JPH04226591A - 新規フィード噴射システムを含む流動炭化水素転化及び分解装置並びに方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は流動炭化水素転化及び分解装置中
のフィードインジェクター微粒化を制御する装置及び方
法を指向する。詳しくは、転化及び分解帯域中へのフィ
ードの導入が、前記フィードインジェクターのそれぞれ
のスロート部を横切る予め選択されたΔＰ又は圧力降下
を与えることによりフィードの微粒化を最適化するため
に使用される多数のフィードインジェクターにより行な
われる。

【０００２】今回リアクター中へのフィードの微粒化が
、例えば可変スロートフィードインジェクターの使用に
より最適化できることが見いだされた。適当な制御装置
と連結して、炭化水素転化及び分解プロセス並びに全製
油所操作の制御及び最適化に追加自由度を得ることがで
きる。さらに、新種のフィードインジェクターにより、
予め選択された最適のフィード液体小滴大きさ及び（又
は）液滴大きさ、あるいは（又は）スプレー型を望むよ
うに維持することができる。

【０００３】本発明の方法及び装置は以下の詳細な説明
を図面とともに参照すると一層明らかに理解されよう。 本発明は炭化水素転化及び分解帯域中へ導入するフィー
ドの微粒化を最適化することによりリアクターを制御す
る方法を指向する。好ましい態様において、以下に詳細
に記載するように、それぞれ可変スロート部を含む多数
のフィードインジェクターがフィード微粒化の最適化に
使用される。

【０００４】この記載において、フィードインジェクタ
ーからの流出液に関する「微粒化」という語は次の微粒
化特性：平均フィード小滴大きさ、小滴大きさ分布、及
びスプレー型、を包含することを意味する。スプレー型
はスプレー角及び形状例えば錐形、ファンなどを示す。 一般に、小さい平均小滴大きさ、狭い小滴大きさ分布、
及びよく分散したスプレー型により特徴づけられるフィ
ード微粒化度は少ないコークス及び少ないドライガスを
生じ、それにより液体収量を最大化する傾向がある。高
価値製品例えばナフサ及び軽質留分を最大にするため、
比較的微細な小滴へのフィードの微粒化を反応帯域中に
使用される固体粒子の大きさ及び分布に適合するように
選ぶことができる。一方、比較的大きい平均小滴大きさ
及び平均より有意に大きい小滴の部分を含む広い分布、
並びに十分分散しないスプレー型はコークス形成の有意
な増加を生ずることができる。選択される微粒化度はプ
ロセス目的による。例えばＬＰＧ及びナフサを最大化す
るために微細小滴大きさが理想的でないかもしれない。 小滴大きさ及び分布は収量目的の達成における主因子で
あると思われる。データは２つの異なるスプレー型が収
量に対し非常に異なる効果を有することができることを
示唆する。

【０００５】油のみのフィードをリアクター中へ「加圧
微粒化」及び（又は）スプレーすることができる。しか
し、好ましい運転方式において、低分子量媒質が油フィ
ード中へ噴射される。適当な媒質には水素、水蒸気、窒
素、低分子量リアクターオフガス、及びＣ６　　−炭化
水素類が含まれる。最も好ましくは水蒸気／油混合物が
リアクターに対するフィード流として使用される。好ま
しい態様において、この水蒸気／油混合物が可変スロー
トフィードインジェクターノズルに通される。水蒸気／
油の比は油フィードの型及び性質における変化に基いて
運転中に調整することができる。混合物中の水蒸気の量
は混合物の密度に影響を及ぼし、従って、微粒化に影響
を有する。本発明に適する一般商業的実施は軽質フィー
ド型に対し約０．５０重量％水蒸気を、また重質の、よ
り粘性のフィード型に対し約３．０〜５．０重量％水蒸
気を使用することである。

【０００６】扱うフィードの微粒化の状態の良好な指標
又は測定はフィードインジェクターのノズルを横切る圧
力降下ΔＰである。あるいは、ノズル圧力降下に関連す
るパラメーターを微粒化の尺度として使用できる。例え
ば圧力降下は本発明の好ましいフィードインジェクター
中のノズル断面積に直接関連する。ノズル抵抗係数（実
施例中に規定される）は微粒化の良好な尺度である。ノ
ズル小滴大きさ、小滴大きさ分布及びスプレー型をノズ
ル抵抗係数又はΔＰに関連させるデータは実施例中に詳
記されるように、実験的に得ることができる。

【０００７】相関はまた個々の可変スロートフィードイ
ンジェクター設計の性能を評価する基礎として役立つこ
とができる。ノズル形状はスプレー型、液体小滴大きさ
及び小滴大きさ分布を与えることができ、従ってノズル
抵抗係数中に反映される。前記のように、所望の微粒化
度はプロセス又は運転目的によることができる。例えば
、転化及び分解帯域中へのフィードの微粒化は、多変数
制約制御あるいはＬＰ制御又は非線形ＬＰ制御環境にお
ける生成物収量及び（又は）品質目的の変動を補償する
ために選択することができる。この例はナフサ製品液体
収量及び研究オクタン品質であろう。製品価値が市場で
変動するので、リアクター収量を調整して製油所運転に
おける流動炭化水素転化及び分解プロセスからの経済的
利益を最適化することができる。これはオンストリーム
ブレンドが行なわれる製油所で殊に重要である。

【０００８】微粒化度は実時間で変化する制御変数とし
て使用できる。例えば、収量及び温度の両方を微粒化度
の変更により変化させることができる。流動接触分解装
置（ＦＣＣＵ）における収量及び選択率の制御に対する
可変スロートフィードインジェクターの使用が米国特許
出願第４８５，７０１号（整理番号ＯＰ−３４９９）中
に記載され、それが参照される。ＦＣＣＵ中の炭素収支
の制御に対する可変スロートフィードインジェクターの
使用が米国特許出願第４８６，０４６号（整理番号ＯＰ
−３５４５）中に記載され、それが参照される。ＦＣＣ
Ｕフィード速度の制御に対する可変スロートフィードイ
ンジェクターの使用が米国特許出願第４８６，０３５（
整理番号ＯＰ−３４９８）中に記載され、それが参照さ
れる。

【０００９】ノズル流れ面積及び微粒化を調整して変動
する上流流量あるいは変動する上流の化学的又は物理的
性質を補償することができる。微粒化はまた標準装置装
備の補償、又は不十分な微粒化並びに不利な収量及び品
質移動を生ずることができるノズルコーキング／詰まり
の補償のために調整することができる。フィード微粒化
を制御する好ましい方法は、例えば圧力変換器又は制御
装置（ＰｄＲＣ）によるインジェクターノズル圧力降下
ΔＰのモニタリング、及びそれに基づく信号を可変（可
動）スロートフィードインジェクターに関連するアクチ
ュエータに送ることによる。適当にはＰｄＲＣはターゲ
ットノズル圧力降下を保持する簡単な単一制御ループモ
ードで操作できる。あるいは、ＰｄＲＣをより複雑な制
御構成に組合わせることができる。

【００１０】簡単な単一制御ループモードにおいて、Ｐ
ｄＲＣターゲット圧力降下を設定して所望のフィード微
粒化を達成する。ユニットオペレータは「オープンルー
プ」制御モードで、種々のＰｄＲＣ設定値がリアクター
プロセス収量及び品質に対して有する効果をモニターす
るであろう。ＰｄＲＣ設定値は、フィード微粒化（スプ
レー型、小滴大きさ及び小滴大きさ分布を含む）を最適
化するプラント応答傾向に基づいて選択されるであろう
。

【００１１】フィールド校正曲線は、ノズルΔＰとノズ
ル流れ面積との間の関係を規定するため各可変（可動）
スロートフィードインジェクターに対し構成することが
できる。理想的には、同じ関係が各ノズルに対して決定
されるであろうが；しかし実際には装置特異的配管配置
が種々のノズル間に若干の小差異を生ずることができる
。フィールドデータに基づいて、可変（可動）スロート
ノズルの１つを基準検出ノズルとして選ぶことができる
。ＰｄＲＣはこのノズルの圧力降下をモニターし、制御
運動信号をアプリケーションプログラムへ送る。各個々
の可変（可動）スロートフィードインジェクター及びＰ
ｄＲＣ信号に対するフィールド校正データに基づいてア
プリケーションプログラムが信号を個々のアクチュエー
タ／ポジショナーへ送り、必要に応じてノズル流れ面積
を変化させる。不必要なアクチュエータハンチングを回
避するため、若干の不減帯対策を備えることができる。 また階層をアプリケーションプログラム中に与えて個々
のノズルを順次かつ特定配列パタンでストロークさせる
ことができる。２つの対向ノズルを一対としてストロー
クさせることができる。

【００１２】流動炭化水素転化及び分解プロセスに対す
る可変スロートフィードインジェクターの適用は、例え
ば、１つ又はそれ以上のフィードインジェクターに対す
る全フィード流制御をフィードインジェクターノズルに
カスケードさせる新制御構成に備える。フィード回路中
に利用できる予備調節弁ΔＰ及びフィードポンプΔＰが
フィードノズルインジェクターノズルへ移されてノズル
ΔＰを最適化し、微粒化及び（又は）スプレー型を改良
する。

