JPH0422484A - Evaporative concentration treatment system for waste photographic processing solution - Google Patents
Evaporative concentration treatment system for waste photographic processing solutionInfo
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- JPH0422484A JPH0422484A JP12723890A JP12723890A JPH0422484A JP H0422484 A JPH0422484 A JP H0422484A JP 12723890 A JP12723890 A JP 12723890A JP 12723890 A JP12723890 A JP 12723890A JP H0422484 A JPH0422484 A JP H0422484A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、写真用自動現像機による写真感光材料の現
像処理に伴い発生する廃液(以下、写真処理廃液ないし
廃液と略称)を蒸発処理する処理装置!:係り、特Iこ
、自動現像機内若しくは自動現像機の近傍に配置して処
理するのに適した写真処理廃液の処理装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is a method for evaporating waste liquid (hereinafter referred to as photographic processing waste liquid or waste liquid) generated during the processing of photographic light-sensitive materials using an automatic photographic processor. Processing equipment! This invention relates to a processing apparatus for photographic processing waste liquid, which is suitable to be disposed in or near an automatic processor.
一般に、ハロゲン化銀感光材料の写真処理は、発色現像
、漂白定着(又は漂白、定着)、水洗又は安定化処理の
順に行なわれている。Generally, photographic processing of silver halide light-sensitive materials is carried out in the order of color development, bleach-fixing (or bleaching and fixing), and water washing or stabilization processing.
そして、多量の感光材料を処理する写真処理においては
、処理によって消費された成分を補充し一方、処理によ
って処理液中に溶出或は蒸発によって濃化する成分(例
えば現像液における臭化物イオン、定着液における銀錯
塩のような)を除去して処理成分を一定に保つことによ
って処理液の性能を一定に維持する手段が採られており
、補充のために補充液が処理液に補充され、写真処理に
おける濃厚化成分の除去のために処理液の一部が廃棄さ
れている。In photographic processing in which a large amount of light-sensitive material is processed, components consumed during processing are replenished, while components that are eluted into the processing solution or concentrated by evaporation during processing (for example, bromide ions in the developer, bromide ions in the fixer), etc. A method is used to maintain the performance of the processing solution at a constant level by removing substances such as silver complex salts (such as silver complex salts) and keeping the processing components constant. A portion of the processing solution is discarded to remove concentrated components.
近年、補充液は水洗の補充液である水洗水を含めて公害
上や経済的理由から補充の量を大幅に減少させたシステ
ムに変わりつつあるが、写真処理廃液は自動現像機の処
理槽から廃液管によって導かれ、水洗水の廃液や自動現
像機の冷却水等で希釈されて下水道等に廃棄されている
。In recent years, systems have been changing to systems in which the amount of replenishment fluid, including washing water, which is used as a replenishment fluid for washing, has been significantly reduced due to pollution and economic reasons, but photographic processing waste fluid is removed from the processing tank of automatic processors. It is led through a waste liquid pipe, diluted with waste liquid from washing water, cooling water from automatic processing machines, etc., and then disposed of in a sewer or the like.
しかしながら、近年の公害規制の強化により、水洗水や
冷却水の下水道や河川への廃棄は可能であるが、これら
以外の写真処理液[例えば、現像液、定着液、発色現像
液、漂白定着液(又は漂白液、定着液)、安定液等1の
廃棄は、実質的に不可能となっている。このため、各写
真処理業者は廃液を専門の廃液処理業者に回収料金を払
って回収してもらったり公害処理設備を設置したりし・
ている。しかしながら、廃液処理業者に委託する方法は
、廃液を貯留しておくのにかなりのズベースか必要とな
るし、またコスト的にも極めて高価であり、さらに公害
処理設備は初期投資((′ニシャルコスト)が極めて大
きく、整備するのにかなり広大な場所を必要とする等の
欠点を有している。However, due to stricter pollution regulations in recent years, it is possible to dispose of washing water and cooling water into sewers or rivers, but other photographic processing solutions [e.g. developer, fixer, color developer, bleach-fixer] (or bleaching solution, fixing solution), stabilizing solution, etc. 1 is virtually impossible to dispose of. For this reason, each photo processing company pays a collection fee to a specialized waste liquid processing company to collect the waste liquid, or installs pollution treatment equipment.
ing. However, the method of outsourcing to a waste liquid treatment company requires a considerable amount of storage space to store the waste liquid, is extremely expensive, and requires an initial investment (('Ni) for pollution treatment equipment. It has drawbacks such as extremely high cost (cost) and the need for a fairly large area for maintenance.
従って、一般には廃液回収業者によって回収され、二次
及び三次処理され無害化されているが、回収費の高騰に
より廃液引き取り価格は年々高くなるはかりでなく、ミ
ニラボ等では回収効率は悪いため、なかなか回収に来て
もらうことができず、廃液が店に充満する等の問題を生
じている。Therefore, waste liquid is generally collected by a waste liquid collection company and rendered harmless through secondary and tertiary processing, but due to rising collection costs, the price of waste liquid collection is increasing year by year, and collection efficiency is low in minilabs, etc., so it is difficult to do so. No one can come to collect the liquid, causing problems such as waste liquid filling the store.
