JPH04235706A - 水砕スラグスラリの脱水処理装置 - Google Patents
水砕スラグスラリの脱水処理装置Info
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- JPH04235706A JPH04235706A JP3014021A JP1402191A JPH04235706A JP H04235706 A JPH04235706 A JP H04235706A JP 3014021 A JP3014021 A JP 3014021A JP 1402191 A JP1402191 A JP 1402191A JP H04235706 A JPH04235706 A JP H04235706A
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Landscapes
- Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高炉等から排出される
溶融滓を水冷,破砕して得られる水砕スラグスラリを重
力脱水させるための脱水処理装置に関するものであり、
具体的には、脱水槽の下部に、脱水槽内に開口され且つ
その開口部に水透過スクリーンを張設した脱水室を設け
て、脱水槽内に沈降形成される水砕スラグ堆積層から脱
水室へとスラリ水を滲出させるように構成された脱水処
理装置に関するものである。
溶融滓を水冷,破砕して得られる水砕スラグスラリを重
力脱水させるための脱水処理装置に関するものであり、
具体的には、脱水槽の下部に、脱水槽内に開口され且つ
その開口部に水透過スクリーンを張設した脱水室を設け
て、脱水槽内に沈降形成される水砕スラグ堆積層から脱
水室へとスラリ水を滲出させるように構成された脱水処
理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の脱水装置としては、図5
に示す如く、脱水槽21の下部に環状の脱水室22を設
けたものが知られている。脱水室22は、脱水槽21内
に開口し且つ排水路28に連通接続されている。 脱
水室22の開口部22aには、水透過スクリーン27が
張設されており、排水路28には開閉弁28aが介設さ
れている。また、脱水槽21の上部には、排水路28に
連通された溢流室21cが設けられている。かかる従来
装置にあっては、脱水槽21に水砕スラグスラリ6が供
給されると、水砕スラグ6aは沈降して堆積層6Aを形
成する。そして、水砕スラグ堆積層6Aが脱水室22の
開口部22aを埋没させるレベルまで形成された段階で
、開閉弁28aを開動させると、スラリ水6bは水砕ス
ラグ堆積層6A内を自然流下して、スクリーン27を経
て脱水室22に滲出する。このとき、スラリ水6b中に
混入する微粒水砕スラグやスラグウール等の微細固形物
質は、水砕スラグ堆積層6Aを通過する間に捕集される
。 つまり、水砕スラグ堆積層6Aは所謂サンドフィルタ機
能を発揮する。したがって、脱水室22には、固形物質
を殆ど含まないスラリ水6bが滲出されることになり、
この滲出水は排水路28に排出される。一方、脱水室2
2に排出されない余剰のスラリ水6bは、水砕スラグ堆
積層6A上に滞留するが、その滞留水レベルが一定以上
となると溢流室21cに溢流して、排出路21dに排出
される。ところで、排水路21d,28は温水槽に導か
れており、排出路21d,28に排出されたスラリ水6
bは温水槽に供給されて、冷却後、水砕化用噴射水とし
て再使用されるようになっている。
に示す如く、脱水槽21の下部に環状の脱水室22を設
けたものが知られている。脱水室22は、脱水槽21内
に開口し且つ排水路28に連通接続されている。 脱
水室22の開口部22aには、水透過スクリーン27が
張設されており、排水路28には開閉弁28aが介設さ
れている。また、脱水槽21の上部には、排水路28に
連通された溢流室21cが設けられている。かかる従来
