JPH04234705A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH04234705A JPH04234705A JP3165766A JP16576691A JPH04234705A JP H04234705 A JPH04234705 A JP H04234705A JP 3165766 A JP3165766 A JP 3165766A JP 16576691 A JP16576691 A JP 16576691A JP H04234705 A JPH04234705 A JP H04234705A
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- color filter
- forming
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/331—Coatings for devices having potential barriers for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
-
- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はカラーフィルタの製造
方法に関し、特に露光量の調節によりレンズ等を形成す
ることのできるカラーフィルタの製造方法に関する。
方法に関し、特に露光量の調節によりレンズ等を形成す
ることのできるカラーフィルタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、撮像用電子管や電子管に代わる次
世代の撮像素子として脚光を受けている固体撮像素子は
、光電変換領域の上部にカラーフィルタ（Ｃｏｌｏｒ
Ｆｉｌｔｅｒ）を形成することによってカラー化を行
っている。上記固体撮像素子には、ＭＯＳトランジスタ
、光トランジスタ及び電荷結合素子（Ｃｈａｒｇｅ
Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｌ；以下ＣＣＤという）
等がある。これらの中で小型ムービカメラなどに主に使
用されるＣＣＤは、多画素化及び高感度化が要求され、
カラーフィルタに光集束をするためのレンズを形成させ
る技術が開発されている。また、液晶表示素子（Ｌｉｑ
ｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）等の表
示素子も、電光変換の領域上にカラーフィルタを形成し
てカラー化を行っている。
世代の撮像素子として脚光を受けている固体撮像素子は
、光電変換領域の上部にカラーフィルタ（Ｃｏｌｏｒ
Ｆｉｌｔｅｒ）を形成することによってカラー化を行
っている。上記固体撮像素子には、ＭＯＳトランジスタ
、光トランジスタ及び電荷結合素子（Ｃｈａｒｇｅ
Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｌ；以下ＣＣＤという）
等がある。これらの中で小型ムービカメラなどに主に使
用されるＣＣＤは、多画素化及び高感度化が要求され、
カラーフィルタに光集束をするためのレンズを形成させ
る技術が開発されている。また、液晶表示素子（Ｌｉｑ
ｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）等の表
示素子も、電光変換の領域上にカラーフィルタを形成し
てカラー化を行っている。
【０００３】カラーフィルタの種類には、カゼイン（Ｃ
ａｓｅｉｎ）又はゼラチン（Ｇｅｌａｔｉｎ）等の有機
物を染色して形成される有機フィルタと、光学干渉を利
用する無機フィルタとがある。
ａｓｅｉｎ）又はゼラチン（Ｇｅｌａｔｉｎ）等の有機
物を染色して形成される有機フィルタと、光学干渉を利
用する無機フィルタとがある。
【０００４】図１〜図４は、従来のＣＣＤ用カラーフィ
ルタの製造工程図である。
ルタの製造工程図である。
【０００５】図１には、シリコン基板１の表面が凹凸構
造に形成され、凹部分の表面にフォトダイオード２，３
，４が形成されると共に凸部分の表面に導電膜５及び絶
縁膜７が形成されたＣＣＤが示されている。上記ＣＣＤ
の表面上に、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）等の透
明な物質で平坦化層９を形成し、この平坦化層９の上部
に上記フォトダイオード２と対応するようにカゼイン又