【００１３】プロセス制御機構は、例えばリアクター容
器及び（又は）ライザーの周囲に均一に分布された１レ
ベル又は段階のフィードインジェクター、あるいは多レ
ベル（多段階）フィードインジェクターを含むことがで
きる。典型的なリアクター構成に対し、予熱された新フ
ィードと下流生成物精留塔からの分解したリサイクル原
料を含む全フィードが、典型的にはフィードインジェク
ターノズルの上流で混合される。この全フィード流は、
典型的にはフィード噴射水蒸気と結合されてフィードイ
ンジェクターノズルに送られる。

【００１４】リアクターに対するフィードの段階化され
及び（又は）分離された接触を行なうことは珍らしくな
い。例えば数レベルのフィードインジェクターを有する
フルードコーカーリアクターは分離フィード接触を行な
う可能性を有する。このプロセスを適用できる種々の態
様の例として、例えばリアクター容器及び（又は）ライ
ザーの垂直軸上にレベルＮＯ．　１、２及び３を有する
特定のリアクターは次の処理選択を有することができる
：ａ．レベルＮＯ．　１に対し全フィード（全フィード
は次のいずれか又はすべてを含むことができる：バージ
ンあるいは処理又は前処理した減圧残油、輸入減圧残油
、輸入常圧残油、リアクター生成物精留塔からのリサイ
クル流又は他の製油所プロセス装置からリサイクルされ
た流）。

【００１５】ｂ．レベルＮＯ．　１に対しバージンある
いは処理又は前処理した減圧残油（ＶＲ）、及びレベル
ＮＯ．　２に対しリアクター生成物リサイクル流。 ｃ．レベルＮＯ．　２に対して全フィード（低リアクタ
ー滞留時間モード）。 ｄ．レベルＮＯ．　１に対しバージンあるいは処理又は
前処理した減圧残油（ＶＲ）、レベルＮＯ．　２に対し
ＨＫＣＯ（重質コーカーサイクル油）リサイクル、及び
レベルＮＯ．　３に対する塔底生成物リサイクル。

【００１６】ｅ．レベルＮＯ．　２に対しバージンある
いは処理又は前処理した減圧残油（ＶＲ）、及びレベル
ＮＯ．　３に対しリアクター生成物リサイクル流。 ｆ．レベルＮＯ．　１に対しバージンあるいは処理又は
前処理した減圧残油（ＶＲ）及びリアクターリサイクル
流、並びにレベルＮＯ．　２に対し輸入（残油）フィー
ド。

【００１７】ｇ．レベルＮＯ．　１に対しバージンある
いは処理又は前処理した減圧残油（ＶＲ）、及びレベル
ＮＯ．　２に対しリアクターリサイクル流プラス輸入（
残油）フィード。 ｈ．レベルＮＯ．　１に対しバージンあるいは処理又は
前処理した減圧残油（ＶＲ）、レベルＮＯ．　２に対し
リアクターリサイクル流、及びレベルＮＯ．　３に対し
輸入（残油）フィード。

【００１８】ｉ．レベルＮＯ．　２に対しバージンある
いは処理又は前処理した減圧残油（ＶＲ）及びリサイク
ル流、並びにレベルＮＯ．　３に対し輸入（残油）フィ
ード。 段階／分離したリアクターシステムの１態様において、
最良品質フィードを初めに最良質の最も活性な固体粒子
と反応させる。次の段階で、好ましくは低品質のフィー
ドがリアクター系中へ導入される。

【００１９】一段移送ライン反応システムにおいて、可
変スロートフィードインジェクターノズルのレベル又は
リングの好ましい位置はリアクターライザー（またとき
には移送ラインリアクターと称される）に対する入口で
ある。適当には、多数のノズルがリアクターライザーの
周囲の周りに均一に分布され、良好な固体粒子／油の接
触又は混合を保証する。

【００２０】このプロセスの実施のために既存装置が改
造される多段階リアクター系において、好ましい操作モ
ードは次のとおりである。リアクター新フィード及びリ
アクター生成物リサイクル流が分離される。リサイクル
流と新フィード流との間の流体性質及び化学的差異のた
めに、リサイクル流に関する可変（可動）スロートイン
ジェクターの使用がさらにプロセスフレキシビリティー
を与える。リサイクル流液体小滴大きさ、小滴大きさ分
布及び（又は）スプレー型は可変（可動）スロートフィ
ードインジェクターノズルにより最適化できる。フィー
ド分離のために、リサイクル流はこれらのフィード成分
に最も最適である状態におけるリアクター系中へ微粒化
できる。新フィードの微粒化は含まれる異なる炭化水素
化学のために、リアクター中へのリアクター生成物リサ
イクル流の微粒化に比べて異なる微粒化状態で最適化さ
れる。これらの異なる最適化の規準は運転目的及び一般
的経済に基づいた装置特異的であろう。

【００２１】他の事例として、分離したフィードを別の
ノズルを用いて所与レベルのフィードインジェクター処
理できる。本発明において使用できる可変スロートフィ
ードインジェクターは普通の固定スロートインジェクタ
ーの適当な改変により、例えば後に詳記するように可動
スロートインサートの付加により構成することができる
。固定スロートノズル設計の型は多く、収斂−発散、収
斂、収斂−発散ファン及びらせん型が含まれ、しかしそ
れらに限定されない。他のノズル形状及び他の固定スロ
ートノズル設計に対する本発明の拡張は当業者により理
解されよう。制御可能な方法でフィード微粒化を変更で
きる任意のフィードインジェクターシステムを本発明の
方法に使用できる。

【００２２】本発明が一般的に記載されたので、次に典
型的なフルードコーキング−ガス化装置（ｆｌｕｉｄ　
ｃｏｋｉｎｇ　ｗｉｔｈ　ｇａｓｉｆｉｃａｔｉｏｎ　
ｓｙｓｔｅｍ）を示す図１について説明する。本発明の
適用はこの型の装置に限定されず、他の型の流動炭化水
素転化及び分解装置並びに他のゾーン形状及び位置に等
しく適用できる。種々の普通の項目例えば弁、ポンプ、
圧縮機、スチームライン、計装及び他のプロセス装置並
びに制御装置は簡単にするために図から省略した。炭化
水素分解、フルードコーキング、フルードコーキングガ
ス化、並びに他の油及び合成燃料流動炭化水素水素転化
及び分解プロセスの当業者に明らかな変形は本発明の広
い範囲内に含まれる。

【００２３】次に図１について説明すると、ライン２〜
８で導入された炭化水素供給原料が転化及び分解される
固体コークス鉱（ｃｏｋｅ　ｏｒｅ）　粒子の流動床を
含む反応帯域１Ａを含む垂直配置円筒形リアクター１が
示されている。フルードコーキング−ガス化プロセスに
適当に使用できる炭化水素供給原料には重質炭化水素質
油；重質（抜頭石油原油；石油常圧蒸留塔底油、石油減
圧蒸留塔底油；ピッチ；アスファルト、ビチューメン、
及び他の重質炭化水素残油；タールサンド油；けっ岩油
；石炭液化塔底油、石炭を含む石炭液化プロセスから得
られる液体生成物；石炭スラリー及びそれらの混合物；
などが含まれる。そのような供給原料は単独に、並行反
応帯中に別々に、又は任意所望の組合わせで使用できる
。リアクター１を通る炭化水素ガス及び蒸気は沸騰液体
の外観を有する乱流流動状態で固体粒子を維持する。

【００２４】一般に、高い熱安定性のために設計された
適当な粉末形態の市販炭化水素転化触媒を、本発明を示
す基準プロセスとして使用されるフルードコーキング及
びフルードコーキング−ガス化プロセスの基礎を形成す
る主要現場発生固体粒子に帯する増強として適当に使用
できる。そのような触媒にはシリカ及び（又は）アルミ
ナ例えばよく知られたゼオライト、並びにその他が含ま
れる。

【００２５】反応帯域１Ａ中で、固体粒子はコークスの
付着のために炭化水素供給原料に接触する間にスペント
になる。従って用いた「スペント」又は「コークス汚染
」固体粒子という語は一般に、反応帯域を通過し、有意
な活性源を生ずるに足る量のコークスを上に含み、それ
によりプロセス能力及び固体粒子の性能の回復にコーク
ス焼尽及び（又は）ガス化を必要とする固体粒子及び（
又は）触媒粒子を示す。典型的には、焼尽又はガス化し
なければならない。スペント固体粒子上のコークス含量
は約０．５０〜約２５．０重量で変動する。

【００２６】焼尽又はガス化による実際の再生の前に、
スペント固体粒子は通常反応帯域からストリッピング帯
域１Ｂ、Ｌで示される流動床レベルの下、中へ進まされ
、その中でライン９Ａ及び９Ｂにより帯域１Ｂの下部中
へ導入されるストリッピングガスに接触される。通常約
０．７〜約１０．５ｋｇ／ｃｍ２　・ゲージ圧（約１０
〜約１５０　ｐｓｉｇ　）の圧力で導入されるストリッ
ピングガスはスペント固体粒子から揮発性炭化水素の大
部分を除去する作用をする。好ましいストリッピングガ
スは水蒸気であるが、しかし窒素、他の不活性ガス又は
煙道ガスを使用できる。通常、ストリッピング帯域は実
質的に反応帯域と同じ温度、すなわち約４５０〜約５９
０℃（約８５０〜約１１００°Ｆ　）、で維持される。

