JPH04238193A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPH04238193A JPH04238193A JP3006215A JP621591A JPH04238193A JP H04238193 A JPH04238193 A JP H04238193A JP 3006215 A JP3006215 A JP 3006215A JP 621591 A JP621591 A JP 621591A JP H04238193 A JPH04238193 A JP H04238193A
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- Japan
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- cell
- data line
- signal
- turned
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高速DRAMの回路構
成に関する。
成に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、情報処理機器の安価で大容量の半
導体記憶装置として特開昭61−142594の第5図
及び第6図に開示されている読出し回路を備えたダイナ
ミック形ランダムアクセスメモリ(DRAM)が使われ
ている。
導体記憶装置として特開昭61−142594の第5図
及び第6図に開示されている読出し回路を備えたダイナ
ミック形ランダムアクセスメモリ(DRAM)が使われ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のDRAMの読出
しでは、通常、アクセス時間の2倍のサイクル時間を要
する。このためDRAMはアクセス時間とサイクル時間
とを等しくできるスタティック形ランダムアクセスメモ
リ(SRAM)と比べて、最近の情報処理機器の高速化
には適応出来ないようになってきている。
しでは、通常、アクセス時間の2倍のサイクル時間を要
する。このためDRAMはアクセス時間とサイクル時間
とを等しくできるスタティック形ランダムアクセスメモ
リ(SRAM)と比べて、最近の情報処理機器の高速化
には適応出来ないようになってきている。
【0004】このように、DRAMにおいてアクセス時
間の2倍のサイクル時間を要する理由は、1サイクル毎
に再書込み及びプリチャ−ジを行わなければならず、こ
れに時間がかかるためである。図14に従来のDRAM
のメモリセルアレ−の回路図、図15にこの1サイクル
の動作波形を示す。セル蓄積電圧の高レベルをVD,低
レベルをVEとする。1サイクルでは、まず、メモリセ
ルがワ−ド線の立上りにより選択されると、予めVEと
の電圧差の絶対値とVDとの電圧差の絶対値が等しい電
圧であるHVDにプリチャ−ジされたデ−タ線対に微小
信号電圧が発生する。この時、セル内の情報は破壊され
る。次に、デ−タ線対の微小信号をセルの蓄積電圧振幅
VD−VEまで増幅し再びセルに最初と同じ情報を再書
込みする。この動作と並行して図14には明示していな
いが出力端子Doutに読出し出力が現われる。これに
は大振幅のデ−タ線対信号電圧は必要ない。例えば特開
昭61−142594の第5図及び第6図に開示されて
いる回路構成を用いれば、デ−タ線対の微小信号のみで
行うことができる。再書込みが終ったあとデ−タ線対は
次のサイクルに備えてHVDにプリチャ−ジされる。以
上のサイクルにおいては、微小なデ−タ線対の信号を大
振幅のセル蓄積電圧まで増幅し更にその後HVDにプリ
チャ−ジしなければならない。この増幅は、一本のワ−
ド線に接続される全メモリセルに対して同時に行う必要
があるため駆動信号線PP,PNの配線抵抗遅延により
遅くなること、さらにすべてのデ−タ線対をHVDまで
プリチャ−ジしなければならないことによってサイクル
時間はアクセス時間の2倍程度に増大する。
間の2倍のサイクル時間を要する理由は、1サイクル毎
に再書込み及びプリチャ−ジを行わなければならず、こ
れに時間がかかるためである。図14に従来のDRAM
のメモリセルアレ−の回路図、図15にこの1サイクル
の動作波形を示す。セル蓄積電圧の高レベルをVD,低
レベルをVEとする。1サイクルでは、まず、メモリセ
ルがワ−ド線の立上りにより選択されると、予めVEと
の電圧差の絶対値とVDとの電圧差の絶対値が等しい電
圧であるHVDにプリチャ−ジされたデ−タ線対に微小
信号電圧が発生する。この時、セル内の情報は破壊され
る。次に、デ−タ線対の微小信号をセルの蓄積電圧振幅
VD−VEまで増幅し再びセルに最初と同じ情報を再書
込みする。この動作と並行して図14には明示していな
いが出力端子Doutに読出し出力が現われる。これに
は大振幅のデ−タ線対信号電圧は必要ない。例えば特開
昭61−142594の第5図及び第6図に開示されて
いる回路構成を用いれば、デ−タ線対の微小信号のみで
行うことができる。再書込みが終ったあとデ−タ線対は
次のサイクルに備えてHVDにプリチャ−ジされる。以
上のサイクルにおいては、微小なデ−タ線対の信号を大
振幅のセル蓄積電圧まで増幅し更にその後HVDにプリ
チャ−ジしなければならない。この増幅は、一本のワ−