はゼラチンに重クロム酸アンモニウムが所定比率で配合
されて成る染色物質で染色された染色層１１を形成する
。上記の染色層１１は、マゼンター（Ｍａｇｅｎｔａ）
、シアン（Ｃｙａｎ）及びイエロー（ｙｅｌｌｏｗ）等
の色光の中の一つを分光するように、マゼンター、シア
ン又はイエロー等の物質中の一つで染色されて形成され
る。その後、上述した構造の全表面にポリイミドを塗布
して中間層１３を形成する。
造に形成され、凹部分の表面にフォトダイオード２，３
，４が形成されると共に凸部分の表面に導電膜５及び絶
縁膜７が形成されたＣＣＤが示されている。上記ＣＣＤ
の表面上に、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）等の透
明な物質で平坦化層９を形成し、この平坦化層９の上部
に上記フォトダイオード２と対応するようにカゼイン又
はゼラチンに重クロム酸アンモニウムが所定比率で配合
されて成る染色物質で染色された染色層１１を形成する
。上記の染色層１１は、マゼンター（Ｍａｇｅｎｔａ）
、シアン（Ｃｙａｎ）及びイエロー（ｙｅｌｌｏｗ）等
の色光の中の一つを分光するように、マゼンター、シア
ン又はイエロー等の物質中の一つで染色されて形成され
る。その後、上述した構造の全表面にポリイミドを塗布
して中間層１３を形成する。
【０００６】次に図２に示すように、上記中間層１３の
上部に上述したのと同一な方法で染色層１５，１９と中
間層１７，２１を順次形成する。上記染色層１５，１９
は、上記中間層１７により混色されることが防止される
。その後、上記中間層２１の全表面にアクリル（Ａｃｒ
ｙｌ）系の物質でレンズ層２３を形成した後、露光（Ｅ
ｘｐｏｓｕｒｅ）する。この場合、マスク２５を使用し
てレンズ層２３の上記フォトダイオード２，３，４の上
部を除いた残りの部分を露光する。
上部に上述したのと同一な方法で染色層１５，１９と中
間層１７，２１を順次形成する。上記染色層１５，１９
は、上記中間層１７により混色されることが防止される
。その後、上記中間層２１の全表面にアクリル（Ａｃｒ
ｙｌ）系の物質でレンズ層２３を形成した後、露光（Ｅ
ｘｐｏｓｕｒｅ）する。この場合、マスク２５を使用し
てレンズ層２３の上記フォトダイオード２，３，４の上
部を除いた残りの部分を露光する。
【０００７】次に図３に示すように、上記マスク２５を
除去した後現像（Ｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）し、上記レン
ズ層２３の露光された部分を除去し、上記フォトダイオ
ード２，３，４の上部にレンズパターン２４を形成する
。
除去した後現像（Ｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）し、上記レン
ズ層２３の露光された部分を除去し、上記フォトダイオ
ード２，３，４の上部にレンズパターン２４を形成する
。
【０００８】次に図４に示すように、上記レンズパター
ン２４を熱処理して上記フォトダイオード２，３，４と
対応するレンズ２７，２８，２９を形成する。この場合
、レンズ２７，２８，２９を形成するために熱処理をす
ると、上記レンズパターン２４の角部分が融けて流れる
ことになる。従って、熱処理は低温から高温の順序で順
次実施する。この低温の熱処理はレンズパターン２４の
角部分を融けて流れさせ、次に高温の熱処理をして所定
の曲率を持つレンズ２７，２８，２９が形成されること
になる。このようにして形成された上記レンズ２７，２
８，２９は、その厚さにより光の集束距離が変わること
になる。即ち、レンズ２７，２８，２９が厚いと光の集
束距離が短くなり、薄いと光の集束距離が長くなる。 従って、レンズ２７，２８，２９を光の集束距離が短い
場合には低温で熱処理して厚く形成し、光の集束距離が
長い場合には高温で熱処理して薄く形成するようにして
いる。
ン２４を熱処理して上記フォトダイオード２，３，４と
対応するレンズ２７，２８，２９を形成する。この場合
、レンズ２７，２８，２９を形成するために熱処理をす
ると、上記レンズパターン２４の角部分が融けて流れる
ことになる。従って、熱処理は低温から高温の順序で順
次実施する。この低温の熱処理はレンズパターン２４の
角部分を融けて流れさせ、次に高温の熱処理をして所定
の曲率を持つレンズ２７，２８，２９が形成されること
になる。このようにして形成された上記レンズ２７，２
８，２９は、その厚さにより光の集束距離が変わること
になる。即ち、レンズ２７，２８，２９が厚いと光の集
