JPH04253355A - 搬送装置及びそれを用いた搬送方法 - Google Patents
搬送装置及びそれを用いた搬送方法Info
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- JPH04253355A JPH04253355A JP3009314A JP931491A JPH04253355A JP H04253355 A JPH04253355 A JP H04253355A JP 3009314 A JP3009314 A JP 3009314A JP 931491 A JP931491 A JP 931491A JP H04253355 A JPH04253355 A JP H04253355A
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- semiconductor substrate
- holding
- wafer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造における半
導体基板を所定位置に搬送する搬送装置に関する。
導体基板を所定位置に搬送する搬送装置に関する。
【0002】近年、半導体製造では、ウエハ上に付着す
るパーティクルを減少させつつ、異なる処理チャンバを
連結して連続したプロセスを行うことが望まれている。 そのため、機構の摺動部分を除き、ウエハの接触を防ぐ
と共に、ウエハ搬送における位置精度を向上させる必要
がある。
るパーティクルを減少させつつ、異なる処理チャンバを
連結して連続したプロセスを行うことが望まれている。 そのため、機構の摺動部分を除き、ウエハの接触を防ぐ
と共に、ウエハ搬送における位置精度を向上させる必要
がある。
【0003】
【従来の技術】図5に、従来の搬送装置の一部構成図を
示す。図5は、搬送装置のアーム先端部50と、その上
方に静電チャック面51とを示している。アーム先端部
50は、トレイ52とベース板53とにより構成される
。
示す。図5は、搬送装置のアーム先端部50と、その上
方に静電チャック面51とを示している。アーム先端部
50は、トレイ52とベース板53とにより構成される
。
【0004】トレイ52の上部には、ウエハ54を載置
するために、該ウエハ54の外径より1〜2mm大きな
座ぐり55を深さ1mm程度で形成される。これは、処
理チャンバにウエハ54を搬入するアーム(50)と、
処理チャンバから搬出するアーム(50)の停止位置の
調整を行い易くするためである。また、トレイ52の所
定箇所よりボルト56aが貫通され、バネ57及びベー
ス板53を介在させてナット56bにより該トレイ52
を締着している。この場合、ベース板53はナット56
bを貫通させる孔が、該ナット56bの径より1mm程
度大きく形成されて位置決めの役割を果している。
するために、該ウエハ54の外径より1〜2mm大きな
座ぐり55を深さ1mm程度で形成される。これは、処
理チャンバにウエハ54を搬入するアーム(50)と、
処理チャンバから搬出するアーム(50)の停止位置の
調整を行い易くするためである。また、トレイ52の所
定箇所よりボルト56aが貫通され、バネ57及びベー
ス板53を介在させてナット56bにより該トレイ52
を締着している。この場合、ベース板53はナット56
bを貫通させる孔が、該ナット56bの径より1mm程
度大きく形成されて位置決めの役割を果している。
【0005】また、ベース板53は、ナット56bのフ
ランジにより押えつけられた状態となる。なお、ベース
板53は、図示しないアーム上に一体に形成されたもの
である。
ランジにより押えつけられた状態となる。なお、ベース
板53は、図示しないアーム上に一体に形成されたもの
である。
【0006】そこで、トレイ52上の座ぐり55に被加
工面を下に向けた状態(フェイスダウン)のウエハ54
を載置し、静電チャック面51に該ウエハ54を当接さ
せて吸着させる。この場合、トレイ52は当接時の力に
よりボルト56a及びナット56bごと下方に沈み込む
が、バネ57によりクッション性をもたせて、ウエハ5
4にフェイスダウン状態で無理な力が加わらないように
している。
工面を下に向けた状態(フェイスダウン)のウエハ54
を載置し、静電チャック面51に該ウエハ54を当接さ
せて吸着させる。この場合、トレイ52は当接時の力に
よりボルト56a及びナット56bごと下方に沈み込む
が、バネ57によりクッション性をもたせて、ウエハ5
4にフェイスダウン状態で無理な力が加わらないように
している。
【0007】すなわち、該チャンバ間をアームによりフ
ェイスダウン状態でウエハ54を搬送するものである。
ェイスダウン状態でウエハ54を搬送するものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、トレイ52上
の座ぐり55はウエハ54より径が大きいことから、搬
送時に該ウエハ54が座ぐり55内で動くため、次のチ
ャンバの搬送位置に正確に搬送できず、異なる処理チャ
ンバが連結されて処理数が増加するに従って位置ずれ量
が蓄積されて搬送系の信頼度が低下するという問題があ
る。
の座ぐり55はウエハ54より径が大きいことから、搬
送時に該ウエハ54が座ぐり55内で動くため、次のチ
ャンバの搬送位置に正確に搬送できず、異なる処理チャ
ンバが連結されて処理数が増加するに従って位置ずれ量
が蓄積されて搬送系の信頼度が低下するという問題があ
る。
【0009】また、ウエハ54が座ぐり55内で動くこ
とから欠け等を生じてパーティクルを発生すると共に、
ウエハ54の吸着時にトレイ52が下方に移動する際、
