JPH04236241A - 不透明化処理方法およびその装置 - Google Patents
不透明化処理方法およびその装置Info
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- JPH04236241A JPH04236241A JP3016068A JP1606891A JPH04236241A JP H04236241 A JPH04236241 A JP H04236241A JP 3016068 A JP3016068 A JP 3016068A JP 1606891 A JP1606891 A JP 1606891A JP H04236241 A JPH04236241 A JP H04236241A
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラスなどの透明部材を
エッチングなどにより部分的に不透明にする不透明化処
理方法およびその装置に関する。
エッチングなどにより部分的に不透明にする不透明化処
理方法およびその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス基板などの透明部材のある微小領
域を部分的に不透明にすることがある。たとえば，超Ｌ
ＳＩで用いるホトマスクは，石英ガラス上にＣｒ薄膜に
て微細なパターンを形成することによって製作されるが
，部分的欠陥，特にＣｒ薄膜が部分的に欠けた白欠陥が
生じると，マスクとしての用途をなさない。ガラス基板
を不透明にする方法，換言すれば，可視光を遮光する方
法としては，通常，機械的な処理，たとえば，サンドブ
ラストをかける方法，化学的処理方法，着色する方法な
どが知られている。
域を部分的に不透明にすることがある。たとえば，超Ｌ
ＳＩで用いるホトマスクは，石英ガラス上にＣｒ薄膜に
て微細なパターンを形成することによって製作されるが
，部分的欠陥，特にＣｒ薄膜が部分的に欠けた白欠陥が
生じると，マスクとしての用途をなさない。ガラス基板
を不透明にする方法，換言すれば，可視光を遮光する方
法としては，通常，機械的な処理，たとえば，サンドブ
ラストをかける方法，化学的処理方法，着色する方法な
どが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
方法は，以下に述べる問題に遭遇する。機械的方法は，
透明部材に接触させて不透明化処理を行う際，不透明処
理を行うべき微小な領域の周辺部分も不透明にしてしま
う場合があり，微小な領域を不透明にするのに適さない
という問題がある。また，不透明度が充分に得られない
という問題がある。化学的処理方法は，処理時間がかか
るという問題の他，化学溶剤が周辺部分にも広がること
があり，微小な領域を不透明にするのに適さない。また
，充分な不透明度が得られないという問題がある。着色
方法は，着色剤が不透明処理領域の周囲に及んで周辺部
分も不透明になるという問題の他，加熱により着色変化
するという問題がある。また，着色剤の熱的，化学的変
化などにより長期的安定さに欠けるなどの問題がある。
方法は，以下に述べる問題に遭遇する。機械的方法は，
透明部材に接触させて不透明化処理を行う際，不透明処
理を行うべき微小な領域の周辺部分も不透明にしてしま
う場合があり，微小な領域を不透明にするのに適さない
という問題がある。また，不透明度が充分に得られない
という問題がある。化学的処理方法は，処理時間がかか
るという問題の他，化学溶剤が周辺部分にも広がること
があり，微小な領域を不透明にするのに適さない。また
，充分な不透明度が得られないという問題がある。着色
方法は，着色剤が不透明処理領域の周囲に及んで周辺部
分も不透明になるという問題の他，加熱により着色変化
するという問題がある。また，着色剤の熱的，化学的変
化などにより長期的安定さに欠けるなどの問題がある。
【０００４】したがって，本発明は，処理が簡単で短時
間で処理でき，充分な不透明度が達成でき，熱的，化学
的に安定で長期的に変化がない，透明部材のある領域を
不透明にする処理方法およびその装置を提供することを
目的とする。
間で処理でき，充分な不透明度が達成でき，熱的，化学
的に安定で長期的に変化がない，透明部材のある領域を
不透明にする処理方法およびその装置を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
，本発明は，レーザービーム光，より好適的には，エキ
シマ・レーザービーム光を用いて透明部材の所定領域に
粗面を形成し，その粗面に微小有底孔を形成して透明部
材の所定領域を不透明にするという構想に基づく。した
がって，本発明によれば，口径の大きなレーザービーム
光の照射により透明部材の不透明にする領域を粗面化し
，次いで，口径の小さい複数のレーザービーム光を上記
粗面化領域に照射させてそれぞれが所定の深さを有し相
互に所定の間隔を隔てられた小さい径の複数の有底孔を
