JPH04226945A - アシルオキシ基を有するヒドロキシ安息香酸誘導体の製造方法 - Google Patents

アシルオキシ基を有するヒドロキシ安息香酸誘導体の製造方法

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Publication number
JPH04226945A
JPH04226945A JP13605291A JP13605291A JPH04226945A JP H04226945 A JPH04226945 A JP H04226945A JP 13605291 A JP13605291 A JP 13605291A JP 13605291 A JP13605291 A JP 13605291A JP H04226945 A JPH04226945 A JP H04226945A
Authority
JP
Japan
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group
hydroxybenzoic acid
general formula
acid derivative
water
Prior art date
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Pending
Application number
JP13605291A
Other languages
English (en)
Inventor
Ken Iwakura
岩倉 謙
Yuichi Fukushige
裕一 福重
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、記録材料用電子受容性
化合物として有用な、新規なアシルオキシ基を有するヒ
ドロキシ安息香酸誘導体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】記録材料用重合性単量体として重合性基
を有するアシルオキシ基を有するヒドロキシ安息香酸誘
導体はこれまで検討されたことがなかった。本発明者ら
は、特定のアシルオキシ基を有するヒドロキシ安息香酸
誘導体が極めて優れた性能を有することを見出した。し
かしながら、このようなアシルオキシ基を有するヒドロ
キシ安息香酸の誘導体の工業的に製造の可能な製造方法
は知られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、記録
材料用重合性単量体として有用な、アシルオキシ基を有
するヒドロキシ安息香酸誘導体の簡便でしかも精製の容
易な製造方法を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式(
I)で表されるジアシルオキシ安息香酸誘導体を、塩基
性化合物の存在下に加水分解させることを特徴とする下
記一般式(II)で表されるアシルオキシ基を有する4
−ヒドロキシ安息香酸誘導体の製造方法から構成される
。一般式(I)
【0005】
【化3】
【0006】〔上記一般式(I)中、Rはアシル基を、
Yはアルキル基またはアラルキル基を、Zは水素原子、
アルキル基またはハロゲン原子を表す。〕一般式(II
【0007】
【化4】
【0008】〔上記一般式(II)中、R、Y、Zで表
される基は、一般式(I)と同一のものを表す。〕
【0
009】上記一般式(I)中、Rで表されるアシル基は
、炭素原子数2〜12の飽和または不飽和のアルキルカ
ルボニル基、置換基をしてアリール基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子を有する炭素原子数2〜18のアルキ
ルカルボニル基およびアリールカルボニル基が好ましく
、Yで表されるアルキル基は炭素原子数1〜12の直鎖
または分岐のアルキル基および、置換基としてアリール
オキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキ
シ基を有する炭素原子数5〜20のアルキル基が好まし
く、またアラルキル基はアルコキシ基、ハロゲン原子、
ビニル基で置換されていてもよいアラルキル基が好まし
い。
【0010】一般式(I)中Yで表される基の具体例と
しては、メチル基、エチル基、ブチオ基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、フェノキシエチル
基、2−フェノキシプロピル基、3−フェノキシプロピ
ル基、2−メタクリロイルオキシエチル基、3−アクリ
ロイルオキシプロピル基、3−メタクリロイルオキシプ
ロピル基、2−アクリロイルオキシプロピル基、2−メ
タクリロイルオキシプロピル基、4−メタクリロイルオ
キシブチル基、6−アクリロイルオキシヘキシル基、6
−メタクリロイルオキシヘキシル基、5−アクリロイル
オキシペンチル基、5−メタクリロイルオキシペンチル
基、8−メタクリロイルオキシオクチル基、10−メタ
クリロイルオキシデシル基、4−(メタクリロイルオキ
シメチル)ベンジル基、2−(メタクリロイルオキシエ
トキシ)エチル基、2,3−ジメタクリロイルオキシプ
ロピル基、ベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基等があげら
れる。
【0011】本発明に係わる製造方法は、有機溶媒を使
用することが好ましく、溶媒としては、エーテル、カル
ボニル、スルホニル、シアノ、アミド、水酸基等の親水
性基を有する溶媒が好ましい。例えば、水、メタノール
、エタノール、プロパノール、メチルエチルケトン、ア
トニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリ
ドン、ヘキサメチルホスホンアミド、スルホラン、シク
ロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、酢酸エチル等が好ましく、特に水溶性
の溶媒を、水と併用することが好ましい。
【0012】本発明の製造方法に使用する塩基性化合物
は、有機または無機の塩基性化合物をいうが、無機の塩
基性化合物が好ましい。例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられるが、特