装置にあっては、脱水槽21に水砕スラグスラリ6が供
給されると、水砕スラグ6aは沈降して堆積層6Aを形
成する。そして、水砕スラグ堆積層6Aが脱水室22の
開口部22aを埋没させるレベルまで形成された段階で
、開閉弁28aを開動させると、スラリ水6bは水砕ス
ラグ堆積層6A内を自然流下して、スクリーン27を経
て脱水室22に滲出する。このとき、スラリ水6b中に
混入する微粒水砕スラグやスラグウール等の微細固形物
質は、水砕スラグ堆積層6Aを通過する間に捕集される
。 つまり、水砕スラグ堆積層6Aは所謂サンドフィルタ機
能を発揮する。したがって、脱水室22には、固形物質
を殆ど含まないスラリ水6bが滲出されることになり、
この滲出水は排水路28に排出される。一方、脱水室2
2に排出されない余剰のスラリ水6bは、水砕スラグ堆
積層6A上に滞留するが、その滞留水レベルが一定以上
となると溢流室21cに溢流して、排出路21dに排出
される。ところで、排水路21d,28は温水槽に導か
れており、排出路21d,28に排出されたスラリ水6
bは温水槽に供給されて、冷却後、水砕化用噴射水とし
て再使用されるようになっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、かかる従来装
置においては、脱水室22への滲出水量つまり脱水量が
、開閉弁28aの開動時点から僅かな時間(一般に、1
5分程度)が経過した段階で激減し、爾後は時間の経過
と共に更に減少することになり、脱水効率が頗る低いと
いった問題があった。すなわち、スラリ水6bが水砕ス
ラグ堆積層6Aを流下するに伴って、上記したスラグウ
ール等の微細固形物質が水砕スラグ堆積層6Aの下部に
集められるため、図5に示す如く、脱水室22の近傍に
おいて水平方向に拡がる高密度層6Bを形成する。かか
る高密度層6Bは短時間のうちに成長してスラリ水6b
の脱水室22への流動を妨げることになる(以下、かか
る現象を「チョーキング現象」という)。その結果、水
砕スラグ堆積層6Aのレベル上昇に伴ってスラリ水6b
の水砕スラグ堆積層6A内における通過抵抗が増加する
こととも相俟って、脱水量が激減するのである。しかも
、脱水量が低下すると、溢流室21cから温水槽への排
水量が多くなるが、溢流室21cから排出されるスラリ
水6bは、水砕スラグ堆積層6Aによるサンドフィルタ
作用を受けておらず、大量の固形物質を含有するから、
このような固形物質を含有するスラリ水6bを水砕化用
噴射水として再使用すると、種々の設備トラブルが発生
する(例えば、配管を損傷させるとか、冷却塔等にウー
ルが付着してその機能を低下させる等)。
置においては、脱水室22への滲出水量つまり脱水量が
、開閉弁28aの開動時点から僅かな時間(一般に、1
5分程度)が経過した段階で激減し、爾後は時間の経過
と共に更に減少することになり、脱水効率が頗る低いと
いった問題があった。すなわち、スラリ水6bが水砕ス
ラグ堆積層6Aを流下するに伴って、上記したスラグウ
ール等の微細固形物質が水砕スラグ堆積層6Aの下部に
集められるため、図5に示す如く、脱水室22の近傍に
おいて水平方向に拡がる高密度層6Bを形成する。かか
る高密度層6Bは短時間のうちに成長してスラリ水6b
の脱水室22への流動を妨げることになる(以下、かか
る現象を「チョーキング現象」という)。その結果、水
砕スラグ堆積層6Aのレベル上昇に伴ってスラリ水6b
の水砕スラグ堆積層6A内における通過抵抗が増加する
こととも相俟って、脱水量が激減するのである。しかも
、脱水量が低下すると、溢流室21cから温水槽への排
水量が多くなるが、溢流室21cから排出されるスラリ
水6bは、水砕スラグ堆積層6Aによるサンドフィルタ
作用を受けておらず、大量の固形物質を含有するから、
このような固形物質を含有するスラリ水6bを水砕化用
噴射水として再使用すると、種々の設備トラブルが発生
する(例えば、配管を損傷させるとか、冷却塔等にウー
ルが付着してその機能を低下させる等)。
