JPH0422675A - 転写方法及びその方法を用いたカラーフィルターの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は転写方法及びその方法を用いたカラーフィルタ
ーの製造方法に関する。

（従来の技術） ガラス等の光透過性の基材上に、光透過性の赤、緑、青
及び隠蔽性のある黒のフィルター部をパターン状に設け
たカラーフィルターが、液晶表示板や撮像素子等に用い
られている。

従来、上記カラーフィルターの製造方法として１）剥離
性の基材上にカラーフィルターのフィルターパターンに
対応したカラーパターンを有する転写層を積層した転写
箔を用いて、被転写体に転写層を転移させる転写法、２
）赤、青、緑及び黒の領域パターンを、オフセント印刷
等でガラス板等の光透過性基材の表面に直接印刷により
形成して、カラーフィルターを得る印刷法、３）光透過
性基材上に染色性の樹脂を設は更に該樹脂表面に感光性
樹脂を塗布した後に、この上から赤、青、緑及び黒の各
フィルターパターンを設けたフォトマスクを通して光又
は電離放射線を照射した後現像処理して基材上にレジス
トパターンを形成し、次いで各色相の染料等で基材樹脂
を染色する作業を各色相のパターンの数だけ繰り返して
カラーフィルターを形成する染色法等の種々の方法が知
られている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記１）の転写方法は、被転写体に精密
なパターンを付与しようとする場合や、微小な被転写体
にパターンを付与しようとすると、次のような欅々な問
題点があった。

例えば転写箔の転写層に所望のカラーパターンを形成す
るには印刷等の手段が用いられるが印刷によって精密な
パターンを作れる精度は１０μｍ程度が限界であり、こ
の精度以上のパターンは形成困難である。

また２）の印刷法は、上記の１）転写方法と同様に印刷
精度の限界は１０μｍ程度であり、それ以上の精度がで
ない。

更に上記３）のフォトレジストを用いた染色法は、パタ
ーンの精度については充分満足するものが得られるが、
各色についてパターン形成と染色を繰り返す必要があり
工程が非常に煩雑になって生産に時間がかかり、さらに
染色時の不良品の発生も多く製品の歩止まりが低い等、
生産性が非常に悪いという問題点があった。

本発明は上記従来技術の問題点を解決することを目的と
する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、被転写体表面に光又は電離放射線の照射によ
って接着する接着剤層を設け、該接着剤層に転写層を有
する転写箔を接着剤層と転写層が接するように積層し、
所望のパターン状に光又は電離放射線を照射して転写層
の光又は電離放射線を照射された部分を接着剤層に接着
させた後転写箔を剥離して所望のパターンの転写層を転
写することを特徴とする転写方法であり、また透明性の
基材表面に光又は１ｔＮ放射線の照射によって接着する
接着剤層を設け、該接着剤層にカラー転写箔を転写層と
接着剤層が接するように積層し、カラーフィルターのフ
ィルターパターンに対応したパターンに光又はｉ離放射
線を照射して該接着剤層に転写層を転写して第１のカラ
ーフィルター部を形成し、次いで異なるカラーの転写層
と接着剤層を重ねて同様にしてカラーの異なる第２のカ
ラーフィルター部を形成する工程を少なくとも赤、青、
緑の３色について行うことを特徴とするカラーフィルタ
ーの製造方法でもある。

さらに本発明のカラーフィルターの製造方法においては
赤、青、緑のカラーフィルター部の非形成部に隠蔽性の
黒のフィルター部を転写によって形成することもでき、
また赤、青、緑のカラーフイルター非形成部に、これら
の各フィルター部形成前に赤、青、緑の各フィルターの
境界部分において重なり合うように隠蔽性の黒のフィル
ターパターンを転写以外の方法で形成することもできる
。

更に光又は電離放射線の照射を、コンピュータ制御され
たレーザー光線の走査によって行ない、接着剤層と転写
層を接着してカラーフィルターパターンを形成すること
も可能である。本発明のカラーフィルター製造方法にお
いて、光透過性の基材としてプライマー処理したガラス
板を用いることもできる。また転写箔の転写層及び被転
写体に設ける接着剤層のビヒクルに昇華性樹脂を使用し
、かつ転写箔の転写インキの着色成分に焼成顔料を用い
、転写層を透明性基材に転写した後に顔料とガラス板を
焼成して一体化することもできる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図面に基き詳細に説明する。

