JPH04228280A - パルス状レーザー放射によりワークピースの加工を監視する方法および装置 - Google Patents
パルス状レーザー放射によりワークピースの加工を監視する方法および装置Info
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- JPH04228280A JPH04228280A JP3122630A JP12263091A JPH04228280A JP H04228280 A JPH04228280 A JP H04228280A JP 3122630 A JP3122630 A JP 3122630A JP 12263091 A JP12263091 A JP 12263091A JP H04228280 A JPH04228280 A JP H04228280A
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/03—Observing, e.g. monitoring, the workpiece
- B23K26/032—Observing, e.g. monitoring, the workpiece using optical means
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の技術分野】特に自動化された製造方法におい
ては、ワークピースの加工に際して、放射パラメーター
が一定であり常時同一の加工をワークピースに行うこと
が可能となるために、レーザーが飛躍的に採用されてい
る。非常に多数のワークピース処理作業においては、エ
キシマーレーザーが用いられており、このエキシマーレ
ーザーは紫外線領域においてパルス状のレーザー放射を
出す。
ては、ワークピースの加工に際して、放射パラメーター
が一定であり常時同一の加工をワークピースに行うこと
が可能となるために、レーザーが飛躍的に採用されてい
る。非常に多数のワークピース処理作業においては、エ
キシマーレーザーが用いられており、このエキシマーレ
ーザーは紫外線領域においてパルス状のレーザー放射を
出す。
【0002】
【従来の技術】此処に於いてはワークピースは比較的高
速度(例えば毎秒1メートル)で移動され、レーザー放
射のパルス繰り返し数は比較的高く(毎秒数百放射パル
スにまで達する)なっている。
速度(例えば毎秒1メートル)で移動され、レーザー放
射のパルス繰り返し数は比較的高く(毎秒数百放射パル
スにまで達する)なっている。
【0003】このような高速な材料加工作業においては
加工位置を監視することが重要である、すなわち、レー
ザー放射と処理されたワークピースとの相互作用位置は
所定の許容値内に存在していなければならず、従って、
オンラインで品質管理ができるように監視されねばなら
ない。
加工位置を監視することが重要である、すなわち、レー
ザー放射と処理されたワークピースとの相互作用位置は
所定の許容値内に存在していなければならず、従って、
オンラインで品質管理ができるように監視されねばなら
ない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、レーザー放
射とワークピースとの相互作用を直接に測定することが
できるようにしたパルス状レーザー放射によりワークピ
ースの加工を監視する装置および方法を提供するという
課題に基くものである。
射とワークピースとの相互作用を直接に測定することが
できるようにしたパルス状レーザー放射によりワークピ
ースの加工を監視する装置および方法を提供するという
課題に基くものである。
【0005】
【課題を達成するための手段】この課題を達成するため
に、本発明に基く装置およびそれに対応する方法は、本
明細書の特許請求の範囲に記載された改良を特徴として
いる。
に、本発明に基く装置およびそれに対応する方法は、本
明細書の特許請求の範囲に記載された改良を特徴として
いる。
【0006】
【実施例】以下、添付図面を参照して本発明の実施例の
数例を詳細に説明する。図面において、図1はパルス状
レーザー放射によるワークピースの加工を監視する装置
の実施例の第一例を示し、図2は同様な装置の実施例の
第二例を示す。これらの図面においては、同様な部品に
は同一の引用符号を付している。
数例を詳細に説明する。図面において、図1はパルス状
レーザー放射によるワークピースの加工を監視する装置
の実施例の第一例を示し、図2は同様な装置の実施例の
第二例を示す。これらの図面においては、同様な部品に
は同一の引用符号を付している。
【0007】ワークピースWは紫外線レーザー放射Lに
より加工されるべきものである。例えば、微小材料の加
工が実施される。レーザー放射Lはエキシマーレーザー
(図示せず)から発射され高周波のレーザーパルスから
なっている。ワークピースの種々の点において作業を行
うようにワークピースはレーザー放射Lに対して移動さ
れる。レーザー放射は焦点が合わせられている(図面に
は図示せず)。
より加工されるべきものである。例えば、微小材料の加
工が実施される。レーザー放射Lはエキシマーレーザー
(図示せず)から発射され高周波のレーザーパルスから
なっている。ワークピースの種々の点において作業を行
