，トリアゾリル，チエニル，ピロリル
，フリル，ピロリジニル，イミダゾリジニル，テトラヒ
ドロピラニル，テトラヒドロフラニル，ベンゾチエニル
，ピラニル，インドリル，イソインドリジニル，クロマ
ニルなどが挙げられる。

【００１７】Ｒａで示される上記アルキル，アルケニル
，アリール，アラルキルまたは複素環基は、１個または
同一あるいは相異なる２〜４個の置換基で置換されてい
てもよく、このような置換基としては、たとえばハロゲ
ン（たとえばＢｒ，Ｃｌ，Ｆ，Ｉ），オキソ，チオキソ
，ニトロ，アミノ（たとえばメチル，エチルなどのＣ１
−４アルキル；ビニル，アリルなどのＣ２−４アルケニ
ル；シクロプロピル，シクロヘキシルなどのＣ３−６シ
クロアルキル；フェニル，ナフチルなどのＣ６−１０ア
リール；アセチル，プロピオニルなどのＣ２−４アシル
；カルバモイル，Ｎ−スルホカルバモイルなどを置換基
として１ないし２個有していてもよい），スルホ，シア
ノ，ヒドロキシ，カルボキシ（メチル，エチル，ｎ−ブ
チル，ｔ−ブチルなどのＣ１−４アルキルでエステル化
されていてもよい），シクロアルキル（たとえばシクロ
プロピル，シクロブチル，シクロヘキシルなどのＣ３−
６シクロアルキル），シクロアルケニル（たとえば１−
シクロプロペニル，１−シクロブテニル，１−シクロヘ
キセニルなどのＣ３−６シクロアルケニル），メトキシ
，エトキシなどのＣ１−４アルコキシ（アミノ；ヒドロ
キシ；カルボキシ；Ｃｌ，Ｂｒなどのハロゲン；フェニ
ル，ナフチルなどのＣ６−１０アリール；シクロプロピ
ル，シクロブチル，シクロヘキシルなどのＣ３−６シク
ロアルキル；メトキシ，エトキシなどのＣ１−４アルコ
キシなどを置換基として１ないし２個有していてもよい
），フェニル，ナフチルなどのＣ６−１０アリール（た
とえばＢｒ，Ｃｌなどのハロゲン；メチル，エチルなど
のＣ１−４アルキル；メトキシ，エトキシなどのＣ１−
４アルコキシ；メチルアミノ，ジメチルアミノ，エチル
アミノなどのモノ−又はジ−Ｃ１−４アルキルアミノ；
アミノ；カルバモイル；スルホ；メチルスルホニル，エ
チルスルホニルなどのＣ１−４アルキルスルホニル；シ
アノ；ヒドロキシ；カルボキシ；ニトロ；アセトキシ，
プロピオニルオキシなどのＣ２−４アシルオキシ；ベン
ジルオキシ，フェニルエチルオキシなどのＣ７−１０ア
ラルキルオキシ；スルホオキシなどを置換基として１な
いし２個有していてもよい），上記のアリールと同様の
置換基を有していてもよいフェニルカルボニル，ナフチ
ルカルボニルなどのＣ６−１０アリールカルボニル，上
記のアリールと同様の置換基を有していてもよいフェニ
ルオキシ，ナフチルオキシなどのＣ６−１０アリールオ
キシ，複素環基（たとえば１個の硫黄原子，窒素原子ま
たは酸素原子を含む５〜７員複素環基，２〜４個の窒素
原子を含む５〜６員複素環基，１〜２個の窒素原子およ
び１個の硫黄原子または酸素原子を含む５〜６員複素環
基などであり、これらの複素環基は２個以下の窒素原子
を含む６員環基，ベンゼン環または１個の硫黄原子を含
む５員環基と縮合していてもよい）などが挙げられる。 この様な複素環基の具体例としては、たとえば２−ピリ
ジル，３−ピリジル，４−ピリジル，テトラゾリル，チ
アジアゾリル，チエニル，チアゾリル，イソチアゾリル
，ベンゾチアゾリル等が挙げられる。これらの複素環基
は１個または同一あるいは相異なる２ないし４個の置換
基で置換されていてもよく、　このような置換基として
は、たとえばハロゲン（たとえばＢｒ，Ｃｌ，Ｆ，Ｉ）
，ニトロ，アミノ，ヒドロキシ，スルホ，シアノ，カル
ボキシ，オキソ，チオキソなどが挙げられる。また、Ｒ
ｂおよびＲｃで示される「アルキル基，アリール基また
はアラルキル基」は、Ｒａで示されるアルキル基，アリ
ール基またはアラルキル基と同意義を有する。

【００１８】一般式［１］において、Ｒ１あるいはＲ２
で示される窒素を介する一価の基の例としては、たとえ
ばアジド、式−ＮＲｄＲｅ　［式中、　ＲｄおよびＲｅ
は同一または異なって水素，置換されていてもよいアル
キルスルホニル，アリールスルホニル，アルキル，アル
ケニル，アリール，アラルキル，複素環またはアシル基
を示す］で表される基などが挙げられる。　　上記Ｒｄ
およびＲｅで示される「置換されていてもよいアルキル
スルホニル，アリールスルホニル，アルキル，アルケニ
ル，アリール，アラルキルまたは複素環基」におけるア
ルキル，アリール，アルケニル，アラルキルおよび複素
環基は、前述Ｒａにおける場合と同意義を有する。また
それぞれが、置換されている場合における各置換基の説
明は、前述Ｒａにおける場合と同様である。上記Ｒｄお
よびＲｅで示される「置換されていてもよいアシル基」
における置換されていてもよいアシル基としては、上記
の置換されていてもよいアルキル，アルケニル，アリー
ル，アラルキルまたは複素環基とカルボニル基の結合し
たものが挙げられる。

【００１９】上記置換されていてもよいアシル基の具体
例としては、たとえばホルミル，アセチル，グリシル，
クロロアセチル，ジクロロアセチル，トリクロロアセチ
ル，トリフルオロアセチル，メトキシアセチル，フェノ
キシアセチル，ｐ−クロロフェノキシアセチル，プロピ
オニル，アラニル，β−アラニル，セリル，ホモセリル
，ヒスチジル，ブチリル，イソブチリル，メチオニル，
バレリル，イソバレリル，ピバロイル，プロリル，オル
ニチル，バリル，トリプトフィル，アクリロイル，メタ
クリロイル，ベンゾイル，ナフトイル，サリチロイル，
ｐ−アニソイル，ｐ−ニトロベンゾイル，バニロイル，
ベラトイル，ガロイル，フェニルアセチル，チロニル，
チロシル，３−フロイル，２−テノイル，ニコチノイル
，イソニコチノイルなどが挙げられる。また上記式−Ｎ
ＲｄＲｅで表される基において、ＲｄおよびＲｅが同一
または異なって置換されていてもよいアルキル，アルケ
ニル，アリール，アラルキル，複素環またはアシル基で
ある場合、　これらの基は互いに環を形成していてもよ
い。このような場合の具体例として、　フタルイミド，
スクシンイミド，ピペリジン−１−イル，ピロリジン−
１−イル，ピペラジン−１−イル，４−メチルピペラジ
ン−１−イル，モルホリノ，１，２，３，４−テトラヒ
ドロキノリン−１−イル，チアゾリジン−３−イル，イ
ミダゾリルなどが挙げられる。

【００２０】一般式［１］において、Ｒ３がリン酸エス
テル化されていてもよい水酸基の場合、そのリン酸エス
テル残基としては、一般式

【化８】 ［式中、ｍは１〜３の整数、Ｒ９はＨまたは炭素数１〜
１４の炭化水素残基を示す］で表される基が挙げられる
。 Ｒ９の炭化水素残基としては、たとえばメチル，エチル
，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｓｅ
ｃ−ブチル，ｔｅｒｔ−ブチル，ペンチル等の炭素数１
〜５の低級アルキル基；ベンジル，ｐ−メトキシベンジ
ル，ｐ−メチルベンジル等のアラルキル基；フェニル基
等が例示される。

【００２１】化合物［１′］は、化合物［２］に、式Ｒ
ａＳＨ　［式中、Ｒａは前記と同意義を有する］で表さ
れるチオール類の金属塩（たとえばナトリウム，カリウ
ム，セシウム塩など）や有機アミン塩（たとえばトリエ
チルアミン，トリブチルアミンなどの脂肪族アミン塩、
　ピリジン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどの芳香族ア
ミン塩）を反応あるいは化合物［２］をワルデン反転を
伴うアジド化反応に付したのち、必要に応じて酸化反応
あるいは還元反応に付し、必要に応じて水酸基と核酸塩
基部分のアミノ基の保護基を除去することにより製造す
ることができる。 上記チオール類との反応において、基質に対する反応剤
の量は特に限定されるものではないが、通常１〜５倍当
量が用いられ、特に１〜２倍当量用いることが好ましい
。反応溶媒としては、メタノール，エタノールなどのア
ルコール類、　Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルスルホキシドなどが用いられるが、　これらに限られ
るものではない。反応温度は室温〜溶媒の還流温度が採
用されるが、室温〜７０℃が好ましい。

【００２２】酸化反応で用いられる酸化剤としては、た
とえば過酢酸，過安息香酸，メタクロロ過安息香酸など
の過酸化物、過マンガン酸カリウム，オゾン，過ヨウ素
酸カリウムなどがある。　本酸化反応はこの様な酸化剤
を、　ｎ＝１の目的物を製造する場合には原料１モルに
対して０．９ないし１．２モル反応させ、ｎ＝２の目的
物を製造する場合には原料１モルに対して２モル以上好
ましくは２ないし６モル反応させることにより実施する
。

【００２３】本酸化反応は溶媒中で行うことができる。 この様な溶媒としては、反応を阻害しなければどのよう
な溶媒でもよく、具体例としてはたとえば水、酢酸エチ
ルなどのエステル類，クロロホルム，ジクロロメタンな
どのハロゲン化炭化水素類，ジエチルエーテル，テトラ
ヒドロフランなどのエーテル類，アセトンなどのケトン
類，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類など
が用いられる。反応温度は、通常−２０℃ないし１００
℃、好ましくは０℃ないし３０℃である。反応時間は、
目的が達成される限り特に制限されないが、通常１０分
間ないし３０時間好ましくは３０分間ないし１５時間で
ある。

【００２４】またアジド化剤としては、アジ化水素の金
属塩（たとえば前述の塩など）や有機アミン塩（たとえ
ば前述の塩など）が用いられるが、特に好ましいアジド
化剤は、アジ化ナトリウム，テトラブチルアンモニウム
アジドである。該アジド化反応は、通常Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド，ジメチルスルホキシド，メタノール，
エタノール等の極性溶媒中で行なわれるが、　これらに
限られるものではない。基質に対す　るアジド化剤の量
は特に限定されるものではないが、　通常１〜５倍当量
が用いられ、特に１〜２倍当量用いることが好ましい。 反応温度は室温〜溶媒の還流温度の範囲が採用されるが
、４０℃〜８０℃が好ましい。還元反応としては、パラ
ジウム触媒を用いる接触還元反応（Ｙ．　Ｆ．　Ｓｈｅ
ａｌｙ　他、Ｊ．　Ｍｅｄ．　Ｃｈｅｍ．，　　第２９
巻，４８３−４８８頁（１９８６年））や、　有機塩基
（たとえばトリエチルアミン，トリブチルアミンなどの
脂肪族アミン、ピリジン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンな
どの芳香族アミンなど）と硫化水素を用いる還元反応（
Ｔ．　Ａｄａｃｈｉ　他、　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，４５
−４６頁（１９７７年））などが好ましいが、特に限定
されるものではない。

