JPH04222677A - 洗浄機 - Google Patents
洗浄機Info
- Publication number
- JPH04222677A JPH04222677A JP41313090A JP41313090A JPH04222677A JP H04222677 A JPH04222677 A JP H04222677A JP 41313090 A JP41313090 A JP 41313090A JP 41313090 A JP41313090 A JP 41313090A JP H04222677 A JPH04222677 A JP H04222677A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ozone
- cleaning
- section
- steam
- cleaned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子部品等の洗浄を行う
洗浄機に関する。
洗浄機に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、生産工場における電子部品等の洗
浄に際しては、フロンが使用されているが、発生するフ
ロンガスは地球オゾン層の破壊を招くため、地球環境保
護からその使用が全廃される方向にある。
浄に際しては、フロンが使用されているが、発生するフ
ロンガスは地球オゾン層の破壊を招くため、地球環境保
護からその使用が全廃される方向にある。
【０００３】一方、フロンに代わる洗浄剤も各種提案さ
れており、その一例としてアルコール系洗浄剤が知られ
ている。
れており、その一例としてアルコール系洗浄剤が知られ
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、フロンに代わ
るアルコール系洗浄剤をはじめ、従来の洗浄剤は洗浄能
力面、コスト面、安全性面のいずれかにおいて不十分で
あり、解決すべき課題が残されていた。
るアルコール系洗浄剤をはじめ、従来の洗浄剤は洗浄能
力面、コスト面、安全性面のいずれかにおいて不十分で
あり、解決すべき課題が残されていた。
【０００５】本発明はこのような従来の技術に存在する
課題を解決した洗浄機の提供を目的とするものである。
課題を解決した洗浄機の提供を目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る洗浄機１は
蒸気Ｓを発生させる蒸気発生部２と、オゾンＯを発生さ
せるオゾン発生部３と、蒸気ＳにオゾンＯを含有させて
オゾン含有蒸気Ｓｏを生成するオゾン含有蒸気生成部４
と、オゾン含有蒸気ＳｏのｐＨを調製するｐＨ調製部１
３と、ｐＨ調製されたオゾン含有蒸気Ｓｏを被洗浄物に
接触させて洗浄を行う洗浄部（第一洗浄部）５を備える
ことを基本的な特徴とする。また、本発明の第二の形態
に係る洗浄機１には第一洗浄部５で洗浄された被洗浄物
を、さらに超音波洗浄する第二洗浄部６を備えることを
特徴とする。
蒸気Ｓを発生させる蒸気発生部２と、オゾンＯを発生さ
せるオゾン発生部３と、蒸気ＳにオゾンＯを含有させて
オゾン含有蒸気Ｓｏを生成するオゾン含有蒸気生成部４
と、オゾン含有蒸気ＳｏのｐＨを調製するｐＨ調製部１
３と、ｐＨ調製されたオゾン含有蒸気Ｓｏを被洗浄物に
接触させて洗浄を行う洗浄部（第一洗浄部）５を備える
ことを基本的な特徴とする。また、本発明の第二の形態
に係る洗浄機１には第一洗浄部５で洗浄された被洗浄物
を、さらに超音波洗浄する第二洗浄部６を備えることを
特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明に係る洗浄機１によれば、蒸気発生部２
から得る蒸気Ｓとオゾン発生部３から得るオゾンＯは、
共にオゾン含有蒸気生成部４に供給される。そして、オ
ゾン含有蒸気生成部４では蒸気ＳにオゾンＯを溶解させ
、オゾン含有蒸気Ｓｏを生成する。一方、オゾン含有蒸
気Ｓｏは洗浄部（第一洗浄部）５に供給され、ここでオ
ゾン含有蒸気Ｓｏを被洗浄物に対して接触させて洗浄を
行う。この際、ｐＨ調製部１３においては薬液タンク１
２から供給されるｐＨ調製用の薬液を加温するとともに
、ミスト化し、このミスト化された薬液は洗浄部（第一
洗浄部）５に供給され、前記オゾン含有蒸気Ｓｏに混合
させることによりオゾン含有蒸気ＳｏのｐＨを調製する
。
から得る蒸気Ｓとオゾン発生部３から得るオゾンＯは、
共にオゾン含有蒸気生成部４に供給される。そして、オ
ゾン含有蒸気生成部４では蒸気ＳにオゾンＯを溶解させ
、オゾン含有蒸気Ｓｏを生成する。一方、オゾン含有蒸