ド線に接続される全メモリセルに対して同時に行う必要
があるため駆動信号線PP,PNの配線抵抗遅延により
遅くなること、さらにすべてのデ−タ線対をHVDまで
プリチャ−ジしなければならないことによってサイクル
時間はアクセス時間の2倍程度に増大する。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題は以下の構成と
することで解決できる。2ヶのセルトランジスタで1ヶ
のセル容量を共用し、2ヶのセルトランジスタ各々は異
なるワ−ド線と接続しまた異なるデ−タ線を介して異な
るセンスアンプと接続する。
することで解決できる。2ヶのセルトランジスタで1ヶ
のセル容量を共用し、2ヶのセルトランジスタ各々は異
なるワ−ド線と接続しまた異なるデ−タ線を介して異な
るセンスアンプと接続する。
【0006】
【作用】最初第1のセルトランジスタをオンし、これに
よって第1のデ−タ線に生じる微小信号を読出し回路で
増幅してDoutに信号を出力しまたセンスアンプによ
って再書込みを行なう。この時、センスアンプで再書込
み用の大振幅をデ−タ線上に発生しセル容量に電荷を蓄
えたところで、ワ−ド線電圧を変化させ第1のセルトラ
ンジスタをオフさせる。この後、大振幅が生じている第
1のデ−タ線ではHVDへとプリチャ−ジが行われるが
、従来方式ではこのプリチャ−ジが終了するまで次の読
出しは他のマットに属するメモリセルに対してのみであ
りランダムアクセスは不可能であった。しかし、本発明
では第2のセルトランジスタをオンし、これと接続され
る既にHVDにプリチャ−ジしている第2のデ−タ線へ
の微小信号の発生及び再書込みを行うことができる。 この第2のデ−タ線に再書込み用大振幅信号が発生した
後この第2のセルトランジスタをオフすると、この第2
のデ−タ線のプリチャ−ジが行われている間に第1のセ
ルトランジスタを用いて同じセルを読出すことができる
。これを繰り返すことにより、任意のセルの読出しにお
いてサイクル時間をアクセス時間と等しいまでに高速化
することが可能となる。
よって第1のデ−タ線に生じる微小信号を読出し回路で
増幅してDoutに信号を出力しまたセンスアンプによ
って再書込みを行なう。この時、センスアンプで再書込
み用の大振幅をデ−タ線上に発生しセル容量に電荷を蓄
えたところで、ワ−ド線電圧を変化させ第1のセルトラ
ンジスタをオフさせる。この後、大振幅が生じている第
1のデ−タ線ではHVDへとプリチャ−ジが行われるが
、従来方式ではこのプリチャ−ジが終了するまで次の読
出しは他のマットに属するメモリセルに対してのみであ
りランダムアクセスは不可能であった。しかし、本発明
では第2のセルトランジスタをオンし、これと接続され
る既にHVDにプリチャ−ジしている第2のデ−タ線へ
の微小信号の発生及び再書込みを行うことができる。 この第2のデ−タ線に再書込み用大振幅信号が発生した
後この第2のセルトランジスタをオフすると、この第2
のデ−タ線のプリチャ−ジが行われている間に第1のセ
ルトランジスタを用いて同じセルを読出すことができる
。これを繰り返すことにより、任意のセルの読出しにお
いてサイクル時間をアクセス時間と等しいまでに高速化
することが可能となる。
【0007】
【実施例】以下、図面を用いて本発明を説明する。なお
、以下の説明において、図面上において記号にオ−バ−
ラインを付けて示したコンプリメント信号は本文中では
記号の前に/を付けて示す。また、信号名は特に断わら
ないかぎり同時にノ−ド名と配線名を兼ねるとする。
、以下の説明において、図面上において記号にオ−バ−
ラインを付けて示したコンプリメント信号は本文中では
記号の前に/を付けて示す。また、信号名は特に断わら
ないかぎり同時にノ−ド名と配線名を兼ねるとする。
【0008】図1は本発明の第1の実施例である。C1
1〜C4nはセル容量であり、各々のセル容量には2ヶ
のセルトランジスタT11A,T11B〜T4nA,T
4nBが接続されている。SA11〜SA22はセンス
アンプであり、D1,D1’〜D4,D4’はデ−タ線
である。センスアンプにおいて、例えばSA11にはセ
ル容量C11〜C1nの接続するセルトランジスタT1
1A〜T1nAに接続 されたデ−タ線D1とC21〜C2nの接続するセルト
ランジスタT21A〜T2nAに接続されたデ−タ線D
2とが接続されている。一方、SA21にはSA11に
対応する同じセル容量に接続する他方のセルトランジス
タT11B〜T1nB用のデ−タ線D1’とT21B〜
T2nB用のデ−タ線D2’とが接続される。他のセン
スアンプに対しても同様である。図1で末尾にAを付け
たセルトランジスタと接続したデ−タ線同志、末尾にB
を付けたセルトランジスタと接続したデ−タ線同志が対
としてひとつのセンスアンプに接続される。以上のよう
な本発明の実施例によれば、以下に示すようにアクセス
時間と等しいまでにサイクル時間を高速化できる。図1
の動作を図2のタイミング図を用いて説明する。セル容
量C11を持つメモリセルに着目する。ワ−ド線W11
が低レベルから高レベルになり、W12〜W14は低レ
ベルのままとする。T11Aがオンし、プリチャ−ジさ
れたデ−タ線D1に微小電圧が発生する。この微小電圧
とプリチャ−ジされたままのD2との微少電圧差によっ
て図1には示していないが特開昭61−142594の