【００２５】また、化合物［１′］においてＲ７あるい
はＲ８がアミノ基である化合物は、化合物［２］にフタ
ルイミドの金属塩（たとえばカリウム，ナトリウム，セ
シウム塩など）を反応させ、ついでフタロイル基を除去
することによって製造することもできる。基質に対する
反応剤の量は特に限定されるものではないが、通常１〜
５倍当量が用いられ、特に１〜２倍当量用いることが好
ましい。また、この場合相間移動触媒（たとえば１８−
クラウン−６，１５−クラウン−５など）を０．１〜１
倍当量共存させることが好ましい。反応溶媒としては、
たとえばベンゼン，トルエンなどの芳香族炭化水素、ジ
クロルエタンなどのハロゲン化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどが用いら
れるが、これらに限られるものではない。反応温度は５
０℃〜溶媒の還流温度が採用されるが、７０℃〜１３０
℃が好ましい。フタロイル基の除去は、メタノール，エ
タノールなどのアルコール類、　ジクロルメタン，ジク
ロルエタンなどのハロゲン化炭化水素、　Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの溶媒中
、ヒドラジン，メチルヒドラジンなどを反応させること
により行なわれるが、　これに限定されるものではない
。

【００２６】化合物［１］，［１′］および［２］の水
酸基保護基および核酸塩基部分のアミノ基の保護基は、
前記のとおりであり、これらはたとえば「Ｐｒｏｔｅｃ
ｔｉｖｅ　　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎＯｒｇａｎｉｃ　Ｃｈ
ｅｍｉｓｔｒｙ」、Ｊ．　Ｆ．　Ｗ．　ＭｃＯｍｉｅ　
編（Ｐｌｅｎｕｍ　Ｐｒｅｓｓ　社出版、１９７３年）
または「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　
Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、Ｔｈｅｏｄｏ
ｒａ　Ｗ．　Ｇｒｅｅｎｅ　編（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ
　ａｎｄ　Ｓｏｎｓ　社出版、　１９８１年）に記載の
いずれかの慣用保護基である。これらの保護基は、慣用
手段を使用することにより除去することができる。たと
えば、アシル基の場合は酸性あるいは塩基性条件下での
加水分解反応、置換トリチル基の場合は酸性条件下での
加水分解反応、また置換ベンジル基の場合は接触還元反
応により除去することができる。

【００２７】化合物［２］においてＲ５が活性化された
水酸基である化合物は、たとえば公知の９−［（１Ｒ，
３Ｓ，４Ｒ）−３−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチ
ル）シクロペンタン−１−イル］アデニン（特開昭６１
−１３７８８７）、または９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）
−３−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペ
ンタン−１−イル］グアニン（特開昭６２−１７４０９
７）を出発原料にして、次のようにして製造される。す
なわち、該化合物に、上記記載の保護基を、たとえば塩
基（たとえばトリエチルアミン，トリブチルアミンなど
の脂肪族アミン、　ピリジン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ンなどの芳香族アミンなど）の存在下、　アシルクロリ
ド，酸無水物，置換トリチルクロリド，置換ベンジルク
ロリドなどを反応させることにより導入した化合物に、
　活性化基剤を反応させることにより合成される。

【００２８】ここにいう活性化基としては、たとえば、
メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基
、ｐ−トルエンスルホニル基、あるいはイミダゾリルス
ルホニルなどのスルホニル基が挙げられる。特に好まし
くはメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニ
ル基である。活性化基の導入反応は、対応するスルホニ
ルクロリドやスルホン酸無水物を塩基（たとえばトリエ
チルアミン，トリブチルアミンなどの脂肪族アミン、　
ピリジン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどの芳香族アミ
ンなど）の存在下に反応させることにより行なわれる。 この場合反応は、通常不活性溶媒中で行なわれる。たと
えば塩化メチレン，ジクロロエタン，クロロホルム，四
塩化炭素などのハロゲン化炭化水素溶媒、　ペンタン，
ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、　ベンゼン，トル
エンなどの芳香族炭化水素溶媒などが適しているが、　
これらに限られるものではない。好ましくは、　塩化メ
チレン，ジクロロエタンが用いられる。　基質に対する
活性化基剤の量は特に限定されるものではないが、　通
常１〜３倍当量用いられ、特に１〜１．５倍当量用いる
ことが好ましい。また塩基の量は通常１〜１０倍当量用
いられ、特に２〜４倍当量用いることが好ましい。反応
温度は−７８℃〜溶媒の還流温度の範囲が採用されるが
、−２０℃〜室温が好ましい。一般式

【化９】 ［式中、　Ｒ６およびＢは前記と同意義を、Ｒ４′およ
びＲ５′はいずれか一方が水酸基で他方はＨを示す］で
表される化合物においてＲ５′が水素原子である化合物
は、たとえば化合物［２］においてＲ５′が活性化され
た水酸基で示される化合物をワルデン反転をともなった
アシルオキシル化反応に付し、　ついで脱アシル化する
ことにより製造される。　ワルデン反転をともなったア
シルオキシル化反応は、酢酸セシウム，フェニル酢酸セ
シウムなどのカルボン酸の金属塩と１８−クラウン−６
，１５−クラウン−５などのクラウンエーテルを用いて
行なわれるが、好ましくは酢酸セシウムと１８−クラウ
ン−６を用いて行なわれる。この場合反応は、通常不活
性溶媒中で行なわれる。たとえばベンゼン，トルエンな
どの芳香族炭化水素溶媒、　ジクロロエタンなどのハロ
ゲン化炭化水素溶媒などが適しているが、　これらに限
られるものではない。　反応温度は５０℃〜溶媒の還流
温度の範囲が採用されるが、７０℃〜１３０℃が好まし
い。

【００２９】なお、化合物［５］においてＲ４′が水酸
基でありＲ５′が水素原子である化合物は、　化合物［
５］においてＲ４′が水素原子でありＲ５′が水酸基で
示される化合物を光延反応（Ｏ．　Ｍｉｔｓｕｎｏｂｕ
，　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１−２８頁（１９８１年））
に付すか、または化合物［５］においてＲ４′が水素原
子でＲ５′が水酸基でありＲ６がアシル基で保護された
水酸基である化合物を、アシル基の転位反応（Ｐ．　Ａ
．　Ｍ．　Ｈｅｒｄｅｗｉｊｎ，Ｊ．Ｏｒｇ．　Ｃｈｅ
ｍ．，第５３巻，５０５０−５０５３頁　（１９８８年
））に付したのち、それぞれ脱アシル化することにより
合成することも可能である。　脱アシル化は、　慣用手
段にしたがって、　酸性あるいは塩基性条件下での加水
分解反応により行なわれる。

【００３０】化合物［２］においてＲ４が活性化された
水酸基である化合物は、化合物［５］でＲ４′が水酸基
である化合物に、　活性化基剤を反応させることにより
合成される。活性化基としては、　たとえばメタンスル
ホニル基，トリフルオロメタンスルホニル基，ｐ−トル
エンスルホニル基あるいはイミダゾリルスルホニルなど
のスルホニル基がある。　特に好ましくはメタンスルホ
ニル基、　トリフルオロメタンスルホニル基である。　
活性化基の導入反応は、　対応するスルホニルクロリド
やスルホン酸無水物を塩基（たとえばトリエチルアミン
，トリブチルアミンなどの脂肪酸アミン、　ピリジン，
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどの芳香族アミンなど）の
存在下に反応させることにより合成される。　この場合
反応は、　通常不活性溶媒中で行なわれる。　たとえば
塩化メチレン，ジクロロエタン，クロロホルム，四塩化
炭素などのハロゲン化炭化水素溶媒、　ペンタン，ヘキ
サンなどの脂肪族炭化水素溶媒、　ベンゼン，トルエン
などの芳香族炭化水素溶媒などが適しているが、　これ
らに限られるものではない。　好ましくは、　塩化メチ
レン，ジクロロエタンが用いられる。基質に対する活性
化剤の量は特に限定されるものではないが、　　通常１
〜３倍当量用いられ、特に１〜１．５倍当量用いること
が好ましい。また塩基の量は通常１〜１０倍当量用いら
れ、特に２〜４倍当量用いることが好ましい。反応温度
は−７８℃〜溶媒の還流温度の範囲が採用されるが、−
２０℃〜室温が好ましい。

【００３１】化合物［１］において、Ｒ３がリン酸エス
テル化された水酸基である化合物は、次のように製造さ
れる。たとえば、モノリン酸エステル体は、化合物［１
］においてＲ３が水酸基である化合物にリン酸化剤を反
応させた後、加水分解することによって得ることができ
る。 このときのリン酸化剤は、理論量の約２．５〜１０倍モ
ルで、約３０分〜１０時間反応させた後、氷冷中で加水
分解することにより好ましく実施できる。

【００３２】一般に、リン酸化反応に利用されるリン酸
化剤としては、オキシ塩化リン，ピロホスホリルテトラ
クロリド，三塩化リン，ポリリン酸，メタリン酸などの
ように直接リン酸残基を導入する型のものと、　リン酸
ベンジルエステル・ジクロリド，モルホリノリン酸ジク
ロリド，フェニルリン酸ジクロリド，ジ−β−シアノエ
チルリン酸クロリド，ジベンジルリン酸クロリド，Ｏ−
ベンジル亜リン酸，Ｏ，Ｏ−ジフェニルピロリン酸など
のようにリン酸化のあとリン酸の保護基をはずしたり、
酸化過程を含むものがあげられる。また、モノリン酸エ
ステル体に自体公知の方法に準じて、−２０℃〜１０℃
で１−フルオロ−２，４−ジニトロベンゼンあるいはカ
ルボニルジイミダゾールなどを作用させることによって
活性リン酸エステルに導き、これにオルトリン酸あるい
はピロリン酸の有機アミン塩を０〜４０℃で作用させる
ことによって、ジリン酸エステル体またはトリリン酸体
を製造することができる。

【００３３】以上の反応によって合成された各リン酸誘
導体は炭末などによる脱塩操作ののち、陰イオン交換セ
ルロースあるいは陰イオン交換樹脂などによるクロマト
グラフィーによって精製することができる。精製後は遊
離型の状態で得ることもできるが、必要に応じてカリウ
ム，ナトリウム，カルシウム，バリウム，アンモニウム
あるいは有機アミンなどの各塩として単離することもで
きる。かくしてリン酸化を終えた後にＲ９で示される炭
化水素残基が導入される。この導入にはアルキル化剤が
一般に用いられるが、好ましくはジアゾアルカン（たと
えばジアゾメタン，ジアゾベンジルなど）を有機溶媒あ
るいは有機溶媒と水との混液中反応させることによって
達成される。　また、　リン酸残基をメシチレンスルホ
ニルクロリドなどの活性化剤によって活性化したのち、
　フェノール類を反応させ置換フェニル基を導入するこ
とができる。

