JPH0422476A - ワークの洗浄・乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、例えば、砥石やパフ研磨方式等による研磨
加工を施した磁気ディスク用アルミニウム基板等のワー
クの洗浄、乾燥を行う洗浄・乾燥装置に関する。

従来の技術 例えば、研磨加工を施した直後の磁気ディスク用アルミ
ニウム基板の表面には、砥粒、研磨液、切粉等の汚れが
付着しており、そのため、これらの汚れを除去するため
、該基板を沈浄し、かつ洗浄後はその表面に付着してい
る水分を除去するために乾燥することが行われる。

従来、この基板の洗浄、乾燥のための装置として、内部
に１つの洗浄乾燥室が備えられたものが使用されている
。この装置では、該洗浄乾燥室内に基板が搬入され、そ
こで該基板に対して洗浄と乾燥とが連続的に施され、そ
して該基板が洗浄乾燥室中から搬出され、その後次の基
板が洗浄乾燥室内に搬入されるという動作の繰返しを行
う。

発明が解決しようとする課題 しかし、上記のような従来装置では、基板に洗浄、乾燥
を連続的に施した後に次の基板の洗浄、乾燥を行ってい
くものであるため、単位時間に洗浄、乾燥処理しうる基
板の枚数を多くすることに限界があった。

この発明は、上記従来の問題点を解決し、単位時間に洗
浄、乾燥処理しうる基板の枚数を従来よりも増加し、ワ
ークの洗浄、乾燥の効率化を図ることのできる洗浄・乾
燥装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段 上記目的において、この発明は、ワークの洗浄を行う洗
浄部と、該洗浄部で洗浄されたワークの乾燥を行う乾燥
部とが隣接配置に設けられ、かつ、前記洗浄部にワーク
を搬入する第１搬送装置と、洗浄部から乾燥部にワーク
を搬送する第２搬送装置と、乾燥部のワークを搬出する
第３搬送装置とが備えられてなることを特徴とするワー
クの洗浄・乾燥装置を要旨とする。

また、もう一つの発明は、前記発明において、前記乾燥
部内部の乾燥室内に、ワーク受取りステージ、スピン乾
燥ステージ及びワーク取出しステージが設定されると共
に、スピン乾燥ステージとワーク取出しステージとの間
にスピン停止ステージが設定され、かつスピン駆動可能
なワークチャツカーが、各ステージを間欠的に順次移行
していく態様において具備され、該ワークチャツカーが
、ワーク受取りステージがらスピン乾燥ステージに移行
する間、及びスピン乾燥ステージからスピン停止ステー
ジに移行する間もワークチャツカーによるワークのスピ
ンが行われるよう制御されるようになされているワクの
洗浄・乾燥装置を要旨とする。

作用 上記第１の発明では、第３搬送装置にて乾燥済ワークが
乾燥部から搬出されると、第２搬送装置によって洗浄部
の洗浄済ワークが乾燥部に搬送されると共に第１搬送装
置によって未処理ワークが洗浄部に搬入されるという動
作が繰り返される。従って、洗浄部では乾燥部でのワー
クの乾燥を完了するのを待たずにワークの洗浄が開始さ
れ、また、乾燥部では洗浄部でのワークの洗浄の完了を
待たずにワークの乾燥が開始される。

また、上記第２の発明では、洗浄部で洗浄を終えたワー
クは、第２搬送装置で、乾燥部に搬送され、該乾燥部の
ワーク受取りステージにおいて、そこで−時的に待機し
たワークチャツカーに保持される。そして、該チャツカ
ーは、スピン乾燥ステージへの移行を開始する前後の時
点においてスピン駆動を開始し、ワークをスピンさせな
がら乾燥ステージに移行される。そして、該チャツカー
は、スピン乾燥ステージにおいて所定時間スピン駆動を
行ってワークの乾燥を行った後、そのスピンを維持しな
がらスピン停止ステージに移行され、該ステージにおい
てスピン駆動を停止する。その後、該チャツカーは、ワ
ーク取出しステージに移行され、第３搬送装置にワーク
を渡し、ワーク受取りステージに移行されて前記同様の
動作を繰り返す。

実施例 以下、この発明の装置を第３図に示されるような磁気デ
ィスク用アルミニウム拭板（Ａ）の洗浄、乾燥を行う装
置に適用した実施例を説明する。

第１図に示される洗浄・乾燥装置（１）において、（２
）は洗浄部、（３）は乾燥部、（４）は第１搬送装置、
（５）は第２搬送装置、（６）は第３搬送装置である。

洗浄部（２）は、その内部の洗浄室（７）内に、回転軸
を前後方向に向けた円板状のターンチーフル（８）を備
えている。このテーブル（８）の前面には、周方向に等
間隔をおいて４つのワークチャツカー（９）が設けられ
ている。