形成して上記透明部材の所定領域を不透明にする方法が
提供される。また，本発明によれば，口径の小さい複数
のレーザービーム光を透明部材の不透明にする領域に照
射させてそれぞれが所定の深さを有し相互に所定の間隔
を隔てられた小さい径の複数の有底孔を形成し，次いで
，口径の大きいレーザービーム光を上記複数の有底孔が
形成された領域に照射して該領域を粗面化して上記透明
部材の所定領域を不透明にする方法が提供される。好適
には，上記レーザービーム光はエキシマレーザー光であ
る。さらに本発明によれば，上記方法を実施する装置，
すなわち，レーザー光源と，このレーザー光源からのレ
ーザービーム光を透明部材の不透明化領域に収束させる
光学手段とを有する不透明化処理装置であって，上記光
学手段と協働し，レーザー光源からのレーザービーム光
を透明部材の不透明化領域に照射させる大きさの開口を
有する第１の遮光手段，および，光学手段と協働し，レ
ーザー光源からのレーザービーム光を相互に所定の間隔
を隔てられた小さい径のビーム光にして上記不透明化領
域に照射させる開口径の小さい複数の開口を有する第２
の遮光手段を上記レーザー光源と光学手段との間に挿入
し，レーザービーム光の照射により，透明部材の表面を
粗面，および，口径の小さい複数の有底孔を形成する，
不透明化処理装置が提供される。好適には，前記レーザ
ー光源はエキシマレーザー光源である。第１の遮光手段
の挿入と第２の遮光手段の挿入順序はいずれが先でもよ
い。すなわち，第１の遮光手段を挿入して該透明部材の
表面を粗面化し，次いで，第２の遮光手段を挿入して該
粗面化された面に複数の有底孔を形成させてもよく，あ
るいは，第２の遮光手段を挿入して該透明部材の表面に
複数の有底孔を形成し，次いで，第１の遮光手段を挿入
して該有底孔が形成された面を粗面化してもよい。
，本発明は，レーザービーム光，より好適的には，エキ
シマ・レーザービーム光を用いて透明部材の所定領域に
粗面を形成し，その粗面に微小有底孔を形成して透明部
材の所定領域を不透明にするという構想に基づく。した
がって，本発明によれば，口径の大きなレーザービーム
光の照射により透明部材の不透明にする領域を粗面化し
，次いで，口径の小さい複数のレーザービーム光を上記
粗面化領域に照射させてそれぞれが所定の深さを有し相
互に所定の間隔を隔てられた小さい径の複数の有底孔を
形成して上記透明部材の所定領域を不透明にする方法が
提供される。また，本発明によれば，口径の小さい複数
のレーザービーム光を透明部材の不透明にする領域に照
射させてそれぞれが所定の深さを有し相互に所定の間隔
を隔てられた小さい径の複数の有底孔を形成し，次いで
，口径の大きいレーザービーム光を上記複数の有底孔が
形成された領域に照射して該領域を粗面化して上記透明
部材の所定領域を不透明にする方法が提供される。好適
には，上記レーザービーム光はエキシマレーザー光であ
る。さらに本発明によれば，上記方法を実施する装置，
すなわち，レーザー光源と，このレーザー光源からのレ
ーザービーム光を透明部材の不透明化領域に収束させる
光学手段とを有する不透明化処理装置であって，上記光
学手段と協働し，レーザー光源からのレーザービーム光
を透明部材の不透明化領域に照射させる大きさの開口を
有する第１の遮光手段，および，光学手段と協働し，レ
ーザー光源からのレーザービーム光を相互に所定の間隔
を隔てられた小さい径のビーム光にして上記不透明化領
域に照射させる開口径の小さい複数の開口を有する第２
の遮光手段を上記レーザー光源と光学手段との間に挿入
し，レーザービーム光の照射により，透明部材の表面を
粗面，および，口径の小さい複数の有底孔を形成する，
不透明化処理装置が提供される。好適には，前記レーザ
ー光源はエキシマレーザー光源である。第１の遮光手段
の挿入と第２の遮光手段の挿入順序はいずれが先でもよ
い。すなわち，第１の遮光手段を挿入して該透明部材の
表面を粗面化し，次いで，第２の遮光手段を挿入して該
粗面化された面に複数の有底孔を形成させてもよく，あ
るいは，第２の遮光手段を挿入して該透明部材の表面に
複数の有底孔を形成し，次いで，第１の遮光手段を挿入
して該有底孔が形成された面を粗面化してもよい。
【０００６】
【作用】口径の大きいレーザービーム光を透明部材に照
射すると，透明部材の面がエッチングされ粗面化される
。この粗面にされた面に口径の小さい複数のレーザービ
ーム光を照射すると口径の小さい有底孔が形成される。 粗面と複数の口径の小さい有底孔とが透明部材を不透明
にする。透明部材を不透明にする方法としては，粗面化
のあとに口径の小さい複数の有底孔を形成しても，ある
いは，口径の小さい複数の有底孔を形成した後，粗面化
してもよい。
射すると，透明部材の面がエッチングされ粗面化される
。この粗面にされた面に口径の小さい複数のレーザービ
ーム光を照射すると口径の小さい有底孔が形成される。 粗面と複数の口径の小さい有底孔とが透明部材を不透明
