JPH04233707A - 磁石組立体 - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
シールド形超伝導磁石組立体に関する。
内側コイル装置と外側コイル装置とが逆方向の磁界を発
生させるために直列に接続され、それにより強い均一磁
界がコイル装置の中心部で発生するが、コイル装置の外
側に広がる漂遊磁界は非常に小さい。
171 号明細書に記載され、その内容は本明細書に参
照引用されている。欧州特許第0144171 号明細
書に記載の磁石組立体では、逆向きの磁界を発生させる
コイル装置が超伝導線により巻かれている。超伝導コイ
ル装置はコイル装置の中心部に発生する磁界の強さ及び
高精度を達成するために用いられる。これらの磁石組立
体の主な用途は核磁気共鳴イメージング装置であり、こ
こではこれらの特性が極めて重要である。コイルの超伝
導状態は極低温技術を用いて4.2Kの程度の極低温ま
でコイルを冷却することにより達成される。超伝導状態
では導線中の無視できるエネルギー損失により導線が非
常に大きい電流を流すことができる。
状態へ移行するおそれがあり、この移行は一般にクエン
チと呼ばれる。クエンチは局部的妨害又は構造的欠陥に
基づき意図に反して起こるか、又は磁界を急速に低減す
る方法として(例えば局部電気ヒータにより)意図的に
引き起こすことができる。このことは例えば磁石組立体
中で核磁気共鳴断層撮影を受けている患者に緊急の処置
を行うことが必要である場合に要求される。クエンチが
起こるときコイルのクエンチした部分で抵抗の急増が生
じ、この抵抗はコイル装置中に蓄えられたエネルギーを
熱へ変換させる。この熱はコイルの隣接部分へ伝達され
、これらの部分をクエンチさせる。コイルのますます大
きい部分がクエンチするので熱エネルギーに関連して温
度が上昇し、コイルの抵抗を更に増加させ、蓄えられた
すべての磁気エネルギーが熱へ変換されるまでクエンチ
過程を加速する。このことは非常に速やかに一般的に1
0〜20秒間に起こり得る。
電流を減衰させる。コイル中の電流が減衰するので、コ
イルにより与えられる磁界が急速に変化する。公知の磁
石組立体では、磁石は一般にアルミニウムから成る巻枠
上に巻かれ、コイルはクライオスタットハウジング中に
懸垂された放射シールドケーシング内に収容されている
。ケーシング及びハウジングはアルミニウムのような高
い熱伝導率を有する材料から形成され、結果として高い
導電率を有する傾向がある。変動する磁界は磁石組立体
内の導電性構成部分及びクライオスタット構造体と結合
する。特に変動磁界はコイルが巻かれている巻枠及びク
ライオスタット内の放射シールドケーシングと強く結合
する。この磁気結合は重大な磁界を発生させるのに十分
大きい電流をこれらの構成部分中に誘導する。
載のように、能動シールド形磁石組立体のコイルは組立
体の中心に均一な磁界を発生させるばかりでなく、組立
体のできるだけ近くにできるだけ低い外部磁界を発生さ
せるように設計されている。外部磁界は以下で「漂遊磁
界」と呼ばれ、一般に磁石組立体による磁界が外側では
どこでも規定のレベルを超えない楕円体形又は円筒形体
積によって記述される。この体積は磁石から或る距離の
安全領域を表示する。
熱的及び構造的考慮に従って設計されているので、クエ
ンチ期間中にこれらの部分中に誘導される電流分布は制
御されていない。定常運転状態の間はこれらの構成部分
中に電流が流れないので、正常な状況ではこのことは問
題とはならない。しかしながらクエンチ中には重大な制
御されていない電流が前記のように誘導されるおそれが
ある。誘導された電流により生じる磁界は中央の磁石コ
イルと遮蔽磁石コイルとの間の釣り合いを破壊する。そ
の結果クエンチ中に漂遊磁界の一時的なしかし重大な増