各チャツカー（９）は前方突出状の３つのチャックピン
（９ａ）の組合わせによるもので、各ピン（９ａ）が径
方向に同期的に変位することによって磁気ディスク用基
板（Ａ）の外周部をチャックするものとなされている。

そして、前記ターンテーブル（８）は、各チャツカー（
９）が同図の左上の位置（ワーク受取りステージ（１）
）、左下の位置（洗浄ステージ（ＩＩ）　）　、右下の
位置（水洗ステージ（ｍ））　、右上の位置（ワーク取
出しステージ（■））において−時的に待機する態様に
おいて、間欠的に左回りに回転駆動されるよう制御され
るものとなされている。

そして、洗浄室（７）内の前記洗浄ステージ（ＩＩ）に
は、基板（Ａ）の内外周及び前後面を洗浄する回転スポ
ンジブラシ、洗浄液を供給すぐノズル等よりなる洗浄機
（１０）が配設され、また水洗ステージ（Ｉ［Ｉ）には
、同様の回転スポンジブラシ、水供給ノズル等よりなる
水洗機（１１）が配設されている。

一方、乾燥部（３）は、前記洗浄部（２）に隣接して配
置され、その内部の乾燥室（１３）内に、回転軸を前後
方向に向けた、前記洗浄部（２）と同様の円板状のター
ンテーブル（１４）を備えている。このターンテーブル
（１４）の前面には、周方向に等間隔をおいて４つのワ
ークチャツカー（１５）が設けられている。各チャツカ
ー（１５）は、前方突出状のチャック部が基板（Ａ）の
軸孔に通された状態で該チャック部が拡径することによ
り該基板（Ａ）のチャックを行うものとなされている。

そして、各チャツカー　（１５）は自軸回りでの回転を
行いうるようにされており、この回転駆動により、チャ
ックした基板（Ａ）を回転させてその遠心力で水分を飛
ばし、基板（Ａ）の乾燥、即ちスピン乾燥を行うものと
なされている。なお各チャック部の半径方向外方部にお
いて、テーブル（１４）には外開き円弧状の水よけ（１
Ｂ）が取り付けられている。そして、前記ターンテーブ
ル（１４）は、各チャツカー（１５）が同図の左上の位
置（ワーク受取りステージ（Ｖ））　、左下の位置（ス
ピン乾燥ステージ（Ｖｌ）　）、右下の位置（スピン停
止ステージ（■））、右上の位置（ワーク取出しステー
ジ（■））において−時的に待機される態様において、
間欠的に左回りに回転駆動されるよう制御されるものと
なされている。

そして、上記洗浄部（２）には、ワーク受取りステージ
（Ｉ）の位置に隣接して、外部から基板（Ａ）を洗浄室
（７）内に搬入するワーク搬入口（１９）が設けられ、
第１搬送装置（４）が、該搬入口（１９）を介して洗浄
室（７）の内外を往復作動する態様において配設されて
いる。

この第１搬送装置（４）は、拡径することにより基板（
Ａ）の軸孔をチャックするチャツカーを具備し、基板（
Ａ）を搬入口（１９）を介して洗浄室（７）内のワーク
受取りステージ（１）に位置するチャツカー（９）に渡
すように作動されるものとなされている。

また、前記洗浄部（２）及び乾燥部（３）の相互対向部
には、洗浄部（２）のワーク取出しステージ（ＩＶ）と
乾燥部（３）のワーク受取りステージ（Ｖ）に隣接して
、洗浄室（７）内から乾燥室（１３）内に洗浄済基板（
Ａ）を搬送するワーク搬送口（２０）が設けられ、第２
搬送装置（５）が、該搬送口（２０）を介して洗浄室（
７）内と乾燥室（１３）内との間で往復作動する態様に
おいて配設されている。

更に、上記乾燥部（３）には、ワーク取出しステージ（
■）の位置に隣接して、乾燥室（１３）内の乾燥済基板
（Ａ）を外部に搬出するワーク搬出口（２１）が設けら
れ、第３搬送装置（６）が、該搬用口（２１）を介して
乾燥室（１３）の内外を往復作動される態様において配
設されている。