気Ｓｏは洗浄部（第一洗浄部）５に供給され、ここでオ
ゾン含有蒸気Ｓｏを被洗浄物に対して接触させて洗浄を
行う。この際、ｐＨ調製部１３においては薬液タンク１
２から供給されるｐＨ調製用の薬液を加温するとともに
、ミスト化し、このミスト化された薬液は洗浄部（第一
洗浄部）５に供給され、前記オゾン含有蒸気Ｓｏに混合
させることによりオゾン含有蒸気ＳｏのｐＨを調製する
。
【０００８】オゾンによる洗浄作用は次のようになる。
即ち、オゾン「Ｏ３」は強い酸化力を持つ物質であり、
水溶液中ではさらに酸化力の強い「ＯＨ」や「ＨＯ２」
ラジカルを生成する。「ＯＨ」や「ＨＯ２」ラジカルは
、ほとんど全ての有機化合物を酸化させる能力があり、
難オゾン反応物質の酸化を促進することができる。 なお、この「ＯＨ」又は「ＨＯ２」ラジカルの生成は水
溶液中の水素イオン濃度に影響する。よって、この理論
の応用により、オゾンを含有するオゾン含有蒸気Ｓｏを
被洗浄物に接触させれば、付着している油脂類を分解剥
離できる。また、オゾン含有蒸気Ｓｏによる洗浄後、さ
らに第二洗浄部６により超音波洗浄を行えば、酸化され
た油脂類、水分は完全に除去される。
水溶液中ではさらに酸化力の強い「ＯＨ」や「ＨＯ２」
ラジカルを生成する。「ＯＨ」や「ＨＯ２」ラジカルは
、ほとんど全ての有機化合物を酸化させる能力があり、
難オゾン反応物質の酸化を促進することができる。 なお、この「ＯＨ」又は「ＨＯ２」ラジカルの生成は水
溶液中の水素イオン濃度に影響する。よって、この理論
の応用により、オゾンを含有するオゾン含有蒸気Ｓｏを
被洗浄物に接触させれば、付着している油脂類を分解剥
離できる。また、オゾン含有蒸気Ｓｏによる洗浄後、さ
らに第二洗浄部６により超音波洗浄を行えば、酸化され
た油脂類、水分は完全に除去される。
【０００９】
【実施例】以下には、本発明に係る好適な実施例を挙げ
、図面に基づき詳細に説明する。まず、本発明に係る洗
浄機１の構成について説明する。洗浄機１は図１に示す
ように、源水（水道水）から純水を製造する純水製造部
１１、ｐＨ調製用の薬液を収容した薬液タンク１２、ｐ
Ｈの調製を行うｐＨ調製部１３、蒸気を発生させる蒸気
発生部２、オゾンＯを発生させるオゾン発生部３、蒸気
ＳにオゾンＯを溶解させてオゾン含有蒸気Ｓｏを生成す
るオゾン含有蒸気生成部４、オゾン含有蒸気Ｓｏを被洗
浄物に接触させて洗浄を行う第一洗浄部５、蒸気を排出
する局所排気装置１４、オゾンを分解するオゾン分解装
置１５、ドレンを排出するドレン装置１６、被洗浄物を
超音波洗浄する第二洗浄部６、排水を処理する排水処理
装置１７、被洗浄物の水洗いを行う水洗槽を備えた水洗
部１８、被洗浄物を乾燥させる乾燥室１９を備える。
、図面に基づき詳細に説明する。まず、本発明に係る洗
浄機１の構成について説明する。洗浄機１は図１に示す
ように、源水（水道水）から純水を製造する純水製造部
１１、ｐＨ調製用の薬液を収容した薬液タンク１２、ｐ
Ｈの調製を行うｐＨ調製部１３、蒸気を発生させる蒸気
発生部２、オゾンＯを発生させるオゾン発生部３、蒸気
ＳにオゾンＯを溶解させてオゾン含有蒸気Ｓｏを生成す
るオゾン含有蒸気生成部４、オゾン含有蒸気Ｓｏを被洗
浄物に接触させて洗浄を行う第一洗浄部５、蒸気を排出
する局所排気装置１４、オゾンを分解するオゾン分解装
置１５、ドレンを排出するドレン装置１６、被洗浄物を
超音波洗浄する第二洗浄部６、排水を処理する排水処理
装置１７、被洗浄物の水洗いを行う水洗槽を備えた水洗
部１８、被洗浄物を乾燥させる乾燥室１９を備える。
【００１０】次に、洗浄機１の動作について説明する。
まず、純水製造部１１では水道水（原水）から純水を製
造し、得られた純水は蒸気発生部２に供給し、蒸気発生
部２により蒸気を発生させる。
造し、得られた純水は蒸気発生部２に供給し、蒸気発生
部２により蒸気を発生させる。
【００１１】一方、オゾン発生部３はオゾンＯを発生さ
せる。オゾン発生部３は高濃度のオゾンＯを発生させる
ことが望ましく、例えば、水分解によるオゾン発生原理
を用いることにより、オゾン濃度３０，０００ｐｐｍ程
度を得れる。なお、オゾン濃度は被洗浄物や汚れの程度
等により任意に可変調節できる。
せる。オゾン発生部３は高濃度のオゾンＯを発生させる
ことが望ましく、例えば、水分解によるオゾン発生原理
を用いることにより、オゾン濃度３０，０００ｐｐｍ程
度を得れる。なお、オゾン濃度は被洗浄物や汚れの程度
等により任意に可変調節できる。
【００１２】また、オゾン含有蒸気発生部４では移送さ
れる蒸気ＳにオゾンＯを供給することにより、蒸気Ｓに
オゾンＯを溶解させ、オゾン含有蒸気Ｓｏを生成する。 そして、得られたオゾン含有蒸気Ｓｏは第一洗浄部５に