第１図（ａ）〜（ｂｌに本発明の転写方法を示す。１は
被転写体、２は接着剤層、３は剥離性基材、４は転写層
、５は転写箔、６はマスク、７は光又は電離放射線、８
は照射源、９はミラー、１０はプライマー層、１１は第
１の転写層、１２は第２の転写層、１３は第３の転写層
、１４は第４の転写層である。

まず第１図（ａ）に示すように被転写体１表面に光又は
電離放射線によって硬化する接着剤層２を設けた後、該
接着剤層２に剥離性基材３と転写層４からなる転写箔５
を転写層４と接着剤層２が接するように積層し、所望の
パターンに形成したマスク６を通し、光又は電離放射線
７をパターン状に照射して被転写体１にパターン状に転
写層４を転写する０次いで、剥離性基材３を剥離して転
写層４を被転写体１上に形成する。

色やパターンの異なる転写層を形成するには、色の異な
る転写層を有する転写箔やパターンの異なるマスクを用
いて同様の方法で転写を行う。

例えば４種類の異なる転写層を形成しようとする場合、
第１図（ｂ）に示すように第１の転写層１１を上記の方
法で形成した後、第２の転写層１２、第３の転写層１３
、第４の転写層１４を、転写箔をかえて同様の方法で順
次転写すればよい（必要により各転写層毎にマスクパタ
ーンの異なるものを用いる）。

被転写体１は従来この種の転写箔に用いられる基材であ
ればいずれでもよく、例えばプラスチックのフィルム、
シート、板状体や紙、木質板、ガラス板、鋼板等が挙げ
られ、プラスチックとしては例えばポリエステル、塩化
ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ナイロン、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニル
共重合体が挙げられるが、ポリエステル、ポリ塩化ビニ
ル、ポリカーボネートが好ましい。

尚、光又は電離放射線は転写箔側、被転写体側のいずれ
から照射してもよいが、被転写体側から照射する場合は
、被転写体に照射する光又はｉ離放射線を透過するもの
を用いる必要があり、特に被転写体に透明性の材質を用
いると光（可視光線や紫外線）も透過するために使用で
きる光又は電離放射線の種類が多く好ましい。

接着剤層２は、光又は電離放射線を照射しない状態では
転写層と接着せず、光又は電離放射線を照射すると照射
部分が溶融して接着するものであればよい。

接着剤層２を構成する材料として固層反応型電離放射線
硬化性樹脂がある。

固層反応型電離放射線硬化性樹脂は、未硬化の状態では
常温で固体であり、かつ、熱可望性、溶剤溶解性を有し
ていながら、塗装及び乾燥によって見掛は上、または、
手で触ったときにも非流動性（指触乾燥性）であり、且
つ非粘着性である塗膜を与える電離放射線硬化性樹脂を
主成分として構成されている。

固層反応型電離放射線硬化樹脂には、ガラス転移温度が
０〜２５０℃のポリマー中にラジカル重合性不飽和基を
有するものや、融点が２０〜２５０°Ｃでありラジカル
重合性不飽和基を有する化合物がある。これらを混合し
て用いることもでき、さらに、それらに対してラジカル
重合性不飽和単量体を加えて使用することもできる。又
、樹脂硬化物の可撓性を得るために非架橋型の熱可星性
樹脂を添加してもよい。

固層反応型電離放射線硬化性樹脂は、次の２種類の樹脂
がある。

（１）　　ガラス転移温度が０〜２５０°Ｃのポリマー
中にラジカル重合性不飽和基を有するもの。

さらに具体的には以下の化合物■〜■を重合、もしくは
共重合体させたものに対し後述する方法（ａ）〜（ロ）
によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いる
ことができる。

■水酸基を有する単量体二Ｎ−メチロール（メタ）アク
リルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等
。

■カルボキシル基を有する単量体：　（メタ）アクリル
酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルモノサクシネー
ト等。