うようにワークピースはレーザー放射Lに対して移動さ
れる。レーザー放射は焦点が合わせられている(図面に
は図示せず)。
【0008】図示した両実施例において、ワークピース
Wの加工された領域は可視光Bにより周期的に照らされ
ている。光Bによる照明はフラッシュランプ ストロ
ボスコープ装置により行われる。
Wの加工された領域は可視光Bにより周期的に照らされ
ている。光Bによる照明はフラッシュランプ ストロ
ボスコープ装置により行われる。
【0009】ストロボスコープランプは、図示した実施
例においては、レーザーパルスの開始を更に制御してい
る同期パルスにより外部からトリガーされる。従って、
レーザー放射Lにより加工されたワークピースWの領域
の照明はパルスレーザーと同期して行われる。加工され
たワークピースWの材料がレーザー放射Lにより加工中
または後に電磁スペクトルの可視領域においてルミナス
効果を奏し、その上、この効果は瞬間的なストロボスコ
ープの照明により光学的に知覚され、そして、ワークピ
ースが移動するときに加工位置はワークピースの他の部
分、例えば印付けに関連して検出される。周期的なスト
ロボスコープ照明のパルス幅はワークピースWの移動速
度に関連する所望の分解能に依存している。例えば、1
m/sのワークピースの移動速度に対してストロボスコ
ープ照明のパルス幅を10マイクロセカンド未満の短い
値とすると、比較的シャープな像が作られ、この場合の
周辺のかすみは僅かに0.01mmである。
例においては、レーザーパルスの開始を更に制御してい
る同期パルスにより外部からトリガーされる。従って、
レーザー放射Lにより加工されたワークピースWの領域
の照明はパルスレーザーと同期して行われる。加工され
たワークピースWの材料がレーザー放射Lにより加工中
または後に電磁スペクトルの可視領域においてルミナス
効果を奏し、その上、この効果は瞬間的なストロボスコ
ープの照明により光学的に知覚され、そして、ワークピ
ースが移動するときに加工位置はワークピースの他の部
分、例えば印付けに関連して検出される。周期的なスト
ロボスコープ照明のパルス幅はワークピースWの移動速
度に関連する所望の分解能に依存している。例えば、1
m/sのワークピースの移動速度に対してストロボスコ
ープ照明のパルス幅を10マイクロセカンド未満の短い
値とすると、比較的シャープな像が作られ、この場合の
周辺のかすみは僅かに0.01mmである。
【0010】ワークピースWの加工された領域を照らす
ために用いられる光Bはスペクトルの可視領域に存在し
ている。本発明によれば、ワークピースWの加工された
領域で反射されまたは同領域から発射されたスペクトル
の可視領域にある光StrはビデオカメラVKにより捕
えられ、ワークピースの表面における瞬間的な加工作業
を現す像が得られる。
ために用いられる光Bはスペクトルの可視領域に存在し
ている。本発明によれば、ワークピースWの加工された
領域で反射されまたは同領域から発射されたスペクトル
の可視領域にある光StrはビデオカメラVKにより捕
えられ、ワークピースの表面における瞬間的な加工作業
を現す像が得られる。
【0011】図1および図2に図示した2つの実施例に
おいては、監視装置は、それぞれストロボスコープ照明
(光B)、ミラー装置およびビデオカメラからなってい
る。
おいては、監視装置は、それぞれストロボスコープ照明
(光B)、ミラー装置およびビデオカメラからなってい
る。
【0012】図1に示した実施例においてはパルス状の
レーザー放射Lが誘電的に被覆されたミラーSにより変
向されてこの光がワークピースWに入射するようになっ
ている。ミラーSは可視光に対して高度に透過性がある
。図1においては可視光は引用符号Strで示されてい
る。可視光はワークピースWの加工された領域からミラ
ーSを通過し直接にビデオカメラVKに達する。誘電的
に被覆されたミラーSを採用したこの構成は、ミラー層
において吸収されるレーザー放射が比較的少なく、ミラ
ーの寿命が長いという利点がある。
レーザー放射Lが誘電的に被覆されたミラーSにより変
向されてこの光がワークピースWに入射するようになっ
ている。ミラーSは可視光に対して高度に透過性がある
。図1においては可視光は引用符号Strで示されてい
る。可視光はワークピースWの加工された領域からミラ
ーSを通過し直接にビデオカメラVKに達する。誘電的
に被覆されたミラーSを採用したこの構成は、ミラー層
において吸収されるレーザー放射が比較的少なく、ミラ
ーの寿命が長いという利点がある。
【0013】図2に示す実施例においては、ミラーS1
が用いられており、このミラーS1はレーザー光(何れ
の実施例においても紫外線領域のエキシマーレーザー光
)を減衰させることなく通過させるが、可視光Strを
変向させる。可視光StrがミラーS1で反射する際の
左右反転をなくすために、別なミラーS2がワークピー
スWとビデオカメラVKとの間の可視光Strの光路中
に配置されている。
が用いられており、このミラーS1はレーザー光(何れ
の実施例においても紫外線領域のエキシマーレーザー光
)を減衰させることなく通過させるが、可視光Strを
変向させる。可視光StrがミラーS1で反射する際の
左右反転をなくすために、別なミラーS2がワークピー