にする。透明部材を不透明にする方法としては，粗面化
のあとに口径の小さい複数の有底孔を形成しても，ある
いは，口径の小さい複数の有底孔を形成した後，粗面化
してもよい。
【０００７】
【実施例】図１に本発明の実施例の不透明化処理装置の
構成図を示す。この不透明化処理装置は，レーザー光源
１，偏向手段としての反射板（反射ミラー）５，収束レ
ンズ６，不透明加工をするガラス板７が載置された載置
台８からなる。レーザー光源１は反射板５との間には，
第１の遮光板（または透光板）２と第２の遮光板（また
は透光板）３が配設（挿入）される。
構成図を示す。この不透明化処理装置は，レーザー光源
１，偏向手段としての反射板（反射ミラー）５，収束レ
ンズ６，不透明加工をするガラス板７が載置された載置
台８からなる。レーザー光源１は反射板５との間には，
第１の遮光板（または透光板）２と第２の遮光板（また
は透光板）３が配設（挿入）される。
【０００８】第１の遮光板２および第２の遮光板３の平
面図を図２（ａ），（ｂ）に示す。第１の遮光板２はレ
ーザー光源１からのレーザービーム光を開口部２１のみ
を通過させて，レーザービーム光の口径を所定の大きさ
に絞るためのものである。つまり，第１の遮光板２の開
口部２１の大きさと収束レンズ６の倍率（縮小率）とを
組み合わせて，図３に示すガラス板７内の所定の領域７
Ａ〜７Ｃなどとほぼ同じ大きさ，あるいは，数分の１程
度の大きさを規定する。また，第２の遮光板３は破線で
示した第１の遮光板２の開口部２１の大きさの範囲内に
複数の開口３１〜３９が穿孔されており，レーザー光源
１からのレーザービーム光を開口３１〜３９の数に分割
し，それぞれのレーザービーム光の口径を絞るものであ
る。つまり，第２の遮光板３の開口３１〜３９は収束レ
ンズ６の倍率と組み合わせて，第１の遮光板２の開口部
２１と収束レンズ６とによって規定されるガラス板７内
の領域内に口径の小さい複数の孔を規定する。
面図を図２（ａ），（ｂ）に示す。第１の遮光板２はレ
ーザー光源１からのレーザービーム光を開口部２１のみ
を通過させて，レーザービーム光の口径を所定の大きさ
に絞るためのものである。つまり，第１の遮光板２の開
口部２１の大きさと収束レンズ６の倍率（縮小率）とを
組み合わせて，図３に示すガラス板７内の所定の領域７
Ａ〜７Ｃなどとほぼ同じ大きさ，あるいは，数分の１程
度の大きさを規定する。また，第２の遮光板３は破線で
示した第１の遮光板２の開口部２１の大きさの範囲内に
複数の開口３１〜３９が穿孔されており，レーザー光源
１からのレーザービーム光を開口３１〜３９の数に分割
し，それぞれのレーザービーム光の口径を絞るものであ
る。つまり，第２の遮光板３の開口３１〜３９は収束レ
ンズ６の倍率と組み合わせて，第１の遮光板２の開口部
２１と収束レンズ６とによって規定されるガラス板７内
の領域内に口径の小さい複数の孔を規定する。
【０００９】以下，図１の不透明化処理装置の動作につ
いて，図３および図４を参照して述べる。図３はガラス
板７の平面図を示す。この例においては，ガラス板７の
微小領域７Ａ，７Ｂ，７Ｃを不透明にするものとする。
いて，図３および図４を参照して述べる。図３はガラス
板７の平面図を示す。この例においては，ガラス板７の
微小領域７Ａ，７Ｂ，７Ｃを不透明にするものとする。
【００１０】図１において，まず，第１段階の加工処理
として，第１の遮光板２のみが配設される。この状態に
おいて，ガラス板７の第１の不透明化処理領域７Ａが収
束レンズ６の真下に位置するように，図示しない移動機
構によって載置台８が移動されガラス板７を位置決めす
る。第１の遮光板２のみが挿入された状態でレーザー光
源１を付勢してビーム光を射出させると第１の遮光板２
で遮光され，図示実線で示すように開口部２１を通過し
たレーザービーム光のみが反射板５に向けて出力される
。このレーザービーム光は反射板５で９０度偏向されて
収束レンズ６に入射し，収束レンズ６で収束されてガラ
ス板７の表面の領域７Ａを照射する。ガラス板７の領域
７Ａをレーザービーム光で照射させるに際しては，レー
ザービーム光のエネルギー密度と，第１の遮光板２の開
口部２１の大きさと収束レンズ６の縮小率（倍率）との
関係で，一度に領域７Ａ全体を照射させることもできる
し，複数回，たとえば，４回前後左右に載置台８を移動
させて領域７Ａをカバーするようこともできる。レーザ
ービーム光が所定の周期（時間間隔）で所定回数，断続
的に照射されると，図４（ａ）に示すようにガラス表面
７１がエッチングされて粗面化され，粗面７２が形成さ
れる。
として，第１の遮光板２のみが配設される。この状態に
おいて，ガラス板７の第１の不透明化処理領域７Ａが収
束レンズ６の真下に位置するように，図示しない移動機
構によって載置台８が移動されガラス板７を位置決めす
る。第１の遮光板２のみが挿入された状態でレーザー光
源１を付勢してビーム光を射出させると第１の遮光板２
で遮光され，図示実線で示すように開口部２１を通過し
たレーザービーム光のみが反射板５に向けて出力される