供給する。さらにまた、ｐＨ調製用の薬液を収容した薬
液タンク１２からは薬液がｐＨ調製部１３に供給され、
ここで加温するとともに、ミスト化し、第一洗浄部５に
供給する。ミスト化された薬液はｐＨ、即ち、水素イオ
ン濃度が自動調製されており、この薬液が第一洗浄部５
の中で、オゾン含有蒸気Ｓｏに混合することにより、当
該オゾン含有蒸気ＳｏのｐＨ調製を行う。
れる蒸気ＳにオゾンＯを供給することにより、蒸気Ｓに
オゾンＯを溶解させ、オゾン含有蒸気Ｓｏを生成する。 そして、得られたオゾン含有蒸気Ｓｏは第一洗浄部５に
供給する。さらにまた、ｐＨ調製用の薬液を収容した薬
液タンク１２からは薬液がｐＨ調製部１３に供給され、
ここで加温するとともに、ミスト化し、第一洗浄部５に
供給する。ミスト化された薬液はｐＨ、即ち、水素イオ
ン濃度が自動調製されており、この薬液が第一洗浄部５
の中で、オゾン含有蒸気Ｓｏに混合することにより、当
該オゾン含有蒸気ＳｏのｐＨ調製を行う。
【００１３】第一洗浄部５は洗浄槽を有し、洗浄槽の内
部には篭等に収容された被洗浄物をセットする。被洗浄
物はｐＨ調製されたオゾン含有蒸気Ｓｏと接触し、前述
した洗浄原理（作用）によって洗浄される。洗浄の終了
したオゾン含有蒸気Ｓｏは第一洗浄部５の上部に配した
冷却コイル１６ｃによりドレンとなり、所定のドレン回
収タンク１６に貯留される。また、残留オゾンは局所排
気装置１４から排気され、オゾン分解装置１５により分
解されるとともに、外部に排出される。なお、第一洗浄
部５の洗浄槽は洗浄中密閉されるとともに、洗浄時間は
被洗浄物の種類及び汚れの程度等により可変設定される
。
部には篭等に収容された被洗浄物をセットする。被洗浄
物はｐＨ調製されたオゾン含有蒸気Ｓｏと接触し、前述
した洗浄原理（作用）によって洗浄される。洗浄の終了
したオゾン含有蒸気Ｓｏは第一洗浄部５の上部に配した
冷却コイル１６ｃによりドレンとなり、所定のドレン回
収タンク１６に貯留される。また、残留オゾンは局所排
気装置１４から排気され、オゾン分解装置１５により分
解されるとともに、外部に排出される。なお、第一洗浄
部５の洗浄槽は洗浄中密閉されるとともに、洗浄時間は
被洗浄物の種類及び汚れの程度等により可変設定される
。
【００１４】次に、洗浄の終了した被洗浄物は第二洗浄
部６に供給され、超音波洗浄される。この場合、洗浄水
は次工程における水洗水を利用する。また、排水は排水
処理装置１７に送られ、排水処理された後、放流される
。
部６に供給され、超音波洗浄される。この場合、洗浄水
は次工程における水洗水を利用する。また、排水は排水
処理装置１７に送られ、排水処理された後、放流される
。
【００１５】さらに、超音波洗浄された被洗浄物は次工
程の水洗部１８に送られ、純水により水洗される。水洗
は浸漬とシャワーを併用し、排水は上記のように第二洗
浄部６の洗浄槽に供給される。
程の水洗部１８に送られ、純水により水洗される。水洗
は浸漬とシャワーを併用し、排水は上記のように第二洗
浄部６の洗浄槽に供給される。
【００１６】このような洗浄工程により、フロンに代わ
る洗浄を行うことができ、しかも、アルコール系洗浄剤
等に比べ洗浄能力面、コスト面、安全性面において十分
となる。
る洗浄を行うことができ、しかも、アルコール系洗浄剤
等に比べ洗浄能力面、コスト面、安全性面において十分
となる。
【００１７】以上、実施例について詳細に説明したが、
本発明はこのような実施例に限定されるものではない。 例えば、第二洗浄部は必要に応じて設けることができる
。その他、細部の構成等において、本発明の要旨を逸脱
しない範囲で任意に変更できる。
本発明はこのような実施例に限定されるものではない。 例えば、第二洗浄部は必要に応じて設けることができる
。その他、細部の構成等において、本発明の要旨を逸脱
しない範囲で任意に変更できる。
【００１８】
【発明の効果】このように、本発明に係る洗浄機は蒸気
を発生させる蒸気発生部と、オゾンを発生させるオゾン
発生部と、蒸気にオゾンを含有させてオゾン含有蒸気を
生成するオゾン含有蒸気生成部と、オゾン含有蒸気のｐ
Ｈを調製するｐＨ調製部と、ｐＨ調製されたオゾン含有
蒸気を被洗浄物に接触させて洗浄を行う洗浄部を備える
ため、フロンの代替洗浄手段として洗浄能力面、コスト
面、安全性面上優れた洗浄機として提供できる。
を発生させる蒸気発生部と、オゾンを発生させるオゾン
発生部と、蒸気にオゾンを含有させてオゾン含有蒸気を
生成するオゾン含有蒸気生成部と、オゾン含有蒸気のｐ
Ｈを調製するｐＨ調製部と、ｐＨ調製されたオゾン含有
蒸気を被洗浄物に接触させて洗浄を行う洗浄部を備える
ため、フロンの代替洗浄手段として洗浄能力面、コスト