【００３４】本発明により、光学活性シクロペンタン誘
導体［１］の合成が可能となった。また、本発明の光学
活性シクロペンタン誘導体［１］は、たとえばヒトのヘ
ルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）に対して優れた活性
を示し、その毒性も低く、抗ウイルス剤として有用であ
る。 本発明の化合物は、ラセミ体ではなく、医薬として用い
ることのできる光学的に純粋な化合物である。本化合物
は、抗ウイルス剤として、動物とりわけ哺乳動物（たと
えばウサギ，ラット，マウスなどの実験動物；イヌ，ネ
コなどの愛玩動物；ヒト）のウイルス病の治療に使用す
ることができる。また医学領域においては、抗真菌，抗
菌，抗原虫剤としての可能性を有するほか制癌効果も期
待できるものである。

【００３５】本発明化合物を上記の治療の目的で使用す
る場合、それ自体あるいは適宜の薬理的に許容される担
体、賦形剤，希釈剤と混合し、粉末，顆粒，錠剤，カプ
セル剤，水剤，乳化剤，軟膏剤，注射剤等の剤型で経口
的または非経口的に投与することができる。上記の担体
としては、たとえば乳糖，デンプン，鉱油，石油ゼリー
，ポリエチレングリコール，プロピレングリコール，注
射用食塩水などがあげられ、　用途によって使いわけら
れる。投与量はウイルスの種類、症状，投与対象，投与
方法などによって異なるが、たとえば成人のヘルペスウ
イルスの感染症の場合、１日約１．０〜１００ｍｇを１
〜３回に分けて静脈内に投与するのが好ましい、また経
口的に投与するためには、５ｍｇ〜１００ｍｇ／１回を
１〜３回に分けて投与するのが望ましい。

【００３６】

【作用および実施例】本発明は、以下の参考例、実施例
、試験例で詳しく説明されるが、これらの例は単なる実
例であって本発明を限定するものではなく、また本発明
の範囲を逸脱しない範囲で変化させてもよい。 参考例１ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｓ
，４Ｒ）−３−ヒドロキシ−４−（ｐ−メトキシトリチ
ルオキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グアニン
の製造：９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−３−ヒドロキシ
−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンタン−１−イル
］グアニン（１ｇ）を乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（１５ｍｌ）に懸濁し、これにピリジン（１．１９ｇ
）とｐ−アニシルクロルジフェニルメタン（１．５１ｇ
）を加え、室温で４５分間かきまぜた。反応液にｐ−ア
ニシルクロルジフ　ェニルメタン（１．５１ｇ）を追加
し、さらに室温で３時間かきまぜたのち、酢酸　エチル
（７０ｍｌ）を加え、水洗（５０ｍｌ×３）し乾燥（Ｍ
ｇＳＯ４）した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留
物をシリカゲルのカラムに通し、カラムを酢酸エチルと
塩化メチレンとメタノールの混合物（１０：１０：１）
で洗浄し、ついで酢酸エチルと塩化メチレンとメタノー
ルの混合物（４：４：１）で溶出後、目的物を含む分画
を集め減圧下に濃縮して、　題記化合物（２．０５ｇ）
を粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３５０，　１６９２，
　１６０８，　１５６５，　１５１２，　１２４８． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　１．３８（
１Ｈ，ｍ），　１．９２（３Ｈ，ｍ），　２．０５（１
Ｈ，ｍ），　２．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），
　２．９９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），　３．２３
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，８．６Ｈｚ），　３．６９
（３Ｈ，ｓ），　３．７８（３Ｈ，ｓ），　３．９７（
１Ｈ，ｍ），　４．４０（１Ｈ，ｍ），　６．７１（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．８Ｈｚ），　７．０４〜７．５０（２５Ｈ，ｍ）
，　１０．７３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）．

【００３７】参考例２ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｓ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メタンスルホニルオキシ）シクロペンタン−１
−イル］グアニンの製造：参考例１で得られた化合物（
２．４ｇ）を塩化メチレン（７０ｍｌ）に溶かし、これ
に氷冷下トリエチルアミン（０．９０２ｇ）と塩化メタ
ンスルホニル（０．４７６ｇ）を加え、　同温度で４０
分間かきまぜた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、ついで飽和食塩水で洗浄したのち乾燥（ＭｇＳＯ４
）した。溶媒を減圧下に留去し、題記化合物（２．６２
ｇ）を粉末として得た。本品は精製せずに下記参考例３
あるいは下記実施例で用いた。

【００３８】参考例３ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（
ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）シクロペンタン−
１−イル］−Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）グアニン
の製造：参考例２で得られた化合物をトルエン（２００
ｍｌ）に溶かし、これに１８−クラウン−６（０．７８
５ｇ）と酢酸セシウム（２．８５ｇ）を加え、　加熱還
流下に１４時間かきまぜた。不溶物をろ去し、ろ液を減
圧下に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルのカラム
に通し、カラムを酢酸エチルで洗浄し、ついで酢酸エチ
ルと塩化メチレンとメタノールの混合物（１０：１０：
１）で溶出後、　目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮
し、題記化合物（１．８８ｇ）を粉末として得た。ＩＲ
（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３５５，　１７３６，　１
６８８，　１６０４，　１５６２，　１５１０，　１２
４５．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　
１．２３（１Ｈ，ｍ），　１．６８（１Ｈ，ｍ），　１
．７６（３Ｈ，ｓ），２．２３（３Ｈ，ｍ），　２．９
３（２Ｈ，ｍ），　３．６７（３Ｈ，ｓ），　３．７５
（３Ｈ，ｓ），　４．０５（１Ｈ，ｓ），　５．２５（
１Ｈ，ｍ），６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），
　６．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．０５
〜７．５０（２５Ｈ，ｍ），　７．５６（１Ｈ，ｓ），
　１０．５２（１Ｈ，ｓ）．

【００３９】参考例４ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−ヒドロキシ−４−（
ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）シクロペンタン−
１−イル］−Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）グアニン
の製造：参考例３で得られた化合物（０．０５４ｇ）を
メタノール（５ｍｌ）に溶かし、これに１Ｎナトリウム
メトキシド−メタノール溶液（０．０５ｍｌ）を加え、
室温で５時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得ら
れた残留物をシリカゲルのカラムに通し、カラムを酢酸
エチルと塩化メチレンとメタノールの混合物（１０：１
０：１）で洗浄し、ついで酢酸エチルと塩化メチレンと
メタノールの混合物（４：４：１）で溶出後、目的物を
含む分画を集め減圧下に濃縮して、題記化合物（０．０
４５ｇ）を粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３６０，　１６８３，
　１６０３，　１５６０，　１５１０，　１２４６． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．２
８（１Ｈ，ｍ），　１．５４（１Ｈ，ｍ），　１．８８
（２Ｈ，ｍ），２．０７（１Ｈ，ｍ），　２．９２（１
Ｈ，ｍ），　３．２０（１Ｈ，ｍ），　３．６７（３Ｈ
，ｓ），　３．７５（３Ｈ，ｓ），　４．０４（２Ｈ，
ｍ），４．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），　６．
８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），　６．９１（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），　７．０８〜７．４６（２４
Ｈ，ｍ），　７．５６（１Ｈ，ｓ），　７．６１（１Ｈ
，ｓ），　１０．５１（１Ｈ，ｓ）．

【００４０】参考例５ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メタンスルホニルオキシ）シクロペンタン−１
−イル］グアニンの製造：参考例４で得られた化合物（
１．２ｇ）を塩化メチレン（３５ｍｌ）に溶かし、これ
に氷冷下トリエチルアミン（０．４５１ｇ）と塩化メタ
ンスルホニル（０．２３８ｇ）を加え、同温度で３０分
間かきまぜた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
、ついで飽和食塩水で洗浄したのち乾燥（ＭｇＳＯ４）
した。溶媒を減圧下に留去し、題記化合物（１．３１ｇ
）を粉末として得た。本品は精製せずに下記実施例で用
いた。

【００４１】参考例６ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−３−ヒドロキシ−４−（
ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）シクロペンタン−
１−イル］アデニンの製造：９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ
）−３−ヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シクロ
ペンタン−１−イル］アデニン（４ｇ）を乾燥Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（６０ｍｌ）とピリジン（１０ｍ
ｌ）の混合物に溶かし、これにｐ−アニシルクロロジフ
ェニルメタン　（５．９４ｇ）を加え、室温で１．５時
間かきまぜた。反応液にｐ−アニシルクロロジフェニル
メタン（０．７５ｇ）を追加し、さらに室温で２時間か
きまぜたのち、酢酸エチル（２００ｍｌ）を加え、水洗
（１００ｍｌ×３）し乾燥（ＭｇＳＯ４）した。溶媒を
減圧下に留去し、　得られた残留物をシリカゲルのカラ
ムに通し、　塩化メチレンとメタノールの混合物（１０
：１）で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮
して、題記化合物（５．７４ｇ）を粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３９０，　３３２５，
　３１９０，　１６４１，　１５９８，　１２５０． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．８
７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．６，１０．２，１０．２Ｈ
ｚ），　２．０３（１Ｈ，ｍ），　２．１０〜２．５０
（３Ｈ，ｍ），　３．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，
９．０Ｈｚ），　３．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，
９．０Ｈｚ），　３．７４（３Ｈ，ｓ），　４．１５（
１Ｈ，ｍ），　４．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）
，　５．０２（１Ｈ，ｍ），　６．９０（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．０Ｈｚ），　７．１３〜７．４７（１３Ｈ，ｍ）
，　８．１０（１Ｈ，ｓ），　８．１６（１Ｈ，ｓ）．

【００４２】参考例７ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−３−ヒドロキシ−４−（
ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）シクロペンタン−
１−イル］−Ｎ６−（ｐ−メトキシトリチル）アデニン
の製造：参考例６で得られた化合物（３ｇ）をＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）に溶かし、　これに
トリエチルアミン（１．７５ｇ）とｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルクロロシラン（１．３ｇ）を加え、室温で３時間
かきまぜた。反応液にピリジン（１５ｍｌ）とｐ−アニ
シルクロロジフェニルメタン（２．６６ｇ）を加え、室
温で１５時間かきまぜた。反応液にｐ−アニシルクロロ
ジフェニルメタン（１．３３ｇ）を追加し、さらに５時
間かきまぜたのち、酢酸エチル（２００ｍｌ）を加え、
　水洗（１００ｍｌ×３）し乾燥（ＭｇＳＯ４）した。 　溶媒を減圧下に留去し、　得られた残留物をＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）に溶かし、これにフ
ッ化テトラブチルアンモニウム・３水和物（３．６３ｇ
）を加え、室温で１時間かきまぜた。反応液に酢酸エチ
ル（１００ｍｌ）を加え、水洗（５０ｍｌ×３）し乾燥
（ＭｇＳＯ４）した。　溶媒を減圧下に留去し、得られ
た残留物をシリカゲルのカラムに通し、　酢酸エチルと
塩化メチレンの混合物（１：１）で溶出後、目的物を含
む分画を集め減圧下に濃縮して、題記化合物（４．５ｇ
）を粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３４２５，　１６０５，
　１５１２，　１４６６，　１４４３，　１２５０． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．７
７〜２．４５（５Ｈ，ｍ），　３．０１（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝８．８Ｈｚ），　３．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４
，８．８Ｈｚ），　３．７１（３Ｈ，ｓ），　３．７２
（３Ｈ，ｓ），　４．１３（１Ｈ，ｍ），　４．８８（
１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），　５．０１（１Ｈ，ｍ）
，　６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．８
９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．１５〜７．４
２（２５Ｈ，ｍ），　７．８７（１Ｈ，ｓ），　８．２
６（１Ｈ，ｓ）．