加を招くおそれがあり、この増加は、定常の最大漂遊磁
界の値が正常状態のもとで規定されている位置に近い「
安全領域」中に置かれた人又は装置へ危険を与えるおそ
れがある。このことは特に高感度の装置が正常な安全領
域中に置かれているような病院内では明らかに望ましく
ない。
の種類の磁石組立体において、超伝導磁石コイルのクエ
ンチのときでさえ外部漂遊磁界が正常の限界値をほぼ超
えないようにすることにある。
づき、第1の磁界を発生させる第1の超伝導コイル組立
体と、第2の磁界を発生させる第2の超伝導コイル組立
体とを備え、第2の超伝導コイル組立体が第1の超伝導
コイル組立体と電気的に直列に接続され、第1及び第2
の超伝導コイル組立体はそれぞれ相応する磁界成分がほ
ぼ同程度の大きさである磁界を使用時に発生させ、両コ
イル組立体は合成均一磁界が作業容積内に発生しかつ第
2の磁界がほぼ磁石組立体の外部で第1の磁界に対抗す
るように配置され、磁石組立体の外部に広がる合成磁界
は、超伝導コイル中の電流がほぼ一定である磁石組立体
の正常動作期間中には所定の限界内に維持され、磁石組
立体は更に導電性材料から形成されかつ作業容積の外側
に配置された少なくとも一つのリングを備え、超伝導コ
イル中の電流が変化している過渡期間中には、リングの
中に誘導される電流が磁石組立体の導電性部品中の誘導
電流により生じる磁界に対抗して働く磁界を発生させる
ように、このリングの寸法及び位置が選択され、それに
より磁石組立体の外部に広がる合成磁界が正常動作に対
する所定限界のほぼ内に又は近くにとどまることを特徴
とする磁石組立体により解決される。
ルを逸脱させるコイルのクエンチである。
とることができ、クエンチ中の複合磁気効果が外部磁界
を所定の限界内に保つように、寸法及び位置を選択され
た複数のこの種のリングを設けることができる。これら
のリングは任意の都合のよい円筒形表面上に取り付ける
ことができる。
1及び第2の導電性巻枠上に巻かれている場合には、リ
ングは第1及び第2の巻枠の一方又は両方の周りに置き
その巻枠により支えることができる。超伝導コイルが放
射シールドケーシング内に収容されている場合には、リ
ングはこのケーシング上に取り付けることができる。超
伝導性のために必要な低温を達成するために、第1及び
第2の巻枠は真空室により囲まれたヘリウム容器中に収
容することができる。その場合リングはヘリウム容器又
は真空室上に取り付けることができる。
を示す図面により、この発明を詳細に説明する。
1を示す。磁石組立体1は軸線4を有する孔3により構
成され磁石組立体の作業容積を画成するステンレス鋼製
の内側円筒形巻枠2を備える。軸線4と同軸の円筒形ア
ルミニウム製巻枠5が巻枠2の半径方向外側に置かれて
いる。巻枠5は、軸線4に対し直角な組立体の中央面6
(図2参照)に関し対称に配置された3対のコイルA、
A′、B、B′、C、C′と、中央面6にまたがって対
称に配置された7番目のコイルDとを支持する。これら
のコイルは図2に示されている。コイルA〜Dはそれぞ
れ、例えば第2種の超伝導体の細いストランド、内部に
超伝導体ストランドが規則正しい配列の形で埋め込まれ
た良好な常伝導体のマトリックス、並びに通電及び事故
モードの電圧に対処するための表面の電気絶縁を含むよ
うな、超伝導材料から形成されている。それぞれのコイ
ルA〜Dは別個に巻かれている。コイルはワックス又は
エポキシ樹脂中に埋め込まれクランプリング(図示され
ていない)により囲まれている。また各対のコイルは巻
枠5の各対の環状のリブ5A、5Bなどの間に位置決め
されている。ワックス又はエポキシ樹脂及びリブを使用
する目的は、使用中のコイルの巻線の移動を防止するこ
と、及びクエンチを招くおそれのある小量の熱の発生を
伴うようなすべての微小運動を防止しようとすることに