第5図及び第6図に開示されている回路によって出力端
子Doutへ読出しが行われる。また、センスアンプS
A11によって、再書込みのための大振幅電圧がD1,
D2に発生し、セル容量C11に再び元の信号が再書込
みされる。再書込みが終了すると、ワ−ド線W11は高
レベルから低レベルとなりセルトランジスタT11Aは
オフする。この後、D1,D2ではHVDレベルへのプ
リチャ−ジが行われる。従来例では、図14に示すよう
にこれら一連の動作が終了しないと次の読出しを任意の
セルに対して行うことはできなかった。しかし、本発明
では図2に示すようにワ−ド線W11が低レベルとなれ
ば、ワ−ド線W13を高レベルにしてセルトランジスタ
T11Bをオンにして同じセル容量C11に蓄えられた
電荷を連続的に読出すことができる。同じデ−タ線に接
続する他のセルを読出す場合もワ−ド線W11のオフ後
、ワ−ド線W23〜Wn3を選択すれば同様に可能であ
る。もちろん他のデ−タ線に接続するセル間では可能で
あり、よって、任意のセル間で連続的なワ−ド線選択が
可能である。このように本発明を用いれば、サイクル時
間をアクセス時間と等しいまでに高速化することができ
る。
1〜C4nはセル容量であり、各々のセル容量には2ヶ
のセルトランジスタT11A,T11B〜T4nA,T
4nBが接続されている。SA11〜SA22はセンス
アンプであり、D1,D1’〜D4,D4’はデ−タ線
である。センスアンプにおいて、例えばSA11にはセ
ル容量C11〜C1nの接続するセルトランジスタT1
1A〜T1nAに接続 されたデ−タ線D1とC21〜C2nの接続するセルト
ランジスタT21A〜T2nAに接続されたデ−タ線D
2とが接続されている。一方、SA21にはSA11に
対応する同じセル容量に接続する他方のセルトランジス
タT11B〜T1nB用のデ−タ線D1’とT21B〜
T2nB用のデ−タ線D2’とが接続される。他のセン
スアンプに対しても同様である。図1で末尾にAを付け
たセルトランジスタと接続したデ−タ線同志、末尾にB
を付けたセルトランジスタと接続したデ−タ線同志が対
としてひとつのセンスアンプに接続される。以上のよう
な本発明の実施例によれば、以下に示すようにアクセス
時間と等しいまでにサイクル時間を高速化できる。図1
の動作を図2のタイミング図を用いて説明する。セル容
量C11を持つメモリセルに着目する。ワ−ド線W11
が低レベルから高レベルになり、W12〜W14は低レ
ベルのままとする。T11Aがオンし、プリチャ−ジさ
れたデ−タ線D1に微小電圧が発生する。この微小電圧
とプリチャ−ジされたままのD2との微少電圧差によっ
て図1には示していないが特開昭61−142594の
第5図及び第6図に開示されている回路によって出力端
子Doutへ読出しが行われる。また、センスアンプS
A11によって、再書込みのための大振幅電圧がD1,
D2に発生し、セル容量C11に再び元の信号が再書込
みされる。再書込みが終了すると、ワ−ド線W11は高
レベルから低レベルとなりセルトランジスタT11Aは
オフする。この後、D1,D2ではHVDレベルへのプ
リチャ−ジが行われる。従来例では、図14に示すよう
にこれら一連の動作が終了しないと次の読出しを任意の
セルに対して行うことはできなかった。しかし、本発明
では図2に示すようにワ−ド線W11が低レベルとなれ
ば、ワ−ド線W13を高レベルにしてセルトランジスタ
T11Bをオンにして同じセル容量C11に蓄えられた
電荷を連続的に読出すことができる。同じデ−タ線に接
続する他のセルを読出す場合もワ−ド線W11のオフ後
、ワ−ド線W23〜Wn3を選択すれば同様に可能であ
る。もちろん他のデ−タ線に接続するセル間では可能で
あり、よって、任意のセル間で連続的なワ−ド線選択が
可能である。このように本発明を用いれば、サイクル時
間をアクセス時間と等しいまでに高速化することができ
る。
【0009】本発明を用いれば書込み及びリフレッシュ
も同様にアクセス時間と等しいサイクル時間で終えるこ
とができる。図3に読出しと書込みが連続した場合を、
図4に読出しとリフレッシュが連続した場合を示す。
も同様にアクセス時間と等しいサイクル時間で終えるこ
とができる。図3に読出しと書込みが連続した場合を、
図4に読出しとリフレッシュが連続した場合を示す。
【0010】図3において最初W11が選択されC11
が読出される。図2の場合と同様にデ−タ線D1,D2
上に大振幅が現れると、W11を非選択とし、引き続い
てW13を選択し同じセルC11に対して書込みを行う
ことができる。この後書込みが終わるとW13を非選択
にしD1’,D2’上でプリチャ−ジが行われるのと並
行して、W11を選択して同一セルC11の読出しを行
うことができる。以上同一セルに対して行うことができ
ることを示したが、任意の順序のセルに対しても行うこ
とができる。書込みのみを連続する場合も同様である。
が読出される。図2の場合と同様にデ−タ線D1,D2
上に大振幅が現れると、W11を非選択とし、引き続い
てW13を選択し同じセルC11に対して書込みを行う
ことができる。この後書込みが終わるとW13を非選択
にしD1’,D2’上でプリチャ−ジが行われるのと並
行して、W11を選択して同一セルC11の読出しを行
うことができる。以上同一セルに対して行うことができ
ることを示したが、任意の順序のセルに対しても行うこ