【００２７】揮発性炭化水素の大部分がストリップされ
たストリップドスペント固体粒子は次いでストリッピン
グ帯域１Ｂの底から、加熱装置１２の下部中へ伸びるス
ペント固体粒子移送ライン、例えばＪ−ベンド１１及び
相互連結された垂直ライザー１１Ｂを通って進められる
。ライザー１１Ｂはガス化装置帯域の部分２７からの加
熱ガス／空気混合物との干渉を回避するため加熱装置１
２のオフセンターに入ることが示されている。示した態
様において、単に１つのライザー１１Ｂが使用される。 しかし、多数のライザーを使用できることは主題発明の
企図内である。

【００２８】ライン４１を通して、中を流れる固体粒子
の密度を低下し、従って固体粒子を簡単なハイドロリッ
クバランスにより上方へ加熱装置１２中へ流させるに足
る量の空気をライザー１１Ｂに添加することができる。 図１中に示した特定配置において、加熱装置／再生装置
１２は別個の容器である（再生されて転化及び分解反応
の間に反応帯域中で形成されたコークス付着物と焼尽し
、上が希薄相であるＬで示したレベルを有する固体粒子
の濃厚流動層２４Ｂを含むリアクター生成物スクラバー
精留塔１６とほぼ同じレベルに配置される）。酸素含有
ガスはライン２９を経てガス化装置再生帯域２７の下部
へ入り、グリッド３８及び濃厚流動固体粒子層２７Ｂを
通って上方へ進み、前記層を反応帯域１Ａ中に存在する
ものに類似する乱流流動状態に維持する。図２に関して
より詳細に議論されるように、本発明はこの特定設計に
おいてコーカーリアクター１内に配置される転化及び分
解帯域中へのフィードの導入を含むプロセス制御の改良
システムにある。

【００２９】加熱装置／再生帯域１２中の濃厚流動層２
４Ｂからの再生された固体粒子はスタンドパイプ２Ｂを
通って下方へ流れ、Ｊ−ベンドを通り、Ｊ−ベンドの上
方の代替油噴射ライン２ＡのレベルでＪ−ベンドを連結
する移送ライン１０を経由して反応帯域１中へ進む。再
生された固体粒子という語により、酸素含有ガスに接触
し、プロセスに対する炭化水素フィードに由来し固体粒
子上に存在するコークスの少くとも一部、好ましくは実
質的な部分を除去され種々の再生、加熱装置及びガス化
帯域を去る固体粒子を意味する。転化及び分解プロセス
に対する炭化水素供給原料はライン２〜８を通り、図３
に関して詳細に記載される特有フィードインジェクター
を経てリアクター１中へ噴射され、油及び固体粒子混合
物を形成し、それがリアクター１中反応帯域１Ａ内に送
られる。随伴固体粒子を含む生成物蒸気はリアクター１
からオーバーヘッドを通ってガス−固体分離装置１３中
へ進み、その中で随伴固体粒子がそれから分離され、デ
ィップレッグ１４を通して導かれてリアクター帯域１Ａ
中へ戻される。ライン１７〜１９中の生成物蒸気は次い
でスクラバー精留塔部１６を通り、生成物回収系中へ運
ばれる。ライン２０中の液体抜取りは、ライン２２中で
コーカー精留塔塔底油のリサイクル、及びライン２１中
で過熱蒸気に対するクエンチを与える再生装置／加熱装
置１２中で、スペント固体粒子の再生／ガス化の間に形
成されたガスは濃厚流動層２４Ｂから希薄層２４Ｃ中へ
随伴固体粒子とともに進むことができる。固体粒子は適
当なガス−固体分離装置３２によりガスから分離され、
濃厚流動層２４Ｂ中へ戻される。次いで実質的に固体粒
子を含まないガスがプリナムチャンバー３４中へ進んだ
後再生装置／加熱装置１２からライン６０を通って下流
ガス処理装置中へ排出される。

【００３０】本発明をフルードコーキング−ガス化装置
に対するフィードの流れの制御に適用できる方法の理解
は、加熱装置及びガス化部分から分離し、一定のプロセ
ス制御計装及び信号とともにフルードコーキング及びガ
ス化装置の反応部を示す図２の参照により得ることがで
きよう。制御システム及び装置はそれ自体、当業者によ
り容易に理解されるように普通であり、従って単に図式
的に示される。５２以下の図２中の数字は図１中の数字
と同じであり、同じ部分に相当する。

【００３１】図２中の単線２Ａにより代替フィードイン
ジェクターが図式的に示されるけれども、この態様は実
際には多数のフィードインジェクターを使用する。三次
元において、ライザーの周囲を取り巻き、同一レベル上
に水平に間隔を置いて、典型的には３以上（３〜２０）
のフィードインジェクターが存在する。流れ制御のため
に流れ制御装置６４をフィードインジェクター制御装置
６６にカスケードすることができる。あるいは流れ制御
装置６４を圧力制御装置６８にカスケードし、次いでそ
れを同一フィードインジェクター制御装置６６にカスケ
ードして微粒化のターゲットレベルを維持することがで
きる。

【００３２】図２及び本発明の前記詳細な説明で明らか
なように、圧力制御装置６８はフィードインジェクター
の部分を横切る圧力降下を、適当にはライン７０により
測定されたフィードインジェクターのノズル先端のすぐ
外のライザー４６内の圧力と、ライン７２により測定さ
れた、図４に関して後に説明するように変動されるノズ
ルロート部の直前のインジェクター内の地点における圧
力との差、を測定する。圧力制御装置にはターゲット設
定値、典型的には７〜１０．５ｋｇ／ｃｍ２　（１００
〜１５０　ｐｓｉ）、との差を測定する比較機が含まれ
る。

【００３３】流れモニター装置６３はフィードインジェ
クターに通じる導管８２中のフィードの流量を実時間で
測定し、それに基づく信号がライン７４を経て送られる
。アコースティック（ａｃｏｕｓｔｉｃ）　測定装置を
この目的に使用できる。代替又は追加的にフィードの性
質をモニターするとき、普通の分析計測を用いることが
できる。 例えばＡＰＩ比重又は屈折率を測定することができる。 フィード組成及び（又は）性質は、赤外、紫外又は質量
分光法で測定できる。高圧液体クロマトグラフィーをフ
ィードの成分分離に使用できる。制御装置６４は、適当
には測定した流量を、典型的にはキロバレル毎日（ＫＢ
／Ｄ）の単位で、設定値に比較する比較器を含む。算出
流量又は設定からの差に基づく信号は前記のように直接
インジェクター制御装置６６に、又は層化断層で、イン
ジェクター制御装置６６にカスケードされる圧力制御装
置６８にカスケードすることができる。

【００３４】インジェクター制御装置６６は、好ましく
はフィードインジェクターを横切る圧力降下を個々に調
整するために使用される。それぞれの場合に、アクチュ
エータ７８が適当な微粒化調整装置（図示なし）の位置
の変更に使用される。この態様において、可動部材がフ
ィードインジェクターのスロート部の断面流れ面積及び
それによる圧力降下、の変更に使用される。水蒸気がラ
イン８１を経てライン８２中のフィード油との混合のた
めにフィードインジェクター中へ導入され、ライン８０
中に水蒸気−油混合物を生ずる。

【００３５】本発明をフルードコーキング−ガス化装置
に対するフィードの流れの制御に適用できる方法の追加
の説明は、加熱装置及びガス化部分から分離し、一定の
プロセス制御計装及び信号とともにフルードコーキング
及びガス化装置の反応部を示す図３の参照により得るこ
とができる。制御システム及び装置はそれ自体当業者に
より容易に理解されるように普通であり、従って単に図
式的に示される。５２以下の数字は図１中の数字と同じ
であり、同じ部分に相当する。

【００３６】図３中に単線４、５、６、７及び８により
それぞれのレベルにおける主フィードインジェクターが
図式的に示されるけれども、この態様は実際には各レベ
ルにおいて多数のフィードインジェクターを使用する。 三次元において、コーカーリアクター容器の周囲を取り
巻き、典型的には３以上（３〜２０）のフィードインジ
ェクターが存在する。流れ制御のために、流れ制御装置
６４をフィードインジェクター制御装置６６にカスケー
ドすることができる。あるいは流れ制御装置６４を差圧
制御装置６８にカスケードすることができ、それを次い
で同一フィードインジェクター制御装置６６にカスケー
ドして微粒化のターゲットレベルを維持する。

【００３７】図３及び本発明の前記の詳細な説明で明ら
かなように、差圧制御装置６８とフィードインジェクタ
ーの部分を横切る圧力降下、適当にはライン７０により
測定されたフィードインジェクターのノズル先端のすぐ
外れのリアクター内の圧力と、ライン７２により測定さ
れた、図４に関して説明されるように変動されるノズル
スロート部のすぐ前のインジェクター内の地点の圧力と
の差、を測定する。圧力制御装置にはターゲット設定値
、典型的には７〜１０．５ｋｇ／ｃｍ２　（１００〜１
５０　ｐｓｉ）、との差を測定する比較器が含まれる。