■エポキシ基を有する単量体ニゲリシジル（メタ）アク
リレート等。

■アジリジニル基を有する単量体＝２−アジリジニルエ
チル（メタ）アクリレート、２−アジリジニルプロピオ
ン酸アリル等。

■アミノ基を有する単量体＝　８（メタ）アクリルアミ
ド、ダイア七トン（メタ）アクリルアミド、ジメチルア
ミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート等。

■スルフォン基を有する単量体＝２−（メタ）アクリル
アミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。

■イソシアネート基を有する単量体＝２．４−トルエン
ジイソシアネートと２ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レートの１モル対１モル付加物等のジイソシアネートと
、活性水素を有する重合性単量体の付加物等。

■更に上記の共重合体のガラス転移点を調節したり、硬
化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物とこ
の化合物と共重合可能な以下のような単量体とを共重合
させることができる。このような共重合可能な単量体と
しては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル
（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート
、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）ア
クリレート、Ｌ−ブチル（メタ）アクリレート、イソア
ミル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）ア
クリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート
等が挙げられる。

次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方
法（ａ）〜（ロ）により反応させ、ラジカル重合性不飽
和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線硬
化性樹脂が得られる。

（ａ）水酸基を存する単量体の重合体または共重合体の
場合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有
する単量体等を縮合反応させる。

（ト））カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量
体を縮合重合させる。

（Ｃ）エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体あるいはジイソシアネート化合物
と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の１対１モルの
付加物を付加反応させる。　上記反応を行うには、微量
のハイドロキノン等の重合禁止剤を加え乾燥空気を送り
ながら行うことが望ましい。

（２）融点が常温（２０’Ｃ）〜２５Ω℃であり、ラジ
カル重合性不飽和基を有する化合物。具体的にはステア
リルアクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、
トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、スピログリコールジアクリレー
ト、スピログリコール（メタ）アクリレート等が挙げら
れる。

また上記（１）と（２）の樹脂を混合して用いることも
でき、さらにそれらに対してラジカル重合性不飽和単量
体を加えることもできる。

ラジカル重合性不飽和単量体はｉｓ放射線照射の際、架
橋密度を向上させるものであって、前述の単量体の他に
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ　（メタ）アクリレート、トリメチロールブロバン
ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ　（
メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（
メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジル
エーテルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ブ
ロビレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）ア
クリレート、ボリブロピレングリコールジグリシジルエ
ーテルジ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラグ
リシジルエーテルテトラ（メタ）アクリレートなどを用
いることができ、前記した■の紫外線硬化性樹脂または
電子線硬化性樹脂１００重量部に対して、０．１〜１０
０重量部で用いることが好ましい。

また上記のものは電子線により充分硬化可能であるが、
紫外線照射で硬化させる場合には増感剤としてベンゾキ
ノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、などの
ベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類、
ビアセチル類等の紫外線照射によりラジカルを発生する
ものを用いることができる。

電離放射線硬化性樹脂の可撓性を調節するために上記ｔ
Ｈ放射線硬化性樹脂、オリゴマー、化ツマ−のすくなく
とも１種に対して以下のような電離放射線非硬化性樹脂
を１〜７０重量％、好ましくは５〜５０重量％混合して
用いることもできる。

電離放射線非硬化性樹脂としては例えば、ウレタン樹脂
、ブチラール樹脂、セルロース樹脂、ポリエステル樹脂
、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができ、
特に可撓性の点からはセルロース樹脂、ブチラール樹脂
、ウレタン樹脂、が好ましい。尚、Ｉｓ放射線硬化性樹
脂は必要に応じて着色してもよい。

接着剤層は、熱可塑性樹脂としてポリ塩化ビニル、アク
リル樹脂、ポリウレタンなどを用い、その１００重量部
に対して、電離放射線硬化性樹脂として、アクリル、不
飽和ポリエステル、ウレタンアクリレート等の多官能性
ポリマー、オリゴマー又はモノマーを１０〜５０重量部
配重量、必要に応じてフタル酸エステルのような可塑剤
を３０重量部、アゾビスイソブチロニトリル、ヘンシイ
ルバーオキサイドなどの反応開始側、ヘンシフエノン、
ヘンジイルアルキルエーテルなどの光増感剤を０．５〜
５重量部、安定剤、充填剤等を適量添加して組成物とし
、それをカレンダー等の方法で製膜したフィルムを積層
して形成することができる。