とができる。書込みのみを連続する場合も同様である。
【0011】図4において最初W11が選択となりC1
1が読出されデ−タ線D1,D2上に大振幅が現れると
W11を非選択とする。この後D1,D2上でプリチャ
−ジが行われるのと並行して、W13を選択して同一セ
ルのリフレシュを行うことができる。このため、任意の
順序のセルに対して行うことができる。リフレシュのみ
を連続する場合のほかに書込みとリフレッシュが連続す
る場合も同様である。このように、本発明を用いれば、
DRAMのすべての動作においてサイクル時間をアクセ
ス時間と等しいまでに高速化することができる。
1が読出されデ−タ線D1,D2上に大振幅が現れると
W11を非選択とする。この後D1,D2上でプリチャ
−ジが行われるのと並行して、W13を選択して同一セ
ルのリフレシュを行うことができる。このため、任意の
順序のセルに対して行うことができる。リフレシュのみ
を連続する場合のほかに書込みとリフレッシュが連続す
る場合も同様である。このように、本発明を用いれば、
DRAMのすべての動作においてサイクル時間をアクセ
ス時間と等しいまでに高速化することができる。
【0012】図5に本発明の第2の実施例を示す。本実
施例は、末尾にAを付けたセルトランジスタと接続する
デ−タ線と末尾にBを付けたセルトランジスタと接続す
るデ−タ線とをひとつのセンスアンプに接続する方法で
ある。この方法では、マット毎に一番端のセンスアンプ
用にダミ−デ−タ線(例えばDD)が必要となるが、隣
接したデ−タ線がセンスアンプに接続されるのでデ−タ
線容量のアンバランスが小さく誤動作しにくいという特
長がある。
施例は、末尾にAを付けたセルトランジスタと接続する
デ−タ線と末尾にBを付けたセルトランジスタと接続す
るデ−タ線とをひとつのセンスアンプに接続する方法で
ある。この方法では、マット毎に一番端のセンスアンプ
用にダミ−デ−タ線(例えばDD)が必要となるが、隣
接したデ−タ線がセンスアンプに接続されるのでデ−タ
線容量のアンバランスが小さく誤動作しにくいという特
長がある。
【0013】なお、図1又は図5の実施例を用いれば、
読出しとリフレッシュ,及び書込みとリフレッシュを並
行して行うこともできる。図6に図1の実施例で行う場
合を示す。この方式ではアクセス時間の2倍のサイクル
時間が必要であるがリフレッシュ期間を特別に設けなく
ともよいという特長がある。
読出しとリフレッシュ,及び書込みとリフレッシュを並
行して行うこともできる。図6に図1の実施例で行う場
合を示す。この方式ではアクセス時間の2倍のサイクル
時間が必要であるがリフレッシュ期間を特別に設けなく
ともよいという特長がある。
【0014】次に連続サイクル動作でのワ−ド線選択の
制御方法についてのベる。図1でメモリセルセルの選択
において、例えばC11では、最初ワ−ド線W11が選
択された後連続して同一のセルを選択する場合次のサイ
クルではW13が選択される。通常のランダムなワ−ド
線選択でも同様であり、センスアンプSA11,SA1
2に接続されるセルトランジスタと、センスアンプSA
21,SA22に接続されるセルトランジスタとが交互
に選択されることになる。このため、ワ−ド線をこの順
序で選択しなければならない。この機能は以下に示すよ
うに簡単に実現することができる。図7において、通常
のデコ−ド信号AXiが接続するMOSトランジスタと
直列にMOSトランジスタを挿入しAXs及びこれとイ
ンバ−タを介して接続する。AXsが接続している回路
からはワ−ド線W11が出力されインバ−タを介して接
続している回路からはワ−ド線W13が出力される。例
えば、W11が図1における末尾がAのセルトランジス
タと接続され、W13が末尾がBのセルトランジスタと
接続される。これによって、図8に示すようにAXsを
サイクル毎に高低と切り換えるようにすれば、AXsが
高レベルの場合はW11が選択され、AXsが低レベル
の場合はW13が選択されるため、所望のワ−ド線信号
を発生できることになる。すなわち、N11,N13は
XDPが低レベルの間にVLまでプリチャ−ジされてい
る。XDPが高レベルになるとN11,N13はフロ−
ティングとなる。次に、AXiが高レベルとなる時、第
1サイクルではAXsが高レベルになるとするとN11
が放電されワ−ドドライバWD11によってW11が駆
動される。次の第2サイクルではAXsは低レベルのま
まであるので、AXiが高レベルとなるとN13が放電
されワ−ドドライバWD13によってW13が駆動され
る。AXsは外部からクロックを与えて発生しても良い
し、アドレス切り替わり検出回路(ATD)を用いて内
部で発生させても良い。
制御方法についてのベる。図1でメモリセルセルの選択
において、例えばC11では、最初ワ−ド線W11が選
択された後連続して同一のセルを選択する場合次のサイ
クルではW13が選択される。通常のランダムなワ−ド
線選択でも同様であり、センスアンプSA11,SA1
2に接続されるセルトランジスタと、センスアンプSA
21,SA22に接続されるセルトランジスタとが交互
に選択されることになる。このため、ワ−ド線をこの順
序で選択しなければならない。この機能は以下に示すよ
うに簡単に実現することができる。図7において、通常
のデコ−ド信号AXiが接続するMOSトランジスタと
