JPH04247214A - 粉体乾燥装置 - Google Patents

粉体乾燥装置

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JPH04247214A
JPH04247214A JP3012081A JP1208191A JPH04247214A JP H04247214 A JPH04247214 A JP H04247214A JP 3012081 A JP3012081 A JP 3012081A JP 1208191 A JP1208191 A JP 1208191A JP H04247214 A JPH04247214 A JP H04247214A
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JP
Japan
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powder
exhaust gas
gas
main body
collecting
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Withdrawn
Application number
JP3012081A
Other languages
English (en)
Inventor
Morio Kagami
守男 加賀見
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication of JPH04247214A publication Critical patent/JPH04247214A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、排ガス処理装置におけ
る半乾式装置の蒸発反応塔,薬品,食品,工業製品等の
粉体乾燥装置等の加熱用ガスによって粉体を乾燥する装
置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】排ガスの処理装置において吸収剤スラリ
ー(Ca(OH)2スラリー等)を、蒸発反応塔で噴霧
し、排ガス中に含まれる有害物質SOx,HCl等を除
去するシステムにおいては、吸収剤スラリーと排ガスが
反応して、粒体の反応生物が発生する。従来この粒体は
、蒸発反応塔内で排ガスによって加熱され半乾燥された
上、蒸発反応塔とは別置の除じん装置において排ガス中
に含まれるばいじんと共に排ガスから分離され、清浄化
されたガスが排出されるようになっている。
【0003】即ち、図4に示すように、排ガス発生源1
1出口に、蒸発反応塔12次いで排ガス中に含まれるば
いじん及び反応生成物を除去する除じん装置13を配し
、有害物質を除去した後、清浄を排ガスを煙突14から
放出している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の排ガスの処
理装置においては、蒸発反応塔と除じん装置が別置であ
るので、大きい設置スペースを必要とし、かつ、周辺装
置の構成点数を多く必要としている。
【0005】本発明は、以上の問題点を解決しようとす
るものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の粉体乾燥装置は
、加熱用ガスが供給され粉体と接触して粉体を乾燥する
乾燥装置本体内に、ガスと粉体を分離する除じん装置を
設けた。
【0007】
【作用】本発明では、乾燥装置本体内に除じん装置を設
け、乾燥された粉体を捕集して加熱用ガスと粉体を分離
する。
【0008】
【実施例】本発明の一実施例を、図1ないし図3によっ
て説明する。本実施例は、図4に示される排ガスの処理
装置と同様に吸収剤スラリー(Ca(OH)2 スラリ
ー等)で排ガスを清浄化する蒸発反応塔に関するもので
あって、図3に示すように、ボイラ等の排ガス発生源1
1出口に吸収剤スラリーが供給される蒸発反応塔本体2
が接続され、ここで処理され清浄化された排ガスが煙突
10より排出されるようになっている。
【0009】本実施例に係る蒸発反応塔では、図1に示
すように、蒸発反応塔本体2の上部にガス導入部1が設
けられ、同ガス導入部1内に下方へ向ってCa(OH)
2 等の吸収剤スラリー7を噴霧するロータリアトマイ
ザー又は二流体ノズル等の液滴噴霧装置3が設けられて
いる。蒸発反応塔本体2の下部には、図1及び図2に示
すように、複数のバグフイルタ4が設けられ、同バグフ
イルタ4は蒸発反応塔本体2の側部の排ガス出口5に接
続されている。また、バグフイルタ4の上方には、図2
に示すように、複数の山形の粉体分散板9が設けられて
いる。6は蒸発反応塔本体2の下部に設けられたホツパ
であり、8はバグフイルタ4の逆洗用空気ラインである
【0010】本実施例では、排ガス発生源11からの排
ガスは、ガス導入部1を経て蒸発反応塔本体2内へ導入
され、同導入部1において液滴噴霧装置3から噴霧され
る吸収剤スラリー7と接触する。排ガスと接触した吸収
剤スラリー7の液滴は、排ガス中のSO2 と反応しつ
つ排ガスの熱により蒸発し、かつ乾燥されて、下方へ流
れる。吸収剤と反応したSO2 は固形の反応生成物に
なる。
【0011】蒸発反応塔本体2内の下部においては、排
ガス中のばいじん及び反応生成物がバグフイルタ4によ
って捕集され、排ガスはばいじん及び反応生成物が取り
除かれた後排ガス出口5から蒸発反応塔本体2を外へ排
出される。バグフイルタ4において排ガスから分離され
たばいじん及び反応生成物は、蒸発反応塔本体下部のホ
ツパ6より系外へ排出される。
【0012】本実施例においては、バグフイルタ4が蒸
発反応塔本体2内に設けられており、別置の除じん装置
を必要とせず、設置スペースを小さくすることができ、
かつ、周辺装置の点数を少くすることができる。
【0013】なお、前記の実施例では、バグフイルタを
用いているが、本発明はこれに限られることなく他の除
じん装置を用いるとこができる。また、本発明は、前記
の実施例のような排ガス処理装置の蒸発反応塔に限られ
るものではなく、薬品,食品,工業製品等の加熱用ガス
を用いる粉体乾燥装置にひろく適用することができる。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、加熱用
ガスが供給され粉体と接触して粉体を乾燥する乾燥装置
本体内に除じん装置を設けているために、従来の設備に
対し、設置スペース,周辺機器点数を少くすることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る蒸発反応塔の構造図で
ある。
【図2】図1のA−A矢視図である。
【図3】前記本発明の一実施例に係る蒸発反応塔が用い
られる排ガス処理装置の系統図である。
【図4】従来の排ガス処理装置の系統図である。
【符号の説明】
1    ガス導入部 2    蒸発反応塔本体 3    液滴噴霧装置 4    バグフイルタ 5    排ガス出口 6    ホツパ 7    吸収剤スラリー 8    逆洗用空気ライン 9    粉体分散板 10  煙突

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  加熱用ガスが供給され粉体と接触して
    粉体を乾燥する乾燥装置本体内に、ガスと粉体を分離す
    る除じん装置を設けたことを特徴とする粉体乾燥装置。
JP3012081A 1991-02-01 1991-02-01 粉体乾燥装置 Withdrawn JPH04247214A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008168195A (ja) * 2007-01-10 2008-07-24 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 排ガス処理装置
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