【0004】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、脱水効率を大幅に向上させうると共に、脱水槽
からは固形物質の含有量の極めて少ない清浄水のみを排
出して、その再使用を支障なく行いうる水砕スラグスラ
リの脱水処理装置を提供することを目的とするものであ
る。
もので、脱水効率を大幅に向上させうると共に、脱水槽
からは固形物質の含有量の極めて少ない清浄水のみを排
出して、その再使用を支障なく行いうる水砕スラグスラ
リの脱水処理装置を提供することを目的とするものであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】この課題を解決した本発
明の脱水処理装置は、特に、排水路に連通接続されて脱
水槽の略中心部に配設されており、脱水室の開口位置近
傍から上方に延びる開口部を有し且つその開口部に水透
過スクリーンを張設してなる副脱水室と、副脱水室の開
口部を開閉すべく昇降自在であり、昇降により開口部の
開放領域をその下端部を基準として上下方向に増減させ
うるシャッタ部材と、水砕スラグ堆積層の上面レベルに
基づいてシャッタ部材を昇降操作して、副脱水室の開口
部における水砕スラグ堆積層の上面レベルより下方側の
部分のみを開放させるシャッタ操作機構と、を具備する
ものである。
明の脱水処理装置は、特に、排水路に連通接続されて脱
水槽の略中心部に配設されており、脱水室の開口位置近
傍から上方に延びる開口部を有し且つその開口部に水透
過スクリーンを張設してなる副脱水室と、副脱水室の開
口部を開閉すべく昇降自在であり、昇降により開口部の
開放領域をその下端部を基準として上下方向に増減させ
うるシャッタ部材と、水砕スラグ堆積層の上面レベルに
基づいてシャッタ部材を昇降操作して、副脱水室の開口
部における水砕スラグ堆積層の上面レベルより下方側の
部分のみを開放させるシャッタ操作機構と、を具備する
ものである。
【0006】
【作用】脱水槽に水砕スラグスラリが供給されると、脱
水槽内に水砕スラグが沈降して水砕スラグ堆積層が形成
され、水砕スラグ堆積層の上面レベルが脱水室の開口部
を超えた時点で脱水室からの脱水が開始される。そして
、水砕スラグ堆積層の上面レベルが副脱水室の下端部を
超えると、シャッタ部材が上昇して副脱水室開口部の下
端側部分が開放され、副脱水室からの脱水が開始される
。爾後、水砕スラグ堆積層の上面レベルが上昇するに従
って、その上昇量に応じた量だけシャッタ部材が上昇さ
れていく。すなわち、副脱水室開口部の開放領域が、水
砕スラグ堆積層のレベル上昇に応じて上方に拡大されて
いく。なお、この開放領域は、水砕スラグ堆積層上まで
拡大されることはない。このように、副脱水室開口部の
開放領域つまりスラリ水の副脱水室への滲出面積が水砕
スラグ堆積層のレベル上昇に伴って漸次拡大されていく
ことから、副脱水室からの脱水量が水砕スラグ堆積層の
レベル上昇に伴って増大する。しかも、副脱水室開口部
が、水砕スラグ堆積層のレベル変動に拘わらず、常に、
水砕スラグ堆積層の上下方向における略全領域に亘って
開放されることになるから、つまりスラリ水の副脱水室
への流動が水砕スラグ堆積層の上下方向における略全領
域において行われることになるから、スラグウール等の
微細固形物質が上下方向における一箇所に集中せず、ス
ラリ水の流下経路を遮断するような高密度層が形成され
るようなことがない。仮令、微細固形物質の集中による
高密度層が形成されるようなことがあっても、それは上
下方向に延びる副脱水室開口部に向かう略水平方向のス
ラリ水流動によって上下方向に沿って形成されることに
なり、高密度層の形成がスラリ水の流下を妨げるような
虞れはない。つまり、チョーキング現象はこれが全く生
じない。したがって、時間の経過と共に脱水量が低下す
るようなことがなく、脱水効率が大幅に向上する。また
、副脱水室開口部における水砕スラグ堆積層のレベルよ
り高位の部分はシャッタ部材によって閉塞されているか