面、安全性面上優れた洗浄機として提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る洗浄機のブロック構成図。
１ 洗浄機
２ 蒸気発生部
３ オゾン発生部
４ オゾン含有蒸気発生部
５ 第一洗浄部（洗浄部）
６ 第二洗浄部
１３ ｐＨ調製部
Ｓ 蒸気
Ｏ オゾン
Ｓｏ オゾン含有蒸気
Claims (2)
- 【請求項１】 蒸気を発生させる蒸気発生部と、オゾ
ンを発生させるオゾン発生部と、蒸気にオゾンを含有さ
せてオゾン含有蒸気を生成するオゾン含有蒸気生成部と
、オゾン含有蒸気のｐＨを調製するｐＨ調製部と、ｐＨ
調製されたオゾン含有蒸気を被洗浄物に接触させて洗浄
を行う洗浄部を備えることを特徴とする洗浄機。 - 【請求項２】 蒸気を発生させる蒸気発生部と、オゾ
ンを発生させるオゾン発生部と、蒸気にオゾンを含有さ
せてオゾン含有蒸気を生成するオゾン含有蒸気生成部と
、オゾン含有蒸気のｐＨを調製するｐＨ調製部と、ｐＨ
調製されたオゾン含有蒸気を被洗浄物に接触させて洗浄
を行う第一洗浄部と、第一洗浄部により洗浄された被洗
浄物を超音波洗浄する第二洗浄部を備えることを特徴と
する洗浄機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41313090A JPH04222677A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 洗浄機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41313090A JPH04222677A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 洗浄機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04222677A true JPH04222677A (ja) | 1992-08-12 |
Family
ID=18521826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP41313090A Pending JPH04222677A (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 洗浄機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04222677A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62117330A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-05-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体ウエハの洗浄方法 |
| JPS63110732A (ja) * | 1986-10-29 | 1988-05-16 | Nec Corp | 半導体基板の洗浄方法 |
| JPH01140727A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄方法 |
| JPH01262627A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-19 | Nec Corp | 半導体基板の洗浄装置 |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP41313090A patent/JPH04222677A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62117330A (ja) * | 1985-11-18 | 1987-05-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体ウエハの洗浄方法 |
| JPS63110732A (ja) * | 1986-10-29 | 1988-05-16 | Nec Corp | 半導体基板の洗浄方法 |
| JPH01140727A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄方法 |
| JPH01262627A (ja) * | 1988-04-13 | 1989-10-19 | Nec Corp | 半導体基板の洗浄装置 |
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