これらの問題を解決するために写真処理廃液の処理をミ
ニラボ等でも容易に行えることを目的として、写真処理
廃液を加熱して水分を蒸発乾固ないし固化することか研
究されており、例えば、実開昭60−70841号等に
示されている。ところで、発明者等の研究では写真処理
廃液を蒸発処理した場合、亜硫酸ガス、硫化水素、アン
モニアガス等の有害ないし極めて悪臭性のガスが発生す
る。これは写真処理液の定着液や漂白定着液としてよく
用いられるチオ硫酸アンモニウムや亜硫酸塩(アンモニ
ウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩)が高温のため分
解することによって発生することがわかった。更に蒸発
処理時には写真処理廃液中の水分等が蒸気どなって気体
化することにより体積が膨張し、蒸発釜中の圧力が増大
する。このためこの圧力によって蒸発処理装置から前記
有害ないし悪臭性のガスが装置外部へもれ出してしまい
、作業環境上極めて好ましくないことが起る。In order to solve these problems, research has been conducted into heating the photographic processing waste liquid to evaporate the water to dryness or solidify it, with the aim of making it easier to process the photographic processing waste liquid even in minilabs. It is shown in JP-A No. 60-70841 and the like. By the way, the inventors' research has shown that when photographic processing waste liquid is evaporated, harmful or extremely malodorous gases such as sulfur dioxide gas, hydrogen sulfide, and ammonia gas are generated. It has been found that this is caused by the decomposition of ammonium thiosulfate and sulfites (ammonium salt, sodium salt, or potassium salt), which are commonly used as fixing solutions and bleach-fixing solutions in photographic processing solutions, due to high temperatures. Furthermore, during the evaporation process, moisture and the like in the photographic processing waste liquid turns into steam and gasifies, causing the volume to expand and the pressure in the evaporator to increase. Therefore, due to this pressure, the harmful or malodorous gas leaks out of the evaporation treatment apparatus to the outside of the apparatus, resulting in an extremely unfavorable working environment.
そこで、これらを解決するために実開昭60−7084
1号には蒸発処理装置の排気管部に活性炭等のI7[ガ
ス処理部を設ける方法か開示されている。しかし、この
方法は写真処理廃液中の多量の水分による水蒸気により
、排ガス処理部で結露又は凝結し、ガス吸収処理剤を水
分か覆い、ガス吸収能力を瞬時イこ失わせてしまう重大
な欠点を有しており、未だ実用には供し得ないものであ
った。Therefore, in order to solve these problems,
No. 1 discloses a method of providing an I7 gas treatment section such as activated carbon in the exhaust pipe section of an evaporation treatment device. However, this method has the serious drawback that water vapor from a large amount of water in the photographic processing waste liquid condenses or condenses in the exhaust gas treatment section, covering the gas absorption processing agent with moisture and instantly losing its gas absorption ability. However, it has not yet been put to practical use.
これらの問題点を解決するために、この発明者等は写真
処理廃液を蒸発処理するに際し、蒸発によって生じる蒸
気を凝縮させ、さらに凝縮によって生〔る凝縮液を処理
するとともに非凝縮成分についても処理して外部へ放出
する写真処理廃液の濃縮処理装置について先に提案した
。In order to solve these problems, the inventors decided to evaporate photographic processing waste by condensing the vapor generated by the evaporation, and then treating the condensate produced by the condensation as well as non-condensable components. We have previously proposed a device for concentrating photographic processing waste liquid that is then discharged to the outside.
このような写真処理廃液の濃縮処理装置を使用し、全体
として悪臭ガス発生のない、コンバク]・で、効率のよ
い処理システムを構築することが求められている。すで
に処理液を分離処理することや、ストックタンクを分離
しておくことは当業者は行なっていることであるか、本
出願人は、さらに悪臭イオウ系ガスの発生に処理液の酸
化が大きく寄与して(、することを発見し、写真処理廃
液を蒸発濃縮処理するときの有力なガス対策として活用
することにした。There is a need to construct an efficient processing system using such a concentration processing apparatus for photographic processing waste liquid, which does not generate foul-smelling gas as a whole. Those skilled in the art have already conducted separate processing of the processing liquid and separated stock tanks, and the applicant has further determined that the oxidation of the processing liquid contributes significantly to the generation of malodorous sulfur-based gases. I discovered this and decided to use it as a powerful countermeasure against gas when photographic processing waste liquid is evaporated and concentrated.