ら、水砕スラグ堆積層上の滞留するスラリ水が副脱水室
に侵入することがない。したがって、脱水槽からは、水
砕スラグ堆積層によるサンドフィルタ作用を受けること
によって固形物質を殆ど排除された清浄水のみが排出さ
れることになり、その排出水を冒頭で述べた如き支障を
生ずるなく良好に再使用することができる。
水槽内に水砕スラグが沈降して水砕スラグ堆積層が形成
され、水砕スラグ堆積層の上面レベルが脱水室の開口部
を超えた時点で脱水室からの脱水が開始される。そして
、水砕スラグ堆積層の上面レベルが副脱水室の下端部を
超えると、シャッタ部材が上昇して副脱水室開口部の下
端側部分が開放され、副脱水室からの脱水が開始される
。爾後、水砕スラグ堆積層の上面レベルが上昇するに従
って、その上昇量に応じた量だけシャッタ部材が上昇さ
れていく。すなわち、副脱水室開口部の開放領域が、水
砕スラグ堆積層のレベル上昇に応じて上方に拡大されて
いく。なお、この開放領域は、水砕スラグ堆積層上まで
拡大されることはない。このように、副脱水室開口部の
開放領域つまりスラリ水の副脱水室への滲出面積が水砕
スラグ堆積層のレベル上昇に伴って漸次拡大されていく
ことから、副脱水室からの脱水量が水砕スラグ堆積層の
レベル上昇に伴って増大する。しかも、副脱水室開口部
が、水砕スラグ堆積層のレベル変動に拘わらず、常に、
水砕スラグ堆積層の上下方向における略全領域に亘って
開放されることになるから、つまりスラリ水の副脱水室
への流動が水砕スラグ堆積層の上下方向における略全領
域において行われることになるから、スラグウール等の
微細固形物質が上下方向における一箇所に集中せず、ス
ラリ水の流下経路を遮断するような高密度層が形成され
るようなことがない。仮令、微細固形物質の集中による
高密度層が形成されるようなことがあっても、それは上
下方向に延びる副脱水室開口部に向かう略水平方向のス
ラリ水流動によって上下方向に沿って形成されることに
なり、高密度層の形成がスラリ水の流下を妨げるような
虞れはない。つまり、チョーキング現象はこれが全く生
じない。したがって、時間の経過と共に脱水量が低下す
るようなことがなく、脱水効率が大幅に向上する。また
、副脱水室開口部における水砕スラグ堆積層のレベルよ
り高位の部分はシャッタ部材によって閉塞されているか
ら、水砕スラグ堆積層上の滞留するスラリ水が副脱水室
に侵入することがない。したがって、脱水槽からは、水
砕スラグ堆積層によるサンドフィルタ作用を受けること
によって固形物質を殆ど排除された清浄水のみが排出さ
れることになり、その排出水を冒頭で述べた如き支障を
生ずるなく良好に再使用することができる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の構成を図1〜図3に示す実施
例に基づいて具体的に説明する。図1に示す脱水処理装
置において、1は脱水槽、2は脱水室、3は副脱水室、
4はシャッタ部材、5はシャッタ操作機構である。脱水
槽1にはその上部の供給口1aから水砕スラグスラリ6
が供給され、脱水処理された水砕スラグ6aは槽底部の
取出口1b,1bから取出されるようになっている。脱
水室2は、脱水槽1の下部に設けられており、脱水槽1
の全周に亘る環形状とされている。脱水室2の内周部は
脱水槽1内に開口されており、その開口部2aには水透
過スクリーン7が張設されている。このスクリーン7と
しては、例えば図2に示す如く、断面台形状の杆材7a
…を組合せてなるウエッジワイヤスクリーンが使用され
る。また、脱水室2には排水路8が接続されていて、排
水路8の開閉弁8aを開操作することによりスラリ水6
bが水砕スラグ堆積層6Aから脱水室2に滲出され、脱
水室2から排水路8に排出されるようになっている。な
お、排水路8は、従来装置におけると同様に温水槽に導
かれている。副脱水室3は、図1及び図3に示す如く、
脱水槽1の略中心部に固定配置されており、脱水室2の
開口位置近傍から上方に延びる開口部3aを有し且つそ