束距離が短くなり、薄いと光の集束距離が長くなる。 従って、レンズ２７，２８，２９を光の集束距離が短い
場合には低温で熱処理して厚く形成し、光の集束距離が
長い場合には高温で熱処理して薄く形成するようにして
いる。
【０００９】しかし、かかる従来の方法では、レンズを
薄く形成するために高温の熱処理をするとレンズの形状
変化が甚だしくて工程が不安定となり、一方厚く形成す
るために低温でのみ熱処理をするとレンズの形状が不完
全となりレンズを形成しにくいという問題点があった。
薄く形成するために高温の熱処理をするとレンズの形状
変化が甚だしくて工程が不安定となり、一方厚く形成す
るために低温でのみ熱処理をするとレンズの形状が不完
全となりレンズを形成しにくいという問題点があった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
はレンズパターンの形成時に照射される露光量を調節し
て、熱処理温度の影響を最小にしてレンズを形成する工
程を安定化し、それにより生産性を向上させることので
きるカラーフィルタの製造方法を提供することにある。 本発明の他の目的は、レンズの厚さとは無関係にレンズ
の形状を制御して感度を向上させることのできるカラー
フィルタの製造方法を提供することにある。
はレンズパターンの形成時に照射される露光量を調節し
て、熱処理温度の影響を最小にしてレンズを形成する工
程を安定化し、それにより生産性を向上させることので
きるカラーフィルタの製造方法を提供することにある。 本発明の他の目的は、レンズの厚さとは無関係にレンズ
の形状を制御して感度を向上させることのできるカラー
フィルタの製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記のような目的を達成
するために、本発明は複数の画素がマトリクス形状に配
置された基板の上部に形成されるカラーフィルタの製造
方法において、上記基板に平坦化層を形成する第１過程
と、上記平坦化層上部に上記複数の画素の任意の画素と
対応するように染色層を形成する第２過程と、上記第２
過程を少なくとも２回反復処理する第３過程と、上記第
３過程後に最上の中間層にレンズ層を形成する工程と、
上記レンズ層を露光及び現像して上記画素と一致する部
分は平坦化して、残りの部分は階段形状を持つレンズパ
ターンを形成する工程から成る第４過程と、上記レンズ
パターンを熱処理してレンズを形成する第５過程とから
成ることを特徴とする。
するために、本発明は複数の画素がマトリクス形状に配
置された基板の上部に形成されるカラーフィルタの製造
方法において、上記基板に平坦化層を形成する第１過程
と、上記平坦化層上部に上記複数の画素の任意の画素と
対応するように染色層を形成する第２過程と、上記第２
過程を少なくとも２回反復処理する第３過程と、上記第
３過程後に最上の中間層にレンズ層を形成する工程と、
上記レンズ層を露光及び現像して上記画素と一致する部
分は平坦化して、残りの部分は階段形状を持つレンズパ
ターンを形成する工程から成る第４過程と、上記レンズ
パターンを熱処理してレンズを形成する第５過程とから
成ることを特徴とする。
【００１２】
【実施例】以下、添付した図面を参照してこの発明を詳
細に説明する。図５〜図８はこの発明によるカラーフィ
ルタの製造工程図である。
細に説明する。図５〜図８はこの発明によるカラーフィ
ルタの製造工程図である。
【００１３】図５は、シリコン基板３１の表面が凹凸構
造に形成され、凹部分の表面に第１、第２及び第３フォ
トダイオード３２，３３，３４が、凸部分にはＡｌ等の
金属からなる配線用導電膜３５とＳｉＯ等からなる絶縁
膜３７が形成されたＣＣＤが示されている。上記ＣＣＤ
の表面上にポリイミド等の透明な物質を３０００Å程度
で塗布して平坦化層３９を形成する。次に、上記平坦化
層３９の上部に、重クロム酸が含有されたカゼイン又は
ゼラチンに重クロム酸アンモニウムを所定比率で配合し
て４０００〜７０００Å程度で塗布した後、通常の写真
工程により上記第１フォトダイオード３２と対応する部
分に染色層パターンを形成する。その後で、上述した構
造の全表面に染料を塗布して第１染色層４１を形成する
。上記第１染色層４１は、上記染色層パターンに染料が
反応して形成されるもので、この染料は上記平坦化層３
９とは反応しない。次に、上記平坦化層３９上の染料を
脱イオン水（Ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ Ｗａｔｅｒ）によ
