JPH0422835Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、レーザー光を利用して液状もしくは
スラリー状の物質に光化学反応を行なうバツチ式
薄形レーザー光反応器に関するものである。

従来の技術 従来のレーザー光反応器は、たとえば、第５図
に示すような構成からなつている。第５図におい
て、２１はレーザー光反応器本体、２２は被反応
物、２３は撹拌機、２４は循環ポンプ、２５はレ
ーザー光である。すなわち、レーザー光反応器本
体２１に被反応物２２を貯留した状態でレーザー
光２５を照射させるが、レーザー光反応器本体２
１には、該反応器本体２１の内部で均一な反応を
進めるために、撹拌装置２３または循環ポンプ２
４を含む循環装置を設けている。

考案が解決しようとする問題点 前述のように、従来のレーザー光反応器におい
ては、撹拌装置２３や循環ポンプ２４を含む循環
装置を必要とするため、設備費および運転費がと
もに嵩むという問題点があり、またレーザー光吸
収率が高い被反応物２２の場合は、レーザー光２
５が短かい距離で吸収されてしまい、したがつ
て、光照射部分が局部的となり、撹拌装置２３や
循環ポンプ２４を運転させても、レーザー光２５
の循射されない部分が多くなり、反応率が悪いと
いう問題点がある。本考案は、このような問題点
を解決することを目的とするものである。

問題点を解決するための手段 レーザー光の進行方向を薄くした反応器本体
に、被反応物を収容し、バツチ式に行なうように
した。すなわち、本考案の構成は、レーザー光照
射前の被反応物を貯留する原料貯留槽と、この原
料貯留槽からの被反応物を一定量ずつバツチ式に
収容してレーザー光の循環を受けるレーザー光反
応器本体と、このレーザー光反応器本体からのレ
ーザー光照射後の反応物を回収貯留する生成物貯
留槽とを備え、かつ、前記レーザー光反応器本体
は、レーザー光の進行方向に薄くした板状に形成
されているものからなることを特徴としている。

作 用 レーザー光反応器本体は、レーザー光の進行方
向を薄くした板状に形成されたものからなり、こ
のレーザー光反応器本体に被反応物を収容し、バ
ツチ式に行なうので、被反応物が光吸収率の大き
い物質の場合でも、局部的な照射となることがな
く、したがつて、撹拌機や循環装置を必要としな
い。

実施例 第１図と第２図は本考案の第１実施例を示し、
第３図と第４図は本考案の第２実施例を示してい
る。

第１図と第２図において、１は原料貯留槽、２
は該原料貯留槽１に貯留されたレーザー光照射前
の液状またはスラリー状の被反応物、３は該原料
貯留槽１の下位に設けられて被反応物２を一定量
ずつバツチ式に収容するレーザー光反応器本体、
４はレーザー光の光源、５は該光源４からレーザ
ー光反応器本体３に照射しているレーザー光、６
は該レーザー光反応器本体３の下位に設けられて
レーザー光照射後の反応物を回収貯留する生成物
貯留槽、７は該生成物貯留槽６に貯留された反応
物、８は該原料貯留槽１の下部に設けられた出口
部、９は上部バルブ、１０は上部フランジ、１１
は下部バルブ、１２は下部フランジ、１３は回転
軸、１４は上部軸受、１５は下部軸受、１６はベ
ルトプーリ、１７はベルトである。

すなわち、この実施例では、レーザー光反応器
本体３は、石英ガラスやその他の透光率の大きい
材質のもので作られており、第２図にみられるよ
うに、中心角で90°ずつずらして４枚設けてあり、
またそのレーザー光５の進行方向の厚さｔは薄く
してあり、そして、第１図にみられるように、そ
の照射される面積、つまり、幅ｂと高さｈの積を
比較的大きくしてある。またレーザー光反応器本
体３は、ベルト１７とベルトプーリ１６から回転
軸１３を介して、一定時間に90°ずつ回転するよ
うになつている。

第１図および第２図に示すように構成されたバ
ツチ式薄形レーザー光反応器においては、まず、
レーザー光照射前の液状またはスラリー状の被反
応物２を原料貯留槽１に貯留し、下部バルブ１１
を閉にするとともに、上部バルブ９を開にして出
口部８から被反応物２をレーザー光反応器本体３
へ一定量だけ供給する。つぎに上部バルブ９を閉
にして、第２図にみられるように、光源４からレ
ーザー光５を１対の２枚のレーザー光反応器本体
３に照射する。すると、その被反応物はレーザー
光５によつて光化学反応が進み、そして、回転軸
１３を90°回転させることにより、他の１対の２
枚のレーザー光反応器本体３にレーザー光５が照
射され、同様に光化学反応が進む。このようにし
て、その反応が終了したのち、下部バルブ１１を
開にしてレーザー光照射後の反応物をレーザー光
反応器本体３から生成物貯留槽６へ回収貯留す
る。以下、これをバツチ式で繰り返えす。

第３図と第４図に示す第２実施例は、装置を単
純化したもので、前記第１実施例のような回転軸
１３がなく、またレーザー光反応器本体３は１枚
だけなので、光源４も１か所だけに設けられてい
る。したがつて、その作用は、前記第１実施例と
比較して、レーザー光反応器本体３が回転しない
という点で異なるが、その他は、ほぼ同様である
ので、その詳細説明を省略する。

このように、レーザー光反応器本体３は、レー
ザー光５の進行方向には薄くなつているため、光
吸収率の大きい被反応物に対しても、全体に照射
することが可能となつて反応率が高まる。なおレ
ーザー光反応器本体３のレーザー光５の照射され
る面積を大きくしておけば、比較的大量の被反応
物２を処理することが可能となる。

考案の効果 本考案においては、レーザー光反応器本体は、
レーザー光の進行方向に薄くした板状に形成され
ているものからなるので、光吸収率の大きい被反
応物に対しても、局部的照射が避けられて全体に
照射することが可能となり、したがつて、被反応
物を高反応率で反応させることができるので、従
来のような撹拌機や循環装置を設ける必要がなく
なつて、設備費と運転費の低減を図ることが可能
となる。また前記レーザー光反応器本体は、上位
に設けられた原料貯留槽と下位に設けられた生成
物貯留槽の間にあるため、１バツチ終了後、次バ
ツチ開始までの時間が短くできるので、ほぼ連続
し反応を行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の第１実施例を示した一部切欠
正面図、第２図は第１図の切断線Ａ−Ａに沿う一
部切欠断面平面図、第３図は同じく第２実施例を
示した一部切欠正面図、第４図は第３図の一部切
欠平面図、第５図は従来の技術の説明図である。 １……原料貯留槽、２……被反応物、３……レ
ーザー光反応器本体、４……光源、５……レーザ
ー光、６……生成物貯留槽、７……反応物、８…
…出口部、９……上部バルブ、１０……上部フラ
ンジ、１１……下部バルブ、１２……下部フラン
ジ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. レーザー光照射前の被反応物を貯留する原料貯
   留槽と、この原料貯留槽より下位に設けられて該
   原料貯留槽の下部の出口部からの被反応物を一定
   量ずつバツチ式に収容してレーザー光の照射を受
   けるレーザー光反応器本体と、このレーザー光反
   応器本体より下位に設けられて該レーザー光反応
   器本体からのレーザー光照射後の反応物を回収貯
   留する生成物貯留槽とを備え、かつ、前記レーザ
   ー光反応器本体は、レーザー光の進行方向に薄く
   した板状に形成されているものからなることを特
   徴とする、バツチ式薄形レーザー光反応器。