【００３８】流れモニター装置６３はフィードインジェ
クターに通じる導管中のフィードの流量を実時間で測定
し、それに基づく信号がライン７４を経て送られる。ア
コースティック測定装置をこの目的に使用できる。代替
又は追加的にフィードの性質をモニターするとき、普通
の分析計測を使用できる。例えばＡＰＩ比重又は屈折率
を測定できる。フィード組成及び（又は）性質は赤外、
紫外又は質量分光法で測定できる。高圧液体クロマトグ
ラフィーをフィードの成分の分離に使用することができ
る。制御装置６４に適当には、測定した流量、典型的に
はキロバレル毎日（ＫＢ／Ｄ）の単位で、測定値に比較
する比較器を含む。算出流量又は設定値からの差に基づ
く信号は前記のように直接インジェクター制御装置６．
６に、又は層化階層で、インジェクター制御装置６６に
カスケードされる圧力制御装置６８にカスケードするこ
とができる。

【００３９】インジェクター制御装置６６は、好ましく
はフィードインジェクターを横切る圧力降下を個々に調
整するために使用される。それぞれの場合に、アクチュ
エータ７８が適当な微粒化調整装置（図示なし）の位置
の変更に使用される。この態様において、可動部材がフ
ィードインジェクターのスロート部の断面流れ面積及び
それによる圧力降下、の変更に使用される。水蒸気がラ
イン８１を経て、フィード油との混合のためにフィード
インジェクター中へ導入される。

【００４０】図４について説明すると、本発明によりリ
アクターフィードインジェクターの典型的な態様が示さ
れ、一般に９９で示される。このインジェクターは１端
にノズル先端１０２を含む。固定スロートノズル形態が
示され、種々のノズル形態が実際に可変であることが理
解される。フィードインジェクターは「サーマルスリー
ブ」装置１０４と称されるものによりリアクターの壁１
０３に連結される。明らかなように、フィードインジェ
クター装置はリアクター系の一体部品である。他の機械
的取付け装置は当業者によく知られているであろう。

【００４１】軸１０５及びリード部又は調整部材１０６
を含み、一般に１００で示されるフィードインジェクタ
ーノズル微粒化調整装置は図５中に一層詳細に示される
。この調整部材１０６の末端先端部１０８は収斂ファン
先端ノズル１０２内で機能するように設計される。ノズ
ル先端１０２内の末端先端部１０８の調整及び（又は）
位置調整は流れ面積を変え、ノズル先端１０２により達
成される微粒化に影響を及ぼす。可変スロートフィード
インジェクターの基本設計に対する好ましい追加はノズ
ルインサート先端１０６に極めて接近してプレミキサー
１０７及び１０９を含むことである。プレミキサーは可
変スロートフィードインジェクターにより達成される微
粒化、殊にスプレー型、を増進する。図４に示されるリ
アクターフィードインジェクター装置の態様は最小スト
ローク設計に相当する。

【００４２】２つのプレミキサー１０７及び１０９は４
５°オフセットにずらされ、スタティックミキサー、ス
ラグ／バブルブレーカー、流体消振ダンパ及び半径流増
進装置として作用する。流体流れ様相から、それらは他
の軸流に半径方向又は渦巻きモーメントを与える。これ
はノズルにより達成される微粒化を高める。フィードイ
ンジェクターに通じるプロセスパイプ中の流体の流れ形
態がたまたま興味のない形態例えばスラグ流に属するな
らば、プレミキサーはスラグ／バブルブレーカーとして
役立ち、可変スロートノズルのすぐ上流に一層均一な流
動相混合物を供給するのに役立つ。これはまたノズルに
より達成される微粒化を高めるのに役立つ。プレミキサ
ー１０７及び１０９はまたノズル１０２内の軸１０５及
び微粒化調整部材１０６並びにプロセス配管１１１の整
合を援助する。プレミキサーの詳細は図６中に断面図で
示され、スポーク１１２が軸１０５から半径方向に伸び
て環状リム１１３を連結することが知られる。

【００４３】図４中に示される特定インジェクター装置
構成において、水蒸気と油の混合物が水蒸気油流体入口
１１４を通してノズル先端１０２の上流に導入される。 リアクター中の油分圧効果のために、一般に微粒化増進
媒質例えば水蒸気を油微粒化の援助の補助に使用するこ
とが好ましいが、しかし他のガスを使用することができ
る。しかし、水蒸気を使用することなく油を圧力微粒化
／スプレーするモードで、可変スロートフィードインジ
ェクターを油単独フィードで運転することができよう。 あるいは微粒化増進媒質を別個の連結具を通してリアク
ター中へ導入することができる。しかし、この可変スロ
ートフィードインジェクターに対する典型的な操作法に
おいて、水蒸気／油混合物が水蒸気／油比の流れ制御に
よりノズルの上流に形成される。水蒸気／油比は油性質
及び他のプロセス考察に基いて設定されよう。油相は予
熱の結果一部蒸発することができる。従って、フィード
インジェクター装置に供給される流体混合物は通常、ガ
ス相、液体油相及びおそらく蒸気油相からなるであろう
。

【００４４】装置大きさの保存のために、フランジ１１
６と１１８の管の隔離弁１１５をフィードインジェクタ
ー装置の一部として使用し、装置のオンストリーム保守
に備えることができる。この隔離弁は通常仕切り弁であ
るが、しかし他の弁型例えばボールバルブを使用できる
。オンストリーム保守の必要に応じてノズルに対する微
粒化調整装置集成体を引込め、隔離弁を閉じ、集成体を
取脱すことができる。例えば、フィード型及び化学がノ
ズル内側の好ましくないコーキング又は部分的詰まりを
生ずれば、ノズル装入軸集成体を取脱し、オンストリー
ム洗浄をすることができる。

【００４５】ノズル保守受管部１１７、適当には配管の
スプール部分、が隔離弁１１５とフランジ１２０との間
に備えられる。普通のパッキング押えを保持するスプー
ル部１１９が微粒化調整装置として用いるスロートイン
サートの調整に備える。低漏洩設計が好ましいが、しか
し種々のパッキング押え設計を許容することができる。 このスプール部はまたノズル微粒化調整装置のオンスト
リーム洗浄及び保守に備える。オンストリーム保守又は
洗浄が関係なければ、単純化してインジェクター装置設
計が選択されることが理解されよう。

【００４６】適当な機械的位置調整装置は、ノズル微粒
化調整装置及び軸の機械的移動、調整及びストローク制
御に備えるアクチュエータ装置２２１により例示される
。ノズル先端１０２に関するノズル微粒化調整装置の相
対位置の制御は微粒化及び（又は）ノズルからのスプレ
ー型に影響を及ぼす。典型的な設計においてマニュアル
オーバライト様式（ハンドル車オペレータ）を有するニ
ューマチックアクチュエータが使用される。ハイドロリ
ックアクチュエータ又はモータ駆動アクチュエータを含
め、他のアクチュエータ構成もまた許容できる。アクチ
ュエータは他の計器及び制御装置から制御命令を受け、
これらの制御命令に基づいて微粒化調整装置の位置を移
動させることができる。

【００４７】一般に、ニューマチックアクチュエータが
相対コストのためにハイドロリックアクチュエータより
好ましく、ニューマチック又はハイドロリックアクチュ
エータが信頼度のために他の型より好ましい。しかし、
装置特異的因子がアクチュエータ選択に影響を及ぼすこ
とができる。調整装置１００の軸をアクチュエータ装置
２２１にかみ合わせるボルト固定フランジ型軸継手２２
３が示されている。種々の軸継手設計を許容できる。

【００４８】図７は軸１０５の遠端に配置され、ファン
ノズル１０２中へ挿入されるノズル調整装置１００（プ
レミキサーなく）を示す。ノズル調整調節部材１０６の
先端部１０８がその推定最大挿入地点に示される。図８
は流れ面積がノズル微粒化調整装置をそのアクチュエー
タにより移動させるために用いた軸のストロークパーセ
ントに対してプロットされた典型的な可変スロートノズ
ルに対するグラフを示す。

【００４９】図９はリアクターライザー又はリアクター
のリアクター流動床部分の壁に取付けた典型的なフィー
ドインジェクターの据付を詳細に示す。ノズル先端部１
１０に垂直に対し２０度の典型的な角度で配置されて示
される。フィードインジェクターはライザーの円錐セグ
メント形状の壁２３０部（それ自体は垂線から３０°の
角度にある）を、上方の相対的に大きい直径の円筒形垂
直壁部２３２と下方の相対的に小さい直径の円筒形垂直
壁２３４との間で横切る断面で示されている。異なる取
付角度及び配向角が特定装置及びインジェクターの型に
より使用できる。当業者に明らかなように、インジェク
ターの据付は普通であり、パイプキャップ２３５及びリ
アクター装置の金属壁の下のキャスタブルライニング２
３６を使用する。フィードインジェクターがライザー壁
を貫通するフィードインジェクターの周囲をカオウール
（ｋａｏｗｏｏｌ）パッドプレート２３８が取り巻いて
いる。適当な辺における溶接が連結を気密にする。当業
者に知られた他の機械的取付装置は適当である。 実施例１ この実施例は流動接触分解プロセスにおけるフィード噴
射に用いる種々のノズル形態に関連する微粒化に関する
データを収集する試験を示す。類似の実験操作がフィー
ドコーキング（−ガス化）プロセスに特有の情報の発生
に使用できよう。