直列にMOSトランジスタを挿入しAXs及びこれとイ
ンバ−タを介して接続する。AXsが接続している回路
からはワ−ド線W11が出力されインバ−タを介して接
続している回路からはワ−ド線W13が出力される。例
えば、W11が図1における末尾がAのセルトランジス
タと接続され、W13が末尾がBのセルトランジスタと
接続される。これによって、図8に示すようにAXsを
サイクル毎に高低と切り換えるようにすれば、AXsが
高レベルの場合はW11が選択され、AXsが低レベル
の場合はW13が選択されるため、所望のワ−ド線信号
を発生できることになる。すなわち、N11,N13は
XDPが低レベルの間にVLまでプリチャ−ジされてい
る。XDPが高レベルになるとN11,N13はフロ−
ティングとなる。次に、AXiが高レベルとなる時、第
1サイクルではAXsが高レベルになるとするとN11
が放電されワ−ドドライバWD11によってW11が駆
動される。次の第2サイクルではAXsは低レベルのま
まであるので、AXiが高レベルとなるとN13が放電
されワ−ドドライバWD13によってW13が駆動され
る。AXsは外部からクロックを与えて発生しても良い
し、アドレス切り替わり検出回路(ATD)を用いて内
部で発生させても良い。
【0015】図9に図1に示したセンスアンプ部SA1
1〜SA22の具体的な回路を示す。特開平1−155
589の第4図に開示されている読出し回路の一部DA
11及びプリチャ−ジ回路DS11がSA11の内部に
含まれる。PP1及びPN1がセンスアンプの起動信号
線である。この信号線によるセンスアンプの起動を待た
ずに、DA11によってセルの蓄積電荷に応じた電流信
号がRO1及び/RO1に出力され、後段回路で増幅さ
れてDout信号となる。これと並行してセンスアンプ
による大振幅の再書込み及びプリチャ−ジが行われる。 こちらはDout信号への出力と比較して時間がかかる
。しかしながら具体的に図9に示したような本発明の構
成を用いれば、Wを選択した後D1とD2上に再書込み
可能な大振幅が現れさえすれば、Wを非選択としW’を
選択するので再び読み出しが可能となる。これによりサ
イクル時間をアクセス時間と等しいまでに高速化するこ
とができる。
1〜SA22の具体的な回路を示す。特開平1−155
589の第4図に開示されている読出し回路の一部DA
11及びプリチャ−ジ回路DS11がSA11の内部に
含まれる。PP1及びPN1がセンスアンプの起動信号
線である。この信号線によるセンスアンプの起動を待た
ずに、DA11によってセルの蓄積電荷に応じた電流信
号がRO1及び/RO1に出力され、後段回路で増幅さ
れてDout信号となる。これと並行してセンスアンプ
による大振幅の再書込み及びプリチャ−ジが行われる。 こちらはDout信号への出力と比較して時間がかかる
。しかしながら具体的に図9に示したような本発明の構
成を用いれば、Wを選択した後D1とD2上に再書込み
可能な大振幅が現れさえすれば、Wを非選択としW’を
選択するので再び読み出しが可能となる。これによりサ
イクル時間をアクセス時間と等しいまでに高速化するこ
とができる。
【0016】また、センスアンプを隣合うメモリセルア
レ−で共用すればレイアウト面積を小さくすることがで
きる。このための構成を図10に示す。図10において
SA11及びSA12は隣合う両メモリセルアレ−Ar
y1,Ary2で共用され、どちらのメモリセルアレ−
と接続するかは信号線f1またはf2がそのゲ−トに接
続されたMOSトランジスタで選択される。SA21及
びSA22も同様であり、f3とf4とで切り換える。
レ−で共用すればレイアウト面積を小さくすることがで
きる。このための構成を図10に示す。図10において
SA11及びSA12は隣合う両メモリセルアレ−Ar
y1,Ary2で共用され、どちらのメモリセルアレ−
と接続するかは信号線f1またはf2がそのゲ−トに接
続されたMOSトランジスタで選択される。SA21及
びSA22も同様であり、f3とf4とで切り換える。
【0017】図11に全体のマット構成を示す。チップ
上にはこれらの半導体記憶装置のみが配置されている場
合も有れば、他の論理装置が共に配置されている場合も
ある。このAry111〜Ary4n1は第1図に示し
たメモリセルを持つメモリセルアレ−であり、SA11
〜SA4(n+1)は例えば図9に示したセンスアンプ
であり、WD11〜WD4nはXデコ−ダ・ワ−ドドラ
イバである。PM11〜PM4(n+1)はプリアンプ
でありMAはメインアンプ及び出力バッファであり特開
昭62−311945の第6図及び特開平1−1571
19の第2図に開示されているものを用いれば良い。ア
ドレスが入力しこのチップの選択信号が入力すると、或
いはアドレス入力の変化を検知すると、例えば、WD1
1が動作し図1と同じ構成のAry111内のセルを選
択する。SA11は図9と同じ構成であり、図9のRO
1,/RO1上に読出し信号が発生する。この時、PM
11が選択されMAへ増幅信号が伝達されDout出力
となる。これと並行してSA11においてAry111
への再書込みが行われる。これまで説明してきたように
本発明を用いることによりAry111内では、一端デ
−タ線上に再書込みに必要な大振幅が発生すればこれと
接続したセルトランジスタをオフにし同じ蓄積容量と接