ある。コイルA〜Dの狭い間隔を考慮して、巻枠5は軸
線方向に約200000kgf にも及ぶおそれのある
隣接コイル間の大きい力に適合するように構成しなけれ
ばならない。更に巻枠5は磁石組立体の全重量を低減す
るためにできるだけ軽くなければならず、またできるだ
け真の円筒に近くなければならない。
径方向外側に取り付けられている。巻枠7は下記の方法
で磁石組立体の中央面6に関して対称に配置された四つ
の遮蔽コイルE、E′、F、F′(図2参照)を支持す
る。コイルE〜F′はコイルA〜Dと同様な方法で巻枠
7の各対のリブ7E、7Fの間に取り付けられている。 クランプリング(図示されていない)及びワックス又は
エポキシが、巻枠5に関連して前に述べたようにコイル
巻線の運動を低減するために用いられている。
できるようにするためには、約4.2Kまで巻線を冷却
することが必要である。4.2Kはヘリウムの沸点であ
り、従って二つの巻枠5、7は外側円筒壁8及び内側円
筒壁9により画成されるヘリウム容器内に置かれる。ヘ
リウム容器は一対のリング部材12により閉じられてい
る。壁8、9及びリング部材12はすべてステンレス鋼
から作られている。液体ヘリウムは小塔14に取り付け
られた入口13を経てヘリウム容器へ供給される。ヘリ
ウム容器は変形案として、ステンレス鋼より導電性の良
い材料例えばアルミニウムから作ることができる。
15′は、シールド15、15′とヘリウム容器との間
に真空室16を画成するために、ヘリウム容器に関して
それぞれ同軸に半径方向外側及び内側に取り付けられて
いる。放射シールド15、15′は、シールド15、1
5′から熱を抽出しこの熱をヘリウム容器から沸騰した
低温のヘリウムガスへ渡す小塔14中の熱交換器(図示
されていない)を介して、ヘリウムとの接触により冷却
される。
更に冷却することは、閉サイクルのギフォード・マクマ
ホン形冷凍機の第2段に接続された第2の熱交換器によ
り達成することができる。
7′が、真空室18を画成するためにシールド15、1
5′に関してそれぞれ同軸に半径方向外側及び内側に取
り付けられている。使用時に液体窒素が、シールド17
により外壁を形成された環状のタンク26へ供給される
。これらのシールドはタンクからの窒素の蒸発を減らす
又はなくすために、十分な冷却容量を有する2段閉サイ
クルのギホード・マクマフォン冷凍機の第1段へ熱交換
器を経て結合されている。最後に円筒形のステンレス鋼
製外側ケーシング20が、真空室21を画成するために
シールド17の周りに同軸に取り付けられている。外側
ケーシングは変形案としてアルミニウムから作ることが
できる。対のアルミニム製鏡板22、23、24(図2
参照)が真空室16、18、21の端部を閉じるために
設けられている。
ドは相応の取付板に取り付けられたガラス強化プラスチ
ック製の棒(図示されていない)の装置により支えられ
ている。これらの棒は支柱の三次元の配列として構成さ
れるとき、0.04w以下の熱漏洩の犠牲において40
00kgの磁石を支える。
の温度の液体ヘリウムを充填される。液体ヘリウムが沸
騰するとき、生じた気体は約40Kの温度にシールド1
5、15′(40K熱シールドと呼ばれる)を冷却する
小塔14中の熱交換器の中を通る。液体ヘリウムの沸騰
はヘリウム容器の壁を4.2Kに保つ。タンク26中に
存在する液体窒素はシールド17、17′(80K熱シ
ールドと呼ばれる)を約77Kの温度に維持する。これ
らの低温のシールドは真空室16、18、21内に存在
する真空と共に、4.2Kのヘリウム容器への熱入力を
最小にするのを助ける。
ように大気へバルブ27を経て接続されている。
クマホン閉サイクル冷凍機により冷却される他の方式で
は、窒素タンク26を省略することができる。
半径方向断面を示す図2を参照することにより一層よく