【００４３】参考例８ Ｎ６−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｓ
，４Ｒ）−３−（メタンスルホニルオキシ）−４−（ｐ
−メトキシトリチルオキシメチル）シクロペンタン−１
−イル］アデニンの製造：参考例７で得られた化合物（
０．５ｇ）を塩化メチレン（１０ｍｌ）に溶かし、これ
に氷冷下トリエチルアミン（０．１９１ｇ）と塩化メタ
ンスルホニル　（０．０８７ｇ）を加え、　同温度で１
５分間かきまぜた。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、ついで飽和食塩水で洗浄したのち乾燥（ＭｇＳＯ
４）した。溶媒を減圧下に留去し、題記化合物（０．５
４ｇ）を粉末として得た。本品は精製せずに下記実施例
で用いた。

【００４４】参考例９ ９−［（１Ｒ，２Ｒ，４Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（
ヒドロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グアニ
ンの製造：９−［（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−２，３
−ジヒドロキシ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペン
タン−１−イル］グアニン（１４０ｍｇ）をアセトニト
リル（４ｍｌ）に懸濁し、メタノール（３０ｍｇ）を加
えた後、臭化アセチル（０．５ｍｌ）を加え、３時間加
熱還流した。反応液を減圧濃縮し、残留物を臭化水素酸
（４０％，４ｍｌ）に溶かし、室温で一夜撹拌した。反
応液を減圧濃縮乾固し、残留物にエタノール−エチルエ
ーテル（１：５，６ｍｌ）を加えて無色粉末を得た。こ
の粉末（２００ｍｇ）をメタノー　ル−水（４：１，５
ｍｌ）に溶かし、酢酸ナトリウム（４００ｍｇ）を加え
た後、５％パ　ラジウム−炭素（２００ｍｇ）を加え、
室温常圧で３時間接触還元を行った。触媒を瀘過し、エ
タノール−水−ピリジン（１：１：１）で洗浄した。瀘
液と洗液を合わせ、減圧濃縮後、残留物をアンバーライ
トＸＡＤ−ＩＩ（２５ｍｌ）のカラムクロマトに付し、
水および３％メタノール水で溶出した。溶出画分を減圧
濃縮して題記化合物（４５ｍｇ）を白色結晶として得た
。ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．６
２５（２Ｈ，ｍ），　１．８３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．６
Ｈｚ），　２．１７７（２Ｈ，ｍ），　３．３７８（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６，１９．６Ｈｚ），　４．３３（
２Ｈ，ｍ），　４．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）
，５．１２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），　６．３
６６（２Ｈ，ブロードｓ），　７．７５９（１Ｈ，ｓ）
，　１０．５０４（１Ｈ，ブロードｓ）．

【００４５】参考例１０ ９−［（１Ｒ，２Ｓ，４Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（
ヒドロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グアニ
ンの製造：９−［（１Ｒ，２Ｒ，４Ｓ）−２−ヒドロキ
シ−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンタン−１−イ
ル］グアニン（３１５ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（５ｍｌ）に溶かし、減圧濃縮した。残留物をピ
リジン（５ｍｌ）に溶かし、ｐ−アニシルクロロジフェ
ニルメタン（７７０ｍｇ）を加えて室温で７時間撹拌し
た。反応液を減圧濃縮し、残留物をシリカゲル（２０ｇ
）のカラムクロマトに付し、クロロホルム−メタノール
（２４：１）で溶出した。溶出画分を減圧濃縮乾固し、
ジ（ｐ−メトキシトリチル）体を無色粉末（５５０ｍｇ
）として得た。得られた粉末（５５０ｍｇ）のジクロロ
メタン（４ｍｌ）溶液を、三酸化クロム（２７３ｍｇ）
−ピリジン（０．４７６ｍｌ）のジクロロメタン（４ｍ
ｌ）溶液に滴下し、１０分間室温で撹拌後、無水酢酸（
０．２７ｍｌ）を加えて室温で２０分間撹拌した。反応
液をシリカゲル（１０ｇ）のカラムに加え、カラムをク
ロロホルム−メタノール（２４：１）で溶出した。溶出
液を減圧濃縮乾固後、得られた固体（２００ｍｇ）をテ
トラヒドロフラン（２ｍｌ）に溶かした。これにＬ−セ
レクトライドの１Ｍ溶液（１ｍｌ）を加えて室温で２時
間撹拌した。反応液に１０％塩酸のメタノール溶液（２
ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌後、減圧濃縮した。残
留物をエチルエーテルで洗浄後、アンバーライトＸＡＤ
−ＩＩ（５５ｍｌ）のカラムクロマトに付した。カラム
を５％エタノール水で溶出し、溶出画分を減圧濃縮した
。残留物を水（２ｍｌ）に加熱溶解後、冷蔵庫中で一夜
放置して題記化合物（４０ｍｇ）の結晶を得た。ＮＭＲ
（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．３〜２．４
５（５Ｈ，ｍ），　３．４２７（２Ｈ，ｍ），　４．４
０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．７Ｈｚ），　４．６９９（１
Ｈ，ｍ），　４．９２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）
，　６．４１４（２Ｈ，ブロードｓ），７．６８１（１
Ｈ，ｓ），１０．５５（１Ｈ，ブロードｓ）．

【００４
６】実施例１ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルチオ）シクロペンタン−１−イル］グア
ニンの製造：参考例２で得られた化合物（１．０９ｇ）
を乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）に溶
かし、これに窒素気流中メチルメルカプタンのナトリウ
ム塩（０．４３ｇ）を含む水（２．８８ｍｌ）溶液を加
えたのち、４０〜５０℃で１時間かきまぜ、さらに７０
〜７５℃で３時間かきまぜた。 反応液に酢酸エチル（１００ｍｌ）を加え、水洗（４０
ｍｌ×３）し乾燥（ＭｇＳＯ４）した。溶媒を減圧下に
留去し、得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し、
　酢酸エチルと塩化メチレンとメタノールの混合物（１
０：１０：１）で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧
下に濃縮して、題記化合物（０．９９５ｇ）を粉末とし
て得た。ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３６０，　１
６９０，　１６０７，　１５６５，　１５１２，　１２
５２．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　１．
５６（１Ｈ，ｍ），　１．９３（３Ｈ，ｓ），　２．０
４（１Ｈ，ｍ），　２．２８（３Ｈ，ｍ），　３．１１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１１．８Ｈｚ），　３．１
６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），　３．３３（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝６．３，９．１Ｈｚ），　３．６６（３Ｈ，
ｓ），　３．７８（３Ｈ，ｓ），　４．０９（１Ｈ，ｍ
），　６．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．
８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　７．００〜７．
５０（２５Ｈ，ｍ），　１１．３９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
．

【００４７】実施例２ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルチオ）シクロペンタン−１−イル］グ
アニンの製造：実施例１で得られた化合物（０．４ｇ）
を８０％酢酸水（１５ｍｌ）に溶かし、４５〜５０℃で
３時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得られた残
留物をシリカゲルのカラムに通し、塩化メチレンとメタ
ノールの混合物（８：１）で溶出後、目的物を含む分画
を集め減圧下に濃縮して、題記化合物（０．０８１ｇ）
を粉末として得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　２９６（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３４２８，　３３３０，　３１５３，
　１６９２，　１６３５，　１６００，　１３６７． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．８
４（１Ｈ，ｍ），　１．９８（１Ｈ，ｍ），　２．１０
（３Ｈ，ｓ），２．３３（２Ｈ，ｍ），　２．５８（１
Ｈ，ｍ），　３．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０，１４
．２Ｈｚ），　３．５２（１Ｈ，ｍ），　３．６８（１
Ｈ，ｍ），　４．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），
　４．６６（１Ｈ，ｈｅｘ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），　６．
４０（２Ｈ，ｓ），　７．８２（１Ｈ，ｓ）．

【００４８】実施例３ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルスルホニル）シクロペンタン−１−イル
］グアニンの製造：実施例１で得られた化合物（０．２
ｇ）を塩化メチレン（５ｍｌ）に溶かし、これに氷冷下
ｍ−クロロ過安息香酸（０．１２４ｇ）を加え、同温度
で１時間かきまぜた。反応液を５％亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液、ついで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
したのち乾燥（ＭｇＳＯ４）した。溶媒を減圧下に留去
し、得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸
エチルと塩化メチレンとメタノールの混合物（１０：１
０：１）で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧下に濃
縮して、題記化合物　　（０．１５７ｇ）を粉末として
得た。ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３４０，　１６
９０，　１６０８，　１５７２，　１５１２，　１２９
８，　１２５２，　１１７９．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，
ＣＤＣｌ３）δ：　１．８７（１Ｈ，ｍ），　２．０２
（２Ｈ，ｍ），　２．２６（１Ｈ，ｍ），　２．４６（
１Ｈ，ｍ），　２．７０（３Ｈ，ｓ），　３．３６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，１４．８Ｈｚ），　３．５０（
１Ｈ，　ｄｄ，Ｊ＝８．０，９．６Ｈｚ），　３．６３
（１Ｈ，ｍ），　３．６８（３Ｈ，ｓ），　３．７９（
３Ｈ，ｓ），　４．００（１Ｈ，ｍ），　６．７１（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
９．０Ｈｚ），　６．９４〜７．５７（２５Ｈ，ｍ），
　７．８１（１Ｈ，ｓ），　１１．５２（１Ｈ，ｂｒ．
ｓ）．

【００４９】実施例４ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルスルホニル）シクロペンタン−１−イ
ル］グアニンの製造：実施例３で得られた化合物（０．
２３７ｇ）を　　８０％酢酸水（１０ｍｌ）に溶かし、
４５〜５０℃で３時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去
し、得られた残留物にエタノール（１０ｍｌ）を加え、
再び減圧下留去したのちエチルエーテル（１５ｍｌ）を
加え、生じた粉末をろ取した。得られた粉末を熱水（１
５ｍｌ）に溶かし、不溶物をろ去したのち冷却し、生じ
た粉末をろ取して、題記化合物（０．０５６ｇ）を得た
。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　３２８（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３３３５，　１７２５，　１６９０，
　１６２４，　１２８５，　１１５０． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　２．０
１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．４，１０．０，１０．０Ｈ
ｚ），　２．３６（２Ｈ，ｍ），　２．６２（２Ｈ，ｍ
），　３．０４（３Ｈ，ｓ），　３．６９（１Ｈ，ｍ）
，　３．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０，１８．６Ｈｚ）
，３．９３（１Ｈ，ｍ），　４．６３（１Ｈ，ｍ），　
４．７７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），　６．４０（
２Ｈ，ｓ），　７．８１（１Ｈ，ｓ），　１０．５７（
１Ｈ，ｓ）．