スWとビデオカメラVKとの間の可視光Strの光路中
に配置されている。
【0014】もし可視光Bを発生しているストロボスコ
ープランプの負荷を減少したいと望む場合には、ストロ
ボスコープランプのトリガーを電子計数回路によりレー
ザー放射に対して同期させ、すなわち、このようにして
照明光Bを例えば4つ毎のレーザーパルスにのみ同期さ
せその間のストロボスコープを使わないでおき、特にフ
ラッシュランプを用いるときにその寿命を延ばしかつ各
ランプパルス当たりの光量を増加させることが可能であ
る。
ープランプの負荷を減少したいと望む場合には、ストロ
ボスコープランプのトリガーを電子計数回路によりレー
ザー放射に対して同期させ、すなわち、このようにして
照明光Bを例えば4つ毎のレーザーパルスにのみ同期さ
せその間のストロボスコープを使わないでおき、特にフ
ラッシュランプを用いるときにその寿命を延ばしかつ各
ランプパルス当たりの光量を増加させることが可能であ
る。
【0015】
【発明の効果】本発明により、レーザー放射とワークピ
ースとの相互作用を直接に測定することができる、パル
ス状レーザー放射によりワークピースの加工を監視する
装置および方法が提供される。
ースとの相互作用を直接に測定することができる、パル
ス状レーザー放射によりワークピースの加工を監視する
装置および方法が提供される。
【図1】パルス状レーザー放射によるワークピースの加
工を監視する装置の実施例の第一例の概略正面図
工を監視する装置の実施例の第一例の概略正面図
【図2
】図1と同様な装置の実施例の第二例の概略正面図
】図1と同様な装置の実施例の第二例の概略正面図
W ワークピース
L レーザー放射
S ミラー
Str 可視光
S1 ミラー
VK ビデオカメラ
S2 ミラー
Claims (4)
- 【請求項1】 少なくとも一群のレーザーパルスと同
期してワークピース(W)の加工された領域を周期的に
照らす手段、可視光(Str)を透過させると共にレー
ザー放射(L)を反射させてワークピース(W)に向け
るミラー(S)またはレーザー放射(L)を透過させる
と共に可視光(Str)を反射させるミラー(S1)、
および前記可視光(Str)により造られた像を記録す
るカメラ(VK)からなることを特徴とするパルス状レ
ーザー放射によりワークピースの加工を監視する装置。 - 【請求項2】 前記パルス状のレーザー放射(L)が
紫外線であることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 レーザー放射(L)を透過させると共
に可視光(Str)を反射させるミラー(S1)を使用
する際にワークピース(W)とカメラ(VK)との間の
可視光(Str)の径路に別のミラー(S2)が配置さ
れていることを特徴とする請求項1または2に記載の装
置。 - 【請求項4】 ワークピース(W)の加工された領域
を少なくとも一群のレーザーパルスと同期して可視光に
より周期的に照らし;可視光(Str)の透過ミラー(
S)によりレーザー放射をワークピース(W)に変向さ
せ、レーザー放射(L)を可視光(Str)の反射ミラ
ー(S1)によりワークピース(W)に向けて;ワーク
ピース(W)の加工領域をミラー(S)を経て可視光(
Str)に感応するカメラ(VK)によりフィルムに写
すことを特徴とするパルス状レーザー放射によりワーク
ピースの加工を監視する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4013195.5 | 1990-04-25 | ||
| DE4013195A DE4013195A1 (de) | 1990-04-25 | 1990-04-25 | Vorrichtung und verfahren zum ueberwachen der bearbeitung eines werkstueckes mit gepulster laserstrahlung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04228280A true JPH04228280A (ja) | 1992-08-18 |
Family
ID=6405062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3122630A Pending JPH04228280A (ja) | 1990-04-25 | 1991-04-25 | パルス状レーザー放射によりワークピースの加工を監視する方法および装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5173584A (ja) |
| JP (1) | JPH04228280A (ja) |
| DE (1) | DE4013195A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160065766A (ko) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 장치 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5601735A (en) * | 1992-04-13 | 1997-02-11 | Hitachi, Ltd. | Long-sized tubular grounding container unit for gas-insulated electrical device and laser welding device for manufacturing the same |