理解することができる。
ルA〜F′はすべて相互に直列に接続されているので、
それぞれのコイルに同じ電流が流れる。コイルはスイッ
チ30により閉回路に接続されている。保護回路32が
スイッチ30に並列に接続されている。
巻き付けられている巻枠5、7の中に電流が流れない。 漂遊磁界を所定の限界内に保つべく磁石組立体の外側の
領域で一方のコイル装置が他方のコイル装置に対抗して
働くことを保証するために、内側コイル装置A〜D及び
外側コイル装置E、Fの磁界に対して行われる計算では
、巻枠の影響を考慮する必要はない。これらの計算はこ
の発明の一部を直接形成しないので説明を省略する。 これに関しては欧州特許第0144171 号明細書を
参照されたい。
や当たらない。過渡状態では大きい電流が巻枠5、7及
びシールド15、15′、17、17′中に誘導される
おそれがあり、これらの電流は磁石組立体1の外側の計
算された対抗釣り合いを破壊するように働く大きいかつ
急変する磁界を発生させる。ヘリウム容器及び外側ケー
シングがアルミニウムから作られている場合には、これ
らもまた重大な影響を与えるおそれがある。この影響は
装置の漂遊磁界を急速に増加させることであり、定常状
態では安全であると指摘された領域内で人及び装置に影
響を及ぼす。
の実施例において、過渡状態で下記のリング中に誘導さ
れる電流が、巻枠中の誘導電流により発生する磁界にほ
ぼ対抗して働く磁界を発生させるように、寸法及び位置
を選択された導電性材料の一組のリングを提供し、それ
により所定の限界を超える漂遊磁界を防止する。図示の
実施例では、四つのリング10、10′、11、11′
がそれぞれコイルC、C′、E、E′の半径方向外側に
置かれている。
高導電率の無酸素銅から作られている。残留固有抵抗比
は300Kでの固有抵抗と4.2Kでの固有抵抗との比
である。これらのリングは大きい力がクエンチ中に与え
られたとき移動を防止するために、ダウエルピンを用い
てコイルと同軸に置かれている。
下記に従って計算することができる。
は意図に反して起こったクエンチである。リングの設計
パラメータを計算するために、クエンチが進行するとき
のコイル電流の時間に依存する変化を近似的に知ること
がまず必要である。このことはクエンチ中の中心磁界に
おける変化を観察することにより、又は更に都合よくは
適当なコンピュータプログラムを用いてシミュレーショ
ンすることにより実験的に決定できる。図4は線図で、
t=0でのクエンチの開始からクエンチ期間中の磁石コ
イル中の電流Im 及び放射シールド中の電流If の
時間に関する変化を示す。この結果はベクタフィールズ
(Vector Fields )社から入手できるP
E2Dのような有限要素法過渡解析コンピュータプログ
ラムのための原始関数として用いられる。クライオスタ
ット、磁石巻枠5、7及びコイルA〜F′は正常な定常
値に設定された初期コイル電流を有する軸対称構造とし
てモデル化されている。すなわち組立体の対称性は装置
を軸線OX、OZにより画成される1/4区画により表
すことができるようなものである。この1/4区画はこ
れらの計算の基礎として用いられる。解析は段階的に進
められ、あらかじめ定められた時間間隔ですべての導電
性要素中の電流分布及び空間全体にわたる磁界の相応の
値を計算する。
て不均一な電流分布のために、相互インダクタンスの従
来の計算方法を用いては容易に行うことができない。有
限要素法解析で残る問題はクライオスタット内で経験す
る低温でのほぼ純粋な材料の抵抗率の極端な温度依存性
であり、この依存性により誘導電流に基づく温度上昇の
影響を完全に考慮することが困難となる。しかしながら
この種の構造体に用いられる最も実用的な合金に対して
は温度依存性が十分に低く、誘発される温度上昇は良好