本出願人の研究において、上記蒸発濃縮を減圧下で行な
うことにより低温での蒸発濃縮を促進する技術か確立し
、低温であることによって写真処理廃液の成分の分解を
抑え、硫化水素等の悪臭イオウ系ガスは大幅に低下した
がなお不十分である。In our research, we have established a technology that promotes evaporative concentration at low temperatures by performing the above evaporative concentration under reduced pressure. Sulfur-based gases have decreased significantly, but it is still insufficient.
この発明は悪臭ガス発生のない写真処理廃液の蒸発濃縮
システムを提供することを課題目的とするものである。An object of the present invention is to provide an evaporative concentration system for photographic processing waste liquid that does not generate foul-smelling gas.
その目的は、次の(1)、(2)、(3)、(4)、(
5)、(6)のいずれかの技術手段によって達成される
。The purpose is the following (1), (2), (3), (4), (
This can be achieved by any of the technical means of 5) and (6).
(1)写真用自動現像機の各処理槽から生じる写真処理
廃液を、少なくとも2つのスト・ツクタンクでストック
し、少なくとも現像処理槽とその他の処理槽から生じる
廃液を分けてスト・ツクし7、該ストツタタンクの少な
くとも1個は廃液の開口面積が500cm2/(1以上
とならないようにし、該スト・ツクタンクから廃液を9
0℃以下で蒸発濃縮する装置に導くことを特徴とする写
真処理廃液の蒸発濃縮処理システム。(1) The photographic processing waste liquid generated from each processing tank of an automatic photographic processor is stocked in at least two stock tanks, and at least the waste liquid generated from the development processing tank and other processing tanks are stored separately. At least one of the stock tanks should have an opening area of 500 cm2/(1 or more) for waste liquid, and the waste liquid from the stock tank should be
An evaporative concentration treatment system for photographic processing waste liquid, characterized in that the photographic processing waste liquid is led to an apparatus for evaporation concentration at 0° C. or lower.
(2)上記ストックタンクの全てを開口面積を500c
m”IQ以下にしたことを特徴とする1項記載の写真処
理廃液の蒸発濃縮処理システム。(2) The opening area of all the above stock tanks is 500cm.
2. The evaporative concentration treatment system for photographic processing waste liquid according to item 1, characterized in that the IQ is lower than m''IQ.
(3)複数の写真用自動現像機から生じる写真処理廃液
のうち、現像液を現像液用ストックタンクに混合してス
トックすることを特徴とする1項または2項お載の写真
処理廃液の蒸発濃縮処理システム。(3) Evaporation of photographic processing waste liquid as described in item 1 or 2, characterized in that among photographic processing waste liquids generated from a plurality of automatic photographic processing machines, the developer is mixed and stocked in a developer stock tank. Concentration processing system.
(4)上記蒸発濃縮する装置が、蒸発濃縮を減圧下で行
なうことを特徴とする1〜3項のいずれか1項に記載の
写真処理廃液の蒸発濃縮処理システム。(4) The evaporative concentration processing system for photographic processing waste liquid according to any one of items 1 to 3, wherein the evaporative concentration device performs the evaporative concentration under reduced pressure.
(5)上記蒸発濃縮する装置が、写真処理廃液の加熱手
段としてヒートポンプの加熱部を使用することを特徴と
する1〜4項のいずれか1項に記載の写真処理廃液の蒸
発濃縮処理システム。(5) The evaporative concentration processing system for photographic processing waste liquid according to any one of items 1 to 4, wherein the apparatus for evaporating and concentrating the photographic processing waste liquid uses a heating section of a heat pump as a heating means for the photographic processing waste liquid.
(6)上記蒸発濃縮を、現像液とその他廃液とにわけて
別々に行なうことを特徴とする1〜5項のいずれか1項
に記載の写真処理廃液の蒸発濃縮処理システム。(6) The evaporative concentration processing system for photographic processing waste liquid according to any one of items 1 to 5, wherein the evaporative concentration is carried out separately for the developing solution and other waste liquid.
この発明に於て、写真処理廃液は、自動現像機から新液
補充に伴う使用済み液のオーツく−フローの形で廃液回
収容器に回収される従来の回収方法を前提とした場合は
、上記廃液回収容器からスト・ツクタンクに移すことを
行なうけれども本格的にこの発明のシステムを導入する
に当たっては、自動現像機からのオーバーフロー廃液回
収容器が即ちストツタタンクであってもよい。In this invention, assuming the conventional collection method in which photographic processing waste liquid is collected from an automatic processing machine into a waste liquid collection container in the form of an automatic flow of used liquid as new liquid is replenished, the above-mentioned method will be applied. Although the waste liquid is transferred from the waste liquid collection container to the stock tank, when the system of the present invention is introduced in earnest, the overflow waste liquid collection container from the automatic processor may be used as a stock tank.
2つ以上のストックタンクにストックする理由は、現像
液の廃液が、その他の液、例えば定着液の廃液と混合さ
れると激しく反応して有毒ガスなどの発生があるから、
これを避けるためである。The reason for stocking in two or more stock tanks is that when developer waste is mixed with other liquids, such as fixer waste, it reacts violently and generates toxic gas.