【００５０】実施例５ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｓ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルチオ）シクロペンタン−１−イル］グア
ニンの製造：参考例５で得られた化合物（１．７５ｇ）
を乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍｌ）に溶
かし、これに窒素気流中メチルメルカプタンのナトリウ
ム塩（０．６９　４ｇ）を含む水（４．７ｍｌ）溶液を
加えたのち、４０〜５０℃で１時間かきまぜ、さらに７
０〜７５℃で３時間かきまぜた。 反応液に酢酸エチル（８０ｍｌ）を加え、水洗（３０ｍ
ｌ×３）し乾燥（ＭｇＳＯ４）した。溶媒を減圧下に留
去し、得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し、　
酢酸エチルと塩化メチレンとメタノールの混合物（１０
：１０：１）で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧下
に濃縮して、題記化合物（１．４２ｇ）を粉末として得
た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３００，　１６９０，
　１６０８，　１５７０，　１５１０，　１２５６． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　１．５６（
１Ｈ，ｍ），　１．８６（３Ｈ，ｓ），　１．９６（１
Ｈ，ｍ），　２．０５（２Ｈ，ｍ），　２．３４（１Ｈ
，ｍ），　２．７４（１Ｈ，ｍ），　３．０４（１Ｈ，
ｍ），　３．１７（１Ｈ，ｍ），　３．６２（３Ｈ，ｓ
），　３．７７（３Ｈ，ｓ），　４．２３（１Ｈ，ｍ）
，　６．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．８
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．９０〜７．６
０（２５Ｈ，ｍ），　１１．２８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）．

【００５１】実施例６ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルチオ）シクロペンタン−１−イル］グ
アニンの製造：実施例５で得られた化合物（０．３５ｇ
）を８０％酢酸水（１０ｍｌ）に溶かし、４５〜５０℃
で３時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得られた
残留物にエタノール（１０ｍｌ）を加え、再び減圧下に
濃縮した。得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し
、塩化メチレンとメタノールの混合物（８：１）で溶出
後、目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮して、題記化
合物（０．０６６ｇ）を粉末として得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　２９６（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３３２５，　３２１０，　１６８５，
　１６３５，　１６０３．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭ
ＳＯ−ｄ６）δ：　１．７９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．
８，９．４，９．４Ｈｚ），　１．９７（１Ｈ，ｍ），
　２．０７（３Ｈ，ｓ），　２．１７（１Ｈ，ｍ），　
２．３４（２Ｈ，ｍ），　３．１６（１Ｈ，ｍ），　３
．５６（２Ｈ，ｍ），　４．７７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．
３Ｈｚ），　４．７８（１Ｈ，ｍ），　６．４３（２Ｈ
，ｓ），　７．８４（１Ｈ，ｓ），　１０．５４（１Ｈ
，ｓ）．

【００５２】実施例７ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｓ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルスルホニル）シクロペンタン−１−イル
］グアニンの製造：実施例５で得られた化合物（０．４
７ｇ）を塩化メチレン（５ｍｌ）に溶かし、これに氷冷
下ｍ−クロロ過安息香酸（０．２９ｇ）を加え、同温度
で１時間かきまぜた。反応液を５％亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液、ついで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
したのち乾燥（ＭｇＳＯ４）した。溶媒を減圧下に留去
し、得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸
エチルと塩化メチレンとメタノールの混合物（１０：１
０：１）で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧下に濃
縮して、　題記化合物（０．３６１ｇ）を粉末として得
た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３５０，　１６９７，
　１６１１，　１５７０，　１５１３，　１２５７． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　１．９８（
３Ｈ，ｍ），　２．２３（２Ｈ，ｍ），　２．７０（３
Ｈ，ｓ），　２．９１（１Ｈ，ｍ），　３．１３（２Ｈ
，ｍ），　３．６５（３Ｈ，ｓ），　３．７６（３Ｈ，
ｓ），　４．２７（１Ｈ，ｍ），　６．６４（２Ｈ，ｄ
，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
８Ｈｚ），　６．９６〜７．５０（２６Ｈ，ｍ），　１
１．３５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）．

【００５３】実施例８ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルスルホニル）シクロペンタン−１−イ
ル］グアニンの製造：実施例７で得られた化合物（０．
３４８ｇ）を８０％酢酸水（８ｍｌ）に溶かし、４５〜
５０℃で３時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得
られた残留物にエタノール（１０ｍｌ）を加え、再び減
圧下に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルのカラム
に通し、塩化メチレンとメタノールの混合物（４：１）
で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮したの
ち、これを熱水（１５ｍｌ）に溶かし、不溶物をろ去し
たのち冷却し、生じた粉末をろ取して、題記化合物（０
．０７２ｇ）を得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　３２８（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３４００，　３３１５，　３１４０，
　１６９５，　１６３２，　１５９９，　１５７６，　
１２９０，　１１２１．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６）δ：　１．９２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１１．４Ｈ
ｚ），　２．２５〜２．６５（４Ｈ，ｍ），　３．０３
（３Ｈ，ｓ），　３．５８（３Ｈ，ｍ），　４．７３（
１Ｈ，ｍ），　４．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）
，　６．４７（２Ｈ，ｓ），７．８７（１Ｈ，ｓ），　
１０．５５（１Ｈ，ｓ）．

【００５４】実施例９ Ｎ６−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルチオ）シクロペンタン−１−イル］アデ
ニンの製造：参考例８で得られた化合物（０．５５ｇ）
を乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）に溶
かし、これに窒素気流中メチルメルカプタンのナトリウ
ム塩（０．２２　ｇ）を含む水（１．５ｍｌ）溶液を加
えたのち、４０〜５０℃で１時間かきまぜ、さらに７０
〜７５℃で１時間かきまぜた。反応液に酢酸エチル（５
０ｍｌ）を加え、水洗（２０ｍｌ×３）し乾燥（ＭｇＳ
Ｏ４）した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物を
シリカゲルのカラムに通し、　酢酸エチルとヘキサンの
混合物（１：１）で溶出後、目的物を含む分画を集め減
圧下に濃縮して、題記化合物（０．４６７ｇ）を粉末と
　して得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３４１５，　１６００，
　１５１０，　１４６３，　１４４０，　１２４６． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　１．９３（
１Ｈ，ｍ），　２．０２（３Ｈ，ｓ），　２．０５（１
Ｈ，ｍ），　２．５４（２Ｈ，ｍ），　２．７８（１Ｈ
，ｄｄｄ，Ｊ＝６．９，９．３，１４．５Ｈｚ），　３
．３２（２Ｈ，ｍ），　３．３９（１Ｈ，ｍ），　３．
７７（３Ｈ，ｓ），　３．７９（３Ｈ，ｓ），　５．０
５（１Ｈ，ｍ），　６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈ
ｚ），　６．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），　６
．９０（１Ｈ，ｓ），　７．１５〜７．４８（２４Ｈ，
ｍ），　７．９９（１Ｈ，ｓ），　８．０４（１Ｈ，ｓ
）．

【００５５】実施例１０ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルチオ）シクロペンタン−１−イル］ア
デニンの製造：実施例９で得られた化合物（０．４１５
ｇ）を８０％酢酸水（２０ｍｌ）に溶かし、４５〜５０
℃で１時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得られ
た残留物にエタノール（１０ｍｌ）を加え、再び減圧下
に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルのカラムに通
し、塩化メチレンとメタノールの混合物（５：１）で溶
出後、目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮して、題記
化合物（０．１３２ｇ）を粉末として得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　２８０（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３２７０，　３０９５，　１６７８，
　１６０２，　１２９９．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭ
ＳＯ−ｄ６）δ：　１．９８（１Ｈ，ｍ），　２．１１
（３Ｈ，ｓ），　２．１７（１Ｈ，ｍ），２．３９（２
Ｈ，ｍ），　２．６２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１４．２，７
．１，７．１Ｈｚ），　３．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７
．８，１３．６Ｈｚ），　３．５５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ
＝５．０，７．０，１０．８Ｈｚ），　３．７１（１Ｈ
，ｄｔ，Ｊ＝１４．６，５．０，５．０Ｈｚ），　４．
６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），　４．９０（１Ｈ
，ｈｅｘ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），　７．２０（２Ｈ，ｓ）
，　８．１３（１Ｈ，ｓ），　８．２４（１Ｈ，ｓ）．

【００５６】実施例１１ Ｎ６−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルスルホニル）シクロペンタン−１−イル
］アデニンの製造：実施例９で得られた化合物（０．４
６ｇ）を塩化メチレン（５ｍｌ）に溶かし、これに氷冷
下ｍ−クロロ過安息香酸（０．１９３ｇ）を加え、同温
度で３０分間かきまぜたのち、ｍ−クロロ過安息香酸　
（０．１９３ｇ）を追加し、　さらに３０分間かきまぜ
た。反応液を５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、ついで
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄したのち乾燥（Ｍ
ｇＳＯ４）した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留
物をシリカゲルのカラムに通し、酢酸エチルと塩化メチ
レンの混合物（１：１）で溶出後、目的物を含む分画を
集め減圧下に濃縮して、題記化合物（０．４３２ｇ）を
粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３４１５，　１６００，
　１５０８，　１２９０，　１２４８．ＮＭＲ（２００
ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　２．２０〜２．９９（５Ｈ
，ｍ），　２．８３（３Ｈ，ｓ），　３．６４（３Ｈ，
ｍ），　３．７８（３Ｈ，ｓ），　３．８０（３Ｈ，ｓ
），　５．０９（１Ｈ，ｍ），　６．７９（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝９．０Ｈｚ），　６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０
Ｈｚ），　６．９５（１Ｈ，ｓ），　７．１４〜７．４
８（２４Ｈ，ｍ），　７．９９（１Ｈ，ｓ），　８．０
４（１Ｈ，ｓ）．

【００５７】実施例１２ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルスルホニル）シクロペンタン−１−イ
ル］アデニンの製造：実施例１１で得られた化合物（０
．４２ｇ）を８０％酢酸水（８ｍｌ）に溶かし、４５〜
５０℃で３時間かきまぜた。 溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物にエタノール（
１０ｍｌ）を加え、再び減圧下に濃縮した。得られた粉
末をエチルエーテルとメタノールの混合物（５：１）で
洗浄したのち、ろ取し乾燥して題記化合物（０．１３ｇ
）を得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　３１２（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３４１５，　３３２０，　３１５５，
　１６６６，　１５９７，　１３０３，　１２９０，　
１２７０，　１１２４．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６）δ：　２．１５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．０
，１０．０，１０．０Ｈｚ），　２．４３（２Ｈ，ｍ）
，　２．６６（２Ｈ，ｍ），　３．０５（３Ｈ，ｓ），
　３．７２（１Ｈ，ｍ），　３．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．４，１６．８Ｈｚ），３．９６（１Ｈ，ｍ），　
４．７７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），　４．９２（
１Ｈ，ｍ），　７．２３（２Ｈ，ｓ），　８．１４（１
Ｈ，ｓ），　８．２３（１Ｈ，ｓ）．