な近似を与えるために平均値を用いることができるほど
十分に小さい。
。図5の曲線31は、磁石が中心0で1.0Tの定常磁
界へ付勢されたときに、磁束密度Bmodの絶対値が0
.5mTである個所をつないだ線である。曲線32〜3
6は、リング10〜11′が磁石組立体に取り付けられ
ていないときに、同じ0.5mT磁束密度がクエンチの
開始後に番号順に3秒の間隔ごとに予想される個所を示
す。曲線37はクエンチの開始15秒後に磁束密度が0
.1mTである個所を示す。
ングの寸法及び位置の第1の推定を下記の段階を用いて
行うことができる。
子モーメントmfの大きさを推定する。周知のように磁
気双極子モーメントは磁界の値及びその広がりを考慮す
る磁石の強さの尺度である。第1近似のために磁石及び
クライオスタットの寸法に比べて大きい寸法について有
効であるが、一定の磁束密度Bmod ただしBmod
2 =Bx2+By2+Bz2の輪郭は数1により与
えられる半径r及び軸方向長さlaの楕円体形表面であ
るということが、図5のような曲線から証明されている
。
は磁気双極子モーメントm及び磁束密度Bmod に関
係し、数2により与えられる。
すように計算から求められた磁束密度Bmod の曲線
の図上に数1により与えられた形の表面を重畳すること
により推定される。そしてこの表面上のBmodの一定
値に対する最善の適合は、磁石コイル自体の寄与分を取
り去った後に得られる。このことはクエンチの終了を表
すt0 (図4参照)に近い時点で最も都合よく行うこ
とができ、この時点では磁界への磁石コイルの寄与分は
小さいが、巻枠中に誘導される電流If の寄与分が依
然として大きい。こうして等価の磁気双極子モーメント
を求めるために、Bmod の選択された値で得られる
rの値が数2へ代入される。
界を生じさせる磁気双極子モーメントが近似的に数3に
より与えられる。
れていない磁石(すなわちコイルA〜Dにより形成され
た磁石)と同方向に向くことを示し、最も重大な誘導電
流が内側コイルA、A′〜D中の電流と同方向であるこ
とを指摘する。
種々の部分の種々の時定数に基づき時間と共にどのよう
に変化するかを算定するために、クエンチ進行中に複数
の間隔で繰り返すことができる。クエンチ終了後(t0
−t1 )に巻枠中の電流の減衰に対する時定数、及
び巻枠5、7とコイルA〜F′との両者の中の電流が漂
遊磁界に寄与している時点t2 の前後に起こる漂遊磁
界の最悪の場合を導き出すことが特に有効である。
ントmをできるだけゼロに近づけることである。この発
明の原理は段階1で計算された磁気双極子モーメントに
等しくかつ逆向きの磁気双極子モーメントをリング中の
誘導により発生させることである。
近似となるような、制限された面積の簡単な断面を有す
るようにリングを設計することが望ましい。また第1の
推定に対しては巻枠5、7とシールド15、15′、1
7、17′(及びもし導電性材料から作られているなら
ばヘリウム容器と外側ケーシング)中に誘導される電流
は、これらの電流が磁石コイル中の減衰する電流Im
よりはるかに重要性が少ないので、リングに対する結合
を計算するためには無視することができる。磁石コイル
A〜F′とリング10(図2参照)との間の結合に対す
る回路方程式は数4により与えられる。
石コイルとリング10との間の相互インダクタンス、 Rはリングの抵抗、 Ir はリング中の瞬間電流、 Im は磁石コイル中の瞬間電流 であり、また一つのリングの相応の磁気双極子モーメン
トmr は、導線の単一のターンを仮定して数5により
与えられる。
事例に対しては、数4を数値解析的に解かなければなら
ない。しかしながら第1の近似に対しては、Im を重
要な領域で指数関数的減衰の形を有すると仮定すること
ができる。このことは図4から知ることができ、ここで
t3 は重要な領域の開始を示す。