This is to avoid this.
ストツタタンクに廃液を収納し、つねにその開口面積か
500cm2/Q以上どならないようにする理由は、開
口面積が広いと、ストック中に写真処理廃液が酸化して
酸化物となることが早いので、これを防止するためであ
る。更に容器内の液量が減少するど、体積当りの空気と
接触する解放面積が大きくなり、酸化か速まることを着
目し、これを防止すべく開口面積か、規定値をこさない
ようにする。The reason for storing waste liquid in a stock tank and making sure that its opening area does not exceed 500cm2/Q is that if the opening area is wide, the photographic processing waste liquid will quickly oxidize and become oxides during storage. This is to prevent Furthermore, as the amount of liquid in the container decreases, the open area that comes in contact with air increases per volume, which accelerates oxidation, so in order to prevent this, the opening area should not exceed the specified value.
その値は、本出願人は、開口面積が500cm2/(1
!以上とならないように、好ましくは200cm2/Q
以上とならないように、更に好ましくは100cm2/
(!以上とならないように常に保つことで効果があるこ
とを発見した。The applicant has determined that the opening area is 500cm2/(1
! Preferably 200cm2/Q so as not to exceed
More preferably 100cm2/
(I discovered that it is effective to always keep it so that it does not exceed !).
蒸発濃縮を90℃以下で行なう理由は、写真処理廃液に
含まれるチオ硫酸アンモニウムや亜硫酸塩なとの分解を
起こさないためであり、更に減圧下で行なうことで90
℃以下でも水分の蒸発を活発に行なわせる効果を引き出
している。The reason why evaporative concentration is carried out at 90°C or lower is to prevent decomposition of ammonium thiosulfate and sulfites contained in the photographic processing waste solution, and furthermore, by carrying out the evaporation under reduced pressure,
It brings out the effect of actively evaporating water even at temperatures below ℃.
蒸発濃縮する装置の加熱手段にヒートポンプの加熱部を
使用する理由は、加熱部を90℃以下に制御を安定させ
、その温度リップル幅を狭くするには、他の加熱手段、
例えば電熱ヒーター等では困難であること、加熱部表面
積に対する熱エネルギーの分布を低く抑えて、写真処理
廃液を、たとえ1部分でも過熟しないためには、ヒート
ポンプの加熱部が適していることを確認したからである
。The reason why the heating section of a heat pump is used as the heating means of the evaporation concentration device is that in order to stabilize the control of the heating section at 90°C or less and narrow the temperature ripple width, other heating means,
For example, we confirmed that the heating section of a heat pump is suitable for keeping the distribution of thermal energy over the surface area of the heating section low and preventing even one part of the photographic processing waste from over-ripening, something that is difficult to do with electric heaters. Because I did.
更にストックタンクの廃液の開口面積が500cm”/
Q以上とならない手段として、廃液面に浮きブタを設け
る方法、フレキシブル密閉容器を使用する方法、吸い出
し用の管がストックタンクの底まで届かず、開口面積が
500cm”/Q以下となるまでしか吸い出せないとす
る方法(第5図)などがある。Furthermore, the opening area of the waste liquid in the stock tank is 500cm”/
Measures to prevent the problem from exceeding Q include installing a floating pipe on the waste liquid surface, using a flexible airtight container, and ensuring that the suction pipe does not reach the bottom of the stock tank and sucks only until the opening area is less than 500cm''/Q. There are ways to say that it cannot be released (Figure 5).
後述のvg1表に蒸発温度と硫化水素ガス濃度との関係
を実験結果として示した。この発明の実施例の90℃以
下では硫化水素ガス濃度がlppmであり、他と比べて
、特に効果のあることが明かである。The relationship between evaporation temperature and hydrogen sulfide gas concentration is shown as an experimental result in Table vg1, which will be described later. The hydrogen sulfide gas concentration at 90° C. or lower in the embodiment of this invention is 1 ppm, and it is clear that this method is particularly effective compared to the others.
次に、この発明の実施例を図をもって説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第2図は、この発明の写真処理廃液の蒸発濃縮処理シス
テムのブロック図であり、第1図は比較のための従来図
である。FIG. 2 is a block diagram of the evaporative concentration treatment system for photographic processing waste liquid according to the present invention, and FIG. 1 is a conventional diagram for comparison.