上記第２及び第３搬送装置（５）（６）による基板（Ａ
）のチャック方式は上記第１搬送装置（４）と同じで軸
孔チャック方式等による。

なお、洗浄室（７）、の底部には洗浄に使われた汚水を
排出する排出口（２３）が、また乾燥室（１３）にはワ
ークのスピンにより飛ばされた水を排出する排出口（２
４）がそれぞれ設けられている。

次に、上記洗浄・乾燥装置（１）の作動をその制御方式
と併せて第２図に基づいて説明する汚れを付着させてい
る研磨加工後の磁気ディスク用基板（Ａ）をチャックし
た第１搬送装置（４）は、洗浄部（２）の搬入口（１９
）を通して洗浄室（７）内に移行され、受取りステージ
（ｒ）において、その基板（Ａ）が、該ステージ（１）
に待機しているチャツカー（９）に渡される。

該チャツカー（９）に基板（Ａ）が渡されたのち、第１
搬送装置（４）は洗浄室（７）外に移行される一方、テ
ーブル（８）が左方向に１／４回転回転され、該チャツ
カー（９）は洗浄ステージ（ＩＮ）に移行されてそのス
テージ（■で待機される。また、取出しステージ（ＩＶ
）で待機していたチャツカー（９）が受取リステージ（
Ｉ）に移行され、そこに待機する。この待機中、洗浄ス
テージ（Ｉｒ）の基板（Ａ）は洗浄機（１０）の作動に
より洗剤によりその前後面、外周面及び軸孔内面の洗浄
が行われる。また、受取りステージ（１）では第１搬送
装置（４）により次の基板（Ａ）が搬送され、そのステ
ージ（Ｉ）に待機中のワークチャツカー（９）に渡され
る。

そして、洗浄終了後に再びテーブル（８）が左方向に１
／４回転回転され、洗浄ステージ（ＩＩ）のチャツカー
（９）は水洗ステージ（ＩＩ［）に移行される。また、
受取りステージ（１）の基板（Ａ）は洗浄ステージ（Ｉ
Ｉ）に移行され、受取りステージ（１）に、取出しステ
ージ（ＩＶ）のチャツカー（９）が移行される。

そして、水洗ステージ（Ｉｌｌｒ）の基板（Ａ）は、そ
こで水洗機（］１）の作動により水洗処理に付される。

また洗浄ステージ（ＩＩ）の基板（Ａ）は、そこで洗浄
機（１ｏ）の作動により洗浄に付され、受取りステージ
（１）のチトツヵー（９）には次の基板（Ａ）が第１搬
送装置（４）により渡される。

そして、水洗終了後、またテーブル（８）が左方向に１
／４回転回転され、水洗ステージ（ＩＩＩ）のチャツカ
ー（９）は取出しステージ（ＩＶ）に移行される。また
洗浄ステージ（ＩＩ）のチャツカー（９）は水洗ステー
ジ（ＩＩＩ）に移行され、受取りステージ（１）のチャ
ツカー（９）は洗浄ステージ（ＩＩ）に移行され、受取
りステージ（１）には、取出しステージ（ＩＶ）のチャ
ツカー（９）が位置される。

そして、取出しステージ（ＩＶ）の基板（Ａ）は、第２
搬送装置（５）により、搬送口（２ｏ）を通して乾燥室
（Ｉ３）の受取りステージ（Ｖ）に待機中のチャツカー
（１５）に渡される。

以後、洗浄部（２）では上記と同様の動作が繰り返され
、基板（Ａ）は、次々に乾燥部（３）に渡されていく。

そして、乾燥部（３）において、受取りステージ（Ｖ）
で基板（Ａ）を受は取ったチャツカー　（１５）は、所
定待機時間経過後、その経過時点の前後においてスピン
駆動を開始し、テーブル（１４）の左方向への〕／４回
転の回転によりスピン駆動を行いながらスピン乾燥ステ
ージ（Ｖｌ）に移行され、取出しステージ（■）のチャ
ツカー（１５）は受取りステージ（Ｖ）に移行される。

そして、移行後の待機中、スピン乾燥ステージ（Ｖｌ）
の基板（Ａ）はスピン乾燥に付される。また、受取りス
テージ（Ｖ）では第２搬送装置（５）により次の基板（
Ａ）が搬送され、そのステージ（Ｖ）に待機中のチャツ
カー（１５）に渡される。