続されているもう一方のセルトランジスタをオンしてプ
リチャ−ジされているもう一本のデ−タ線を用いて読出
し及び再書込みを行うことができる。これにより、サイ
クル時間をアクセス時間と等しいまでに高速化すること
ができる。
上にはこれらの半導体記憶装置のみが配置されている場
合も有れば、他の論理装置が共に配置されている場合も
ある。このAry111〜Ary4n1は第1図に示し
たメモリセルを持つメモリセルアレ−であり、SA11
〜SA4(n+1)は例えば図9に示したセンスアンプ
であり、WD11〜WD4nはXデコ−ダ・ワ−ドドラ
イバである。PM11〜PM4(n+1)はプリアンプ
でありMAはメインアンプ及び出力バッファであり特開
昭62−311945の第6図及び特開平1−1571
19の第2図に開示されているものを用いれば良い。ア
ドレスが入力しこのチップの選択信号が入力すると、或
いはアドレス入力の変化を検知すると、例えば、WD1
1が動作し図1と同じ構成のAry111内のセルを選
択する。SA11は図9と同じ構成であり、図9のRO
1,/RO1上に読出し信号が発生する。この時、PM
11が選択されMAへ増幅信号が伝達されDout出力
となる。これと並行してSA11においてAry111
への再書込みが行われる。これまで説明してきたように
本発明を用いることによりAry111内では、一端デ
−タ線上に再書込みに必要な大振幅が発生すればこれと
接続したセルトランジスタをオフにし同じ蓄積容量と接
続されているもう一方のセルトランジスタをオンしてプ
リチャ−ジされているもう一本のデ−タ線を用いて読出
し及び再書込みを行うことができる。これにより、サイ
クル時間をアクセス時間と等しいまでに高速化すること
ができる。
【0018】図12に、メモリセル6ビットのレイアウ
ト例を示す。W11〜W24はワ−ド線、D1〜D3’
はデ−タ線、C11〜C32はセル容量であり図1の実
施例と対応している。図1のセルトランジスタは、図1
2中でトランジスタ領域と記したn形不純物層とワ−ド
線が交差する部分となる。セル容量はその一端がトラン
ジスタ領域と接続している。このために例えばセル容量
C11は、ワ−ド線W11が選択されるとデ−タ線D1
と電気的にその一端が接続され、ワ−ド線W13が選択
されるとデ−タ線D1’と電気的にその一端が接続され
る。このようなメモリセルを用いて上述のようなセンス
アンプの構成を用いればサイクル時間をアクセス時間と
等しいまでに高速化することが可能となる。
ト例を示す。W11〜W24はワ−ド線、D1〜D3’
はデ−タ線、C11〜C32はセル容量であり図1の実
施例と対応している。図1のセルトランジスタは、図1
2中でトランジスタ領域と記したn形不純物層とワ−ド
線が交差する部分となる。セル容量はその一端がトラン
ジスタ領域と接続している。このために例えばセル容量
C11は、ワ−ド線W11が選択されるとデ−タ線D1
と電気的にその一端が接続され、ワ−ド線W13が選択
されるとデ−タ線D1’と電気的にその一端が接続され
る。このようなメモリセルを用いて上述のようなセンス
アンプの構成を用いればサイクル時間をアクセス時間と
等しいまでに高速化することが可能となる。
【0019】図13は本発明を用いたシステム構成を示
す図である。矢印は信号の流れを表わす。CPUはシス
テム全体を制御する処理装置を示し、RAGはリフレッ
シュアドレス発生装置を、TCは本発明を用いた記憶装
置部分の制御信号発生装置を、SLCTはCPUから送
られてくるアドレス信号とRAGから送られてくるリフ
レッシュアドレス信号を切り換えるセレクト装置を、M
は本発明を用いたDRAMを示す。また、PFYはシス
テム内の他の装置であり、例えば外部記憶装置,表示装
置,数値演算装置等であり、通信回線を通して他の情報
処理装置とつながる場合もある。DATAはCPUとM
との間でやりとりされるデ−タを表わし、AicはCP
Uで発生するアドレス信号を、AirはRAGで発生す
るリフレッシュアドレス信号を示し、AiはSLCTで
選択されMに送られるアドレス信号を示す。STはCP
UからRAGに送られるステイタス信号、BSはTCか
らCPUへのビジイ信号である。SEはTCから送られ
るSLCTの起動をかける信号であり、/CEは本発明
を用いたDRAMの起動をかける信号である。SGはC
PUとシステム内の他の装置との信号のやりとりをまと
めて表わしたものである。これらは従来のDRAMの場
合と全く同じである。本発明を用いたDRAMの外部制
御信号は、図2〜図4の動作モ−ドで使用し図7,図8
のAxs信号をDRAM内で発生する場合には従来のD
RAMと全く同じであり特別の制御信号は必要としない
。それにもかかわらず本発明はサイクル時間をアクセス
時間と等しくすることができるのである。本発明を用い
れば、従来DRAMの場合と比べてなんら特別な装置を
付加することなくDRAMの高速なサイクル動作を必要
とするシステムを簡単に組むことができる。
す図である。矢印は信号の流れを表わす。CPUはシス
テム全体を制御する処理装置を示し、RAGはリフレッ
シュアドレス発生装置を、TCは本発明を用いた記憶装
置部分の制御信号発生装置を、SLCTはCPUから送
られてくるアドレス信号とRAGから送られてくるリフ
レッシュアドレス信号を切り換えるセレクト装置を、M