第3図、第4図には、その蒸発濃縮装置の実施例を示す
。カラーネガ用自動現像機旧は、現像(CD)、ブリー
チ(BL)、定着(F T X) 、安定(ST)より
構成されているが、このうち現像の廃液を現像液ストッ
クタンク43に入れる。その他の廃液はストックタンク
44に入れる。一方カラーペーパー用自動現像機42は
、現像(CD)、漂白定着(BF)、安定(SST)よ
り構成されているが、このうち現像廃液を現像液ストッ
クタンク43にいれ、その他の廃液をストックタンイア
44に入れる。このように異種の自動現像機の廃液を現
像とその他に分けてそれぞれ混合してストックタンクに
入れた。そして、これらストックタンクには浮きブタ4
6.47を設け、ストック液量が減っても液面低下に伴
って浮きブタか追従し、開口面積が極端に増さないよう
にしである。FIG. 3 and FIG. 4 show an embodiment of the evaporation concentration apparatus. The old automatic developing machine for color negatives is composed of developing (CD), bleaching (BL), fixing (FTX), and stabilization (ST), among which the developing waste liquid is put into the developer stock tank 43. Other waste liquid is put into the stock tank 44. On the other hand, the automatic developing machine 42 for color paper is composed of developing (CD), bleach-fixing (BF), and stabilization (SST), of which the developer waste is put into the developer stock tank 43, and the other waste solutions are stored. Put it in Tania 44. In this way, waste liquids from different types of automatic processors were separated into developing and other liquids, mixed together, and placed in a stock tank. And these stock tanks have 4 floating pigs.
6.47 is provided so that even if the stock liquid volume decreases, the floating pig will follow the drop in the liquid level and the opening area will not increase excessively.
この実施例では蒸発濃縮装置45は、第3図に示すもの
を使用した。In this example, the evaporation concentration device 45 shown in FIG. 3 was used.
このシステムで写真処理廃液を15倍に濃縮したときの
硫化水素ガス濃度を測定したデータを次の第1表に示す
。The data obtained by measuring the hydrogen sulfide gas concentration when photographic processing waste liquid was concentrated 15 times using this system are shown in Table 1 below.
第1表
温度コントロールは、第3図に示したファンの風量変化
による。The temperature control in Table 1 is based on the change in air volume of the fan shown in FIG.
第3図11i”で、蒸発濃縮カラム50には、ヒーター
51を設け、廃液ストックタンク43または44がら供
給手段61を通して、注入口62がら廃液を注入し液面
センサー52の検出で規定液面位まで入れた廃液を加黙
し、その上方から液中を上下にまわるエンドレスベルト
53の表面に廃液を付着しては上方に持ち上げ送風ファ
ン54で吹き込まれた風で水分の蒸発を促進され、発生
した水蒸気は次の冷却凝縮器56に入る。ここで水蒸気
はファン58で冷却され、凝縮水は下部排水口57から
容器63に回収される。発生蒸気中の硫化水素を検出す
るために、センサー55を蒸発濃縮カラム50から冷却
凝縮器56に至る通路に設けた。3, 11i'', the evaporative concentration column 50 is equipped with a heater 51, and the waste liquid is injected from the inlet 62 through the supply means 61 from the waste liquid stock tank 43 or 44 until the specified liquid level is detected by the liquid level sensor 52. The waste liquid that has been poured up to that point is kept silent, and the waste liquid adheres to the surface of the endless belt 53 that goes up and down in the liquid from above, and is lifted upwards and the wind blown by the ventilation fan 54 accelerates the evaporation of water, and the waste liquid is generated. The water vapor then enters a cooling condenser 56 where it is cooled by a fan 58 and the condensed water is collected from a lower drain 57 into a container 63. A sensor 55 is used to detect hydrogen sulfide in the generated vapor. was provided in the passage leading from the evaporative concentration column 50 to the cooling condenser 56.
第4図は他の蒸発濃縮装置の実施例である。第4図に於
て、水循環ポンプ14を始動すると、容器16からくみ
上げられた水は、エジェクター15から、勢し1よく下
方へ吹き出される。このときエノエタタ−15で1字状
に連結された気路23は負圧となるから、バルブ18を
開くと、蒸気凝縮部8及びこれに連通ずる蒸発濃縮カラ
ム(以後単にカラムとし・うこともある)9の気室から
、空気が吸い出され、これら、蒸気凝縮部8及びカラム
9は減圧される。FIG. 4 shows an embodiment of another evaporative concentration apparatus. In FIG. 4, when the water circulation pump 14 is started, the water pumped up from the container 16 is blown downward from the ejector 15 with great force. At this time, the air passages 23 connected in a single shape by the enoetater 15 become under negative pressure, so when the valve 18 is opened, the vapor condensation section 8 and the evaporation concentration column (hereinafter also simply referred to as column) connected to this are connected to the vapor condensation section 8. Air is sucked out from the air chambers 9), and these, the vapor condensing section 8 and the column 9, are depressurized.
次にバルブ20を開くと上記減圧によって、廃液は容器
43または44から吸い上げられて、カラム9内の上部
に設けられたノズル21からカラム9内に散布する。モ
してカラム9内に廃液かたJ”り液面Aに至ると液面セ
ンサー22が検知して、バルブ20を閉しさせ注液か止
まる。バルブ20は電磁弁を用いてもよい。Next, when the valve 20 is opened, the waste liquid is sucked up from the container 43 or 44 by the reduced pressure and sprayed into the column 9 through the nozzle 21 provided at the upper part of the column 9. When the waste liquid reaches the liquid level A in the column 9, the liquid level sensor 22 detects this and closes the valve 20 to stop the liquid injection.The valve 20 may be a solenoid valve.