に炭酸塩および炭酸水素塩が好ましい。
【0013】本発明に係わる製造方法を実施する際の反
応温度は、0°C〜100°Cが好ましく、特に5°C
〜60°Cが好ましい。
【0014】
【実施例】以下に実施例を示すが、本発明はこれに限定
されるものではない。実施例において特に指定のない限
り、重量%を表す。 実施例−1 2、4−ジアセトキシ安息香酸メチルエステル20gの
エタノール100ml溶液に、炭酸水素ナトリウム10
gと水50mlの混合物を加え、反応温度40°Cで3
時間、攪拌しながら反応させた。反応混合物を水にあけ
、析出した結晶を濾取し、2−アセトキシ−4−ヒドロ
キシ安息香酸メチルエステル(融点84〜86°C)を
得た。
【0015】実施例−2 2、4−ジメタクリロイルオキシ安息香酸メチルエステ
ル20gのエタノール100ml溶液に、炭酸水素ナト
リウム10gと水50mlの混合物を加え、反応温度4
0°Cで3時間、攪拌しながら反応させた。反応混合物
を水にあけ、析出した結晶を濾取し、2−メタクリロイ
ルオキシ−4−ヒドロキシ安息香酸メチルエステル(融
点90〜92°C)を得た。
【0016】実施例−3 2、4−ジメタクリロイルオキシ安息香酸−m−ビニル
ベンジルエステルと2、4−ジメタクリロイルオキシ安
息香酸−p−ビニルベンジルエステルの混合物20gの
アセトニトリル100ml溶液に、炭酸水素ナトリウム
10gと水50mlの混合物を加え、反応温度45°C
で3時間、攪拌しながら反応させた。反応混合物を水に
あけ、析出した結晶を濾取し、2−メタクリロイルオキ
シ−4−ヒドロキシ安息香酸−m−ビニルベンジルエス
テルと2−メタクリロイルオキシ−4−ヒドロキシ安息
香酸−p−ビニルベンジルエステルの混合物23gを得
た(融点70〜75°C)を得た。
【0017】実施例−4 2、4−ジメタクリロイルオキシ安息香酸−(2−メタ
クリロイルオキシエチル)エステル20gのエタノール
100ml溶液に、炭酸水素ナトリウム10gと水50
mlの混合物を加え、反応温度40°Cで3時間、攪拌
しながら反応させた。反応混合物を水にあけ、析出した
オイルを酢酸エチルで抽出した後、酢酸エチルを留去し
て、2−メタクリロイルオキシ−4−ヒドロキシ安息香
酸−(2−メタクリロイルオキシエチル)エステルエス
テル(油状物)を得た。
【0018】実施例−5〜16 同様にして以下の化合物を得た。2−アセトキシ−4−
ヒドロキシ安息香酸ベンジルエステル(融点115〜6
°C)、2−アセトキシ−4−ヒドロキシ安息香酸(2
−フェノキシエチル)エステル(融点116〜8°C)
、2−プロピオニルオキシ−4−ヒドロキシ安息香酸ベ
ンジルエステル(融点99〜100°C)、2−フェノ
キシアセトキシ−4−ヒドロキシ安息香酸ベンジルエス
テル(融点153〜7°C)、2−フェニルアセトキシ
−4−ヒドロキシ安息香酸ベンジルエステル(融点11
0〜1°C)、2−メタクリロイルオキシ−4−ヒドロ
キシ安息香酸ベンジルエステル(融点109〜110°
C)、2−アクリロイルオキシ−4−ヒドロキシ安息香
酸ベンジルエステル(融点97〜8°C)、2−メタク
リロイルオキシ−4−ヒドロキシ安息香酸(3−メタク
リロイルオキシプロピル)エステル(油状物)、2−ア
クリロイルオキシ−4−ヒドロキシ安息香酸(3−メタ
クリロイルオキシプロピル)エステル(油状物)、2−
アクリロイルオキシ−4−ヒドロキシ安息香酸(2−メ
タクリロイルオキシエチル)エステル(油状物)、2−
ベンゾイルオキシ−4−ヒドロキシ安息香酸ベンジルエ
ステル(融点145〜6°C)、2−アセトキシ−4−
ヒドロキシ安息香酸(2−メタクリロイルオキシエチル
)エステル(融点115〜6°C)。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  下記一般式(I)で表されるジアシル
    オキシ安息香酸誘導体を、塩基性化合物の存在下に加水
    分解させることを特徴とする下記一般式(II)で表さ
    れるアシルオキシ基を有する4−ヒドロキシ安息香酸誘
    導体の製造方法。一般式(I) 【化1】 〔上記一般式(I)中、Rはアシル基を、Yはアルキル
    基またはアラルキル基を、Zは水素原子、アルキル基ま
    たはハロゲン原子を表す。〕一般式(II)【化2】 〔上記一般式(II)中、R、Y、Zで表される基は、
    一般式(I)と同一のものを表す。〕
JP13605291A 1990-06-08 1991-06-07 アシルオキシ基を有するヒドロキシ安息香酸誘導体の製造方法 Pending JPH04226945A (ja)

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JP13605291A JPH04226945A (ja) 1990-06-08 1991-06-07 アシルオキシ基を有するヒドロキシ安息香酸誘導体の製造方法

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JP15032090 1990-06-08
JP2-150320 1990-06-08
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0732322A1 (en) * 1995-03-17 1996-09-18 Ube Industries, Ltd. Acetylsalicylic acid derivatives having a vinyl group
US5693320A (en) * 1996-03-17 1997-12-02 Ube Industries, Ltd. (Meth)acryloyloxy substituted acetylsalicylates and polymers thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0732322A1 (en) * 1995-03-17 1996-09-18 Ube Industries, Ltd. Acetylsalicylic acid derivatives having a vinyl group
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