JPH042374A - 有機塩素系溶剤の処理方法 - Google Patents

有機塩素系溶剤の処理方法

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JPH042374A
JPH042374A JP10392390A JP10392390A JPH042374A JP H042374 A JPH042374 A JP H042374A JP 10392390 A JP10392390 A JP 10392390A JP 10392390 A JP10392390 A JP 10392390A JP H042374 A JPH042374 A JP H042374A
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JP
Japan
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organic chlorine
converter
compound solvent
chlorine compound
hot metal
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Application number
JP10392390A
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English (en)
Inventor
Minoru Ishikawa
稔 石川
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、IC(集積回路)の洗浄等に使用されてい
るトリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤を安全に廃棄
処理する方法に係り、製鋼用転炉でこの有機塩素系溶剤
を1000℃以上の高温で燃焼させることによって、有
毒物質の発生を皆無にする有機塩素系溶剤の処理方法に
関する。
従来の技術 トリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤は、ハイテク産
業分野におけるICの洗浄用に大量に使用されている。
これは、トリクロロエチレンは集積回路に付着した油分
を除去するのにガソリンの数倍という抜群の能力を持っ
ているためである。
しかし、一方でトリクロロエチレンは、発がん性があり
、かつ燃やせば塩素やダイオキシン、ホスゲン等の猛毒
物質が発生する。また、ドラム管等に詰めて長年放置し
たり、地下に埋めて投棄すれば、底が腐り中身が流れ出
して地面に吸込まれる。このため、我国においては、有
毒物質として地下水への排出が規制されるようになった
(平成1年10月より)。
ところで、トリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤は1
000℃以上の高温で燃やすと、前記ダイオキシンやホ
スゲン等の有毒物質は発生しないことが知られている。
しかし、トリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤を処理
できる業者は、全国でもわずか約30社しがなく、不法
投棄等の事例もあり大きな社会問題となっている。しか
も、これら処理業者においても適正な処理がなされてい
るかははなはだ疑問な点も多い。
環境庁の調査によれば、 4.6%の井戸から水質基準
以下のトリクロロエチレンが検出され、同じ有機塩素系
溶剤のテトラクロロエチレンは6.3%、1・ 1・ 
1トリクロロエタンは0.4%検出される等、汚染は全
国に広がっており、拡大の勢いは衰えを見せていないこ
とがわかった。
発明が解決しようとする課題 トリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤は、前記した通
り、地下に埋めて投棄すれば、地下水の汚染が問題とな
る。一方、1000℃を超える高温で燃やさないと、ダ
イオキシンやホスゲン等の有毒物質が発生する。
このため、有機塩素系溶剤の処理は、1000℃以上の
高温燃焼法か、化学的方法に頼らざるを得なす、コスト
高を余儀なくされているため、処理需要をまかなえでい
ないのが実情である。
二の発明は、このような実情に鑑みて、トリクロルエタ
ン/ン等の有機塩素系溶剤を1000℃を超える高温で
かつ定コストにて燃焼処理し、有毒物質の排出を防止す
る方法を提案しようとするものである。
課題を解決するための手段 トリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤を高温燃焼法で
廃却処理する場合、ダイオキシン、ホスゲン等の猛毒物
質を発生させないためには、1000℃を越える高温で
燃焼させる必要がある。しかし、通常の燃焼炉で安定し
て1000℃を超える高温を得るのは極めて困難である
そこで、この発明者は、製鋼用転炉に着目し、転炉によ
り1000℃を超える高温でトリクロロエチレン等の有
機塩素系溶剤を燃焼処理できることを見い出したのであ
る。
転炉においては周知の通り、1300℃前後の溶銑を装
入し、純酸素で溶銑中の炭素を燃焼するため、常に13
00℃以上の燃焼温度が確保されている。したがって、
転炉内でトリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤を燃焼
させると、猛毒物質の発生を防止できる。
かかる知見より、この発明は溶銑または溶鋼が貯えられ