【００５８】実施
例１３ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｓ）−３−アジド−４−（ｐ−メトキシトリチルオ
キシメチル）シクロペンタン−１−イル］グアニンの製
造：参考例２で得られた化合物（０．５４ｇ）を乾燥Ｎ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍｌ）に溶かし、これ
にアジ化ナトリウム（０．０７９ｇ）を加え、７５〜８
０℃で３時間かきまぜた。反応液に酢酸エチル（５０ｍ
ｌ）を加え、水洗（２０ｍｌ×３）し乾燥（ＭｇＳＯ４
）した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、　酢酸エチルと塩化メチレンと
メタノールの混合物（１５：１５：１）で溶出後、目的
物を含む分画を集め減圧下に濃縮して、題記化合物（０
．３８３ｇ）を　粉末として得た。ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ
−１）：　３３４０，　２０９７，　１６８３，　１６
００，１５６２，　１５０８，　１２４３．ＮＭＲ（２
００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．６７（２Ｈ，
ｍ），　２．２２（３Ｈ，ｍ），３．０５（２Ｈ，ｍ）
，３．６７（３Ｈ，ｓ），　３．７５（３Ｈ，ｓ），　
４．２４（２Ｈ，ｍ），　６．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８
．８Ｈｚ），　６．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
，　７．０９〜７．６５（２４Ｈ，ｍ），　１０．５２
（１Ｈ，ｓ）．

【００５９】実施例１４ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−アジド−４−（ヒド
ロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グアニンの
製造：実施例１３で得られた化合物（０．３４３ｇ）を
　８０％酢酸水（８ｍｌ）に溶かし、４５〜５０℃で３
時間かきまぜた。 溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物にエタノール（
１０ｍｌ）を加え、再び減圧下に濃縮したのちエチルエ
ーテル（１５ｍｌ）を加え、生じた粉末をろ取した。得
られた粉末をシリカゲルのカラムに通し、塩化メチレン
とメタノールの混合物（３：１）で溶出後、目的物を含
む分画を集め減圧下に濃縮して、題記化合物（０．１０
６ｇ）を粉末として得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　２９１（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３３２０，　３１１５，　２１００，
　１６８６．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）
δ：　１．６９（１Ｈ，ｍ），　１．９５（１Ｈ，ｄｄ
ｄ，Ｊ＝３．６，６．２，１４．２Ｈｚ），　２．２７
（２Ｈ，ｍ），　２．５８（１Ｈ，ｍ），　３．５３（
２Ｈ，ｍ），　４．２７（１Ｈ，ｍ），　４．７２（１
Ｈ，ｍ），　６．３９（２Ｈ，ｓ），　７．７７（１Ｈ
，ｓ），　１０．５５（１Ｈ，ｓ）．

【００６０】実施
例１５ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３−アジド−４−（ｐ−
メトキシトリチルオキシメチル）シクロペンタン−１−
イル］−Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）グアニンの製
造：参考例５で得られた化合物（０．４４ｇ）を乾燥Ｎ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍｌ）に溶かし、これ
にアジ化ナトリウム（０．０９７ｇ）を加え、７５〜８
０℃で５時間かきまぜた。反応液に酢酸エチル（５０ｍ
ｌ）を加え、水洗（２０ｍｌ×３）し乾燥（ＭｇＳＯ４
）した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、　酢酸エチルと塩化メチレンと
メタノールの混合物（１０：１０：１）で溶出後、目的
物を含む分画を集め減圧下に濃縮して、題記化合物（０
．４１２ｇ）を　　粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３３０，　２０９８，
　１６８０，　１６０７，　１５７３，　１５１２，　
１２４４． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　１．３３（
１Ｈ，ｍ），　１．６４（１Ｈ，ｍ），　１．８７（２
Ｈ，ｍ），　２．０３（１Ｈ，ｍ），　２．８９（２Ｈ
，ｍ），　３．２８（１Ｈ，ｍ），　３．６６（３Ｈ，
ｓ），　３．７２（３Ｈ，ｓ），　４．３３（１Ｈ，ｍ
），　６．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），　６．
９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），　７．００〜７．
６３（２５Ｈ，ｍ），　１０．５２（１Ｈ，ｓ）．

【００６１】実施例１６ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３−アジド−４−（ヒド
ロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グアニンの
製造：実施例１５で得られた化合物（０．４１２ｇ）を
８０％酢酸水（１０ｍｌ）に溶かし、４５〜５０℃で３
時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留
物にエタノール（１０ｍｌ）を加え、再び減圧下に濃縮
したのちエチルエーテル（１５ｍｌ）を加え、生じた粉
末をろ取した。得られた粉末をシリカゲルのカラムに通
し、塩化メチレンとメタノールの混合物（６：１）で溶
出後、目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮して、題記
化合物（０．０９５ｇ）を粉末として得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　２９１（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３３３５，　３２２０，　２０９３，
　１７３０，　１６２８，　１３９０． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．７
０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．４，９．５，９．５Ｈｚ）
，　２．１２（２Ｈ，ｍ），　２．３２（３Ｈ，ｍ），
　４．５０（２Ｈ，ｍ），　４．１５（１Ｈ，ｍ），　
４．７３（１Ｈ，ｍ），　４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５
．１Ｈｚ），　６．４３（２Ｈ，ｓ），　７．８２（１
Ｈ，ｓ），　１０．５５（１Ｈ，ｓ）．

【００６２】実
施例１７ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−アジド−４−（ｐ−
メトキシトリチルオキシメチル）シクロペンタン−１−
イル］−Ｎ６−（ｐ−メトキシトリチル）アデニンの製
造：参考例８で得られた化合物（０．５５ｇ）を乾燥Ｎ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８ｍｌ）に溶かし、これ
にアジ化ナトリウム（０．０８２ｇ）を加え、７５〜８
０℃で４時間かきまぜた。反応液に酢酸エチル（５０ｍ
ｌ）を加え、水洗（２０ｍｌ×３）し乾燥（ＭｇＳＯ４
）した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、　酢酸エチルとヘキサンの混合
物（３：２）で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧下
に濃縮して、題記化合物（０．４１９ｇ）を粉末として
得た。ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３４２０，　２１
００，　１６０１，　１５１０，　１４６３，　１４４
２，　１２４５．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）
δ：　１．６９（１Ｈ，ｍ），　２．０５（１Ｈ，ｄｄ
，Ｊ＝４．０，１４．２Ｈｚ），　２．３７（２Ｈ，ｍ
），　２．６８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．６，１０．２
，１５．６Ｈｚ），　３．３１（２Ｈ，ｍ），　３．７
７（３Ｈ，ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），　４．３４（
１Ｈ，ｍ），　５．１３（１Ｈ，ｍ），　６．７９（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），　６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．８Ｈｚ），　６．９１（１Ｈ，ｓ），　７．１５
〜７．５０（２４Ｈ，ｍ），　７．９６（１Ｈ，ｓ），
　８．０４（１Ｈ，ｓ）．

【００６３】実施例１８ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−アジド−４−（ヒド
ロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］アデニン・
酢酸塩の製造：実施例１７で得られた化合物（０．３９
９ｇ）を８０％酢酸水（１０ｍｌ）に溶かし、４５〜５
０℃で２時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得ら
れた残留物にエタノール（１０ｍｌ）を加え、再び減圧
下に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルのカラムに
通し、塩化メチレンとメタノールの混合物（３：１）で
溶出後、目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮して、題
記化合物（０．１１８ｇ）を粉末として得　た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　２７５（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３４４０，　３３６０，　３１４０，
　２１００，　１６７９，　１６０１，　１３３３，　
１２６０． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．８
４（１Ｈ，ｍ），　２．０９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．
７，６．７，１４．５Ｈｚ），　２．２８（２Ｈ，ｍ）
，　２．５０（３Ｈ，ｓ），　２．６６（１Ｈ，ｄｄｄ
，Ｊ＝６．２，９．２，　１５．４Ｈｚ），　３．５９
（２Ｈ，ｍ），　４．３２（１Ｈ，ｍ），　４．７３（
１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．９５（１Ｈ，ｍ），
　　７．２１（２Ｈ，ｓ），　　８．１３（１Ｈ，ｓ）
，　　８．２０（１Ｈ，ｓ）．

【００６４】実施例１９ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−３−アミノ−４−（ヒド
ロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グアニンの
製造：実施例１６で得られた化合物（０．００４８ｇ）
をメタノール（２ｍｌ）に溶かし、これに１０％パラジ
ウム−炭素（０．００２４ｇ）を加え、水素気流中室温
で３時間かきまぜた。触媒をろ去し、ろ液を減圧下に濃
縮したのち、得られた粉末をエチルエーテルで洗浄し乾
燥して、題記化合物（０．００４ｇ）を粉末として得た
。ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：２６５（Ｍ＋１） ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３２５，　３１１０，
　１６８８，　１５９８，　１３６８．ＮＭＲ（２００
ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．７６（３Ｈ，ｍ）
，　２．１３（２Ｈ，ｍ），　４．８１（１Ｈ，ｍ），
６．４２（２Ｈ，ｓ），　７．７９（１Ｈ，ｓ）．

【０
０６５】実施例２０ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−フタルイミド−４−
（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）シクロペンタン
−１−イル］−Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）グアニ
ンの製造：トルエン（５０ｍｌ）にフタルイミドカリウ
ム（１．５ｇ）と１８−クラウン−６（０．５ｇ）を加
え、１時間加熱下に還流した。これを冷却したのち、こ
れに参考例２で得られた化合物（０．５ｇ）を加え、１
６時間加熱下に還流した。不溶物をろ去し、ろ液を減圧
下に濃縮した。得られた残留物をシリカゲルのカラムに
通し、塩化メチレンとメタノールの混合物（１００：１
）で溶出後、目的物を含む分画を集めて減圧下に濃縮し
て、題記化合物（０．１６３ｇ）を粉末として得た。Ｎ
ＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．８７
（１Ｈ，ｍ），　１．９６（２Ｈ，ｍ），　２．２７（
２Ｈ，ｍ），２．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），
　３．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，９．８Ｈｚ），
　３．６７（３Ｈ，ｓ），　３．７４（３Ｈ，ｓ），４
．１４（１Ｈ，ｍ），　４．９５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９．
２Ｈｚ），　６．５０〜７．５０（２９Ｈ，ｍ），　７
．６６（４Ｈ，ｓ），　１１．０２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
．

【００６６】実施例２１ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−フタルイミド−４−
（ヒドロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グア
ニンの製造：実施例２０で得られた化合物（０．１６３
ｇ）を８０％酢酸水（５ｍｌ）に溶かし、４５〜５０℃
で２時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得られた
残留物にエタノール（１０ｍｌ）を加え、再び減圧下に
濃縮した。得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し
、塩化メチレンとメタノールの混合物（１０：１）で溶
出後、　目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮して、　
題記化合物（０．０４６ｇ）を粉末として得た。 ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　２．２
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），　２．２５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　２．４８（１Ｈ，ｍ），　２
．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　２．６６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），　３．１６〜３．７４（２
Ｈ，ｍ），　４．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．４Ｈｚ），
　４．７０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），　４．８７
（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．４４（２Ｈ，ｓ
），　７．８６（２Ｈ，ｓ），　７．８８（２Ｈ，ｓ）
，　７．９０（１Ｈ，ｓ），　１０．５４（１Ｈ，ｓ）
．