そして、所定時間経過後にテーブル（１４）が更に左方
向に１／４回転回転され、スピン乾燥ステージ（ＶＩ）
のチャツカー（１５）はスピン駆動を行いながらスピン
停止ステーン（■）に移行される。また、受取りステー
ジ（Ｖ）の基板（Ａ）はスピンしながらスピン乾燥ステ
ージ（ＶＩ）に移行され、受取りステージ（Ｖ）に、取
出しステージ（■）のチャツカー（］５）が移行される
。

そして、スピン停止ステージ（■）で、基板（Ａ）のス
ピンが停止される。またスピン乾燥ステージ（Ｖｌ）の
基板（Ａ）はそこでスピン乾燥に付され、受取りステー
ジ（Ｖ）には次の基板（Ａ）が第２搬送装置（５）によ
り渡される。

そして、スピン停止ステージ（■）の基板（Ａ）の回転
停止後待機時間を経過すると、テーブル（１４）が更に
また左方向に１／４回転回転され、スピン停止ステージ
（■）のチャツカー　（１５）は取出しステージ（■）
に移行される。

またスピン乾燥ステージ（Ｖｌ）のチャツカー（１５）
は基板（Ａ）をスピンさせながらスピン停止ステージ（
■）に移行され、受取りステージ（Ｖ）に待機していた
チャツカー（１５）は基板（Ａ）をスピンさせながらス
ピン乾燥ステージ（Ｖｌ）に移行され、受取りステージ
（Ｖ）に取出しステージ（■）のチャツカー（１５）が
移行される。

そして、取出しステージ（■）の基板（Ａ）は、第３搬
送装置（６）により、搬出口（２１）を通して乾燥室（
Ｉ３）外に搬出される。

以後、乾燥部（３）では上記と同様の動作が繰り返され
、前記洗浄部（２）と連動しつつ、基板（Ａ）の乾燥が
行われ、第３搬送装置（３）にて処理済の基板（Ａ）が
乾燥室（１３）外に搬出されていく。

以上の説明のように、上記洗浄・乾燥装置（１）では、
第３搬送装置（６）にて基板（Ａ）が乾燥部（３）から
搬出されると、第２搬送装置（５）によって洗浄部（２
）の基板（Ａ）が乾燥部（３）に搬送されると共に第１
搬送装置（４）によって基板（Ａ）が洗浄部（２）に搬
入されるという動作が繰り返され、一つの基板（Ａ）の
乾燥を実施している間に洗浄部（２）では別の基板（Ａ
）の洗浄が実施される。従って、基板（Ａ）の洗浄、乾
燥処理を効率的に実施していくことができる。また洗浄
部（２）と乾燥部（３）とを隣接配置状態に設けている
から、洗浄と乾燥とを同時進行しても乾燥処理している
基板（Ａ）に洗浄水が付着してしまうというような不具
合が発生することもない。

しかも、洗浄部（２）で洗浄を終え、第２搬送装置（５
）で乾燥部（３）のワーク受取りステージ（Ｖ）に渡さ
れた基板（Ａ）は、スピン乾燥ステージ（ＶＴ）に移行
を開始する前後の時点においてスピンを開始され、スピ
ン乾燥ステージ（ＶＩ）への移行中スピンされる。かつ
そのスピンはスピン乾燥ステージ（Ｖｌ）からスピン停
止ステージ（■）に移行される間も継続され、スピン停
止ステージ（■）において停止される。

そのため、スピン乾燥ステージ（Ｖｌ）での基板（Ａ）
の待機時間を短縮することができ、これによって単位時
間に乾燥処理しうる基板（Ａ）の数、即ち、第３搬送装
置（６）によって搬出される基板（Ａ）の数の増加を図
ることができる。

加えて、上記実施例では、洗浄部（２）での洗浄を、洗
浄ステージ（ＩＩ）と水洗ステージ（ＩＩＩ）とを分割
して行うものとなされているから、洗浄室（７）の取出
しステージ（ＩＶ）から乾燥部（３）側に単位時間に送
られる基板（Ａ）の枚数の増加を図り、基板（Ａ）の洗
浄、乾燥処理のより一層の効率化を図ることができる。

また、上記実施例のように、洗浄部（２）と乾燥部（３
）とを、ワークチャツカー（９）（１５）の構成、洗浄
機（１０）と水洗機（１１）の有無、水よけ（１Ｂ）の
有無等において異ならせ、その他の点において共通する
構成にすることにより、両部（２）（３）の構成部材の
共通化が可能で、装置（１）の製造コストの低減化等を
図ることができる。

更に、上記のように、チャツカー（９）　　（１，５）
の各ステージへの移行をターンテーブル（８）（１４）
の回転により行う構成を採用することで、洗浄室（７）
、乾燥室（１３）内のスペースの減少を図ることができ
、装置（１）の小型化が可能となる。