。このレーザービーム光は反射板５で９０度偏向されて
収束レンズ６に入射し，収束レンズ６で収束されてガラ
ス板７の表面の領域７Ａを照射する。ガラス板７の領域
７Ａをレーザービーム光で照射させるに際しては，レー
ザービーム光のエネルギー密度と，第１の遮光板２の開
口部２１の大きさと収束レンズ６の縮小率（倍率）との
関係で，一度に領域７Ａ全体を照射させることもできる
し，複数回，たとえば，４回前後左右に載置台８を移動
させて領域７Ａをカバーするようこともできる。レーザ
ービーム光が所定の周期（時間間隔）で所定回数，断続
的に照射されると，図４（ａ）に示すようにガラス表面
７１がエッチングされて粗面化され，粗面７２が形成さ
れる。
【００１１】次いで，第２段階の加工処理を行う。この
段階においては，第１の遮光板２と第２の遮光板３とを
密着させて両者ともレーザー光源１と反射板５との間に
挿入する。再び，レーザー光源１を付勢させてレーザー
光源１からレーザービーム光を第１の遮光板２および第
２の遮光板３に向けて射出させる。このレーザービーム
光は第１の遮光板２で遮光されて，開口部２１を通過し
たレーザービーム光がさらに第２の遮光板３の複数の開
口３１〜３９のみ通過しレーザービーム光の口径がさら
に絞られた複数のレーザービーム光として反射板５を介
して収束レンズ６に入射され，収束レンズ６で収束され
てガラス板７の上記粗面７２を照射する。この照射も所
定の周期で複数回，断続的にレーザー光源１を付勢して
行う。複数の開口３１〜３９を通過したレーザービーム
光の口径は絞られており，これら絞られた複数のレーザ
ービーム光によって，図４（ｂ）に示すように粗面７２
には複数の有底孔７３が穿孔（形成）される。
段階においては，第１の遮光板２と第２の遮光板３とを
密着させて両者ともレーザー光源１と反射板５との間に
挿入する。再び，レーザー光源１を付勢させてレーザー
光源１からレーザービーム光を第１の遮光板２および第
２の遮光板３に向けて射出させる。このレーザービーム
光は第１の遮光板２で遮光されて，開口部２１を通過し
たレーザービーム光がさらに第２の遮光板３の複数の開
口３１〜３９のみ通過しレーザービーム光の口径がさら
に絞られた複数のレーザービーム光として反射板５を介
して収束レンズ６に入射され，収束レンズ６で収束され
てガラス板７の上記粗面７２を照射する。この照射も所
定の周期で複数回，断続的にレーザー光源１を付勢して
行う。複数の開口３１〜３９を通過したレーザービーム
光の口径は絞られており，これら絞られた複数のレーザ
ービーム光によって，図４（ｂ）に示すように粗面７２
には複数の有底孔７３が穿孔（形成）される。
【００１２】以上の加工処理によって，ガラス板７のガ
ラス表面７１近傍に粗面７２，そして，相互に所定の間
隔を隔てて形成され，それぞれがある深さを有する複数
の有底孔７３が形成されると，この領域７Ａでは可視光
が通過しなくなる。すなわち領域７Ａは不透明になる。
ラス表面７１近傍に粗面７２，そして，相互に所定の間
隔を隔てて形成され，それぞれがある深さを有する複数
の有底孔７３が形成されると，この領域７Ａでは可視光
が通過しなくなる。すなわち領域７Ａは不透明になる。
【００１３】以上に述べた第１実施例の不透明化処理方
法についての実施例を以下に示す。 実施例 第１の加工処理段階（第１の遮光板２のみ挿入）条件（
１） レーザー光源１：ＫｒＦエキシマレーザー光源第１の遮
光板２：開口部２１の大きさ，Ｈ＝５ｍｍｘＷ＝５ｍｍ
板厚＝０．５ｍｍ，鉄製 反射板５：誘電体多層膜ミラー 収束レンズ６：合成石英ガラス製レンズ縮小率：１／１
０ したがって，開口部２１を通過したビーム光の大きさは
０．５ｍｍｘ０．５ｍｍとなる。 レーザービーム光のエネルギー密度：５Ｊ／ｃｍ２ ，
照射周期および回数：２００ＨＺ ，２００ショット不
透明化面積（７Ａの面積）：１ｍｍｘ１ｍｍ（載置台８
を０．５ｍｍｘ０．５ｍｍ単位で４回，前後左右に移動
して，７Ａの範囲を粗面化する。）結果（１）：粗面７
２のエッチング深さ＝１０μｍ第２の加工処理段階（第
１の遮光板２および第２の遮光板３を密着させて挿入） 条件（２） レーザー光源１：ＫｒＦエキシマレーザー光源第１の遮
光板２：上記同様 第２の遮光板３：開口３１〜３９の形状：円形開口３１
〜３９の口径＝０．１ｍｍ 開口３１〜３９相互の間隔 ｐ１＝０．２５ｍｍ，ｐ２＝０．２５ｍｍ材質：ＳＵＳ
３０４ 厚さ＝０．１ｍｍ 反射板５：同上 収束レンズ６：同上 縮小率１／１０であるから，複数の開口３１〜３９を通
過し，ガラス表面７１を照射するレーザービーム光の口
径は０．０１ｍｍとなる。 レーザービーム光のエネルギー密度：５Ｊ／ｃｍ２ ，
照射周期および回数：２００ＨＺ ，４００ショットエ
ッチング面積（７Ａの面積）：同上 （載置台８を０．５ｍｍｘ０．５ｍｍ単位で４回，前後
左右に移動して，この範囲７Ａに有底孔７３を形成する
。） 結果（２）：有底孔７３の深さ＝２０μｍ，有底穴７３