次に、ヒートポンプ1を詳しく説明する。ヒートポンプ
1は、コンプレッサー2と、空冷凝縮器3と、ファンモ
ーター5により駆動されるプロペラ7了ン4と、加熱部
6と、冷却コイル13と、冷却部7とこれらを連結する
パイプと、この系内に注入した冷媒とよりなる。Next, the heat pump 1 will be explained in detail. The heat pump 1 includes a compressor 2, an air-cooled condenser 3, a propeller 7 driven by a fan motor 5, a heating section 6, a cooling coil 13, a cooling section 7, and pipes connecting these. It consists of the refrigerant injected into the system.
コンプレッサー2により圧縮された冷媒は高温となって
空冷凝縮器3に向けて吹き出される。ここで、ファンモ
ーター5で駆動されたプロペラファン4で強制空冷を行
なう。これはヒートポンプの暴走を防止し、かつ、加熱
部6の温度を制御し、高温によるガス発生を防止するた
めに行なわれる。The refrigerant compressed by the compressor 2 reaches a high temperature and is blown out toward the air-cooled condenser 3. Here, forced air cooling is performed using a propeller fan 4 driven by a fan motor 5. This is done in order to prevent the heat pump from running out of control, control the temperature of the heating section 6, and prevent gas generation due to high temperatures.
次に上記強制空冷によって適温になった冷媒は加熱部6
に入る。加熱部6はカラム9に注入した廃液の液面A以
下の部分に連続して液面上にも配設し、それぞれ液面A
以下の部分では廃液を加熱し、液面上の部分では、発生
した蒸気を加熱する。Next, the refrigerant that has reached an appropriate temperature due to the forced air cooling is heated to a heating section 6.
to go into. The heating unit 6 is also disposed continuously above the liquid level of the waste liquid injected into the column 9 below the liquid level A.
The part below heats the waste liquid, and the part above the liquid surface heats the generated steam.
そして加熱部6を通過した冷媒はドライヤー11、ギヤ
ピラリ−チューブ10を通って冷却コイルI3に入って
、容器16に注入された水を冷却したのち、冷却部7に
はいる。ここで、カラム9がら蒸発してきた蒸気を冷却
してのち、上記冷媒はコンプレッサー2に戻りIサイク
ルを完了し、このサイクルを繰り返し行なう。The refrigerant that has passed through the heating section 6 passes through the dryer 11 and the gear pillar tube 10, enters the cooling coil I3, cools the water injected into the container 16, and then enters the cooling section 7. After cooling the vapor evaporated from the column 9, the refrigerant returns to the compressor 2 to complete the I cycle, and this cycle is repeated.
この構成の特徴は、減圧手段として水循環ポンプによる
水の吹き出し力を活用し、その水を、ヒートポンプの冷
媒で冷却して使用していること、及び廃液の加熱蒸発を
行なう熱源にヒートポンプの加熱部(凝縮器)を使用し
、がっ、液面下だけでなく、液面上での蒸気加熱をも行
なうことにより、蒸発蒸気の上方への移動を早めて、蒸
発効率を大幅l;向上したことである。The features of this configuration are that the water blowing force of the water circulation pump is used as a pressure reduction means, and the water is cooled with the heat pump's refrigerant. By using a (condenser) to heat the steam not only below the liquid level but also above the liquid level, the upward movement of evaporated steam is accelerated and the evaporation efficiency is greatly improved. That's true.
更に効率設計として、カラム9を上記減圧したことで、
バルブ2oを開けば、廃液を送液ポンプなしでくみ上げ
てカラム9内に入れこむ構成としたから効率化及びコン
パクト化に効果的である。上記の構成で減圧下で加熱蒸
発が行なわれると、カラム9の廃液面からは、廃液が上
方へ、勢いよくはね上かる現象か起るので、これが冷却
部7に入り込むのを防止するため、ハネ防止板24を設
けた。Furthermore, as an efficiency design, by reducing the pressure in column 9 as described above,
When the valve 2o is opened, the waste liquid is pumped up into the column 9 without a liquid pump, which is effective for efficiency and compactness. When heating evaporation is performed under reduced pressure with the above configuration, a phenomenon occurs in which the waste liquid violently splashes upward from the waste liquid surface of the column 9. To prevent this from entering the cooling section 7, , a splash prevention plate 24 was provided.