は本発明を用いたDRAMを示す。また、PFYはシス
テム内の他の装置であり、例えば外部記憶装置,表示装
置,数値演算装置等であり、通信回線を通して他の情報
処理装置とつながる場合もある。DATAはCPUとM
との間でやりとりされるデ−タを表わし、AicはCP
Uで発生するアドレス信号を、AirはRAGで発生す
るリフレッシュアドレス信号を示し、AiはSLCTで
選択されMに送られるアドレス信号を示す。STはCP
UからRAGに送られるステイタス信号、BSはTCか
らCPUへのビジイ信号である。SEはTCから送られ
るSLCTの起動をかける信号であり、/CEは本発明
を用いたDRAMの起動をかける信号である。SGはC
PUとシステム内の他の装置との信号のやりとりをまと
めて表わしたものである。これらは従来のDRAMの場
合と全く同じである。本発明を用いたDRAMの外部制
御信号は、図2〜図4の動作モ−ドで使用し図7,図8
のAxs信号をDRAM内で発生する場合には従来のD
RAMと全く同じであり特別の制御信号は必要としない
。それにもかかわらず本発明はサイクル時間をアクセス
時間と等しくすることができるのである。本発明を用い
れば、従来DRAMの場合と比べてなんら特別な装置を
付加することなくDRAMの高速なサイクル動作を必要
とするシステムを簡単に組むことができる。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、一つのセル容量に二つ
のセルトランジスタを接続し、このセルトランジスタを
異なるデ−タ線と接続することにより、第1のセルトラ
ンジスタをオンさせてこれと接続する第1のデ−タ線上
でセンスアンプによって読出し及び再書込みを行なって
いる間、第2のセルトランジスタと接続している第2の
デ−タ線はプリチャ−ジ電圧を保っている。このため、
第1のデ−タ線上に再書込み可能な大振幅が現れると第
1のセルトランジスタをオフし第2のセルトランジスタ
をオンさせ第1のデ−タ線上でプリチャ−ジを行なうの
と並行して第2のデ−タ線を用いて読出すことができる
ためサイクル時間をアクセス時間と等しいまでに高速化
することができる。
のセルトランジスタを接続し、このセルトランジスタを
異なるデ−タ線と接続することにより、第1のセルトラ
ンジスタをオンさせてこれと接続する第1のデ−タ線上
でセンスアンプによって読出し及び再書込みを行なって
いる間、第2のセルトランジスタと接続している第2の
デ−タ線はプリチャ−ジ電圧を保っている。このため、
第1のデ−タ線上に再書込み可能な大振幅が現れると第
1のセルトランジスタをオフし第2のセルトランジスタ
をオンさせ第1のデ−タ線上でプリチャ−ジを行なうの
と並行して第2のデ−タ線を用いて読出すことができる
ためサイクル時間をアクセス時間と等しいまでに高速化
することができる。
【図1】本発明の第1の実施例を示す図である。
【図2】本発明の第1の動作を示す図である。
【図3】本発明の第2の動作を示す図である。
【図4】本発明の第3の動作を示す図である。
【図5】本発明の第2の実施例を示す図である。
【図6】本発明の第4の動作を示す図である。
【図7】本発明で必要なワ−ド線選択回路を示す図であ
る。
る。
【図8】ワ−ド線選択回路の動作を示す図である。
【図9】センスアンプの具体的な構成を示す図である。
【図10】2つのメモリセルアレ−で1つのセンスアン
プを共用するための構成を示す図である。
プを共用するための構成を示す図である。
【図11】チップ全体の構成を示す図である。
【図12】本発明のメモリセルのレイアウト例を示す図
である。
である。
【図13】本発明を用いたシステム構成を示す図である
。
。
【図14】従来例を示す図である。
【図15】従来例の動作を示す図である。
T11A〜T4nB…セルトランジスタ、C11〜C4
n…セル容量、SA11〜SA4(n+1)…センスア
ンプ、D1,D1’〜D4,D4’,D5…デ−タ線、
W11〜Wn4,W,W’…ワ−ド線、AXi,AXs
…プレデコ−ダ信号、XDP…プリチャ−ジ信号、RO
,/RO,RO1,/RO1,RO2,/RO2…読出
し信号線、PP,PN,PP1,PN1…センスアンプ
起動信号線、Ary1〜Ary3,Ary111〜Ar
y4n1…メモリセルアレ−、PM11〜PM4(n+
1)…プリアンプ、MA…メインアンプ及びDoutバ
ッファ、Dout…出力端子、MC1〜MC8…メモリ
セル、RA1,RA2…リライトアンプ、DS1,DS
2…ショ−ト回路、DA1,DA2…読出し回路、HV
D…プリチャ−ジ電圧線、PC…ショ−ト回路起動信号
線、PL…プレ−ト、YS1,YS2…列選択信号線、
VE…デ−タ線低レベル、VD…デ−タ線高レベル、V
CH…ワ−ド線電源電圧、CPU…システム制御装置、
PFY…システム内の他の装置、RAG…リフレッシュ
アドレス発生装置、TC…制御信号発生装置、SLCT
…アドレスセレクト装置、M…本発明を用いたDRAM
。
n…セル容量、SA11〜SA4(n+1)…センスア
ンプ、D1,D1’〜D4,D4’,D5…デ−タ線、
W11〜Wn4,W,W’…ワ−ド線、AXi,AXs
…プレデコ−ダ信号、XDP…プリチャ−ジ信号、RO
,/RO,RO1,/RO1,RO2,/RO2…読出
し信号線、PP,PN,PP1,PN1…センスアンプ
起動信号線、Ary1〜Ary3,Ary111〜Ar