6】 ここでτm は図4の曲線から決定される減衰時定数で
あり、従って数4は数7に示す解を有し
M2 /(Lr Lm ) τr はリング中の電流の減衰時定数、τr =Lr
/Rr Lm は磁石の自己インダクタンス、 I0 はクエンチ前の磁石コイル中の電流である。
値を有し、
殊な場合において数4は数11に示す解を有し、
1】 その最大値はt=τのときに数12に示す値となる。
0は、リングの寸法及び位置を決定するために利用する
ことができる。一定のパラメータは磁石インダクタンス
Lm 、初期磁石電流I0 、磁石の減衰に対する有効
時定数τm である。可変なパラメータτr 、Lr
、Kは、mr =−m(mr は数5から導出される)
となるようなIr の値を求めるために、それにより問
題となる期間にわたりほぼゼロの双極子モーメントを得
るために選択することができる。
しい寸法及び形を指示するのに役立つ。
径aの強い関数でありかつ断面形の比較的弱い関数であ
る。時定数τr は自己インダクタンスLr 及び抵抗
Rにより決定され、抵抗Rは断面積及び材料の導電率に
比例する。リングの断面積は材料の厚さ又は断面形によ
り決定することができる。
半径方向及び軸方向位置を変更することにより調節でき
る。磁石コイルからの半径方向距離は半径aにより影響
を受ける。これらの変数を操作することによりリングの
数、寸法及び位置を特定の場合に対して決定することが
できる。
められると、リングの設計は効果の大きさを測定するた
めに最初に用いられた有限要素法モデルへ還元される。 同じ原始関数により問題を繰り返し解析すれば、時間に
わたる磁界の種々の分布が得られる。もしこの解が十分
に満足でないならばこの解を更に推定するための根拠と
して用いることができ、当初のリングの効果を増す又は
抑えるために、リングの設計の変更又は特別のリングの
追加が求められる。
の加工及び取り付けの費用及び複雑さに関して最善の解
を求めるために、必要ならば複数回繰り返すことができ
る。
節できるが、容易な構成と組立のために既存の円筒形表
面より少し大きいようにリングの半径aを決定すること
、及び一般に利用可能な手持ち材料の寸法又は寸法の倍
数でリングの厚さを決定することが便利である。材料の
抵抗率の広い選択は、無酸素高導電率銅のような適当な
材料を選択することにより、また所望の温度を達成する
ために適当な位置を選択することにより達成される。 例えばシールド15は約40Kとされ、他方ではシール
ド17は約80Kとされる。その際リングの電気的時定
数τr はRに影響を与えるリングの断面積を変更する
ことにより調節でき、また磁石コイルへの結合はリング
の軸方向寸法及び位置を変更することにより調節できる
。
図示の場合には、第1の解析の解がコイルE、E′に結
合すべき二つのリング10、10′を示した。容易な固
定のためにリング10、10′がコイルE、E′を完全
に覆うことが有利であると判明したが、過補償を引き起
こすKの値を招いた。この過補償は内側コイルC、C′
上に二つのリング11、11′を追加することにより低
減できる。これらのリングの寸法と位置が表2に示され
ている。
抗比を有する無酸素高導電率銅から構成されている。実
施例では両リングは平板又はストリップからロール加工
され両端を溶接されて単一の輪を形成する。変形された
方式は導線を用いてコイルを巻き閉ループを形成するよ
うに両端を結合することである。更に一般的にはロール
加工された板又は導線の形で30以上の残留固有抵抗比
を有する高導電率銅が適しており、同様にロール加工さ
れた板又はストリップの形の高純度アルミニウムが適し
ている。他の高導電率金属も同じく適している。
曲線38はクエンチ中に任意の時点で磁界が0.5mT
を超えるすべての点を囲む。更に図7には、図5及び図