【００５０】微細小滴及び広角スプレーが既存ノズルよ
りライザー中の一層早く、均一な触媒／油混合を与え、
ＦＣＣＵ運転を改良すると期待される。これらの試験で
行なった方法は低温モデル試験を行なって小滴大きさ、
スプレー分散角及びノズル圧力降下に及ぼす液体粘度及
び蒸気／液体流量の効果を調べることであった。スプレ
ーの小滴大きさはレーザー・ドップラーアネモメータ（
ＬＤＡ）で測定した。窒素及び水／グリセリン溶液を水
蒸気−油フィードのシミュレートに用いた。平均小滴大
きさ及びノズルに対する圧力降下を予報する相関が本発
明によるフィードインジェクターの設計及び制御に用い
るために開発された。

【００５１】圧力ノズル、回転円板及びニューマチック
ノズルが工業的に使用されるアトマイザーの３つの基本
型であるけれども、これらの試験は、高速の圧縮可能流
体例えば空気又は水蒸気を液体ジェットの崩壊に使用す
るニューマチックノズルの研究に限定された。ニューマ
チック微粒化において最も広範に引用される研究はヌキ
ヤマほか（Ｎｕｋｉｙａｍａ　ａｎｄ　Ｔａｎａｓａｗ
ａ）による液滴関連相関（ｄｒｏｐ−ｗｉｓｅ　ｃｏｒ
ｒｅｌａｔｉｏｎ）〔ヌキヤマほか（Ｎｕｋｉｙａｍａ
　ａｎｄ　Ｔａｎａｓａｗａ），Ｔｒａｎｓ．　Ｓｏｃ
．　Ｍｅｃｈ．　Ｅｎｇｒｇ．）　Ｊａｐａｎ，６１２
２，５７〜５８，１９４０〕である。しかし、この相関
はこれらの試験に用いた約０．０１のマスフロー比に比
べて１０のオーダでガス対液体マスフロー比で試験デー
タから誘導された。この条件に対して、キムほか（Ｋｉ
ｍ　ａｎｄ　Ｍａｒｓｈａｌｌ）　の相関〔キムほか（
Ｋ．Ｙ．Ｋｉｍ　ａｎｄ　Ｗ．　Ｒ．　Ｍａｒｓｈａｌ
ｌ，　Ｊｒ．），　「ニューマチックアトマイザーから
の液滴大きさ分布」，ＡＩＣｈＥ　Ｊｏｕｒｎａｌ，　
１７巻，３号，５７５〜５８４頁，１９７１年５月〕が
より適当であり、従って、試験測定値の比較に用いた。 キムほか（Ｋｉｍ　ａｎｄ　Ｍａｒｓｈａｌｌ）　は２
５０ｆｔ／秒〜音速のガス−液体相対速度、粘度１〜５
０ｃｐ、０．０６〜４０のガス−液体質量比の範囲を網
羅した。この試験プログラムの運転範囲は２００〜７０
０ｆｔ／秒の相対速度、粘度１．３〜２．６ｃｐ、及び
０．００２〜０．００８のガス−液体質量比であった。 これらの相関は以下に記載される。変数に対する前記範
囲は多くのプロセス、例えばＦＣＣＵ、フルードコーキ
ング、フルードコーキング−ガス化など、に対する典型
的な商業運転条件内に属する。

【００５２】収検型ニューマチックノズルに対するキム
ほか（Ｋｉｍ　ａｎｄＭａｒｓｈａｌｌ）　の液滴大き
さ相関は次の範囲に対して得られた：液滴大きさ６〜３
５０μｍ質量中位径；マスフロー比、０．０６〜４０；
相対速度２５０ｆｔ／秒〜音速、及び粘度１〜５０ｃｐ
。

【００５３】

【数１】

【００５４】実験構成は光及び視界窓を備えた室（３フ
ィート平方、６フィート長）から構成した。ノズルはリ
グの１端に装備し、水平にスプレーした。リグの遠端に
おけるスクリーンを用いてスプレーを捕捉した。液体フ
ィード混合タンクを用いてグリセリンと水をブレンドし
て所望の粘度を与えた。スチール写真をとってスプレー
角を測定し、レーザー・ドップラーアネモメータ（ＬＤ
Ａ）を用いて液滴大きさを測定した。

【００５５】球状小滴の大きさを分類するＬＤＡ法は２
つの光波が異なる光路上の小滴を通過するときに生ずる
相対相移動の測定に基づく。散乱光により形成され、有
限集合操作で集められた干渉じまの鮮明度又は振幅変調
の測定により小滴の分粒に適する情報を得ることができ
る。ハードウエアシステムは次の装置部品を含む：トラ
ンスミッター、レシーバー、鮮明度プロセッサ、データ
管理システム、キーボード、クローン・ハイト（Ｋｒｏ
ｈｎ−ｈｉｔｅ）　フィルター、及びアナデックス（Ａ
ｎａｄｅｘ）　プリンター。これらの要素の詳細な説明
はスペクトロン・デベロプメント・ラボラトリース（Ｓ
ｐｅｃｔｒｏｎ　Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ　Ｌａｂｏｒ
ａｔｏｒｉｅｓ，　Ｉｎｃ．），ＳＤＬ　　Ｎｏ．　８
２−５１０２５，Ｃｏｓｔａ　Ｍｅｓａ，　Ｃａｌｉｆ
ｏｒｎｉａ（１９８２）による小滴分粒干渉計の操作指
針（Ｏｐｅｒａｔｉｏｎ　Ｇｕｉｄｅ　ｆｏｒ　Ｄｒｏ
ｐｌｅｔ　Ｓｉｚｉｎｇ　Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅ
ｒ）中に示されている。

【００５６】トランスミッターの機能は２つの干渉性レ
ーザービームを、運動小滴であることができる選ばれた
試験空間中へ投射することである。小滴は交差するビー
ムにより起こされるフリンジパタンから光を散乱し、周
波数及び変調が測定小滴の速度及び大きさを生ずる。一
般に、何かを変えるそれぞれのときに新整合を行なうこ
とが必要であるが、しかし、これらの調整は簡単である
。一層注意を必要とする「永久」整合は、あるとしても
非常にまれに触れることを必要とするにすぎない。

【００５７】トランスミッターはスペクトラ・フィッジ
ックス（Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｐｈｙｓｉｃｓ）モデルＮｏ
．　１０７　　ＤＥＭヘリウムネオンレーザー、レーザ
ー電源装置、ステアリングミラー、伸縮ビームエキスパ
ンダー、半波長板、ビームステアリングプリズム、５０
％ビームスプリッター及び互換性出力光学素子を含む。 レシーバーは実質的に、互換性ピンホールがある焦点か
ら光を集めるための光電子増倍管を有する望遠鏡である
。全装置が位置調整され、それを送られたプローブ体積
と近似的に整合される。レシーバーはさらされた試料体
積内の何かから散乱された光を集め、それを光電子倍増
管のカソードに向かわせる。

【００５８】鮮明度及びドップラーサインドプロセッサ
はレシーバーから送られた光学データから粒度情報を生
ずるマイクロプロセッサである。アップル−ＩＩプラス
（Ａｐｐｌｅ−ＩＩ　Ｐｌｕｓ）がデータの収集及び処
理に使用された。図１０は典型的な小滴大きさ分布及び
小滴速度分布を示す。出力はまた長さ平均径（Ｌｉｎｅ
ａｒ　ｍｅａｎ　ｄｉａｍｅｔｅｒ）　、面積平均径（
ｓｕｒｆａｃｅ　ｍｅａｎ　ｄｉａｍｅｔｅｒ）、体積
平均径、ソーター平均径及び小滴平均速度が含まれる。

【００５９】３つの異なる試験ノズル（Ｎｏ．　１、２
及び３）を研究し、３ノズルのそれぞれに関する液滴大
きさ及びスプレー角を種々の蒸気／液体フィード比で測
定した。ノズルＮｏ．　１及び２の液滴のソーター平均
径はすべて１０００μｍより大きかった（ラン１〜６及
び１７〜２１）。ＬＤＡによる液滴大きさ測定は、タン
ク窓を通して達成できるレーザービームの狭い角度のた
めに１０００μｍ又はそれ以下に制限された。

【００６０】ノズルＮｏ．　３による液滴大きさの分布
は広く２モードであると思われる。完全な第１モード及
び第２モードの一部が、液体流量がラン１１及び１６の
ように１０ｇｐｍ　で最低であったときにスプレー中に
記録された。商業ＦＣＣＵからスケールダウンした基本
事例液体速度は２０ｇｐｍ　である。これはスプレー液
滴大きさを、ファンノズルを使用するときに商業ＦＣＣ
Ｕ中の液体フィード速度の低下により低下できることを
示す。高い液体粘度は１．３ｃｐ（ラン７、８、１１）
及び２．６ｃｐ（ラン１２、１３、１６）の液体による
液滴大きさデータにより示されるように大きい液滴を与
える。

【００６１】ノズルＮｏ．　３による写真から得られた
スプレー分散角は８０〜１１０°の範囲内であったが、
ノズルＮｏ．　２によるものは２５〜４０°であった。 両ノズルによるスプレー角は高ガス／液体比で広かった
。エネルギー消費を表わすノズル圧力降下もまた３ノズ
ルで比較した。表１中に示されるデータはノズルＮｏ．
　３によるΔＰが同じガス／液体流量でノズルＮｏ．　
２より約３３％低かったことを示す。ΔＰに対する液体
粘度の効果は１．３〜２．６ｃｐの狭い粘度範囲内で顕
著でなかった。