発生した水蒸気は、冷却部7で冷却凝縮され水滴として
、蒸気凝縮部8の底部8Cにたまるか、減圧手段により
バルブ18を通って、容器16に排出される。そして、
容器16にはオーバーフロー口を設け、上記凝縮水であ
ふれた水はパイプ36により凝縮水タンク35へと流入
し回収される。The generated water vapor is cooled and condensed in the cooling unit 7 and collected as water droplets at the bottom 8C of the steam condensing unit 8, or is discharged into the container 16 through the valve 18 by pressure reducing means. and,
The container 16 is provided with an overflow port, and the water overflowing with the condensed water flows into the condensed water tank 35 through a pipe 36 and is collected.
このように蒸発濃縮が進み、廃液がスラッジ化すると、
上記のような冷熱サイクルのバランスが急にくずれると
ころがあって、それは、コンプレッサー2の圧縮後の出
口における冷媒温度が100℃から120℃に急変する
ことで検出される。そこで、この温度変化を温度センサ
ーをもって検出することによって、廃液のスラッジ化検
出として、コンプレッサー2を止め、水循環ポンプ14
を止める。As evaporation concentration progresses and the waste liquid becomes sludge,
There is a point where the balance of the cooling/heating cycle as described above suddenly collapses, and this is detected when the refrigerant temperature at the outlet of the compressor 2 after compression suddenly changes from 100°C to 120°C. Therefore, by detecting this temperature change with a temperature sensor, the compressor 2 is stopped and the water circulation pump 14 is stopped to detect that the waste liquid has turned into sludge.
stop.
このとき、容器16が大気圧に開口しているため、容器
j6内の水が上記凝縮部8の減圧状態により、気路23
を通って吸い込まれてしまうから、これを防止するため
に、バルブ18を三方弁として、上記停止時には気路2
3側を閉じて、大気に通じる開口を開く如くしている。At this time, since the container 16 is open to atmospheric pressure, the water in the container j6 flows into the air passage 23 due to the reduced pressure in the condensing section 8.
In order to prevent this, the valve 18 is designed as a three-way valve so that the air passage 2 is closed during the above-mentioned stop.
The third side is closed, leaving an opening to the atmosphere.
但し三方弁でなくても、気路23に大気に通じる開口を
開閉する電磁弁等を設けて、これを開口し、土泥停止と
同時に大気圧でバランスさせてもよい。However, instead of a three-way valve, an electromagnetic valve or the like for opening and closing an opening communicating with the atmosphere may be provided in the air passage 23, and this may be opened to balance the atmospheric pressure at the same time as the mud stops.
しかるのち、カラム9の下部のバルブ25を開いて、ス
ラッジをIJト出する。ここで回収されたスラッジは銀
を高濃度で含むから、有価資源として密封容器にいれ、
別途銀回収をおこなった上で適当なところに廃棄する。Thereafter, the valve 25 at the bottom of the column 9 is opened to discharge the sludge through the IJ. The sludge collected here contains a high concentration of silver, so it is stored in a sealed container as a valuable resource.
The silver is collected separately and then disposed of in an appropriate location.
なお、この装置による濃縮度は、総合廃液で18〜20
倍まで濃縮でき、スラッジ化率は外見上98%である。In addition, the concentration level with this device is 18 to 20 in total waste liquid.
It can be concentrated up to twice as much, and the sludge conversion rate is apparently 98%.
これら写真処理廃液の蒸発濃縮装置を阜体で使用するの
ではなく、自動現像機から発生する廃液を酸化しないよ
うに保存して蒸発濃縮装置にかけて水分と、ごく小量の
スラ/ジに分けることにより、廃液処分の問題を大幅削
減し、がっ、有害ガスなどの発生も防止できる廃液処理
システムが確立される。Rather than using these evaporative concentration devices for photographic processing waste liquid in a vacuum, the waste liquid generated from automatic processors is stored so as not to oxidize and is separated into water and a very small amount of sludge by evaporation concentration device. As a result, a waste liquid treatment system will be established that can significantly reduce the problem of waste liquid disposal and prevent the generation of harmful gases.
第1図は従来例のブロック図。
第2図は本発明の1実施例のブロック図。
第3図は本発明に使用する蒸発濃縮装置の1実施例の説
明図。
第4図は本発明に使用する蒸発濃縮装置の他の実施例の
説明図。
第5図はストックタンクの1実施例の断面図。
l・・・ヒートポンプ 2・・・コンプレッサー3・
・・空冷凝縮器 4・・・プロペラファン5・・・
ファンヒーター 6・・・加熱部(@縮器)7・・・冷
却部(蒸発器) 8・・・蒸気凝縮部9・・・加熱部
lO・・・キャピラリーチューブ
11・・・ドライヤー 13・・・冷却コイル14
・・・水循環ポンプ 15・・・エジェクター16・
・・容器 17・・・減圧手段18・・・パ
ル7’ 20・・・バルブ21・・・ノズル
22・・・液面センサー23・・・気路
24・・・ハネ防止板25・・・バルブ
41・・・カラーネガ用自動現像機
42・・・カラーベーパー用自動現像機43・現像液ス
トックタンク
44・・・その他の廃液ストックタンク45・・・蒸発
濃縮装置
4647・・・浮きブタ 50・・・蒸発濃縮カラ
ム51・・・ヒーター 52・・・液面センサー
53・・・エンドレスベルト
54・・・送風ファン 55・・・センサー56・
・・冷却凝縮器 57・・・排出口58・・・ファ
ン 59・・・管60・・・廃液ストックタン
クFIG. 1 is a block diagram of a conventional example. FIG. 2 is a block diagram of one embodiment of the present invention. FIG. 3 is an explanatory diagram of one embodiment of the evaporation concentration device used in the present invention. FIG. 4 is an explanatory diagram of another embodiment of the evaporation concentration device used in the present invention. FIG. 5 is a sectional view of one embodiment of the stock tank. l... Heat pump 2... Compressor 3.