た転炉内に底吹き羽口等を介して有機塩素系溶剤を導入
し、酸素ガスを吹込んで1000℃を越える温度で燃焼
させることを要旨とするもものである。
作    用 トリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤の燃焼処理温度
を1000℃を越える温度に限定したのは、1000℃
以下の温度ではダイオキシン、ホスゲン等の有毒物質が
発生するためである。
転炉への有機塩素系溶剤の導入方法としては、炉底ある
いは炉側壁に設置されている既設の羽口やノズル等を使
用することができる。
転炉内における有機塩素系溶剤の反応は、次のように進
行する。
■ 浴内の高温雰囲気下における分解反応CI H+n
 C1n=1−C+m−H+n−C1■ 酸素ジェット
の表面および火点近傍における燃焼反応 C+1/20よ=CO H2+1/202= Ht。
C+ 02= CO2 したがって、ダイオキシン、ホスゲン等の物質を発生さ
せることなく分解ないしは燃焼させることができるので
ある。
ここで、有機塩素系溶剤としては、トリクロロエチレン
の他、次に記載するものが知られている。
塩化メチル、塩化メチレン、四塩化炭素、塩化エチル、
塩化エチレン、塩化エチリデン、トリクロルエタン、テ
トラクロルエタン、パークロルエチレン、ペンタクロル
エタン、ヘキサクロルエタン、ブロモクロルエタン、塩
化アリル、塩化イソプロピル、塩化プロピレン、トリク
ロルプロパン、塩化ブチル、ジクロルブタン、ヘキサク
ロルプロピレン、ヘキサクロルブタジェン、塩化アミル
、ジクロルペンタン、塩化2−エチルヘキシル、クロル
コサン、クロルベンゼン、O−ジクロルベンゼン、トリ
クロルベンゼン、クロルトルエン、ジクロルトルエン、
またはこれらの混合物。
実   施  例 第1図はこの発明の一実施例を示す概略図で、(1)は
転炉、(2)は底吹き羽口、(3)は上吹ランス、(4
)は溶銑、(5)はスラグ、(6)はトリクロロエチレ
ン等の有機塩素系溶剤をそれぞれ示す。
すなわち、炉内に適当量の溶銑(4)が貯えられた転炉
(1)に、トリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤(6
)を例えばNt ガスと共に底吹き羽口(2)より吹込
みながら、上吹ランス(3)より酸素を吹込んで炉内を
1000℃を超える温度に保持して有機塩素系溶剤を燃
焼させる。
実施例1 処理溶銑量10トン規模の第1図に示す構造の小型試験
炉により、第1表に示す吹錬条件にてトリクロロエチレ
ン(CHCI CC1,)を燃焼処理した結果を第2表
に示す。
なお比較のため、従来の燃焼炉でトリクロロエチレンを
燃焼させた場合の燃焼条件および結果を併せて示す。
第2表の結果より明らかなごとく、従来法では燃料(重
油)が大量に必要であり、かつ排ガス中のHCIが高い
のに加え、燃焼温度が低いため猛毒物質であるダイオキ
シン、ホスゲンが発生するのに対し、本発明では熱源に
溶銑を用いているので、燃料(重油)が不要であり経済
的であるとともに、ダイオキシン、ホスゲンを皆無にす
ることができた。また、排ガス中のHCI%Cl tは
高々250ppmと従来法の半分以下であり、しかもこ
れらはその大半を既設の湿式集塵装置により除去できる
ので、何等問題にはならない。
以下余白 第 表 第 表 発明の詳細 な説明したごとく、この発明方法によれば、トリクロロ
エチレン等の有機塩素系溶剤を、ダイオキシン、ホスゲ
ン等の有毒物質を発生させることなく低コストで燃焼処
理することができ、しかも塩素ガス等も既設の集塵装置
によりほぼ完全に除去できるので、有機塩素系溶剤の処
理方法として極めて有効であり、有機塩素系溶剤による
地下水汚染など環境汚染の防止に大なる効果を奏するも
のである。
【図面の簡単な説明】 第1図はこの発明の一実施例を示す概略図である。 1・・・転炉         2・・底吹羽口3・・
・上吹ランス      4・・溶銑6・・・有機塩素
系溶剤

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. トリクロロエチレン等の有機塩素系溶剤を1000℃以
    上の温度で燃焼させる方法において、溶銑または溶鋼が
    貯えられた転炉内に底吹き羽口等を介して有機塩素系溶
    剤を導入し、酸素ガスを炉内に吹込んで1000℃を超
    える温度で該有機塩素系溶剤を燃焼させることを特徴と
    する有機塩素系溶剤の処理方法。
JP10392390A 1990-04-19 1990-04-19 有機塩素系溶剤の処理方法 Pending JPH042374A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7407126B2 (en) 2003-07-31 2008-08-05 Fujifilm Corporation Recording tape cartridge
CN103596704A (zh) * 2011-04-29 2014-02-19 同济大学 一种颗粒物中所含持久性有机污染物的处理方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7407126B2 (en) 2003-07-31 2008-08-05 Fujifilm Corporation Recording tape cartridge
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