の口径＝０．０１ｍｍ粗面７２と複数の孔７３との組合
せにより，透過率５％以下の不透明度が得られた。
法についての実施例を以下に示す。 実施例 第１の加工処理段階（第１の遮光板２のみ挿入）条件（
１） レーザー光源１：ＫｒＦエキシマレーザー光源第１の遮
光板２：開口部２１の大きさ，Ｈ＝５ｍｍｘＷ＝５ｍｍ
板厚＝０．５ｍｍ，鉄製 反射板５：誘電体多層膜ミラー 収束レンズ６：合成石英ガラス製レンズ縮小率：１／１
０ したがって，開口部２１を通過したビーム光の大きさは
０．５ｍｍｘ０．５ｍｍとなる。 レーザービーム光のエネルギー密度：５Ｊ／ｃｍ２ ，
照射周期および回数：２００ＨＺ ，２００ショット不
透明化面積（７Ａの面積）：１ｍｍｘ１ｍｍ（載置台８
を０．５ｍｍｘ０．５ｍｍ単位で４回，前後左右に移動
して，７Ａの範囲を粗面化する。）結果（１）：粗面７
２のエッチング深さ＝１０μｍ第２の加工処理段階（第
１の遮光板２および第２の遮光板３を密着させて挿入） 条件（２） レーザー光源１：ＫｒＦエキシマレーザー光源第１の遮
光板２：上記同様 第２の遮光板３：開口３１〜３９の形状：円形開口３１
〜３９の口径＝０．１ｍｍ 開口３１〜３９相互の間隔 ｐ１＝０．２５ｍｍ，ｐ２＝０．２５ｍｍ材質：ＳＵＳ
３０４ 厚さ＝０．１ｍｍ 反射板５：同上 収束レンズ６：同上 縮小率１／１０であるから，複数の開口３１〜３９を通
過し，ガラス表面７１を照射するレーザービーム光の口
径は０．０１ｍｍとなる。 レーザービーム光のエネルギー密度：５Ｊ／ｃｍ２ ，
照射周期および回数：２００ＨＺ ，４００ショットエ
ッチング面積（７Ａの面積）：同上 （載置台８を０．５ｍｍｘ０．５ｍｍ単位で４回，前後
左右に移動して，この範囲７Ａに有底孔７３を形成する
。） 結果（２）：有底孔７３の深さ＝２０μｍ，有底穴７３
の口径＝０．０１ｍｍ粗面７２と複数の孔７３との組合
せにより，透過率５％以下の不透明度が得られた。
【００１４】実験によれば，複数の有底穴７３の深さは
深い方が不透明度が高くなることが判った。有底穴７３
の深さを深くするには，たとえば，上記ビーム光のショ
ット数を増加させる，または，レーザービーム光のエネ
ルギー密度を上げることなどにより実現できる。また，
上記ガラス板７に粗面７２を形成させ，さらに有底穴７
３を形成させるレーザー光源としては，上述したＫｒＦ
エキシマレーザー光源が好適であった。
深い方が不透明度が高くなることが判った。有底穴７３
の深さを深くするには，たとえば，上記ビーム光のショ
ット数を増加させる，または，レーザービーム光のエネ
ルギー密度を上げることなどにより実現できる。また，
上記ガラス板７に粗面７２を形成させ，さらに有底穴７
３を形成させるレーザー光源としては，上述したＫｒＦ
エキシマレーザー光源が好適であった。
【００１５】なお，不透明度をあまり大きくせず，ある
大きさの半透明度が要求される場合には，上記粗面化の
程度（深さ），および，微小な口径の有底孔の口径およ
び深さを適宜設定すればよい。
大きさの半透明度が要求される場合には，上記粗面化の
程度（深さ），および，微小な口径の有底孔の口径およ
び深さを適宜設定すればよい。
【００１６】上記実施例では，第２の加工処理段階にお
いて，第１の遮光板２と第２の遮光板３とを密着させて
挿入させたが，図２（ｂ）に示した第２の遮光板３のみ
を挿入させても，第１の遮光板２の開口部２１の範囲に
レーザー光源１からのレーザービーム光の口径を規制で
きるから，第２の遮光板３のみを用いてもよい。
いて，第１の遮光板２と第２の遮光板３とを密着させて
挿入させたが，図２（ｂ）に示した第２の遮光板３のみ
を挿入させても，第１の遮光板２の開口部２１の範囲に
レーザー光源１からのレーザービーム光の口径を規制で
きるから，第２の遮光板３のみを用いてもよい。
【００１７】本発明の不透明化処理方法としては，上述
した第１実施例の方法による，まず粗面７２の形成，次
いで複数の有底孔７３の形成といった順序だけでなく，
この逆の順序でも，上記同様の不透明度を得ることがで
きる。
した第１実施例の方法による，まず粗面７２の形成，次
いで複数の有底孔７３の形成といった順序だけでなく，
この逆の順序でも，上記同様の不透明度を得ることがで
きる。
【００１８】第２実施例の不透明化処理方法について述
べる。まず，第１の加工処理段階として，第１の遮光板
２と第２の遮光板３とを密着させて挿入した後，レーザ
ー光源１を付勢して，図５（ａ）に示すようにガラス板
７のガラス表面７１に複数の有底穴７５を形成する。次
いで，第２の加工処理段階として，第１の遮光板２のみ
を挿入した後レーザー光源１を付勢して有底穴７５が形
成されたガラス表面近傍を粗面化する。この粗面化によ
って，図５（ｂ）に示すように有底穴７５の表面部７６
はもとより，有底穴７５の底７７も粗面化される。この
ように，ガラス表面部７６（有底穴７５の頂部）のみで
なく有底穴７５の底７７も粗面化されることにより，不
透明度は一層向上する。なお，この第２実施例において