【００６２】ファンノズルスプレーのソーター平均径を
予報するためキムほか（Ｋｉｍ　ａｎｄ　Ｍａｒｓｈａ
ｌｌ）　の相関の指数ｍを−０．９であるとしてかなり
良好な結果が得られた。種々の流量、流体性質、並びに
ノズル設計及び制御応答に関するそのようなデータを用
いてフィードインジェクター設計及び制御応答に有用な
相関を開発できる。

【００６３】

【表１】

【００６４】実施例２ この実施例は本発明によるフィードコーキング−ガス化
プロセスに対する流れ制御機構を示す。説明は特定フル
ードコーキング（−ガス化）装置に対する適用について
記載されるけれども、他の流動炭化水素転化及び分解装
置に対する適用は当業者により理解されよう。次の表２
、３及び４中の情報は制御機構中に使用される。（ｋｌ
ｄ　／時、°Ｆ、ｐｓｉ　及びｐｓｉｇの単位はけ計算
により得られる。特定プラントに対する機器標識ＩＤ　
Ｎｏ．が示される。）１０フィードインジェクターがこ
の実施例における例示のために使用中であると仮定する
。装置特異的条件が使用中のフィードインジェクターの
実際の番号を指令するであろう。

【００６５】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　２　　　　　　　　　　　　　　
　　　　装置計装から入手できるプロセス情報　　機器
ＩＤ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　記　　　　述　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　ＦＣ−Ｆ２００５−ＩＣ　　　　　　　　
　　　　　リアクター噴射水蒸気速度ＦＣ−Ｆ２００４
−ＲＣ　　　　　　　　　　　　　リアクター全フィー
ド速度ＦＣ−Ｆ２２１６−ＩＣ　　　　　　　　　　　
　　リアクター生成物（ＨＫＣＯ）リサイクル速度ＦＣ
−Ｆ２２２４−ＩＣ　　　　　　　　　　　　　ボトム
（スラリー１）リサイクル速度ＦＣ−Ｆ２２０３−Ｉ　
　　　　　　　　　　　　　全新フィード速度ＦＣ−Ｔ
２２１４−ＲＣ　　　　　　　　　　　　　全新フィー
ド温度ＦＣ−Ｔ２０４８−Ｉ　　　　　　　　　　　　
　　全新フィード温度ＦＣ−Ｐ２０９９−ｄＲＣ　　　
　　　　　　　　　フィードインジェクターノズル圧力
降下　　　（Ａ−Ｊ） ＦＣ−Ｚ２０９９−Ｉ　　　　　　　　　　　　　　フ
ィードインジェクターノズルインサート位置　　　（Ａ
−Ｊ） ＦＣ−Ｐ２００５−ｄＲ　　　　　　　　　　　　　リ
アクターライザー差圧ＦＣ−Ｐ２００１−Ｒ　　　　　
　　　　　　　　　リアクター圧力降下　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
表　　３　　　　　　　　　　　　　　　　制御用計算
機により計算されるプロセス情報ＰＭＸ　変数　ＩＤ　
　　　　　　　　　　定　　　　　　　　義　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　計　　　　　　算　　
　　　　ＦＣ−Ｘ２０００　　　　全リサイクル対全フ
ィード比　　　　　　　　　　（Ｆ２２１６＋Ｆ２２２
４）／Ｆ２００４ＦＣ−Ｘ２００１　　　　「スラリー
リサイクル対全フィード比　　Ｆ２２２４／Ｆ２００４
　ＦＣ−Ｘ２００２　　　　ＨＫＣＯリサイクル対全フ
ィード比　　　　　　　　Ｆ２２１６／Ｆ２００４　Ｆ
Ｃ−Ｘ２００３　　　　新フィード対全フィード比　　
　　　　　　　　　　Ｆ２２０３／Ｆ２００４　ＦＣ−
Ｘ２００４　　　　全質量流量　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　Ｆ２００５　＋Ｆ２２
０３　＋Ｆ２２１６　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　＋Ｆ２２２４　ＦＣ−Ｘ２００５
　　　　算出ノズル出口圧　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　Ｐ２００５　＋Ｐ２００１　＋１４．７
ＦＣ−Ｘ２００６　　　　算出ノズル入口圧　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　Ｘ２００５　＋Ｐ２０
９９ａｖｇＦＣ−Ｐ２０９９ａｖｇ　平均ノズル圧力降
下　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｐ２０９９
Ａ　＋Ｐ２０９９Ｂ＋　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　Ｐ２０９９Ｃ＋Ｐ２０９９Ｄ＋　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｐ
２０９９Ｅ＋Ｐ２０９９Ｆ＋　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　Ｐ２０９９Ｇ＋Ｐ２０９９
Ｈ＋　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　Ｐ２０９９Ｉ＋Ｐ２０９９Ｊ）／１０ＦＣ−Ｘ２０
０７　　　　ノズル圧力比　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　Ｘ２００６／Ｘ２００５　ＦＣ
−Ｘ２００８　　　　平均フィード温度　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　（Ｔ２２１４＋Ｔ２２４８
）／２ＦＣ−ＸＶＡＰＲＦ　　　算出蒸気フラクション
　　　　　　　　　　　　　　　　（ＸＫＦＦ／１１．
６）＊（０．０１　＋　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　（０．０８／３００）＊（Ｘ２０
０８　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　−４００）），　ＧＳＫ−　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　スペシフィックエスティメートＦＣ−Ｘ
２００９　　　　算出ＨＣ蒸気速度　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　ＸＶＡＰＥＲ＊　Ｆ２２０
３　ＦＣ−Ｘ２０１０　　　　算出水蒸気密度　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　（（（Ｘ２００
６＋Ｘ２００５）／２）　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　＊　１８）／（１０．７３＊　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ
２００８　＋４６０）），　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　ｌｂ／ｃｆＦＣ−Ｘ２０１１　
　　　算出ＨＣ蒸気密度　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　（（（Ｘ２００６＋Ｘ２００５）／２
）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　＊　３００　＊　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　（１１．６／ＸＫＦＦ））／（１０．７
３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
＊　０．９５　＊　（Ｘ２００８＋　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　４６０）），　ｌｂ
／ｃｆＦＣ−Ｘ２０１２　　　　算出新フィード密度　
　　　　　　　　　　　　　　　　　６２．４　＊　Ｘ
ＦＦＳＧ，　ｌｂ／ｃｆ　ＦＣ−Ｘ２０１３　　　　算
出ＨＫＣＯ密度　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　６２．４　＊　ＸＨＲＳＧ，　ｌｂ／ｃｆ
　ＦＣ−Ｘ２０１４　　　　算出ボトム密度　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　６２．４　＊　Ｘ
ＢＲＳＧ，　ｌｂ／ｃｆ　ＦＣ−Ｘ２０１５　　　　水
蒸気体積　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　Ｆ２００５／Ｘ２０１０　ＦＣ−Ｘ２０１６
　　　　ＨＣ蒸気体積　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　Ｘ２００９／Ｘ２０１１　ＦＣ
−Ｘ２０１７　　　　ＦＦ液体体積　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｆ２２０３−Ｘ
２００９）／Ｘ２０１２　ＦＣ−Ｘ２０１８　　　　Ｈ
ＫＣＯ体積　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　Ｆ２２１６／Ｘ２０１３　ＦＣ−Ｘ２
０１９　　　　ボトム体積　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　Ｆ２２２４／Ｘ２０１４　
ＦＣ−Ｘ２０２０　　　　全体積　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｘ２０１５
　＋Ｘ２０１７　＋Ｘ２０１７　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　＋Ｘ２０１８　＋Ｘ２
０１９　ＦＣ−Ｘ２０２１　　　　２相混合物密度　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ２０１５
／Ｘ２０２０）＊　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　Ｘ２０１０＋　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　（Ｘ２０１６／Ｘ２０２０）
＊　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
Ｘ２０１１＋　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　（Ｘ２０１７／Ｘ２０２０）＊　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｘ２０１２＋　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ２０
１８／Ｘ２０２０）＊　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　Ｘ２０１３＋　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　（（Ｘ２０１９／Ｘ２０２
０）＊　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　Ｘ２０１４，ｌｂ／ｃｆＦＣ−Ｘ２０２２　　　
　蒸気相密度　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　（Ｘ２０１５／Ｘ２０２０）＊　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｘ２０１０
＋　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ
２０１６／Ｘ２０２０）＊　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　Ｘ２０１１，ｌｂ／ｃｆＦＣ
−Ｘ２０２３　　　　「ｙ」　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ２００９　＋
Ｆ２００５）／　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　Ｘ２００４＋ＦＣ−Ｘ２０２４　　　　
「Ｂ」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　Ｘ２０２３　＊＊−０．４９ＦＣ−Ｘ２
０２５　　　　音速　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　６８　＊　（Ｘ２
０２４／Ｘ２０２１）＊　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　（（ＸＣＰＣＶ　＊　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　（（Ｘ２００５　
＋Ｘ２００６）／２）　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　＊　Ｘ２０２２）＊＊０．５）　
ＦＣ−Ｘ２０２６　　　　スロート平均速度　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　Ｘ２０２０／（３６００
　＊　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　ＸＴＯＮＡＲＥＡ）可変ＸＴＯＮＡＲＥＡは全ノズル
流れ面積、平方フィト、である。各ノズル中のノズルイ
ンサートの個々の位置はスロート中の流れ面積がノズル
形状に対して計算されることを可能にするであろう。次
いで全流れ面積が使用中のアクチブノズルの数を基にし
て計算される。