なお、上記実施例では、洗浄・乾燥装置（１）を、研磨
後の磁気ディスク用アルミニウム基板に付着した汚れの
除去に使用する場合を説明しているが、これに限られる
ものではない。

発明の効果 上述の次第で、この発明のワークの洗浄・乾燥装置は、
ワークの洗浄を行う洗浄部と、該洗浄部で洗浄されたワ
ークの乾燥を行う乾燥部とが隣接配置に設けられ、かつ
、前記洗浄部にワークを搬入する第１搬送装置と、洗浄
部から乾燥部にワークを搬送する第２搬送装置と、乾燥
部のワークを搬出する第３搬送装置とが備えられたもの
であるから、洗浄部では乾燥部でのワークの乾燥を完了
するのを待たずにワークの洗浄が開始され、また、乾燥
部では洗浄部でのワークの洗浄の完了を待たずにワーク
の乾燥が開始される。従って、従来のようにワークに洗
浄、乾燥を連続的に施した後に次のワークの洗浄、乾燥
を行っていく装置に比べ、単位時間に洗浄乾燥処理しう
る基板の枚数を従来よりも増加することができ、ワーク
の洗浄、乾燥の効率化を図ることが可能である。

また、もう一つの発明にかかるワークの洗浄・乾燥装置
は、乾燥部内部の乾燥室内に、ワーク受取りステージ、
スピン乾燥ステージ及びワーク取出しステージが設定さ
れると共に、スピン乾燥ステージとワーク取出しステー
ジとの間にスピン停止ステージが設定され、かつスピン
駆動可能なワークチャツカーが、各ステージを間欠的に
順次移行していく態様において具備され、該ワークチャ
ツカーが、ワーク受取りステージからスピン乾燥ステー
ジに移行する間、及びスピン乾燥ステージからスピン停
止ステージに移行する間もワークチャツカーによるワー
クのスピンが行われるよう制御されるようになされてい
るから、チャツカーのスピン駆動をスピン乾燥ステージ
で開始し同ステージで停止する場合に比べて、スピン乾
燥ステージでのワークの待機時間を短縮することができ
、これによって単位時間に乾燥処理しうるワークの数の
増加を図ることができる。従って、スピン乾燥に要する
時間が洗浄に要する時間よりも長くかかるような場合に
は特に、洗浄部におけるワークの洗浄のアイドルタイム
の減少を図ることができ、ワークの洗浄、乾燥処理のよ
り一層の効率化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の洗浄・乾燥装置の一実施例を示す概
略正面図、第２図は磁気ディスク用話板の洗浄、乾燥を
行っている状態を示す正面図、第３図は磁気ディスク用
基板の斜視図である。 （１）・・・洗浄・乾燥装置、（２）・・・洗浄部、（
３）・・・乾燥部、（４）・・・第１搬送装置、（５）
・・・第２搬送装置、（６）・・・第３搬送装置、（１
５）・・・ワークチャツカー　（Ｖ）・・・ワーク受取
りステージ、（■）・・・スピン乾燥ステージ、（■）
・・・スピン停止ステージ、（■）・・・ワーク取出し
ステージ、（Ａ）・・・磁気ディスク用アルミニウム基
板（ワーク）。 以上

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ワークの洗浄を行う洗浄部と、該洗浄部で洗浄さ
   れたワークの乾燥を行う乾燥部とが隣接配置に設けられ
   、かつ、前記洗浄部にワークを搬入する第１搬送装置と
   、洗浄部から乾燥部にワークを搬送する第２搬送装置と
   、乾燥部のワークを搬出する第３搬送装置とが備えられ
   てなることを特徴とするワークの洗浄・乾燥装置。
2. （２）前記乾燥部内部の乾燥室内に、ワーク受取りステ
   ージ、スピン乾燥ステージ及びワーク取出しステージが
   設定されると共に、スピン乾燥ステージとワーク取出し
   ステージとの間にスピン停止ステージが設定され、かつ
   スピン駆動可能なワークチャッカーが、各ステージを間
   欠的に順次移行していく態様において具備され、該ワー
   クチャッカーが、ワーク受取りステージからスピン乾燥
   ステージに移行する間、及びスピン乾燥ステージからス
   ピン停止ステージに移行する間もワークチャッカーによ
   るワークのスピンが行われるよう制御されるようになさ
   れている請求項（１）に記載のワークの洗浄・乾燥装置
   。