は，第２の加工処理段階の粗面化処理によって，有底穴
７５の表面部もエッチングされるから，エッチングされ
る厚さだけ第１の加工処理段階における有底穴７５の深
さを深くしておく。
べる。まず，第１の加工処理段階として，第１の遮光板
２と第２の遮光板３とを密着させて挿入した後，レーザ
ー光源１を付勢して，図５（ａ）に示すようにガラス板
７のガラス表面７１に複数の有底穴７５を形成する。次
いで，第２の加工処理段階として，第１の遮光板２のみ
を挿入した後レーザー光源１を付勢して有底穴７５が形
成されたガラス表面近傍を粗面化する。この粗面化によ
って，図５（ｂ）に示すように有底穴７５の表面部７６
はもとより，有底穴７５の底７７も粗面化される。この
ように，ガラス表面部７６（有底穴７５の頂部）のみで
なく有底穴７５の底７７も粗面化されることにより，不
透明度は一層向上する。なお，この第２実施例において
は，第２の加工処理段階の粗面化処理によって，有底穴
７５の表面部もエッチングされるから，エッチングされ
る厚さだけ第１の加工処理段階における有底穴７５の深
さを深くしておく。
【００１９】以上の実施例から明らかなように，ガラス
板７の表面に粗面を形成し，さらにその粗面化領域にそ
れぞれが微小な口径を有し所定の深さを有する有底孔７
３を形成する，あるいは，この逆に，有底孔７３を形成
し，さらにその領域を粗面化することにより，ガラス板
７の領域７Ａが不透明になる。以上に述べた不透明化処
理方法によれば，第１および第２のレーザービーム光の
照射時間を合わせても数秒程度であり，非常に短時間で
不透明処理ができる。また，この加工作業はレーザービ
ーム光でエッチング処理するから，第１の遮光板２の開
口部２１の大きさ，収束レンズ６の縮小率，第２の遮光
板３の開口３１〜３９の口径の大きさなどにより，任意
の範囲を正確に短時間で不透明にすることができる。し
たがって，従来技術における周辺領域に影響を及ぼすこ
とがない。さらに，着色方法による不透明処理方法のよ
うに熱的変化などの影響を受けない信頼性の高い不透明
処理が実現できる。
板７の表面に粗面を形成し，さらにその粗面化領域にそ
れぞれが微小な口径を有し所定の深さを有する有底孔７
３を形成する，あるいは，この逆に，有底孔７３を形成
し，さらにその領域を粗面化することにより，ガラス板
７の領域７Ａが不透明になる。以上に述べた不透明化処
理方法によれば，第１および第２のレーザービーム光の
照射時間を合わせても数秒程度であり，非常に短時間で
不透明処理ができる。また，この加工作業はレーザービ
ーム光でエッチング処理するから，第１の遮光板２の開
口部２１の大きさ，収束レンズ６の縮小率，第２の遮光
板３の開口３１〜３９の口径の大きさなどにより，任意
の範囲を正確に短時間で不透明にすることができる。し
たがって，従来技術における周辺領域に影響を及ぼすこ
とがない。さらに，着色方法による不透明処理方法のよ
うに熱的変化などの影響を受けない信頼性の高い不透明
処理が実現できる。
【００２０】本発明の実施に際しては，上述したものの
他，種々の変形形態をとることができる。たとえば，第
１の遮光板２の複数の開口３１〜３９の各々の形状は，
図示のごとく円形に限らず，任意の多角形，たとえば，
４角形，６角形，８角形などでも上記同様の不透明化が
可能である。不透明にする領域７Ａ，７Ｂ，７Ｃなども
方形，矩形などに限定されず，第１の遮光板２の開口部
２１の形状を任意にすることにより，任意の形状で不透
明にすることができる。また，上述したように，領域７
Ａ，７Ｂ，７Ｃそれぞれを不透明にする場合，これらの
大きさと，第１の遮光板の開口と収束レンズの倍率との
関係などから，載置台８を複数回移動させる場合もあり
，移動させないですむ場合もある。載置台８は領域７Ａ
の不透明処理終了後，領域７Ｂ，７Ｃの不透明処理を行
うときも，これらの領域に位置決めするのに用いられる
。レーザー光源１としては上述したＫｒＦエキシマレー
ザー光源の他，不透明処理を行う種々の透明部材，たと
えば，上記ガラスの他，ＩＴＯ，プラスチックなどの透
明部材などに対応して，これら透明部材に対して充分エ
ッチング可能なビーム光を射出するレーザー光源を適宜
用いることができる。
他，種々の変形形態をとることができる。たとえば，第
１の遮光板２の複数の開口３１〜３９の各々の形状は，
図示のごとく円形に限らず，任意の多角形，たとえば，
４角形，６角形，８角形などでも上記同様の不透明化が
可能である。不透明にする領域７Ａ，７Ｂ，７Ｃなども
方形，矩形などに限定されず，第１の遮光板２の開口部
２１の形状を任意にすることにより，任意の形状で不透
明にすることができる。また，上述したように，領域７
Ａ，７Ｂ，７Ｃそれぞれを不透明にする場合，これらの
大きさと，第１の遮光板の開口と収束レンズの倍率との
関係などから，載置台８を複数回移動させる場合もあり
，移動させないですむ場合もある。載置台８は領域７Ａ