また接ｆＦｌｉＩＩ層２は、上記の固層反応型１！ＩＭ
放射線硬化性樹脂を必要により溶剤や希釈剤で希釈して
塗布に適した粘度とした後、公知のコーチインク法、例
えぼリバースロールコーティング、ロールコーティング
、グラビアコーティング、キスコーティング、ブレード
コーティング、スムーズコーティング等により被転写体
表面にコーティングして乾燥する。

接着剤層２の厚みは通常０．１〜３０μｍ程度に形成さ
れ、０．５〜１５μｍが接着力及び透明性が良好になり
好ましい。

マスク３は接着剤層に光又は電離放射線を照射して所望
のパターンを被転写体に正確に付与するために用いられ
、通常の写真撮影による印刷製版用マスクやコンピュー
タ制御で光源と一体となった電子マスク等が用いられる
。

接着剤層に！離放射線を照射する場合のマスク３の材質
は電離放射線が透過しない材料で作成されており、所望
のパターン状に電離放射線透過部分が形成されているも
のである。１ｉ＃放射線非透過の材料としては鉄、ステ
ンレススチール、銅、黄銅、アルミニウム等の金属板が
好ましい。′ｇ１離放射線透過部分は上記金属板を切り
抜いて形成するが、微細な文字や模様状とするためには
レーザー照射により切り抜くのが好ましい。またマスク
３を金属板で形成する代わりに金属箔を貼付したプラス
チック板とし、金属箔にパターン状の空所を形成するこ
とによりパターン状に１を離放射線が透過し得るように
することもできる。このような構造とすることにより、
低エネルギーのレーザー光でパターンを形成することが
できる。

マスク３の厚さは金属板の場合１２μｍ〜１０■、好ま
しくは２．５〜５腫とする。１２μｍ未満であるとマス
クの腰か弱すぎて取扱いが不便であり、また１０ａｍを
越えるほど厚くしても意味がない また光を照射する場合のマスク３としては、光を透過し
ないものであれば、どのようなものでも利用でき、電離
放射線の場合に使用する上記の材料が利用できる。

ここで、光又は！離放射線とは、分子を架橋、重合させ
るに足るエネルギー量子を有している光や、電磁波や荷
電粒子からなる電離放射線を言い種々のものがあるが、
工業的に利用できるのは可視光線、紫外線もしくは電子
線であり、このほかγ線等も利用できる。

光又は電離放射線７としては例えばコックロフトワルト
ン型、パンタグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型
、直線型、ダイナミミトロン型、高周波型等の各種電子
線加速機から放出される５０〜］、　ＯＯＯＫ　ｅ　Ｖ
、好ましくはｌＯＯ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有す
る電子線、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カ
ーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ
、レーザー等の光源から発する紫外線、白熱電球各種螢
光燈、Ｎｅ、Ｎａｇ気、Ｃｄ蒸気等を用いた放電管、Ｇ
ａＰ：Ｎ系、ＧａＡｌＡｓ系、ＧａＡｓＰ系等の発光ダ
イオード等の可視光源から発する可視光線、ＧａＰ系、
ＧａＡｌＡｓ系、ＩｎＣ；ａＡｓＰ系等の発光ダイオー
ドの赤外線光源から発する赤外線等が使用できる。

上記光源の中でもコヒーレンス性の良好な光源としては
、各種レーザー光がある０代表的なレーザーの種類と発
振波長を挙げると、波長固定のレーザーとして、ルビー
レーザーの０．６９４３μｍ、Ｈｅ−Ｎｅレーザーの０
．６３２８μｍＳ　ＩｎＣ，ａＡＩＡｓ系半導体レーザ
ーの０．６７８μｍ等（赤色光）、Ａｒイオンレーザ−
の０．５１４５μｍ。