の開口部3aに水透過スクリーン9を張設してなる。こ
の実施例では、副脱水室3が上下端部を閉塞された方形
筒状に構成されており、周壁部が、これを前記したと同
様のウエッジワイヤスクリーン9で形成することによっ
て、上下方向及び周方向において全面的に開口3aされ
ている。副脱水室3には、前記温水槽に導かれた排水路
10が接続されていて、排水路10の開閉弁10aを開
操作することによりスラリ水6bが水砕スラグ堆積層6
Aから副脱水室3に滲出され、排水路10を経て温水槽
に排出されるようになっている。シャッタ部材4は、図
1及び図3に示す如く、副脱水室3に上方から嵌挿させ
た方形筒体で構成されており、昇降により開口部3aの
開放領域をその下端部を基準として上下方向に増減させ
うるようになっている。すなわち、シャッタ部材4を下
降させていくことにより開口部3aが上端側から漸次閉
塞せしめられていき、逆に、上昇させていくことにより
開口部3aが下端側から漸次開放せしめられていく。シ
ャッタ操作機構5は、図1に示す如く、シャッタ部材4
を昇降させる昇降駆動手段11と水砕スラグ堆積層6A
の上面レベルを検出するレベル検出器12と検出器12
による検出レベルに基づいて駆動手段11を制御する制
御器13とを具備して、水砕スラグ堆積槽6Aのレベル
変動に応じてシャッタ部材4を昇降制御し、副脱水室3
の開口部3aにおける水砕スラグ堆積層6Aの上面レベ
ルより下方側の部分のみを開放させるようになっている
。なお、昇降駆動手段11としては、例えば図1に示す
如く、シャッタ部材4を巻き上げロープ11aで懸吊し
て、このロープ11aを巻き上げ駆動するように構成し
たものが使用される。なお、この実施例では、脱水室2
及び副脱水室3内に配設したノズル管14に洗浄水噴出
路15を導いてあって、噴出路15から脱水室2,3内
に洗浄水を噴出させることにより、スクリーン7,9を
洗浄しうるように工夫してある。以上のように構成され
た脱水処理装置にあっては、脱水槽1に水砕スラグスラ
リ6が供給されると、脱水槽1内に水砕スラグ6aが沈
降して水砕スラグ堆積層6Aが形成され、水砕スラグ堆
積層6Aの上面レベルが脱水室2の開口部2aを超えた
時点で開閉弁8aを開操作することにより、脱水室2か
らの脱水が開始される。また、水砕スラグ堆積層6Aの
上面レベルが副脱水室3の下端部を超えると、シャッタ
部材4により副脱水室開口部3aの下端側部分が開放さ
れ、副脱水室3からの脱水が開始される。爾後、水砕ス
ラグ堆積層6Aのレベル上昇に伴って、シャッタ部材4
による開口部3aの開放量が漸次増加されていく。この
ように、副脱水室開口部3aの開放領域が水砕スラグ堆
積層6Aのレベル上昇に伴って上方に拡大されていくこ
とから、副脱水室3からの脱水量が水砕スラグ堆積層6
Aのレベル上昇に伴って増大する。しかも、副脱水室開
口部3aが、水砕スラグ堆積層6Aのレベル変動に拘わ
らず、常に、水砕スラグ堆積層6Aの上下方向における
略全領域に亘って開放されることになるから、つまりス
ラリ水6bの副脱水室3への流動が水砕スラグ堆積層6
Aの上下方向における略全領域において行われることに
なるから、スラグウール等の微細固形物質が上下方向に
おける一箇所に集中せず、スラリ水6bの流下経路を遮
断するような高密度層6Bが形成されるようなことがな
い。仮令、微細固形物質の集中による高密度層6Bが形
成されるようなことがあっても、それは上下方向に延び
る副脱水室開口部3aに向かう略水平方向のスラリ水流
動によって上下方向に沿って形成されることになり(図
1参照)、高密度層6Bの形成がスラリ水6bの流下を
妨げるような虞れがなく、チョーキング現象は生じない
。したがって、時間の経過と共に脱水量が低下するよう
なことがなく、脱水効率が大幅に向上する。また、副脱
水室開口部3aにおける水砕スラグ堆積層6Aのレベル
より高位の部分はシャッタ部材4によって閉塞されてい
るから、水砕スラグ堆積層6a上の滞留するスラリ水6