の不透明処理終了後，領域７Ｂ，７Ｃの不透明処理を行
うときも，これらの領域に位置決めするのに用いられる
。レーザー光源１としては上述したＫｒＦエキシマレー
ザー光源の他，不透明処理を行う種々の透明部材，たと
えば，上記ガラスの他，ＩＴＯ，プラスチックなどの透
明部材などに対応して，これら透明部材に対して充分エ
ッチング可能なビーム光を射出するレーザー光源を適宜
用いることができる。
【００２１】
【発明の効果】以上述べたように，本発明によれば，透
明部材の面を粗面化し微小な有底穴を複数形成する，ま
たは微小な有底穴を複数形成して粗面化することにより
，不透明度の高い加工が達成できる。この不透明処理に
よれば，不透明処理部分はもとより，その周辺も化学的
影響，熱的影響などの影響を受けず，長期的に安定であ
る。また，本発明によれば，第１の遮光板の開口の形状
を任意にすることにより，不透明化領域を任意の形状に
することができ，また収束手段の倍率を適宜に設定する
ことにより，あるいは，載置台を移動させることにより
，任意の大きさの領域を不透明にすることができる。 特に，本発明によれば，微小な領域も正確，迅速に不透
明にすることができる。さらに，本発明の粗面化，有底
孔の深さ，口径などを適宜設定することにより，任意の
不透明度を達成できる。
明部材の面を粗面化し微小な有底穴を複数形成する，ま
たは微小な有底穴を複数形成して粗面化することにより
，不透明度の高い加工が達成できる。この不透明処理に
よれば，不透明処理部分はもとより，その周辺も化学的
影響，熱的影響などの影響を受けず，長期的に安定であ
る。また，本発明によれば，第１の遮光板の開口の形状
を任意にすることにより，不透明化領域を任意の形状に
することができ，また収束手段の倍率を適宜に設定する
ことにより，あるいは，載置台を移動させることにより
，任意の大きさの領域を不透明にすることができる。 特に，本発明によれば，微小な領域も正確，迅速に不透
明にすることができる。さらに，本発明の粗面化，有底
孔の深さ，口径などを適宜設定することにより，任意の
不透明度を達成できる。
【図１】本発明の不透明化処理装置の実施例の構成図で
ある
ある
【図２】図１の不透明化処理装置に用いられる第１の遮
光板および第２の遮光板の平面図である。
光板および第２の遮光板の平面図である。
【図３】図１の不透明化処理装置において不透明処理さ
れるガラス板の平面図である。
れるガラス板の平面図である。
【図４】本発明の不透明化処理方法の第１実施例による
不透明加工処理を示す図である。
不透明加工処理を示す図である。
【図５】本発明の不透明化処理方法の第２実施例による
不透明加工処理を示す図である。
不透明加工処理を示す図である。
【符号の説明】
１・・レーザー光源，２・・第１の遮光板，３・・第２
の遮光板，５・・反射板，６・・収束レンズ，７・・ガ
ラス板，８・・載置台，２１・・開口部，３１〜３９・
・微小な開口，７Ａ〜７Ｃ・・不透明化処理領域，７１
・・ガラス表面，７２・・粗面，７３，７５・・有底孔
，７６，７７・・粗面。
の遮光板，５・・反射板，６・・収束レンズ，７・・ガ
ラス板，８・・載置台，２１・・開口部，３１〜３９・
・微小な開口，７Ａ〜７Ｃ・・不透明化処理領域，７１
・・ガラス表面，７２・・粗面，７３，７５・・有底孔
，７６，７７・・粗面。
Claims (7)
- 【請求項１】 口径の大きなレーザービーム光の照射
により透明部材の不透明にする領域を粗面化し，次いで
，口径の小さい複数のレーザービーム光を該粗面化領域
に照射させて，それぞれが所定の深さを有し相互に所定
の間隔を隔てられた小さい径の複数の有底孔を形成して
上記透明部材の所定領域を不透明にする方法。 - 【請求項２】 口径の小さい複数のレーザービーム光
を透明部材の不透明にする領域に照射させて，それぞれ
が所定の深さを有し相互に所定の間隔を隔てられた小さ
い径の複数の有底孔を形成し，次いで，口径の大きいレ
ーザービーム光を該複数の有底孔が形成された領域に照
射して該領域を粗面化して上記透明部材の所定領域を不
透明にする方法。 - 【請求項３】 前記レーザービーム光はエキシマレー
ザー光である請求項１または２記載の不透明化処理方法
。 - 【請求項４】 レーザー光源と，該レーザー光源から
のレーザービーム光を透明部材の不透明化領域に収束さ
せる光学手段とを有し，該光学手段と協働し，該レーザ
ー光源からのレーザービーム光を該透明部材の不透明化
領域に照射させる大きさの開口を有する第１の遮光手段
，および，該光学手段と協働し，該レーザー光源からの
レーザービーム光を相互に所定の間隔を隔てられた小さ
い径のビーム光にして上記不透明化領域に照射させる開
口径の小さい複数の開口を有する第２の遮光手段を上記
レーザー光源と前記光学手段との間に挿入し，該透明部
材の表面に粗面，および該粗面領域に口径の小さい複数
の有底孔を形成することを特徴とする不透明化処理装置
。 - 【請求項５】 前記レーザー光源がエキシマレーザー