Ｎｄ”　　：ＹＡＧレーザーの第２高調波の０．５３３
ａｍ等（緑色光）、Ａｒイオンレーザ−の０．４８８０
ｐｍ、Ｈｅ−Ｃｄレーザーの０．４４１６ａｍ等（青色
光）、Ｈｅ−Ｃｄレーザーの０．３２５０ｐｍ、Ｎｔレ
ーザーの０．３３１１ｔｔｍ等（紫外ｔｌＩ）、ｃｏｔ
レーザーの１０．６μｍ、Ｎｄ”　　：ＹＡＧレーザ−
、Ｎｄ”　　：ＧＧＣレーザの】、０６βｍ、ＩｎＧａ
ＡｓＰ系半導体レーザーの１．３μｍ等（赤外りがある
。

或いは、波長が連続可変なレーザーとして、各種色素レ
ーザー、例えば、ローダミンＢのエタノール溶液を用い
た０、６０１０〜０．６４２０　ａｍ、ローダミン６Ｇ
のエタノール溶液を用いた０５５７９０〜０．６０２０
μｍ、７ジメチルアミノー４メチル−クマリンのエタノ
ール溶液を用いた０、４４４０〜０．４８４０ｔｔｍの
波長可変範囲を持つ色素レーザーが有る。

転写箔５は従来公知の転写箔を用いることができる。

転写１５を形成する剥離性基材３は従来公知のこの種転
写箔に用いられる剥離性基材が用いられ、例えばプラス
チックのフィルム、シート、板状体や紙、木質板、ガラ
ス板、鋼板等が用いられ、プラスチックとしては例えば
ポリエステル、塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、エ
チレン酢酸ビニル共重合体が挙げられ、ポリエステル、
ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート等がより好ましい、
剥離性基材の厚みは１５〜１００μｍ程度のものが用い
られる。

光又は電離放射線を転写箔側から被転写体の接着剤層に
照射する場合は、転写箔の材料に光又は電離放射線を透
過するものを用いる必要がある。

転写層４は被転写体１に所望の意匠を付与するためのも
ので、意匠性を付与させることができる種類の層であれ
ばいずれでもよく、例えば絵柄層、金属薄膜層及び着色
層等が挙げられる。また転写層は、これらの各種の層の
単一の模様でもよく、これらの複数の模様でもよい。

絵柄層は絵柄模様を施したものであり、絵柄層の形成方
法は、例えばグラビア、グラビアオフセット等の凹版印
刷、活版、フレキソ等の凸版印刷、平版オフセント等の
平版印刷、シルクスクリーン等の孔版印刷、ダイリソ印
刷、静電印刷、インキジェットプリント等が挙げられ、
また上記以外の方法として、別体の剥離性基材上に一旦
絵柄模様を形成して転写箔を作成し、この転写箔を用い
た転写印刷法によってもうける方法も挙げられる。

金属薄膜層はアルミニウム、銅、クロム等の金属、これ
らの合金であって、真空蒸着、スパッタリング、イオン
ブレーティング等の方法で形成する。

転写層は、これらの各種の層の単一の模様でもよく、こ
れらの複数の模様でもよい。

着色層は、例えばアクリルもしくはメタクリルモノマー
の単独重合体もしくはこれらモノマーを含む共重合体、
スチレン系樹脂及びスチレン系共１合体１ＩＪＩ、セル
ロース誘導体、ロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、
クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、ブチラール樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、七ラック、アラ
ビアゴム、アルカロイド、マスチック等の１種もしくは
２種以上の樹脂に顔料などの着色剤を含有させたものを
用いてグラビアコート、グラビアリバースコート、グラ
ビアオフセットコート、スピンナーコート等の方法で形
成することができる。

転写層４の厚みは０．１〜３０μｍが通常用いられ、０
．１〜１５μｍが印刷適性、発色性がより向上すること
から好ましい。更に転写層４ば単一の全面ベタ層の意匠
のものが転写を繰り返す場合に転写位置を合わせる必要
がないために好ましい。

また特に図示しないが、転写箔５の転写層４と剥離性基
材３の剥離性を上げるために、剥離性基材上に剥離層を
設けることができる。

剥離層はアルキッド樹脂、ビニル系樹脂、フェノール系
樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポ
リエーテル樹脂、ブチラール樹脂、珪素！　脂、ニトロ
セルロース等のセルロースｍ８体の１種又は２種の混合
物等を用いて剥離性基材上に形成することが出来る。

本発明の転写方法は多色パターンの形成などに利用でき
、カラーフィルターの製造方法として好適である。

以下に本発明のカラーフィルターの製造方法を説明する
。

第２図にカラーフィルターの一例を示し、１５は赤色フ
ィルター部、１６は青色フィルター部、エフは緑色フィ
ルター部、ＩＢは黒色フィルター部、ａは３０ｐｍ、ｂ
は２７０μｍ、ｃは１３０μｍである。

上記カラーフィルターを製造するには、まず基材となる
被転写体ｌとして光透過性基材を用い、この上に前記し
たと同様の接着剤層２を設ける。

次に例えばまず、赤色のベタ転写層を形成した転写箔を
、転写層を接着剤層に積層して赤色フィルターパターン
に応じた孔を有するマスクを用いて光又は電離放射線を
照射し、接着剤層上に所定のパターンの赤色フィルター
部１５を転写形成する。

ついで、同様にして青色フィルター部１６、緑色フィル
ター部１７と順次転写することによりカラーフィルター
を得ることができる。

黒色フィルター部】８は転写によって形成することもで
きるが、予め転写以外の方法で形成することもできる。

例えば第３図に示すように、透明性の基材１９上に黒色
フィルター部１８を予めフォトリソグラフ等の方法で、
各カラーフィルター部（例えば赤色フィルター部１５）
の境界部に重複部２２を有するように形成することもで
きる。

重複部２２を設けることにより、例えば赤色フィルター
部を転写する際に、転写位置が多少ずれても重複部の範
囲のずれであれば、赤色フィルター部の大きさは常に一
定となり、安定したフィルター製造が行える。

光又は電離放射線の照射は具体的にはコンピュータ制御
して走査速度を変化させながらレーザー光線を照射する
方法が、より精度よく光の照射を行うことができる。

歯先又は電離放射線照射にあたっては、第１図に示すよ
うに、照射源から直接光又は電離放射線を照射せずに、
ミラーを用いて反射させて照射することもできる。また
光照射においては第１図に示すように透明性基材の側か
らに限定されず、転写箔の側から照射することもできる
。

また本発明のカラーフィルターの製造方法においては、
接着剤層と光又は電離放射線は、上記第１図で説明した
ものと全く同じものを用いることができる。

カラーフィルターの場合、転写箔の転写層は赤、青、緑
は光透過性、黒は隠蔽性で光を遮蔽するものを用いる。

これらの転写層は、光透過性がある赤、青、及び緑と隠
蔽性の黒のインキを用いて転写箔の基材上に印刷するこ
とで形成でき、このようなインキとしては従来公知のイ
ンキを用いることができる。

被転写体として用いる透過性基材は、光透過性のある通
常のカラーフィルターの基材として用いられているもの
が使用でき、例えばガラス、プラスチック板等が上げら
れる。カラーフィルターの基材としては表面をプライマ
ー処理したガラス板が好ましい。

プライマー処理は、ガラス表面への転写層の密着性を向
上させるために行うもので、１〜１００μｍ程度の樹脂
層をガラス表面に形成することで処理できる。プライマ
ー処理用樹脂としては、ポリイソシアネートとポリオー
ルから得られる２成分型ポリウレタン樹脂塗料等が用い
られる。またガラスの表面をシランカップリング剤等で
処理した後にプライマー処理して樹脂層を形成するとさ
らに転写層の接着性が向上して好ましい。

本発明方法では転写箔の転写層及び被転写体に設ける接
着剤層のビヒクルに昇華性樹脂を使用し、かつ転写層の
着色成分を焼成顔料とした転写箔を用い、転写層をガラ
ス板に転写した後に焼成して顔料とガラス板とを焼成し
て一体化する方法を採用することもできる。

上記の焼成顔料としては、例えばＦｅ、Ｃｒ、Ｚｎの酸
化物（褐色）、Ｚｎ、Ｃｏ、ＡＩの酸化物（青色）、Ｔ
ｉ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒの酸化物（緑色）、Ｔｉ、
Ｂａ、Ｎｉ、、ＰｂＳＳｂ。