【００６７】実施例２２ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−アミノ−４−（ヒド
ロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グアニンの
製造：実施例２１で得られた化合物（０．０４ｇ）をメ
タノール（１０ｍｌ）に溶かし、これにヒドラジン−水
和物（０．１５ｇ）を加え、２時間加熱下に還流した。 溶媒を減圧下に留去したのち、得られた残留物をアンバ
ーライトＸＡＤ−２のカラムに通し、水で溶出後、目的
物を含む分画を集め減圧濃縮して、題記化合物（０．０
２１ｇ）を粉末として得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　２６５（Ｍ＋１）ＮＭＲ（２０
０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．１７（１Ｈ，ｍ
），　１．６８（１Ｈ，ｍ），　２．０５（２Ｈ，ｍ）
，２．５０（１Ｈ，ｍ），　４．６３（１Ｈ，ｍ），　
６．６７（２Ｈ，ｓ），　７．８７（１Ｈ，ｓ）．

【０
０６８】実施例２３ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルスルフィニル）シクロペンタン−１−イ
ル］グアニンの製造：実施例１で得られた化合物（０．
７ｇ）を塩化メチレン（３０ｍｌ）に溶かし、これに−
１５〜−１０℃でｍ−クロロ過安息香酸（０．１２６ｇ
）を加え、同温度で３０分間かきまぜた。反応液を５％
亜硫酸水素ナトリウム水溶液、ついで飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄したのち乾燥（ＭｇＳＯ４）した。 溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物をシリカゲルの
カラムに通し、酢酸エチルと塩化メチレンとメタノール
の混合物（１０：１０：１）で溶出後、目的物を含む分
画を集め減圧濃縮して、粉末状の題記化合物を硫黄のキ
ラリティーに由来する２種の立体異性体の混合物（０．
５３２ｇ）として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３４０，　１６８５，
　１６００，　１５６０，　１５０５，　１２５０，　
１０２６． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　１．１３，
１．４９（合計　１Ｈ，各々　ｍ），　１．６６〜２．
７０（４Ｈ，ｍ），　２．２９（３Ｈ，ｓ），　２．９
６（１Ｈ，ｍ），　３．４７（２Ｈ，ｍ），　３．６８
（３Ｈ，ｓ），　３．７５，３．７９（合計　３Ｈ，各
々　ｓ），　３．８７，４．０７（合計　１Ｈ，各々　
ｍ），　６．７０，６．７３（合計　２Ｈ，各々　ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．８２，６．８６（合計　２Ｈ，
各々　ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．９０〜７．６０（
２６Ｈ，ｍ），　１１．１４，１１．３８（合計１Ｈ，
各々　ｂｒ．ｓ）．

【００６９】実施例２４ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルスルフィニル）シクロペンタン−１−
イル］グアニンの製造：実施例２３で得られた化合物（
０．１０ｇ）を８０％酢酸水（５ｍｌ）に溶かし、４５
〜５０℃で３時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、
得られた残留物にエタノール（１０ｍｌ）を加え、再び
減圧下に留去した。得られた残留物をエタノールとエチ
ルエーテルの混合物（１：１０）で洗浄して、粉末状の
題記化合物を硫黄のキラリティーに由来する２種の立体
異性体の混合物（０．０３１ｇ）として得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　３１２（Ｍ＋１）ＩＲ（ＫＢｒ
，ｃｍ−１）：　３３３５，　３１８０，　１６８５，
　１６２０，　１５９５．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭ
ＳＯ−ｄ６）δ：　１．６０〜２．０７（２Ｈ，ｍ），
　２．１０〜２．７０（３Ｈ，ｍ），２．４１，２．５
７（合計　３Ｈ，各々　ｓ），　３．１１〜３．５３（
合計　１Ｈ，各々　ｍ），　３．７１（１Ｈ，ｍ），　
３．８７（１Ｈ，ｍ），　４．６６（１Ｈ，ｍ），　４
．７９，４．８１（合計　１Ｈ，各々　ｔ，Ｊ＝４．６
Ｈｚ），　６．４０（２Ｈ，ｓ），　７．８１，７．８
５（合計　１Ｈ，各々　　ｓ），　　１０．５５（１Ｈ
，ｓ）．

【００７０】実施例２５ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｓ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルスルフィニル）シクロペンタン−１−イ
ル］グアニンの製造：実施例５で得られた化合物（０．
４ｇ）を塩化メチレン（１５ｍｌ）に溶かし、これに−
１５〜−１０℃でｍ−クロロ過安息香酸（０．０６６ｇ
）を加え、同温度で３０分間かきまぜた。反応液を５％
亜硫酸水素ナトリウム水溶液、ついで飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄したのち乾燥（ＭｇＳＯ４）した。 溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物をシリカゲルの
カラムに通し、カラムを酢酸エチルと塩化メチレンとメ
タノールの混合物（１０：１０：１）で洗浄後、酢酸エ
チルと塩化メチレンとメタノールの混合物（３：３：１
）で溶出した。　目的物を含む分画を集め減圧濃縮して
、粉末状の題記化合物を硫黄のキラリティーに由来する
２種の立体異性体の混合物（０．２０６ｇ）として得た
。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３４０，　１６８８，
　１６０１，　１５６３，　１５０６，　１２４７，　
１０２８． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：　１．９４（
４Ｈ，ｍ），　２．２８，２．３５（合計　３Ｈ，各々
　ｓ），　２．５１（１Ｈ，ｍ），　２．９２，３．１
０（合計　１Ｈ，各々　ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），　３．
２１（１Ｈ，ｍ），　３．６２，３．６５（合計　３Ｈ
，各々　ｓ），　３．７５，３．７６（合計　３Ｈ，各
々　ｓ），　４．１０（１Ｈ，ｍ），　６．５９，６．
６５（合計　２Ｈ，各々　ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６
．８２，６．８４（合計　２Ｈ，各々　ｄ，Ｊ＝８．８
Ｈｚ），　６．９６〜７．４８（２５Ｈ，ｍ），７．７
０（１Ｈ，　ｂｒ．ｓ），　１１．３４，１１．４９（
合計　１Ｈ，各々　ｂｒ．ｓ）．

【００７１】実施例２
６ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルスルフィニル）シクロペンタン−１−
イル］グアニンの製造：実施例２５で得られた化合物（
０．２ｇ）を８０％酢酸水（１０ｍｌ）に溶かし、４５
〜５０℃で５時間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、
得られた残留物をシリカゲルのカラムに通し、クロロホ
ルムとメタノールと水の混合物（６５：２５：４）で溶
出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮して、粉末状の
題記化合物を硫黄のキラリティーに由来する２種の立体
異性体の混合物（０．０５９ｇ）として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３３５，　３１１０，
　１６９０，１５９９，　１３６７，　１０１５． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．９
０（１Ｈ，ｍ），　２．２８（３Ｈ，ｍ），　２．５０
（３Ｈ，ｓ），２．５７（１Ｈ，ｍ），　３．１２（１
Ｈ，ｍ），　３．５４（２Ｈ，ｍ），　４．６３（１Ｈ
，ｍ），　４．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），　
６．４７（２Ｈ，ｓ），　７．８５，７．８７（合計　
１Ｈ，　各々　ｓ），　１０．５４（１Ｈ，ｓ）．

【０
０７２】実施例２７ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−４−（ｐ−メトキシトリチルオキシメチル）
−３−（メチルスルフィニル）シクロペンタン−１−イ
ル］アデニンの製造：実施例９で得られた化合物（０．
４７２ｇ）を塩化メチレン（１０ｍｌ）に溶かし、これ
に−１５〜−１０℃でｍ−クロロ過安息香酸（０．１０
９ｇ）を加え、同温度で３０分間かきまぜた。反応液を
５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液、ついで飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で洗浄したのち乾燥（ＭｇＳＯ４）し
た。溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物をシリカゲ
ルのカラムに通し、酢酸エチルと塩化メチレンとメタノ
ールの混合物（１０：１０：１）で溶出後、目的物を含
む分画を集め減圧濃縮して、　題記化合物の中で、硫黄
のキラリティーに由来する２種の立体異性体の中の一方
の異性体（異性体Ａ）（０．３２６ｇ）を粉末として得
た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３４０５，　１５９７，
　１２４５，　１０２７．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭ
ＳＯ−ｄ６）δ：　１．９３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．
２，１２．８，１２．８Ｈｚ），　２．２９（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ＝１２．６，６．４，６．４Ｈｚ），　２．３５
（３Ｈ，ｓ），　２．７３（３Ｈ，ｍ），　３．１６（
１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１５．３Ｈｚ），　３．５８
（２Ｈ，ｍ），　３．７８（３Ｈ，ｓ），　３．８１（
３Ｈ，ｓ），　５．１０（１Ｈ，ｍ），　６．７９（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），　６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝９．０Ｈｚ），　６．９３（１Ｈ，ｓ），　７．１６
〜７．５９（２４Ｈ，ｍ），　８．０５（１Ｈ，ｓ），
　８．１９（１Ｈ，ｓ）．さらに、酢酸エチルと塩化メ
チレンとメタノールの混合物（４：４：１）で溶出後、
目的物を含む分画を集め減圧下に濃縮して、題記化合物
のもう一方の立体異性体（異性体Ｂ）（０．１３６ｇ）
を粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３４２２，　１６０３，
　１２５５，　１０３６．ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤ
Ｃｌ３）δ：　１．９２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．６，
９．８，９．８Ｈｚ），　２．１８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１
１．２Ｈｚ），　２．５１（３Ｈ，ｓ），　２．５７（
２Ｈ，ｍ），　３．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，１
６．４Ｈｚ），　３．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．２，
１６．４Ｈｚ），　３．７８（６Ｈ，ｓ），　４．８７
（１Ｈ，ｍ），　６．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ
），　６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），　６．
９２（１Ｈ，ｓ），　７．１６〜７．５２（２４Ｈ，ｍ
），　７．７０（１Ｈ，ｓ），　８．０２（１Ｈ，ｓ）
．

【００７３】実施例２８ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルスルフィニル）シクロペンタン−１−
イル］アデニンの製造：実施例２７で得られた化合物の
異性体Ａ（０．３１６ｇ）を８０％酢酸水（１０ｍｌ）
に溶かし、５０〜５５℃で２時間かきまぜた。溶媒を減
圧下に留去し、得られた残留物にエタノール（１０ｍｌ
）を加え、再び減圧下に濃縮した。得られた残留物をシ
リカゲルのカラムに通し、塩化メチレンとメタノールと
水の混合物（１００：５０：４）で溶出後、目的物を含
む分画を集め減圧濃縮して、題記化合物（０．０８８ｇ
）を粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３２０，　３１２５，
　１６７２，　１５９６，　１３００，　１００７． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．８
４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．２，１１．７，１１．７Ｈ
ｚ），　２．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１２．２，７．０
，７．０Ｈｚ），　２．４３（３Ｈ，ｓ），　２．６１
（３Ｈ，ｓ），　３．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，
１５．３Ｈｚ），　３．７１（１Ｈ，ｍ），　３．８７
（１Ｈ，ｍ），　４．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．７Ｈｚ
），　４．９８（１Ｈ，ｍ），　７．２２（２Ｈ，ｓ）
，　８．１５（１Ｈ，ｓ），　８．２９（１Ｈ，ｓ）．