...Air-cooled condenser 4...Propeller fan 5...
Fan heater 6... Heating section (@condenser) 7... Cooling section (evaporator) 8... Steam condensing section 9... Heating section IO... Capillary tube 11... Dryer 13...・Cooling coil 14
...Water circulation pump 15...Ejector 16.
... Container 17 ... Pressure reduction means 18 ... Pal 7' 20 ... Valve 21 ... Nozzle 22 ... Liquid level sensor 23 ... Air path
24... Splash prevention plate 25... Valve 41... Automatic developing machine for color negatives 42... Automatic developing machine for color vapor 43, developer stock tank 44... Other waste liquid stock tank 45... Evaporative concentrator 4647...Floating pig 50...Evaporative concentration column 51...Heater 52...Liquid level sensor 53...Endless belt 54...Blower fan 55...Sensor 56
...Cooling condenser 57...Discharge port 58...Fan 59...Pipe 60...Waste liquid stock tank
Claims (6)
廃液を、少なくとも2つのストックタンクでストックし
、少なくとも現像処理槽とその他の処理槽から生じる廃
液を分けてストックし、該ストックタンクの少なくとも
1個は廃液の開口面積が500cm^2/l以上となら
ないようにし、該ストックタンクから廃液を90℃以下
で蒸発濃縮する装置に導くことを特徴とする写真処理廃
液の蒸発濃縮処理システム。(1) The photographic processing waste liquid generated from each processing tank of an automatic photographic processor is stocked in at least two stock tanks, and at least the waste liquid generated from the development processing tank and other processing tanks are separately stocked, and An evaporative concentration processing system for photographic processing waste liquid, characterized in that at least one of the stock tanks prevents the opening area of the waste liquid from becoming more than 500 cm^2/l, and leads the waste liquid from the stock tank to a device for evaporating and concentrating the waste liquid at 90° C. or lower.
m^2/l以下にしたことを特徴とする請求項1記載の
写真処理廃液の蒸発濃縮処理システム。(2) The opening area of all the above stock tanks is 500cm.
2. The evaporative concentration treatment system for photographic processing waste liquid according to claim 1, characterized in that the concentration is less than m^2/l.
のうち、現像液を現像液用ストックタンクに混合してス
トックすることを特徴とする請求項1または請求項2記
載の写真処理廃液の蒸発濃縮処理システム。(3) The photographic processing waste liquid according to claim 1 or claim 2, characterized in that among the photographic processing waste liquids generated from a plurality of automatic photographic processing machines, a developer is mixed and stocked in a developer stock tank. Evaporative concentration processing system.
なうことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記
載の写真処理廃液の蒸発濃縮処理システム。(4) The evaporative concentration processing system for photographic processing waste liquid according to any one of claims 1 to 3, wherein the evaporative concentration device performs evaporative concentration under reduced pressure.
段としてヒートポンプの加熱部を使用することを特徴と
する請求項1〜4のいずれか1項に記載の写真処理廃液
の蒸発濃縮処理システム。(5) The evaporative concentration processing system for photographic processing waste liquid according to any one of claims 1 to 4, wherein the evaporative concentration device uses a heating section of a heat pump as heating means for the photographic processing waste liquid. .
別々に行なうことを特徴とする請求項1〜5のいずれか
1項に記載の写真処理廃液の蒸発濃縮処理システム。(6) The evaporative concentration processing system for photographic processing waste liquid according to any one of claims 1 to 5, wherein the evaporative concentration is carried out separately for the developing solution and other waste liquid.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12723890A JPH0422484A (en) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | Evaporative concentration treatment system for waste photographic processing solution |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12723890A JPH0422484A (en) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | Evaporative concentration treatment system for waste photographic processing solution |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0422484A true JPH0422484A (en) | 1992-01-27 |
Family
ID=14955135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12723890A Pending JPH0422484A (en) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | Evaporative concentration treatment system for waste photographic processing solution |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0422484A (en) |
-
1990
- 1990-05-17 JP JP12723890A patent/JPH0422484A/en active Pending
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