y4n1…メモリセルアレ−、PM11〜PM4(n+
1)…プリアンプ、MA…メインアンプ及びDoutバ
ッファ、Dout…出力端子、MC1〜MC8…メモリ
セル、RA1,RA2…リライトアンプ、DS1,DS
2…ショ−ト回路、DA1,DA2…読出し回路、HV
D…プリチャ−ジ電圧線、PC…ショ−ト回路起動信号
線、PL…プレ−ト、YS1,YS2…列選択信号線、
VE…デ−タ線低レベル、VD…デ−タ線高レベル、V
CH…ワ−ド線電源電圧、CPU…システム制御装置、
PFY…システム内の他の装置、RAG…リフレッシュ
アドレス発生装置、TC…制御信号発生装置、SLCT
…アドレスセレクト装置、M…本発明を用いたDRAM
。
Claims (2)
- 【請求項1】1ヶの容量の1端子を2ヶのスイッチング
素子で共有したメモリセルと、該2ヶのスイッチング素
子を独立に開閉する手段とを有し、該2ヶのスイッチン
グ素子の該容量と接続していない他方の端子を異なる増
幅回路に接続したことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項2】該2ヶのスイッチング素子は、第1のスイ
ッチング素子がオンし第2のスイッチング素子がオフの
時第1のスイッチング素子に接続される第1のデ−タ線
上で読出し,再書込みが行われた後、第1のスイッチン
グ素子をオフし第1のデ−タ線のプリチャ−ジ動作を行
なう時これと並行して第2のスイッチ素子がオンしこれ
と対応する第2のデ−タ線上で読出し,再書込みを行な
うことを可能とすることを特徴とする請求項1に記載さ
れた半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3006215A JPH04238193A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3006215A JPH04238193A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04238193A true JPH04238193A (ja) | 1992-08-26 |
Family
ID=11632303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3006215A Pending JPH04238193A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04238193A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6137713A (en) * | 1998-10-20 | 2000-10-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor storage device |
| KR100420827B1 (ko) * | 1998-09-30 | 2004-03-02 | 인피니온 테크놀로지스 아게 | 이중-포트 메모리 셀 |
| US6751116B2 (en) | 2001-09-06 | 2004-06-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device |
| US8490960B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-07-23 | Ricoh Company, Limited | Sheet processing apparatus and image forming system |
-
1991
- 1991-01-23 JP JP3006215A patent/JPH04238193A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100420827B1 (ko) * | 1998-09-30 | 2004-03-02 | 인피니온 테크놀로지스 아게 | 이중-포트 메모리 셀 |
| US6137713A (en) * | 1998-10-20 | 2000-10-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor storage device |
| US6751116B2 (en) | 2001-09-06 | 2004-06-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device |
| US7031199B2 (en) | 2001-09-06 | 2006-04-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device |
| US8490960B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-07-23 | Ricoh Company, Limited | Sheet processing apparatus and image forming system |
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