Ｃｄの酸化物〔黄色）　、Ｃｄ、Ｓｅ、Ｓの酸化物（赤
色）、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｃｏの酸化物（黒色）
等が挙げられる。また焼成条件は、電気炉を利用した酸
化雰囲気中で、温度５００°Ｃで２分間程度焼成する。

転写層を焼成して顔料とガラス板を一体化するこの方法
によると、よりカラーフィルターの耐熱性、密着性等が
向上して耐久性がより向上する。

以下、具体的実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明す
る。

実施例１ 厚さ３■の透明なガラス板の表面をシランカップリング
剤で表面処理を行い、次いでシランカップリング剤とイ
ソシアネート（昭和インク製二ＭＤＩ系）からなるプラ
イマーをフローコートで２０ａｍの厚みにガラス表面に
塗布して硬化させプライマー層を形成した。プライマー
層を硬化乾燥後に光硬化性樹脂としてトリメチロールプ
ロパントリアクリレートに光重合開始側としてヘンシル
ジメチルケタール（チバガイギー■製ニイルガキュアー
６５１）を混合したものとアクリル系の感温性接着剤（
昭和インク製：　）Ｉｓ−３２）を混合したものをフロ
ーコートにて１０μｍの厚みで塗布して乾燥した。

上記の光硬化性樹脂層を形成したガラス基材上に透明性
を有する赤色のベタ転写層を有する転写箔を光硬化性樹
脂と転写層が接するように密着させた後、ガラス面側よ
り、ＹＡＧレーザ−（波長１．０６μｍ）の第３高調波
（波長３５５　ｎｍ）をコンピューターにより制御され
た２枚のミラーと遮蔽用シャッターを用いて第２図に示
す赤色フィルターパターンの形状に合わせてＸ−Ｙ方向
に走査し、転写箔を剥離するとレーザー照射部分にのろ
光硬化性樹脂と転写箔の転写層が接着して赤色フィルタ
ー部１５が形成された。転写箔を青、緑と変えて上記の
方法で青色フィルター部１６と緑色フィルター部１７を
形成した。

次に、隠蔽性の黒のベタ転写層を有する転写箔を用いて
上記の赤、緑及び青の各色のカラーフィルター部を形成
したガラス基材上に密着させ、ガラス面側からキセノン
ランプを用いて、紫外線を照射して光硬化性樹脂層上の
残りの部分全てに隠蔽性の黒色転写層を転写して黒色フ
ィルター部１８を形成してカラーフィルターを得た。

得られたカラーフィルターは、位置精度及び発色とも良
好であった。

〔発明の効果〕

本発明転写方法は、被転写体表面に光又は電離放射線の
照射によって接着する接着剤層を設け、該接着剤層に転
写層を有する転写箔を接着剤層と転写層が接するように
積層し、光又は１１Ｍ放射線をパターン状に照射して光
又は電離放射線を照射した部分において転写層を接着剤
層に接着し、被転写体にパターン状に転写層を転写する
方法を採用したことにより、所望のパターンを予め印刷
した転写層を設けた従来の転写箔を用いて被転写体に転
写する方法と比較して非常に精密な転写パターンでも容
易に被転写体に付与することができる。

従って、被転写体に多数の色から成る意匠などを再現性
良く付与することが可能となった。

更に本発明転写方法を用いてカラーフィルターを製造す
る本発明の製造方法によれば、従来の転写法や印刷法及
び染色法に比べてカラーフィルターを容易に生産性よく
製造することができ、しかもフィルター部を高い精度で
形成でき、光又は電離放射線の照射をコンピュータ制御
されたレーザー光線の走査によって行うと、光照射の精
度をより向上することができるために、カラーフィルタ
ーパターンをより精密に製造することができる。

また赤、青、緑の各カラーフィルターの非形成部に、こ
れらの各フィルター部形成前に赤、青、緑の各フィルタ
ー部の境界部分において、重なり合うように隠蔽性の黒
のフィルターパターンを転写以外の方法で形成すること
により、より黒色フィルター部の隠蔽性が良くなり、カ
ラーフィルター部の転写位置が多少ずれた場合でも一定
なカラーフィルター部を形成することができる。