bが副脱水室3に侵入することがない。したがって、排
水路8,10から温水槽には、水砕スラグ堆積層6Aに
よるサンドフィルタ作用を受けることによって固形物質
を殆ど排除された清浄水のみが排出されることになり、
脱水槽1からの排出水を支障なく再使用することができ
る。
例に基づいて具体的に説明する。図1に示す脱水処理装
置において、1は脱水槽、2は脱水室、3は副脱水室、
4はシャッタ部材、5はシャッタ操作機構である。脱水
槽1にはその上部の供給口1aから水砕スラグスラリ6
が供給され、脱水処理された水砕スラグ6aは槽底部の
取出口1b,1bから取出されるようになっている。脱
水室2は、脱水槽1の下部に設けられており、脱水槽1
の全周に亘る環形状とされている。脱水室2の内周部は
脱水槽1内に開口されており、その開口部2aには水透
過スクリーン7が張設されている。このスクリーン7と
しては、例えば図2に示す如く、断面台形状の杆材7a
…を組合せてなるウエッジワイヤスクリーンが使用され
る。また、脱水室2には排水路8が接続されていて、排
水路8の開閉弁8aを開操作することによりスラリ水6
bが水砕スラグ堆積層6Aから脱水室2に滲出され、脱
水室2から排水路8に排出されるようになっている。な
お、排水路8は、従来装置におけると同様に温水槽に導
かれている。副脱水室3は、図1及び図3に示す如く、
脱水槽1の略中心部に固定配置されており、脱水室2の
開口位置近傍から上方に延びる開口部3aを有し且つそ
の開口部3aに水透過スクリーン9を張設してなる。こ
の実施例では、副脱水室3が上下端部を閉塞された方形
筒状に構成されており、周壁部が、これを前記したと同
様のウエッジワイヤスクリーン9で形成することによっ
て、上下方向及び周方向において全面的に開口3aされ
ている。副脱水室3には、前記温水槽に導かれた排水路
10が接続されていて、排水路10の開閉弁10aを開
操作することによりスラリ水6bが水砕スラグ堆積層6
Aから副脱水室3に滲出され、排水路10を経て温水槽
に排出されるようになっている。シャッタ部材4は、図
1及び図3に示す如く、副脱水室3に上方から嵌挿させ
た方形筒体で構成されており、昇降により開口部3aの
開放領域をその下端部を基準として上下方向に増減させ
うるようになっている。すなわち、シャッタ部材4を下
降させていくことにより開口部3aが上端側から漸次閉
塞せしめられていき、逆に、上昇させていくことにより
開口部3aが下端側から漸次開放せしめられていく。シ
ャッタ操作機構5は、図1に示す如く、シャッタ部材4
を昇降させる昇降駆動手段11と水砕スラグ堆積層6A
の上面レベルを検出するレベル検出器12と検出器12
による検出レベルに基づいて駆動手段11を制御する制
御器13とを具備して、水砕スラグ堆積槽6Aのレベル
変動に応じてシャッタ部材4を昇降制御し、副脱水室3
の開口部3aにおける水砕スラグ堆積層6Aの上面レベ
ルより下方側の部分のみを開放させるようになっている
。なお、昇降駆動手段11としては、例えば図1に示す
如く、シャッタ部材4を巻き上げロープ11aで懸吊し
て、このロープ11aを巻き上げ駆動するように構成し
たものが使用される。なお、この実施例では、脱水室2
及び副脱水室3内に配設したノズル管14に洗浄水噴出
路15を導いてあって、噴出路15から脱水室2,3内
に洗浄水を噴出させることにより、スクリーン7,9を
洗浄しうるように工夫してある。以上のように構成され
た脱水処理装置にあっては、脱水槽1に水砕スラグスラ
リ6が供給されると、脱水槽1内に水砕スラグ6aが沈
降して水砕スラグ堆積層6Aが形成され、水砕スラグ堆
積層6Aの上面レベルが脱水室2の開口部2aを超えた
時点で開閉弁8aを開操作することにより、脱水室2か
らの脱水が開始される。また、水砕スラグ堆積層6Aの
上面レベルが副脱水室3の下端部を超えると、シャッタ
部材4により副脱水室開口部3aの下端側部分が開放さ
れ、副脱水室3からの脱水が開始される。爾後、水砕ス
ラグ堆積層6Aのレベル上昇に伴って、シャッタ部材4