り除去する。上記第１染色層４１は、入射光からマゼン
ター、シアン及びイエロー等の色光中のいずれか一つを
分光するように、マゼンター、シアン及びイエロー等の
染料中のいずれか一つで染色される。即ち、上記第１染
色層４１がマゼンターの色光を分光するためには、染料
にはマゼンターが使用される。次に、上述した構造の全
表面に上記平坦化層と同一な物質で１μｍ程度の厚さの
第１中間層４３を形成する。
造に形成され、凹部分の表面に第１、第２及び第３フォ
トダイオード３２，３３，３４が、凸部分にはＡｌ等の
金属からなる配線用導電膜３５とＳｉＯ等からなる絶縁
膜３７が形成されたＣＣＤが示されている。上記ＣＣＤ
の表面上にポリイミド等の透明な物質を３０００Å程度
で塗布して平坦化層３９を形成する。次に、上記平坦化
層３９の上部に、重クロム酸が含有されたカゼイン又は
ゼラチンに重クロム酸アンモニウムを所定比率で配合し
て４０００〜７０００Å程度で塗布した後、通常の写真
工程により上記第１フォトダイオード３２と対応する部
分に染色層パターンを形成する。その後で、上述した構
造の全表面に染料を塗布して第１染色層４１を形成する
。上記第１染色層４１は、上記染色層パターンに染料が
反応して形成されるもので、この染料は上記平坦化層３
９とは反応しない。次に、上記平坦化層３９上の染料を
脱イオン水（Ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ Ｗａｔｅｒ）によ
り除去する。上記第１染色層４１は、入射光からマゼン
ター、シアン及びイエロー等の色光中のいずれか一つを
分光するように、マゼンター、シアン及びイエロー等の
染料中のいずれか一つで染色される。即ち、上記第１染
色層４１がマゼンターの色光を分光するためには、染料
にはマゼンターが使用される。次に、上述した構造の全
表面に上記平坦化層と同一な物質で１μｍ程度の厚さの
第１中間層４３を形成する。
【００１４】次に図６に示すように、上記第１中間層４
３の上部に上記第１染色層４１と同一な物質及び方法に
より第２及び第３フォトダイオード３３，３４と対応す
る染色層パターンを形成した後、染色して第２及び第３
染色層４５，４９を形成する。上記第２及び第３染色層
４５，４９が入射光でシアンとイエローの色光を分光す
るように、染料にはシアンとイエローが使用される。ま
た、上記第２及び第３染色層４５，４９の上部には、上
記第１中間層４３と同一な物質及び方法で第２及び第３
中間層４７，５１を形成する。次に、上記第３中間層５
１の上部にポリイミド又はアクリル系の物質等でレンズ
層５３を形成した後、一つのパターンにおいて光の透過
率を変化させたマスク５５を利用して露光する。即ち、
上記マスク５５は、各々のパターンの第１第２及び第３
フォトダイオード３２，３３，３４と一致する部分は透
過率が０％であり、この部分から遠ざかるほど所定部分
別に透過率が大きくなるように形成される。
３の上部に上記第１染色層４１と同一な物質及び方法に
より第２及び第３フォトダイオード３３，３４と対応す
る染色層パターンを形成した後、染色して第２及び第３
染色層４５，４９を形成する。上記第２及び第３染色層
４５，４９が入射光でシアンとイエローの色光を分光す
るように、染料にはシアンとイエローが使用される。ま
た、上記第２及び第３染色層４５，４９の上部には、上
記第１中間層４３と同一な物質及び方法で第２及び第３
中間層４７，５１を形成する。次に、上記第３中間層５
１の上部にポリイミド又はアクリル系の物質等でレンズ
層５３を形成した後、一つのパターンにおいて光の透過
率を変化させたマスク５５を利用して露光する。即ち、
上記マスク５５は、各々のパターンの第１第２及び第３
フォトダイオード３２，３３，３４と一致する部分は透
過率が０％であり、この部分から遠ざかるほど所定部分
別に透過率が大きくなるように形成される。
【００１５】次に図７に示すように、上記マスク５５を
除去し現像してレンズパターン５４を形成する。この時
、上記レンズパターン５４は、上述したマスク５５にお
ける光の透過率の変化により階段形態で形成される。 即ち、上記マスク５５によりパターン内で露光される程
度が異なるので、現像時に上記レンズ層５３が除去され
る程度が異なる。従って、上記レンズパターン５４は、
上記第１、第２及び第３フォトダイオード３２，３３，
３４と一致する部分は除去されることなく平坦に形成さ
れ、この平坦な部分から遠ざかるほど上記マスク５５の
光透過率により除去に多く除去される。
除去し現像してレンズパターン５４を形成する。この時