【００７４】実施例２９ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メチルスルフィニル）シクロペンタン−１−
イル］アデニンの製造：実施例２７で得られた化合物の
異性体Ｂ（０．１３３ｇ）を８０％酢酸水（６ｍｌ）に
溶かし、５０〜５５℃で２時間かきまぜた。溶媒を減圧
下に留去し、得られた残留物にエタノール（１０ｍｌ）
を加え、再び減圧下に濃縮した。得られた残留物をシリ
カゲルのカラムに通し、塩化メチレンとメタノールと水
の混合物（１００：５０：４）で溶出後、目的物を含む
分画を集め減圧濃縮して、題記化合物（０．０３８ｇ）
を粉末として得た。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：　３３３０，　３１９５，
　１６６３，　１５９６，　１２５７，　１０３７． ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　２．０
０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．４，１１．０，１１．０Ｈ
ｚ），　２．１４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．６，１０．
６，１０．６Ｈｚ），　２．４１（２Ｈ，ｍ），　２．
５７（３Ｈ，ｓ），　２．６３（１Ｈ，ｍ），　３．４
５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．２，１６．８Ｈｚ），　３．
７２（１Ｈ，ｍ），　３．９２（１Ｈ，ｍ），　４．８
５（２Ｈ，ｍ），　７．２１（２Ｈ，ｓ），　８．１３
（１Ｈ，ｓ），　８．２３（１Ｈ，ｓ）．

【００７５】
実施例３０ Ｎ２−（ｐ−メトキシトリチル）−９−［（１Ｒ，３Ｒ
，４Ｒ）−３−（ベンジルチオ）−４−（ｐ−メトキシ
トリチルオキシメチル）シクロペンタン−１−イル］グ
アニンの製造：参考例２で得られた化合物（０．４４３
ｇ）を乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）
に溶かし、これに窒素気流中ベンジルメルカプタン（０
．４９６ｇ）と５Ｎ水酸化ナトリウム溶液（１ｍｌ）を
加えたのち、４０〜５０℃で１時間かきまぜ、さらに７
５〜８０℃で３時間かきまぜた。反応液に酢酸エチル（
１００ｍｌ）を加え、酢酸エチル溶液を水洗（４０ｍｌ
×３）し乾燥（ＭｇＳＯ４）した。溶媒を減圧下に留去
し、題記化合物を粉末として得た。これを精製すること
なく、実施例３１で用いた。

【００７６】実施例３１ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−（ベンジルチオ）−
４−（ヒドロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］
グアニンの製造：実施例３０で得られた化合物の全量を
８０％酢酸水（１０ｍｌ）に溶かし、７５〜８０℃で３
０分間かきまぜた。溶媒を減圧下に留去し、得られた残
留物をシリカゲルのカラムに通し、クロロホルムとメタ
ノールの混合物（１０：１）で溶出後、目的物を含む分
画を集め減圧濃縮して、題記化合物（０．１５４ｇ）を
粉末として得た。 ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．７
５〜１．９０（１Ｈ，ｍ），　２．０３（１Ｈ，ｍ），
　２．３０（２Ｈ，ｍ），　３．２４（１Ｈ，ｍ），　
３．５６（１Ｈ，ｍ），　３．６４（１Ｈ，ｍ），　３
．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），　４．６３（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），　４．６３（１Ｈ，ｍ），
　６．３９（２Ｈ，ｓ），　７．２４〜７．３４（５Ｈ
，ｍ），　　７．８０（１Ｈ，ｓ），　　１０．５４（
１Ｈ，ｓ）．

【００７７】実施例３２ ９−［（１Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メルカプト）シクロペンタン−１−イル］グ
アニンの製造：実施例３１で得られた化合物（０．１２
４ｇ）を液体アンモニア（１０ｍｌ）に溶かし、−７０
℃で金属ナトリウム（０．０５ｇ）を加え、青色が退色
するまでかきまぜた。反応液に塩化アンモニウム（０．
２ｇ）を加え１５分間かきまぜたのち、冷却浴を除きア
ンモニアを室温に放置して留去した。得られた残留物を
アンバーライトＸＡＤ−２のカラムに通し、１０％エタ
ノールで溶出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮して
、題記化合物（０．０４４ｇ）を粉末として得た。 ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：　１．９
１（２Ｈ，ｍ），　２．２１（２Ｈ，ｍ），　２．６５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），　２．６８（１Ｈ，ｍ
），　３．５５（３Ｈ，ｍ），　４．６２（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝５．０Ｈｚ），　４．６５（１Ｈ，ｍ），　６．３
９（２Ｈ，ｓ），　７．８０（１Ｈ，ｓ），　１０．５
４（１Ｈ，ｓ）．

【００７８】実施例３３ ［（１Ｒ，２Ｒ，４Ｒ）−２−（ヒドロキシメチル）−
４−（グアニン−９−イル）シクロペンタン−１−イル
］スルホン酸・アンモニウム塩の製造：実施例３２で得
られた化合物（０．０２６ｇ）を水（１ｍｌ）に懸濁し
、これに氷冷下１Ｎ水酸化ナトリウム水（０．２ｍｌ）
と３０％（ｗ／ｗ）過酸化水素水（０．２ｍｌ）を加え
、同温度で１時間、さらに室温で３０分間かきまぜた。 反応液に酢酸を加えｐＨ５．０に調整したのち、　活性
炭（１ｇ）のカラムに加えた。カラムを水洗後、水とエ
タノールと濃アンモニア水の混合物（４８：５０：２）
で溶出し、目的物を含む分画を集め減圧濃縮した。得ら
れた残留物をアンバーライトＸＡＤ−２のカラムに通し
、水で溶出後、目的物を含む分画を集め減圧濃縮して、
題記化合物（０．０１６ｇ）を粉末として得た。 ＳＩＭＳ　　ｍ／ｚ：　３６９（Ｍ＋ＮＨ４＋）ＮＭＲ
（２００ＭＨｚ，Ｄ２Ｏ）δ：　１．９０〜２．７３（
４Ｈ，ｍ），　２．８８（１Ｈ，ｍ），　３．８９（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１１．０Ｈｚ），　　４．１３
（１Ｈ，ｍ），　　８．０２（１Ｈ，ｓ）．

【００７９
】実施例３４ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−３−（ベンジルチオ）−
４−（ヒドロキシメチル）シクロペンタン−１−イル］
グアニンの製造：参考例５で得られた化合物（６１０ｍ
ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）に溶
かし、ベンジルメルカプタン（９９２ｍｇ），水酸化ナ
トリウム（４００ｍｇ）および水（２ｍｌ）を加えて８
０℃で２時間撹拌した。反応液を酢酸で中和後、減圧濃
縮した。残留物をクロロホルム（１５ｍｌ）と水（１５
ｍｌ）に分配し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後
、減圧濃縮した。残留物をテトラヒドロフラン（５ｍｌ
）に溶かし、４Ｎ塩酸（５ｍｌ）を加えて室温で１時間
撹拌後、減圧濃縮した、残留物をシリカゲル（１５ｇ）
のカラムクロマトに付し、クロロホルム−メタノール（
９：１）で溶出した。溶出画分を減圧濃縮乾固して題記
化合物（７０ｍｇ）を無色粉末として得た。 ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．７２
６（１Ｈ，ｍ），　１．９７３（１Ｈ，ｍ），　２．１
３２（１Ｈ，ｍ），　２．２９８（２Ｈ，ｍ），　３．
４４３（３Ｈ，ｍ），　３．８０２（２Ｈ，ｓ），　４
．７７２（２Ｈ，ｍ），　６．４９２（２Ｈ，ブロード
ｓ），　７．３０３（５Ｈ，ｍ），　７．８００（１Ｈ
，ｓ），　１０．５９６（１Ｈ，ブロードｓ）．

【００
８０】実施例３５ ９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−（ヒドロキシメチル
）−３−（メルカプト）シクロペンタン−１−イル］グ
アニンの製造：９−［（１Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−３−（ベ
ンジルチオ）−４−（ヒドロキシメチル）シクロペンタ
ン−１−イル］グアニン（７０ｍｇ）を液体アンモニア
（３ｍｌ）に溶かし、金属ナトリウム（４０ｍｇ）を加
えて−６５℃の冷却下で１時間撹拌後、塩化アンモニウ
ム（２５０ｍｇ）を加えた。冷却浴を除き、反応液を室
温に放置してアンモニアを留去した。残留物をアンバー
ライトＸＡＤ−ＩＩ（２５ｍｌ）のカラムクロマトに付
し、１０％エタノール水で溶出した。溶出画分を減圧濃
縮乾固して題記化合物（１５ｍｇ）を無色粉末として得
た。 ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ：１．９３
７（１Ｈ，ｍ），　２．０８９（１Ｈ，ｍ），　２．３
７１（２Ｈ，ｍ），　２．７３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．
６Ｈｚ），　３．５２４（３Ｈ，ｍ），　４．７４５（
１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），　４．８４６（１Ｈ，ｔ
，Ｊ＝８．２Ｈｚ），　６．４１０（２Ｈ，ブロードｓ
），　７．８１１（１Ｈ，ｓ），　１０．５４３（１Ｈ
，ブロードｓ）．

【００８１】試験例 ベロ細胞（　ｖｅｒｏ　ｃｅｌｌｓ　）を１００　　Ｔ
ＣＩＤ５０（組織培養細胞が５０％感染するウイルス量
）のウイルスで感染させ、種々の濃度の抗ウイルス剤存
在下に培養した。抗ウイルス活性（ＩＤ５０：５０％阻
害投与量）は感染の３日後に評価した。この時抗ウイル
ス剤を投与しなかった対照細胞は１００％組織感染した
。細胞毒性はウイルスに感染していない対照細胞を用い
て同時に判定した。上記の方法で、実施例４の化合物を
用いてヒト単純ヘルペスウイルス（ＨＳＶ−１）に対す
る抗ウイルス作用を調べたところ、ＩＤ５０は１２．５
μｇ／ｍｌであり、細胞毒性は４００μｇ／ｍｌ以上で
あった。また、実施例８の化合物のＨＳＶ−１に対する
抗ウイルス作用を調べたところＩＤ５０は５０μｇ／ｍ
ｌであり、細胞毒性は１００μｇ／ｍｌ以上であった。

【００８２】

【発明の効果】本発明の化合物は、ヒトのヘルペスウイ
ルス（ＨＳＶ）に対し強い抗ウイルス作用を示し、また
その毒性も低いものであるから、抗ウイルス剤として使
用することが可能である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｂは９位に結合手を有するプリン塩基残基を、
   Ｒ１およびＲ２はいずれか一方がＨで他は硫黄または窒
   素を介する一価の基を、Ｒ３はリン酸エステル化または
   保護されていてもよい水酸基を示す］で表される化合物
   またはその塩。
2. 【請求項２】一般式 【化２】 ［式中、Ｂは９位に結合手を有するプリン塩基残基を、
   Ｒ４およびＲ５はいずれか一方が活性化された水酸基で
   他はＨを、Ｒ６は保護された水酸基を示す］で表される
   化合物を、チオール類の塩あるいはアジド化剤と反応さ
   せ、要すれば酸化反応あるいは還元反応に付し、要すれ
   ば保護基を除去することを特徴とする一般式【化３】 ［式中、Ｂは９位に結合手を有するプリン塩基残基を、
   Ｒ７およびＲ８はいずれか一方がＨで他は硫黄を介する
   一価の基，アジド基またはアミノ基を、Ｒ３′は保護さ
   れていてもよい水酸基を示す］で表される化合物の製造
   法。