による開口部3aの開放量が漸次増加されていく。この
ように、副脱水室開口部3aの開放領域が水砕スラグ堆
積層6Aのレベル上昇に伴って上方に拡大されていくこ
とから、副脱水室3からの脱水量が水砕スラグ堆積層6
Aのレベル上昇に伴って増大する。しかも、副脱水室開
口部3aが、水砕スラグ堆積層6Aのレベル変動に拘わ
らず、常に、水砕スラグ堆積層6Aの上下方向における
略全領域に亘って開放されることになるから、つまりス
ラリ水6bの副脱水室3への流動が水砕スラグ堆積層6
Aの上下方向における略全領域において行われることに
なるから、スラグウール等の微細固形物質が上下方向に
おける一箇所に集中せず、スラリ水6bの流下経路を遮
断するような高密度層6Bが形成されるようなことがな
い。仮令、微細固形物質の集中による高密度層6Bが形
成されるようなことがあっても、それは上下方向に延び
る副脱水室開口部3aに向かう略水平方向のスラリ水流
動によって上下方向に沿って形成されることになり(図
1参照)、高密度層6Bの形成がスラリ水6bの流下を
妨げるような虞れがなく、チョーキング現象は生じない
。したがって、時間の経過と共に脱水量が低下するよう
なことがなく、脱水効率が大幅に向上する。また、副脱
水室開口部3aにおける水砕スラグ堆積層6Aのレベル
より高位の部分はシャッタ部材4によって閉塞されてい
るから、水砕スラグ堆積層6a上の滞留するスラリ水6
bが副脱水室3に侵入することがない。したがって、排
水路8,10から温水槽には、水砕スラグ堆積層6Aに
よるサンドフィルタ作用を受けることによって固形物質
を殆ど排除された清浄水のみが排出されることになり、
脱水槽1からの排出水を支障なく再使用することができ
る。
【0008】本発明に係る脱水処理装置は、上記実施例
に限定されるものではなく、本発明の基本原理を逸脱し
ない範囲において適宜に改良,変更することができる。 例えば、図4に示す如く、脱水槽1の下部に空気又は蒸
気16aを噴出させるバブリング管16を配設して、水
砕スラグ堆積層6Aをバブリングにより攪拌させるよう
にしておいてもよい。このようにすると、高密度層6B
の形成を未然に防止し、或いは発生した高密度層6Bを
破壊する等の効果が期待され、スラリ水6bの水砕スラ
グ堆積層6Aでの通過抵抗を減じて、脱水効率の更なる
向上を図ることができる。また、副脱水室3の設置数は
脱水槽1の大きさ等に応じて任意でできる。また、シャ
ッタ操作機構5は、シャッタ部材4を水砕スラグ堆積層
6Aの上面レベルに応じて人為的に昇降制御させるもの
でもよい。
に限定されるものではなく、本発明の基本原理を逸脱し
ない範囲において適宜に改良,変更することができる。 例えば、図4に示す如く、脱水槽1の下部に空気又は蒸
気16aを噴出させるバブリング管16を配設して、水
砕スラグ堆積層6Aをバブリングにより攪拌させるよう
にしておいてもよい。このようにすると、高密度層6B
の形成を未然に防止し、或いは発生した高密度層6Bを
破壊する等の効果が期待され、スラリ水6bの水砕スラ
グ堆積層6Aでの通過抵抗を減じて、脱水効率の更なる
向上を図ることができる。また、副脱水室3の設置数は
脱水槽1の大きさ等に応じて任意でできる。また、シャ
ッタ操作機構5は、シャッタ部材4を水砕スラグ堆積層
6Aの上面レベルに応じて人為的に昇降制御させるもの
でもよい。
【0009】
【発明の効果】以上の説明から容易に理解されるように
、本発明によれば、水砕スラグ堆積層のレベルに拘わら
ず、水砕スラグ堆積層の上下方向おける略全域から脱水
させることができるから、チョーキング現象を生じたり
することなく、脱水効率を大幅に向上させうる。しかも
、脱水槽からは水砕スラグ堆積層によるサンドフィルタ
作用を受けた清浄水のみが排出されることになり、その
再使用を支障なく行いうる。
、本発明によれば、水砕スラグ堆積層のレベルに拘わら
ず、水砕スラグ堆積層の上下方向おける略全域から脱水