光源である請求項４記載の不透明化処理装置。 - 【請求項６】 第１の遮光手段を挿入して該透明部材
の表面を粗面化し，次いで，第２の遮光手段を挿入して
該粗面化された面に複数の有底孔を形成する請求項５記
載の不透明化処理装置。 - 【請求項７】第２の遮光手段を挿入して該透明部材の表
面に複数の有底孔を形成し，次いで，第１の遮光手段を
挿入して該有底孔が形成された面を粗面化する請求項５
記載の不透明化処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1606891A JP2599508B2 (ja) | 1991-01-14 | 1991-01-14 | 不透明化処理方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1606891A JP2599508B2 (ja) | 1991-01-14 | 1991-01-14 | 不透明化処理方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04236241A true JPH04236241A (ja) | 1992-08-25 |
| JP2599508B2 JP2599508B2 (ja) | 1997-04-09 |
Family
ID=11906255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1606891A Expired - Fee Related JP2599508B2 (ja) | 1991-01-14 | 1991-01-14 | 不透明化処理方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2599508B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5425903A (en) * | 1993-09-10 | 1995-06-20 | Critikon, Inc. | Laser beveling process for catheters |
| WO2011027647A1 (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-10 | シャープ株式会社 | ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク |
| JP2013029677A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | Marumi Koki Kk | デジタルカメラ用ジオラマフィルター |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6199204A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-17 | 松下電工株式会社 | ロ−ゼツト |
| JPS63303832A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-12 | Fuji Kogyo Kk | 鏡面板硝子 |
-
1991
- 1991-01-14 JP JP1606891A patent/JP2599508B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6199204A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-17 | 松下電工株式会社 | ロ−ゼツト |
| JPS63303832A (ja) * | 1987-05-30 | 1988-12-12 | Fuji Kogyo Kk | 鏡面板硝子 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5425903A (en) * | 1993-09-10 | 1995-06-20 | Critikon, Inc. | Laser beveling process for catheters |
| WO2011027647A1 (ja) * | 2009-09-01 | 2011-03-10 | シャープ株式会社 | ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク |
| JP2013029677A (ja) * | 2011-07-28 | 2013-02-07 | Marumi Koki Kk | デジタルカメラ用ジオラマフィルター |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2599508B2 (ja) | 1997-04-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |