JPH04248146A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
- Publication number
- JPH04248146A JPH04248146A JP2411691A JP2411691A JPH04248146A JP H04248146 A JPH04248146 A JP H04248146A JP 2411691 A JP2411691 A JP 2411691A JP 2411691 A JP2411691 A JP 2411691A JP H04248146 A JPH04248146 A JP H04248146A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- laser
- exposure
- light source
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、光ディスク原盤露光装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来技術】図２は、従来の光ディスク原盤露光機の構
成図で、図中、２２はＡｒ＋レーザ（４５８ｎｍ）、２
３は光量安定化装置、２４はＡ／Ｏ（Ａｃｏｕｓｔｉｃ
Ｏｐｔｉｃａｌ：音響光学）変調器（露光量制御用）
、２５はダイクロイックミラー、２６は集光レンズ、２
７はＡ／Ｏ変調器（信号記録用）、２８はミラー、２９
は光量モニター用フォトダイオード、３０は送り駆動モ
ータ、３１はモータ制御系、３２はレンズアクチュエー
タ、３３はガラス基板、３４はターンテーブル、３５は
レーザ光源、３６は光源の半導体レーザ、３７はコリメ
ータレンズ、３８はλ／４板付偏光ビームスプリッタ、
３９はシリンドリカルレンズ、４０は４分割ピンフォト
ダイオード、４１はフォーカスエラー検出及びサーボ回
路部、４２はビーム整形光学系、４３はＡ／Ｏ偏向器、
４４は送り台、４５はプリフォーマット信号発生源であ
る。
成図で、図中、２２はＡｒ＋レーザ（４５８ｎｍ）、２
３は光量安定化装置、２４はＡ／Ｏ（Ａｃｏｕｓｔｉｃ
Ｏｐｔｉｃａｌ：音響光学）変調器（露光量制御用）
、２５はダイクロイックミラー、２６は集光レンズ、２
７はＡ／Ｏ変調器（信号記録用）、２８はミラー、２９
は光量モニター用フォトダイオード、３０は送り駆動モ
ータ、３１はモータ制御系、３２はレンズアクチュエー
タ、３３はガラス基板、３４はターンテーブル、３５は
レーザ光源、３６は光源の半導体レーザ、３７はコリメ
ータレンズ、３８はλ／４板付偏光ビームスプリッタ、
３９はシリンドリカルレンズ、４０は４分割ピンフォト
ダイオード、４１はフォーカスエラー検出及びサーボ回
路部、４２はビーム整形光学系、４３はＡ／Ｏ偏向器、
４４は送り台、４５はプリフォーマット信号発生源であ
る。
【０００３】この光ディスク原盤露光機は、Ａ／Ｏ偏向
器４３、ビーム整形光学系４２、プリフォーマット信号
発生源４５及びＡｒ＋レーザ２２、光量安定化装置２３
、Ａ／Ｏ変調器２４、ダイクロイックミラー２５、集光
レンズ２６、Ａ／Ｏ変調器２７が露光光学系に関する部
分であり、フォーカス光学系は破線で示されているよう
に、光源の半導体レーザ３６、コリメータレンズ３７、
λ／４板付偏光ビームスプリッタ３８、シリンドリカル
レンズ３９、４分割ピンフォトダイオード４０、フォー
カスエラー検出及びサーボ回路部４１で構成されている
。フォーカスエラー検出及びサーボ回路部４１はレンズ
アクチュエータ３２を制御する。この方式は非点収差法
である。レーザ光源（アルゴンイオンレーザ）２２より
、波長λ＝４５８ｎｍの露光用レーザビームが出射され
、光量安定化ユニット２３、ダイクロイックミラー２５
、集光レンズ２６を介してＡ／Ｏ（音響光学）変調器２
７に入射する。該Ａ／Ｏ変調器２７を通過した露光ビー
ムは、Ａ／Ｏ（音響光学）偏向器４３、ビーム整形光学
系４２、対物レンズのアクチュエータ３２を介してター
ンテーブル３４上の光ディスク原盤の面上に集光される
。この場合、レーザ光源２２（波長４５８ｎｍ）を用い
たものであり、装置が大型化複雑化するという欠点を有
している。
器４３、ビーム整形光学系４２、プリフォーマット信号
発生源４５及びＡｒ＋レーザ２２、光量安定化装置２３
、Ａ／Ｏ変調器２４、ダイクロイックミラー２５、集光
レンズ２６、Ａ／Ｏ変調器２７が露光光学系に関する部
分であり、フォーカス光学系は破線で示されているよう
に、光源の半導体レーザ３６、コリメータレンズ３７、
λ／４板付偏光ビームスプリッタ３８、シリンドリカル
レンズ３９、４分割ピンフォトダイオード４０、フォー
カスエラー検出及びサーボ回路部４１で構成されている
。フォーカスエラー検出及びサーボ回路部４１はレンズ
アクチュエータ３２を制御する。この方式は非点収差法
である。レーザ光源（アルゴンイオンレーザ）２２より
、波長λ＝４５８ｎｍの露光用レーザビームが出射され
、光量安定化ユニット２３、ダイクロイックミラー２５
、集光レンズ２６を介してＡ／Ｏ（音響光学）変調器２
７に入射する。該Ａ／Ｏ変調器２７を通過した露光ビー
ムは、Ａ／Ｏ（音響光学）偏向器４３、ビーム整形光学
系４２、対物レンズのアクチュエータ３２を介してター
ンテーブル３４上の光ディスク原盤の面上に集光される
。この場合、レーザ光源２２（波長４５８ｎｍ）を用い
たものであり、装置が大型化複雑化するという欠点を有
している。
【０００４】