【００６６】スロート速度は音速に比較される。スロー
ト速度が音速の６５％より大きければ音速流圧降下式が
流量係数（「ＣＦ」）の計算に使用される。スロート速
度が音速の６５％未満であれば亜音速流式が流量係数の
計算に使用される。亜音速「ＣＦ」と次のとおり定義さ
れる： 　　　　　ＣＦ＝（（Ａｏ　＊　２　＊　Ｘ２０２１　
＊　Ｘ２０２６　＊　Ｘ２０２６）／Ｐ２０９９ａｖｇ
）　＊＊　０．５音速「ＣＦは次のとおり定義される： 　　　　　ＣＦ＝（（Ｂｏ　＊　２　＊　Ｘ２０２１　
＊　Ｘ２０２６　＊　Ｘ２０２５）／Ｐ２０９９ａｖｇ
）　＊＊　０．５Ａｏ　及びＢｏ　は各個々のノズル設
計に対して経験的に決定されねばならない定数である。

【００６７】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　４　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　実行計画特異的情報　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　（ユニットオペレー
タにより供給）　　　　　　　　　　　　「ＰＭＸ」変
数ＩＤ　　　　　　　　　　　　　　記　　　　　　　
　述　　　　　　　　　　　　　　　　　　ＦＣ−ＸＫ
ＦＦ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　新フィー
ド特性化係数　　　　　　　　　　　　　　ＦＣ−ＸＦ
ＦＳＧ　　　　　　　　　　　　　　　　　　新フィー
ド比重　　　　　　　　　　　　　　ＦＣ−ＸＨＲＳＧ
　　　　　　　　　　　　　　　　　　ＨＫＣＯリサイ
クル比重　　　　　　　　　　　　　　ＦＣ−ＸＢＲＳ
Ｇ　　　　　　　　　　　　　　　　　　ボトムリサイ
クル比重次に、上に与えられた情報を用いるフロー制御
運転モードが記載される。全フィード流れ制御装置（Ｆ
−２００４−ＲＣで示される）が個々のフィードインジ
ェクターノズル制御装置をリセットし、有効な流れ面積
を開閉してより多いか又は少ない全フィードをリアクタ
ー中に通させる。流量係数パラメーター「ＣＦ」がオー
プンループ様式でモニターされ、良好な微粒化領域が維
持されていることを保証する。典型的にはオペレータが
ターゲット「ＣＦ」を維持する手段として噴射水蒸気速
度を操作するであろう。流量係数「ＣＦ」に対する制御
用計算機計算値がフィードインジェクター微粒化の性能
のより直接的な指標である。プロセスフィードインジェ
クター圧力降下の読みがフィードインジェクター微粒化
の総指標であるが、しかし多くのプロセス因子がこの読
みに影響を及ぼすことができ、影響を及ぼすであろう。 亜音速又は音速フィートインジェクター圧力降下式を流
量係数「ＣＦ」の計算に適用することにより、フィード
微粒化のより典型的な指標が得られる。これがよりイン
テリジェントな制御デシジョン及び影響に対するフレキ
シビリティーをフルードコーキング−ガス化プロセスに
適用してターゲット運転目的を達成させる。

【００６８】プロセス外乱を最小化するため、この実施
例において使用される１０個のフィードインジェクター
ノズルを対向対のノズルを単位として動かすことにより
ランプ開閉させることができる（組合せは典型的には次
のとおりであろう：Ａ／Ｆ、Ｂ／Ｇ、Ｃ／Ｈ、Ｃ／Ｉ、
及びＥ／Ｊ）。３６〜８０％のストローク範囲において
、各対のインジェクターがフィード速度変化に応答して
一度に最大約１０％ストローク移動されるであろう。 この１０％増分は同時に操作される全ノズルスコート面
積の約２．７　％に相当する。表５はこの方法を用いる
典型的な連続流れを面積変化を示す： 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　５　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　開　　始　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　第　　１　　段　　　　　　　　　
　ノズルＩＤ　　　　ストローク、％　　スロート面積
　　ストローク、％　　スロート面積　　Ａ　　　　　
　　　　　　　３６　　　　　　　　　　　５．６２９
　　　　　　　　　　４６　　　　　　　　　　　　４
．８５９　　　Ｆ　　　　　　　　　　　　３６　　　
　　　　　　　　５．６２９　　　　　　　　　　４６
　　　　　　　　　　　　４．８５９　　　Ｂ　　　　
　　　　　　　　３６　　　　　　　　　　　５．６２
９　　　　　　　　　　３６　　　　　　　　　　　　
５．６２９　　　Ｇ　　　　　　　　　　　　３６　　
　　　　　　　　　５．６２９　　　　　　　　　　３
６　　　　　　　　　　　　５．６２９　　　Ｃ　　　
　　　　　　　　　３６　　　　　　　　　　　５．６
２９　　　　　　　　　　３６　　　　　　　　　　　
　５．６２９　　　Ｈ　　　　　　　　　　　　３６　
　　　　　　　　　　５．６２９　　　　　　　　　　
３６　　　　　　　　　　　　５．６２９　　　Ｄ　　
　　　　　　　　　　３６　　　　　　　　　　　５．
６２９　　　　　　　　　　３６　　　　　　　　　　
　　５．６２９　　　Ｉ　　　　　　　　　　　　３６
　　　　　　　　　　　５．６２９　　　　　　　　　
　３６　　　　　　　　　　　　５．６２９　　　Ｅ　
　　　　　　　　　　　３６　　　　　　　　　　　５
．６２９　　　　　　　　　　３６　　　　　　　　　
　　　５．６２９　　　Ｊ　　　　　　　　　　　　３
６　　　　　　　　　　　５．６２９　　　　　　　　
　　３６　　　　　　　　　　　　５．６２９　　　　
　　　　　　　　　　　全スロート面積＝５６．２９　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
５４．７５　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
第　　２　　段　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　第　　３　　段　　　　　　　　　　ノズルＩＤ　
　　　ストローク、％　　スロート面積　　ストローク
、％　　スロート面積　　Ａ　　　　　　　　　　　　
４６　　　　　　　　　　　４．８５９　　　　　　　
　　　４６　　　　　　　　　　　　４．８５９　　　
Ｆ　　　　　　　　　　　　４６　　　　　　　　　　
　４．８５９　　　　　　　　　　４６　　　　　　　
　　　　　４．８５９　　　Ｂ　　　　　　　　　　　
　４６　　　　　　　　　　　４．８５９　　　　　　
　　　　４６　　　　　　　　　　　　４．８５９　　
　Ｇ　　　　　　　　　　　　４６　　　　　　　　　
　　４．８５９　　　　　　　　　　４６　　　　　　
　　　　　　４．８５９　　　Ｃ　　　　　　　　　　
　　３６　　　　　　　　　　　５．６２９　　　　　
　　　　　４６　　　　　　　　　　　　４．８５９　
　　Ｈ　　　　　　　　　　　　３６　　　　　　　　
　　　５．６２９　　　　　　　　　　４６　　　　　
　　　　　　　４．８５９　　　Ｄ　　　　　　　　　
　　　３６　　　　　　　　　　　５．６２９　　　　
　　　　　　３６　　　　　　　　　　　　５．６２９
　　　Ｉ　　　　　　　　　　　　３６　　　　　　　
　　　　５．６２９　　　　　　　　　　３６　　　　
　　　　　　　　５．６２９　　　Ｅ　　　　　　　　
　　　　３６　　　　　　　　　　　５．６２９　　　
　　　　　　　３６　　　　　　　　　　　　５．６２
９　　　Ｊ　　　　　　　　　　　　３６　　　　　　
　　　　　５．６２９　　　　　　　　　　３６　　　
　　　　　　　　　５．６２９　　　　　　　　　　　
　　　　全スロート面積＝５３．２１　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　５１．６７表５
は非常に正確な流れ面積制御を維持、操作してフィード
微粒化の所望レベルを達成できる方法を示す。前記事例
は装置に対する全フィード速度の変化又は使用される噴
射水蒸気のターゲット量の変化により起こされるフィー
ドインジェクターの制御されたランピングクローズの例
示である。フィードインジェクター流れ面積のランプオ
ープンには逆シーケンスが使用されるであろう。

【００６９】制御用計算機適用プログラムは若干異なる
形態に構成できる。全フィード流れ制御装置Ｆ−２００
４−ＲＣは直接フィードインジェクターアクチュエータ
、Ｈ−２０９９−ＩＣ（Ａ〜Ｊ）に、又はＦ−２００４
−ＲＣをＰ−２０９９−ｄＲＣ（Ａ〜Ｊ）にカスケード
し、次にそれを個々のフィードインジェクターアクチュ
エータ、Ｈ−２０９９（Ａ〜Ｊ）にカスケードできる層
化階層にカスケードできる。個々のアクチュエータ制御
装置及びＰｄＲＣ計装を各フィードインジェクター上に
有するとフィードインジェクターシステムのオンストリ
ーム保守及び制御ループチューニングに対するフレキシ
ビリティーを与える。低コスト構成が少ない計器で可能
であり、前記構成の簡易化形に相当するであろう。