、上記レンズパターン５４は、上述したマスク５５にお
ける光の透過率の変化により階段形態で形成される。 即ち、上記マスク５５によりパターン内で露光される程
度が異なるので、現像時に上記レンズ層５３が除去され
る程度が異なる。従って、上記レンズパターン５４は、
上記第１、第２及び第３フォトダイオード３２，３３，
３４と一致する部分は除去されることなく平坦に形成さ
れ、この平坦な部分から遠ざかるほど上記マスク５５の
光透過率により除去に多く除去される。
【００１６】次に図８に示すように、上記レンズパター
ン５４を熱処理し、上記第１、第２及び第３フォトダイ
オード３２，３３，３４と対応する第１、第２及び第３
レンズ５７，５８，５９を形成する。上述したレンズパ
ターン５４は、階段形態部分の段階が小さいので、上記
第１、第２及び第３レンズ５７，５８，５９の形成時、
低温で熱処理し上記レンズパターン５４の平坦な部分を
変化させることなく残りの部分のみ所定の曲率を持たせ
ることができる。上記第１、第２及び第３レンズ５７，
５８，５９の平坦な部分は入射する光を反射させず直進
透光させ、残りの部分は入射光を屈折させ上記第１、第
２及び第３フォトダイオード３２，３３，３４に集束さ
せる。
ン５４を熱処理し、上記第１、第２及び第３フォトダイ
オード３２，３３，３４と対応する第１、第２及び第３
レンズ５７，５８，５９を形成する。上述したレンズパ
ターン５４は、階段形態部分の段階が小さいので、上記
第１、第２及び第３レンズ５７，５８，５９の形成時、
低温で熱処理し上記レンズパターン５４の平坦な部分を
変化させることなく残りの部分のみ所定の曲率を持たせ
ることができる。上記第１、第２及び第３レンズ５７，
５８，５９の平坦な部分は入射する光を反射させず直進
透光させ、残りの部分は入射光を屈折させ上記第１、第
２及び第３フォトダイオード３２，３３，３４に集束さ
せる。
【００１７】
【発明の効果】上述したように、本発明に係るカラーフ
ィルタ製造方法によれば、カラーフィルタの構造により
光の集束距離が変わるマスクにより照射時露光量を調節
して、レンズパターンをフォトダイオードと一致する部
分を除外した残りの部分を階段形態で形成する。そして
、低温の熱処理によりフォトダイオードと一致する部分
は平坦とし、残りの部分は所定の曲率半径を持つレンズ
を形成する。このようなレンズは厚さと無関係に上記所
定曲率半径を持つ部分の曲率の制御により光の集束距離
を制御することができる。
ィルタ製造方法によれば、カラーフィルタの構造により
光の集束距離が変わるマスクにより照射時露光量を調節
して、レンズパターンをフォトダイオードと一致する部
分を除外した残りの部分を階段形態で形成する。そして
、低温の熱処理によりフォトダイオードと一致する部分
は平坦とし、残りの部分は所定の曲率半径を持つレンズ
を形成する。このようなレンズは厚さと無関係に上記所
定曲率半径を持つ部分の曲率の制御により光の集束距離
を制御することができる。
【００１８】従って、本発明はレンズ形成の工程時熱処
理温度に影響を最小とするので、生産性を向上させるこ
とができる利点がある。また、レンズの厚さと無関係に
光の集束距離を容易に調節することができるので、カラ
ーフィルタの感度を向上させることができる。
理温度に影響を最小とするので、生産性を向上させるこ
とができる利点がある。また、レンズの厚さと無関係に
光の集束距離を容易に調節することができるので、カラ
ーフィルタの感度を向上させることができる。
【図１】従来のカラーフィルタの製造工程図である。
【図２】従来のカラーフィルタの製造工程図である。
【図３】従来のカラーフィルタの製造工程図である。
【図４】従来のカラーフィルタの製造工程図である。
【図５】本発明によるカラーフィルタの製造工程図であ
る。
る。
【図６】本発明によるカラーフィルタの製造工程図であ
る。
る。
【図７】本発明によるカラーフィルタの製造工程図であ
る。
る。
【図８】本発明によるカラーフィルタの製造工程図であ
る。
る。
３１ シリコン基板
３２，３３，３４ 第１、第２、第３フォトダイオー
ド３５ 導電膜 ３７ 絶縁膜 ３９ 平坦化層 ４１ 第１染色層 ４３ 第１中間層 ４５ 第２染色層 ４７ 第２中間層 ４９ 第３染色層 ５１ 第３中間層 ５３ レンズ層 ５４ レンズパターン ５５ マスク
ド３５ 導電膜 ３７ 絶縁膜 ３９ 平坦化層 ４１ 第１染色層 ４３ 第１中間層 ４５ 第２染色層 ４７ 第２中間層 ４９ 第３染色層 ５１ 第３中間層 ５３ レンズ層 ５４ レンズパターン ５５ マスク