【目的】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、部品点数が少なく、小型化、簡素化を実現する
光ディスク原盤露光装置を提供することを目的としてな
されたものである。
もので、部品点数が少なく、小型化、簡素化を実現する
光ディスク原盤露光装置を提供することを目的としてな
されたものである。
【０００５】
【構成】本発明は、上記目的を達成するために、露光用
レーザビームを出射するレーザ光源と、該レーザ光源か
らの露光用ビームを整形するビーム整形光学系と、該ビ
ーム整形光学系からのビームを光ディスク原盤の面上に
集光するようにした露光光学系において、前記レーザ光
源からのレーザビームを入射し、第２高調波を発生する
第２高調波発生素子を設けたことを特徴としたものであ
る。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
レーザビームを出射するレーザ光源と、該レーザ光源か
らの露光用ビームを整形するビーム整形光学系と、該ビ
ーム整形光学系からのビームを光ディスク原盤の面上に
集光するようにした露光光学系において、前記レーザ光
源からのレーザビームを入射し、第２高調波を発生する
第２高調波発生素子を設けたことを特徴としたものであ
る。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
【０００６】図１は、本発明による光ディスク原盤露光
装置の一実施例を説明するための構成図で、図中、１は
半導体レーザ（８４０ｎｍ）、２は光導波路形ＳＨＧ素
子（第２高調波発生素子：Ｓｅｃｏｎｄ Ｈａｒｍｏｎ
ｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ、例えばＬｉＮｂＯ３）、
３はＡ／Ｏ（音響光学）偏向器、４はモニター用ビーム
スプリッタ、５はビーム整形光学系、６は光源の半導体
レーザ、７はコリメータレンズ、８はλ／４板付偏光ビ
ームスプリッタ、９はシリンドリカルレンズ、１０は４
分割ピンフォトダイオード、１１はフォーカスエラー検
出及びサーボ回路部、１２はレンズアクチュエータ、１
３はガラス基板、１４はターンテーブル、１５はレーザ
光源、１６は光量モニター用フォトダイオード、１７は
半導体レーザ電源部及び光量変調制御部、１８はプリフ
ォーマット信号発生源、１９は送り台、２０は送り駆動
モータ、２１はモータ制御系である。
装置の一実施例を説明するための構成図で、図中、１は
半導体レーザ（８４０ｎｍ）、２は光導波路形ＳＨＧ素
子（第２高調波発生素子：Ｓｅｃｏｎｄ Ｈａｒｍｏｎ
ｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ、例えばＬｉＮｂＯ３）、
３はＡ／Ｏ（音響光学）偏向器、４はモニター用ビーム
スプリッタ、５はビーム整形光学系、６は光源の半導体
レーザ、７はコリメータレンズ、８はλ／４板付偏光ビ
ームスプリッタ、９はシリンドリカルレンズ、１０は４
分割ピンフォトダイオード、１１はフォーカスエラー検
出及びサーボ回路部、１２はレンズアクチュエータ、１
３はガラス基板、１４はターンテーブル、１５はレーザ
光源、１６は光量モニター用フォトダイオード、１７は
半導体レーザ電源部及び光量変調制御部、１８はプリフ
ォーマット信号発生源、１９は送り台、２０は送り駆動
モータ、２１はモータ制御系である。
【０００７】半導体レーザ１より波長λ＝８４０ｎｍの
露光用レーザビームが出射され、コリメート光学系を含
んだ光導波路形ＳＨＧ素子２に入射される。該ＳＨＧ素
子２は第２高調波として波長λ＝４２０ｎｍのビーム整
形光学系５、対物レンズのアクチュエータ１２を介して
ターンテーブル１４上の光ディスク原盤の面上に集光さ
れる。このように従来の露光光学系と比較すると大幅に
光学系の機構が簡略化されていることが分かる。したが
って、露光装置の小型化が図れる。
露光用レーザビームが出射され、コリメート光学系を含
んだ光導波路形ＳＨＧ素子２に入射される。該ＳＨＧ素
子２は第２高調波として波長λ＝４２０ｎｍのビーム整
形光学系５、対物レンズのアクチュエータ１２を介して
ターンテーブル１４上の光ディスク原盤の面上に集光さ
れる。このように従来の露光光学系と比較すると大幅に
光学系の機構が簡略化されていることが分かる。したが
って、露光装置の小型化が図れる。
【０００８】すなわち、原盤露光機の露光用光源として
は、フォトレジストの感度の高い波長域のアルゴンイオ
ンレーザ（４５８ｎｍ）やＨｅ−Ｃｄレーザ（４４２ｎ
ｍ）等のガスレーザが一般に従来より使用されている。 これらのガスレーザは、一般に装置が大きく、また高速
の直接変調ができないため、外部に変調用のＡ／Ｏまた
はＥ／Ｏ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｏｐｔｉｃａｌ：電気光
学）素子を配置する必要がある。ＳＨＧ素はそれと組み
合せる半導体レーザを含めても、ガスレーザと比較して
かなり小型であり、また、半導体レーザは高速な直接変
調が可能であり、他の素子の必要がないので、装置の露
光光学系が、かなり小型化される。
は、フォトレジストの感度の高い波長域のアルゴンイオ
ンレーザ（４５８ｎｍ）やＨｅ−Ｃｄレーザ（４４２ｎ
ｍ）等のガスレーザが一般に従来より使用されている。 これらのガスレーザは、一般に装置が大きく、また高速
の直接変調ができないため、外部に変調用のＡ／Ｏまた