させることができるから、チョーキング現象を生じたり
することなく、脱水効率を大幅に向上させうる。しかも
、脱水槽からは水砕スラグ堆積層によるサンドフィルタ
作用を受けた清浄水のみが排出されることになり、その
再使用を支障なく行いうる。
【図1】本発明に係る脱水処理装置の一実施例を示す縦
断側面図である。
断側面図である。
【図2】図1のII−II線に沿う要部の横断平面図で
ある。
ある。
【図3】図1のIII−III線に沿う要部の横断平面
図である。
図である。
【図4】他の実施例を示す縦断側面図である。
【図5】従来装置を示す縦断側面図である。
1 脱水槽
2 脱水室
2a 脱水室の開口部
3 副脱水室
3a 副脱水室の開口部
4 シャッタ部材
5 シャッタ操作機構
6 水砕スラグスラリ
6A 水砕スラグ堆積層
6a 水砕スラグ
6b スラリ水
7 水透過スクリーン
8 排水路
9 水透過スクリーン
10 排水路
Claims (1)
- 【請求項1】 脱水槽の下部に、脱水槽内に開口され
且つその開口部に水透過スクリーンを張設した脱水室を
設けて、脱水槽内に沈降形成される水砕スラグ堆積層か
ら脱水室へとスラリ水を滲出させるように構成された脱
水処理装置において、排水路に連通接続されて脱水槽の
略中心部に配設されており、脱水室の開口位置近傍から
上方に延びる開口部を有し且つその開口部に水透過スク
リーンを張設してなる副脱水室と、副脱水室の開口部を
開閉すべく昇降自在であり、昇降により開口部の開放領
域をその下端部を基準として上下方向に増減させうるシ
ャッタ部材と、水砕スラグ堆積層の上面レベルに基づい
てシャッタ部材を昇降操作して、副脱水室の開口部にお
ける水砕スラグ堆積層の上面レベルより下方側の部分の
みを開放させるシャッタ操作機構と、を具備することを
特徴とする水砕スラグスラリの脱水処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3014021A JPH04235706A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 水砕スラグスラリの脱水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3014021A JPH04235706A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 水砕スラグスラリの脱水処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04235706A true JPH04235706A (ja) | 1992-08-24 |
Family
ID=11849537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3014021A Pending JPH04235706A (ja) | 1991-01-11 | 1991-01-11 | 水砕スラグスラリの脱水処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04235706A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006095417A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレートスラリーの脱水塔 |
-
1991
- 1991-01-11 JP JP3014021A patent/JPH04235706A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006095417A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレートスラリーの脱水塔 |
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