Claims (6)
- 【請求項１】 複数の画素がマトリクス形状に配置さ
れた基板の上部に形成されるカラーフィルタの製造方法
において、上記基板に平坦化層を形成する第１過程と、
上記平坦化層上部に上記複数の画素の任意の画素と対応
するように染色層を形成する工程と、上記染色層の上部
に中間層を形成する工程とから成る第２過程と、上記第
２過程を少なくとも２回反復処理する第３過程と、上記
第３過程後最上の中間層にレンズ層を形成する工程と、
上記レンズ層を露光及び現像して上記画素と一致する部
分は平坦化し残りの部分は階段形状を持つレンズパター
ンを形成する工程とから成る第４過程と、上記レンズパ
ターンを熱処理してレンズを形成する第５過程と、から
成ることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】 上記レンズ層の露光時に、単一なパタ
ーンの部分ごとに互いに異なる光透過率を持つマスクを
利用することを特徴とする請求項１記載のカラーフィル
タの製造方法。 - 【請求項３】 上記マスクは同一なパターン内で画素
と一致する部分の光透過率が０％であり、この部分から
遠ざかるほど光透率が大きくなることを特徴とする請求
項２記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項４】 上記熱処理は低温で行なわれることを
特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項５】 上記レンズは画素と一致する部分は平
坦化され、残りの部分は所定の曲率半径を持つように形
成されてなることを特徴とする請求項１記載のカラーフ
ィルタの製造方法。 - 【請求項６】 上記所定の曲率半径により集光距離を
調節するように形成されてなることを特徴とする請求項
５記載のカラーフィルタの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019900022929A KR930003687B1 (ko) | 1990-12-31 | 1990-12-31 | 칼라필터의 제조방법 |
| KR1990-22929 | 1990-12-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04234705A true JPH04234705A (ja) | 1992-08-24 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3165766A Pending JPH04234705A (ja) | 1990-12-31 | 1991-07-05 | カラーフィルタの製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JPH04234705A (ja) |
| KR (1) | KR930003687B1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| JPS5968967A (ja) * | 1982-10-13 | 1984-04-19 | Toshiba Corp | 固体撮像装置の製造方法 |
| JPH01246505A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Canon Inc | 固体撮像素子 |
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- 1991-07-05 JP JP3165766A patent/JPH04234705A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5968967A (ja) * | 1982-10-13 | 1984-04-19 | Toshiba Corp | 固体撮像装置の製造方法 |
| JPH01246505A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Canon Inc | 固体撮像素子 |
| JPH02282702A (ja) * | 1989-04-25 | 1990-11-20 | Seiko Epson Corp | レンズアレイの製造方法 |
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