光透過性の基材としてプライマー処理したガラス板を用
いることにより、フィルター形成部分の接着性がよくな
り、カラーフィルターの耐久性が向上する。

転写箔の転写層と被転写体に設ける接ｆＦｉ１１層のビ
ヒクルに昇華性樹脂を使用し、かつ転写層の着色成分に
焼成顔料を用い、転写層を透明性基材に転写した後に顔
料とガラス板を焼成して一体化することにより、転写層
がセラミックス化して有機物を全く含まなくなるために
、カラーフィルターの耐熱性がより向上し、カラーフィ
ルターの耐久性、経時後の色の安定性が向上する。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示し、第１図（ａ）、山）は
本発明方法の一工程を示す縦断面図、第２図はカラーフ
ィルターパターンの一例を示す平面図、第３図は黒のフ
ィルター部をカラーフィルター部と重なるように形成す
る場合の縦断面図を示す。 ・・被転写体 ・・接着剤層 ・・剥離性基材 ・・転写層 ・・転写箔 ６　・　・ ７　・　・ １（＋　　・　・ １１　・　・ １２　・　・ １３　・　・ １４　・　・ １５　・　・ １６　・　・ １７　・　・ １８　・　・ ２０　・　・ ２１　・　・ ２２　・　・ ・マスク ・光又は電離放射線 ・プライマー層 ・第１の転写層 ・第２の転写層 ・第３の転写層 ・第４の転写層 ・赤色フィルター部 ・緑色フィルター部 ・青色フィルター部 ・黒色フィルター部 ・黒色フィルター形成部 ・カラーフィルター部 ・重複部

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）被転写体表面に光又は電離放射線の照射によって
   接着する接着剤層を設け、該接着剤層に転写層を有する
   転写箔を接着剤層と転写層が接するように積層し、所望
   のパターン状に光又は電離放射線を照射して転写層の光
   又は電離放射線を照射された部分を接着剤層に接着させ
   た後転写箔を剥離して所望のパターンの転写層を転写す
   ることを特徴とする転写方法。
2. （２）透明性の基材表面に光又は電離放射線の照射によ
   って接着する接着剤層を設け、該接着剤層にカラー転写
   箔を転写層と接着剤層が接するように積層し、カラーフ
   ィルターのフィルターパターンに対応したパターンに光
   又は電離放射線を照射して該接着剤層に転写層を転写し
   て第１のカラーフィルター部を形成し、次いで異なるカ
   ラーの転写層と接着剤層を重ねて同様にしてカラーの異
   なる第２のカラーフィルター部を形成する工程を少なく
   とも赤、青、緑の３色について行うことを特徴とするカ
   ラーフィルターの製造方法。
3. （３）赤、青、緑のカラーフィルター部の非形成部に隠
   蔽性の黒のフィルター部を転写によって形成することを
   特徴とする請求項２記載のカラーフィルターの製造方法
   。
4. （４）赤、青、緑のカラーフィルター非形成部に、これ
   らの各フィルター部形成前に赤、青、緑の各フィルター
   の境界部分において重なり合うように隠蔽性の黒のフィ
   ルターパターンを転写以外の方法で形成した請求項２記
   載のカラーフィルターの製造方法。
5. （５）光又は電離放射線の照射を、コンピュータ制御さ
   れたレーザー光線の走査によって行ない、接着剤層と転
   写層を接着してカラーフィルターパターンを形成するこ
   とを特徴とする請求項２〜４記載のカラーフィルターの
   製造方法。
6. （６）光透過性の基材としてプライマー処理したガラス
   板を用いる請求項２〜５記載のカラーフィルターの製造
   方法。
7. （７）転写箔の転写層及び被転写体に設ける接着剤層の
   ビヒクルに昇華性樹脂を使用し、かつ転写層の着色成分
   に焼成顔料を用い、転写層を透明性基材に転写した後に
   顔料とガラス板を焼成して一体化する請求項２〜６記載
   のカラーフィルターの製造方法。