【００７０】図１１及び図１２は全リアクターフィード
処理目的に基づいてフィードインジェクタースロート面
積を変えるための典型的な制御用計算機アプリケーショ
ンプログラムの基本構造を略示する。それはインジェク
ターアクチュエータ、ＨＩＣ：Ｈ−２０９９−ＩＣ　　
ＡにカスケードしたＰ−２０９９−ｄＲＣ　　Ａ、など
、を有する１０個の可変スロートフィードインジェクタ
ーシステムを基にしている。Ｐ−２０９９−ｄＲＣ（Ａ
〜Ｊ）に対するオペレーター供給設定値はシステムの初
期化のための装置特異的実行計画に基づく。この設定値
はターゲットスプレー型と矛盾しない。算出流量係数「
ＣＦ」は実時間フレームで計算されよう。この「ＣＦ」
がフィード微粒化の指標として使用されるであろう。実
施例３前記実施例において、フルードコーキング（−ガ
ス化）プロセス制御機構が特定装置に対する適用が例示
され、プラントからの計器標識ＩＤ、などを使用する。 この適用は他の流動炭化水素転化及び分解プロセス装置
に同様に適用できるが、しかし装置特異的項目は適用の
最終機能形態及び任意の改造に関連する位置特異的コス
ト結果に影響を及ぼすかもしれない。

【００７１】前記制御機構は、油フィードがリアクター
の長さに沿う特定地点に導入される「単段」リアクター
構成に基づく。この機構はまた油フィードをリアクター
の長さに沿う数地点で導入する「多段」リアクター構成
に適用できる。「多段」構成に適用するとき種々のハイ
ブリッド制御構成が可能になる。表６中のマトリックス
は４つの異なる制御機構を２段リアクター構成に最適に
適用できる方法を示す。２段以上には非常に大きいマト
リックスが適当である。２段システムは適当な商業的構
成と考えられ、３段は経済に依存する可能な商業的「拡
大事例」である。４つの異なる制御機構は典型的には次
のように定義ささる：（１）全フロー制御、（２）リア
クター温度制御、（３）炭素及び熱収支制御、及び（４
）収量選択率／品質制御。

【００７２】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　６　　　　　　　　　　　　　　
　　制御機構マトリックス−２段リアクター構成　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　（標識数字は前記
制御機構を示す）　　事　　例　　　　１　　　２　　
　３　　　４　　　５　　　６　　　７　　　８　　　
９　　　１０　　１１　　１２　　１３　　１４ステー
ジＡ　　１　　　１　　　１　　　１　　　２　　　２
　　　２　　　２　　　３　　　　３　　　３　　　３
　　　４　　　４ステージＢ　　１　　　２　　　３　
　　４　　　１　　　２　　　３　　　４　　　１　　
　　２　　　３　　　４　　　１　　　２　　事　　例
　　　１５　　　１６　　１７　　１８　　１９　　２
０　　２１　　２２　　２３　　２４　　２５　　２６
　　２７　　２８ステージＡ　　４　　　　４　　　２
　　　３　　　４　　　１　　　３　　　４　　　１　
　　２　　　４　　　１　　　２　　　３ステージＢ　
　３　　　　４　　　１　　　１　　　１　　　２　　
　２　　　２　　　３　　　３　　　３　　　４　　　
４　　　４多段リアクター構成に対し商業的設備はおそ
らく、前記２８の可能な構成の任意の１つにおける運転
に対するフレキシビリティーを与えるのに必要な計装を
備えるであろう。種々の実行計画特異的及び経済特異的
項目が一定の運転事例を他より有利にする傾向があるが
、しかし２８の可能な事例のどれがすべての可能な操作
シナリオ下に最も魅力的であるかを予報することは困難
であろう。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用できるフルードコーキング（−ガ
ス化）装置の１態様の略図である。

【図２】本発明によるフィード流制御システムを含む炭
化水素転化及び分解ライザーリアクターの流れ図である
。

【図３】本発明によるフィード流制御システムを含む炭
化水素転化及び分解流動床リアクターの流れ図である。

【図４】本発明の１観点による可変スロートリアクター
フィードインジェクター装置の略図である。

【図５】図４中のフィードインジェクターのノズル微粒
化調整装置部分のより詳細な略図である。

【図６】図５のノズル微粒化調整装置のプレミキサー部
の正面図である。

【図７】可変スロート収検フィードノズル配列内に位置
するノズル微粒化調整装置をより詳細に示す図である。

【図８】図４に示される型の可変スロート収検ファンフ
ィードインジェクターのノズル部に対するパーセントス
トローク対流れ面積の典型的なグラフである。

【図９】炭化水素転化及び分解リアクターのライザー部
又はリアクター流動床部の壁に取付けて示される図２及
び図３に示したフィードインジェクターの略図である。

【図１０】典型的なフィードインジェクター小滴大きさ
分布及び小滴速度分布のグラフである。

【図１１】実施例２による本発明の好ましい態様を実施
するためのコンピュータ適用プログラムを示す流れ図（
前半）である。

【図１２】実施例２による本発明の好ましい態様を実施
するためのコンピュータ適用プログラムを示す流れ図（
後半）である。

【符号の説明】

１　　リアクター １Ａ　　反応帯域 １Ｂ　　ストリッピング帯域 １２　　加熱装置 １３、３２　　ガス−固体分離装置 １６　　スクラバー精留塔部 ２７　　ガス化装置再生帯域 ６３　　流れモニター装置 ６４　　流れ装置制御 ６６　　フィードインジェクター制御装置６８　　圧力
制御装置 ７８、２２１　　アクチュエータ ９９　　リアクターフィード−インジェクター１００　
　微粒化調整装置 １０２　　ノズル先端 １０６　　微粒化調整部材 １０７、１０９　　プレミキサー １０８　　末端先端部 １１１　　プロセス配管 １１４　　水蒸気油流体入口 １１５　　隔離弁

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　炭化水素質フィードが少くとも１つの
   フィードインジェクターを通してプロセスの反応帯域中
   へ導入され、フィードインジェクター又はその部分を横
   切る圧力降下ΔＰに基づく信号がモニターされ、前記フ
   ィードインジェクターによる前記フィードの微粒化が所
   望の微粒化度を達成するために前記信号に応答して制御
   される、流動炭化水素転化及び分解プロセスを制御する
   方法。
2. 【請求項２】　　圧力降下ΔＰが流動炭化水素転化及び
   分解帯域中へ導入されたフィードの平均フィード小滴大
   きさ、小滴大きさ分布及び（又は）スプレー型を生じ、
   微粒化がフィードインジェクターのスロート部を横切る
   断面流れ面積の変更により制御される、請求項１に記載
   の方法。
3. 【請求項３】　　微粒化がフィードインジェクターに対
   するフィードの上流の性質の変動を補償するために調整
   される、請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】　　フィード流制御がフィードインジェク
   ター制御にカスケードされる、請求項３に記載の方法。
5. 【請求項５】　　微粒化度が、所与収率及び（又は）選
   択率目的のために最適化される予め選択された設定値に
   より決定される、請求項１に記載の方法。
6. 【請求項６】　　予め選択された設定値が所与フィード
   物質及びその物理的性質の１つに対して最適化され、微
   粒化が実時間で変動される、請求項１に記載の方法。
7. 【請求項７】　　圧力制御装置に対する設定値が、ノズ
   ル圧力変化とフィードインジェクターのスロート部の断
   面流れ面積を変化させる部材の位置との間の関係を決定
   するために各フィードインジェクターに対して構成され
   たフィールド校正曲線に基づいて選択される、請求項５
   に記載の方法。
8. 【請求項８】　　フィールド校正データが、圧力制御信
   号に基づいてノズルスロートインサートの位置を変化さ
   せたアクチュエータに信号を送るアプリケーションプロ
   グラム中へ組込まれる、請求項７に記載の方法。
9. 【請求項９】　　リアクターの壁に連結され、前記リア
   クターの壁に取り付けられている間にフィードの微粒化
   を調整できる少くとも１つのフィードインジェクターを
   含み、さらに、フィードインジェクターを横切る圧力降
   下ΔＰに基づく信号を生ずる装置及び前記フィードイン
   ジェクターにより生ずるフィード微粒化の調整により前
   記信号に応答する制御装置を含む流動炭化水素転化及び
   分解反応装置。
10. 【請求項１０】　　さらに、ΔＰに基づく信号を、予め
    選択された設定値に基づく他の信号に比較し、前記第１
    及び第２信号の間の差を減少させるように微粒化を調整
    する装置を含む、請求項９に記載の装置。
11. 【請求項１１】　　さらに、少くとも１つのフィードイ
    ンジェクターに対する全流れをモニターしてそれに基づ
    く他の信号を生ずる装置、及び前記の他の信号を制御装
    置にカスケードする装置を含む、請求項９に記載の装置
    。
12. 【請求項１２】　　ボディーの位置を圧力降下に基づく
    信号に応答して変化させるアクチュエータに信号を送る
    ためのアプリケーションプログラムを含む、請求項１１
    に記載の装置。