| US5718832A (en) * | 1993-10-15 | 1998-02-17 | Fanuc Ltd. | Laser beam machine to detect presence or absence of a work piece |
| US5763853A (en) * | 1994-04-20 | 1998-06-09 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Laser processing apparatus, laser processing method and dam bar processing method |
| JP3179963B2 (ja) * | 1994-04-26 | 2001-06-25 | 松下電器産業株式会社 | レーザ加工装置とレーザ加工方法 |
| US5562842A (en) * | 1994-10-17 | 1996-10-08 | Panasonic Technologies, Inc. | Material treatment apparatus combining a laser diode and an illumination light with a video imaging system |
| US5932119A (en) * | 1996-01-05 | 1999-08-03 | Lazare Kaplan International, Inc. | Laser marking system |
| KR100400441B1 (ko) * | 2000-10-18 | 2003-10-01 | 엘지전자 주식회사 | 자외선 레이저 빔에 대한 유리의 마킹 장치 및 그 방법 |
| KR20020064548A (ko) * | 2001-02-02 | 2002-08-09 | 엘지전자주식회사 | 레이저빔을 이용한 대형유리의 마킹방법 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6240986A (ja) * | 1985-08-20 | 1987-02-21 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | レ−ザ−加工方法 |
| EP0268301B1 (en) * | 1986-11-20 | 1993-09-15 | Nec Corporation | Method and apparatus for writing a line on a patterned substrate |
| KR960005213B1 (ko) * | 1986-12-01 | 1996-04-23 | 가부시끼가이샤 고마쯔 세이사꾸쇼 | 레이저 비임에 의한 가공방법 및 장치 |
| US4733047A (en) * | 1987-02-20 | 1988-03-22 | American Telephone And Telegraph Company | Spot welding technique |
| US4918284A (en) * | 1988-10-14 | 1990-04-17 | Teradyne Laser Systems, Inc. | Calibrating laser trimming apparatus |
| US5017755A (en) * | 1988-10-26 | 1991-05-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of repairing liquid crystal display and apparatus using the method |
-
1990
- 1990-04-25 DE DE4013195A patent/DE4013195A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-04-19 US US07/688,735 patent/US5173584A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-25 JP JP3122630A patent/JPH04228280A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160065766A (ko) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4013195A1 (de) | 1991-10-31 |
| US5173584A (en) | 1992-12-22 |
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