6上の点Pでの磁束密度が、リングを用いた場合(曲線
40)及びリングを用いない場合(曲線39)について
、クエンチ中の時間の関数として示されている。
斜視図である。
方向断面図である。
時間的変化の一例を示す線図である。
において、クエンチ開始時からの種々の時点で、0.5
mT漂遊磁束密度の計算位置を一つの象限について示し
た線図である。
任意の時点で、漂遊磁束密度が0.5mTを超えるすべ
ての点を囲む線を一つの象限について示した線図である
。
漂遊磁束密度の時間的変化を示す線図である。
17、17′ 放射シールド16、18、21 真
空室 A、A′、B、B′、C、C′、D 第1の超伝導コ
イル
Claims (10)
- 【請求項1】 第1の磁界を発生させる第1の超伝導
コイル組立体と、第2の磁界を発生させる第2の超伝導
コイル組立体とを備え、第2の超伝導コイル組立体が第
1の超伝導コイル組立体と電気的に直列に接続され、第
1及び第2の超伝導コイル組立体はそれぞれ相応する磁
界成分がほぼ同程度の大きさである磁界を使用時に発生
させ、両コイル組立体は合成均一磁界が作業容積内に発
生しかつ第2の磁界がほぼ磁石組立体の外部で第1の磁
界に対抗するように配置され、磁石組立体の外部に広が
る合成磁界は、超伝導コイル中の電流がほぼ一定である
磁石組立体の正常動作期間中には所定の限界内に維持さ
れ、磁石組立体は更に導電性材料から形成されかつ作業
容積の外側に配置された少なくとも一つのリングを備え
、超伝導コイル中の電流が変化している過渡期間中には
、リングの中に誘導される電流が磁石組立体の導電性部
品中の誘導電流により生じる磁界に対抗して働く磁界を
発生させるように、このリングの寸法及び位置が選択さ
れ、それにより磁石組立体の外部に広がる合成磁界が正
常動作に対する所定限界のほぼ内に又は近くにとどまる
ことを特徴とする磁石組立体。 - 【請求項2】 第1及び第2の超伝導コイルがそれぞ
れ第1及び第2の巻枠上に巻かれ、これらの巻枠が相互
に同軸に配置されていることを特徴とする請求項1記載
の磁石組立体。 - 【請求項3】 リングが第1の巻枠上に取り付けられ
ていることを特徴とする請求項2記載の磁石組立体。 - 【請求項4】 リングが第2の巻枠上に取り付けられ
ていることを特徴とする請求項2又は3記載の磁石組立
体。 - 【請求項5】 第1及び第2の超伝導コイルが放射シ
ールドケーシング内に収容されていることを特徴とする
請求項1ないし4の一つに記載の磁石組立体。 - 【請求項6】 リングが放射シールドケーシング上に
取り付けられていることを特徴とする請求項5記載の磁
石組立体。 - 【請求項7】 複数の放射シールドケーシングが超伝
導コイルから半径方向に間隔を置いて設けられることを
特徴とする請求項5記載の磁石組立体。 - 【請求項8】 リングが高導電率銅及び高純度アルミ
ニウムの群から選択された材料から形成されることを特
徴とする請求項1ないし7の一つに記載の磁石組立体。 - 【請求項9】 第1及び第2の巻枠がヘリウム容器内
に収容され、リングがヘリウム容器上に取り付けられる
ことを特徴とする請求項2記載の磁石組立体。 - 【請求項10】 ヘリウム容器の外側に配列された真
空室を備えることを特徴とする請求項9記載の磁石組立
体。
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|---|---|---|---|
| GB909016183A GB9016183D0 (en) | 1990-07-24 | 1990-07-24 | Magnet assembly |
| GB9016183 | 1990-07-24 |
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