はＥ／Ｏ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｏｐｔｉｃａｌ：電気光
学）素子を配置する必要がある。ＳＨＧ素はそれと組み
合せる半導体レーザを含めても、ガスレーザと比較して
かなり小型であり、また、半導体レーザは高速な直接変
調が可能であり、他の素子の必要がないので、装置の露
光光学系が、かなり小型化される。
【０００９】
【効果】以上の説明から明らかなように、本発明による
と、ＳＨＧ素子を用いることによって、小型で直接高速
変調が可能な半導体レーザ（ＬＤ）を露光光学系に用い
ることができ、大幅な装置の小型化、簡略化が可能とな
る。また装置の組立も容易になる。
と、ＳＨＧ素子を用いることによって、小型で直接高速
変調が可能な半導体レーザ（ＬＤ）を露光光学系に用い
ることができ、大幅な装置の小型化、簡略化が可能とな
る。また装置の組立も容易になる。
【図１】本発明による光ディスク原盤露光装置の一実施
例を説明するための構成図である。
例を説明するための構成図である。
【図２】従来の光ディスク原盤露光機の構成図である。
１ 半導体レーザ（８４０ｎｍ）
２ 光導波路形ＳＨＧ素子（第２高調波発生素子）３
Ａ／Ｏ偏向器 ４ モニター用ビームスプリッタ ５ ビーム整形光学系 ６ 光源の半導体レーザ ７ コリメータレンズ ８ λ／４板付偏光ビームスプリッタ９ シリンド
リカルレンズ １０ ４分割ピンフォトダイオード １１ フォーカスエラー検出及びサーボ回路部１２
レンズアクチュエータ １３ ガラス基板 １４ ターンテーブル １５ レーザ光源 １６ 光量モニター用フォトダイオード１７ 半導
体レーザ電源部及び光量変調制御部１８ プリフォー
マット信号発生源 １９ 送り台 ２０ 送り駆動モータ ２１ モータ制御系
Ａ／Ｏ偏向器 ４ モニター用ビームスプリッタ ５ ビーム整形光学系 ６ 光源の半導体レーザ ７ コリメータレンズ ８ λ／４板付偏光ビームスプリッタ９ シリンド
リカルレンズ １０ ４分割ピンフォトダイオード １１ フォーカスエラー検出及びサーボ回路部１２
レンズアクチュエータ １３ ガラス基板 １４ ターンテーブル １５ レーザ光源 １６ 光量モニター用フォトダイオード１７ 半導
体レーザ電源部及び光量変調制御部１８ プリフォー
マット信号発生源 １９ 送り台 ２０ 送り駆動モータ ２１ モータ制御系
Claims (1)
- 【請求項１】 露光用レーザビームを出射するレーザ
光源と、該レーザ光源からの露光用ビームを整形するビ
ーム整形光学系と、該ビーム整形光学系からのビームを
光ディスク原盤の面上に集光するようにした露光光学系
において、前記レーザ光源からのレーザビームを入射し
、第２高調波を発生する第２高調波発生素子を設けたこ
とを特徴とする光ディスク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2411691A JPH04248146A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2411691A JPH04248146A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04248146A true JPH04248146A (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=12129354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2411691A Pending JPH04248146A (ja) | 1991-01-23 | 1991-01-23 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04248146A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6219330B1 (en) | 1997-09-30 | 2001-04-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and having first and second photoresist layers |
| US7136565B1 (en) | 2005-05-23 | 2006-11-14 | Imation Corp. | Optical waveguide disk |
-
1991
- 1991-01-23 JP JP2411691A patent/JPH04248146A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6219330B1 (en) | 1997-09-30 | 2001-04-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Master disk for optical disk and having first and second photoresist layers |
| US7136565B1 (en) | 2005-05-23 | 2006-11-14 | Imation Corp. | Optical waveguide disk |
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