ナット56bとベース板53又はバネ57が摺動してパ
ーティクルを発生し、ウエハ54に該パーティクルが付
着し易いという問題がある。
とから欠け等を生じてパーティクルを発生すると共に、
ウエハ54の吸着時にトレイ52が下方に移動する際、
ナット56bとベース板53又はバネ57が摺動してパ
ーティクルを発生し、ウエハ54に該パーティクルが付
着し易いという問題がある。
【0010】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、パーティクルの発生を防止し、半導体基板の搬
送位置精度の向上を図る搬送装置を提供することを目的
とする。
もので、パーティクルの発生を防止し、半導体基板の搬
送位置精度の向上を図る搬送装置を提供することを目的
とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題は、半導体基板
の所定の処理を行う所定数の処理室に、被加工面が下方
向の該半導体基板を、アーム先端の保持手段により保持
して搬送を行う搬送装置において、前記保持手段は、前
記半導体基板の周縁を支持する段差が形成された保持部
と、先端がテーパ状に形成され、該段差縁端の所定位置
に該テーパ状の先端が表出する所定数の位置決め部材が
上下動可能に設けられて、該保持部の下方に配置される
ベース部とを有する構成とすることにより解決される。
の所定の処理を行う所定数の処理室に、被加工面が下方
向の該半導体基板を、アーム先端の保持手段により保持
して搬送を行う搬送装置において、前記保持手段は、前
記半導体基板の周縁を支持する段差が形成された保持部
と、先端がテーパ状に形成され、該段差縁端の所定位置
に該テーパ状の先端が表出する所定数の位置決め部材が
上下動可能に設けられて、該保持部の下方に配置される
ベース部とを有する構成とすることにより解決される。
【0012】また、保持手段は、半導体基板の周縁を支
持する段差が形成されると共に、下方向に断面小径のガ
イド部材を所定位置に所定数固定した保持部と、該ガイ
ド部材より大口径の弾性部材を該ガイド部材の周囲に該
保持部と位置決めして配設し、該弾性部材の付勢力によ
り該保持部の緩衝を行うベース部とを有する構成とし、
または、前記アーム先端に設けられたベース部と、該ベ
ース部上に位置し、該ベース部を支点にして水平移動す
る所定数の把持部材で前記半導体基板の周側面を把持す
る保持部とを有する構成とする。
持する段差が形成されると共に、下方向に断面小径のガ
イド部材を所定位置に所定数固定した保持部と、該ガイ
ド部材より大口径の弾性部材を該ガイド部材の周囲に該
保持部と位置決めして配設し、該弾性部材の付勢力によ
り該保持部の緩衝を行うベース部とを有する構成とし、
または、前記アーム先端に設けられたベース部と、該ベ
ース部上に位置し、該ベース部を支点にして水平移動す
る所定数の把持部材で前記半導体基板の周側面を把持す
る保持部とを有する構成とする。
【0013】
【作用】上述のように、アーム先端の保持手段のベース
部に位置決め部材が設けられ、位置決め部材の先端はテ
ーパ状に形成されている。この場合、半導体基板を保持
部に載置する際、及び保持部より移す際には位置決め部
材は下方向に位置する。そして、保持部に半導体基板を
載置した後に、該位置決め部材が上方に位置して、テー
パ部分で該半導体基板を精度よく位置決めを行うもので
ある。
部に位置決め部材が設けられ、位置決め部材の先端はテ
ーパ状に形成されている。この場合、半導体基板を保持
部に載置する際、及び保持部より移す際には位置決め部
材は下方向に位置する。そして、保持部に半導体基板を
載置した後に、該位置決め部材が上方に位置して、テー
パ部分で該半導体基板を精度よく位置決めを行うもので
ある。
【0014】また、大径部の弾性部材を小径のガイド部
材の周囲に包むように配設して、ベース板上で保持部を
該弾性部材の付勢力で上下動させる。これにより、保持
部に上方向より力が加えられても該弾性部材で緩衝を行
っている。すなわち、この緩衝させるための機構は、大
口径の弾性部材で保持部とベース部を位置決めすること
から該弾性部材と摺動する部分を省くことが可能となり
、部材の摺動によるパーティクルの発生を防止すること
が可能となる。
材の周囲に包むように配設して、ベース板上で保持部を
該弾性部材の付勢力で上下動させる。これにより、保持
部に上方向より力が加えられても該弾性部材で緩衝を行
っている。すなわち、この緩衝させるための機構は、大
口径の弾性部材で保持部とベース部を位置決めすること
から該弾性部材と摺動する部分を省くことが可能となり
、部材の摺動によるパーティクルの発生を防止すること
が可能となる。
【0015】また、保持手段の保持部に半導体基板の周
側面を把持部材により把持させる。すなわち、半導体基
板が保持部に載置された後に把持部材を水平移動させ、
該半導体基板を精度よく位置決めすることが可能となる
。
側面を把持部材により把持させる。すなわち、半導体基
板が保持部に載置された後に把持部材を水平移動させ、
該半導体基板を精度よく位置決めすることが可能となる
。
【0016】このように、摺動部分がないことからパー
ティクルの発生を防止することが可能になると共に、半
導体基板が高精度に位置決めされることにより、異なる
処理を行う処理部が連結されていても、搬送系の信頼度
を向上させ、連続して処理を行うことが可能となる。
ティクルの発生を防止することが可能になると共に、半
導体基板が高精度に位置決めされることにより、異なる
処理を行う処理部が連結されていても、搬送系の信頼度
を向上させ、連続して処理を行うことが可能となる。
【0017】
【実施例】図1に、本発明の第1の実施例の構成図を示
す。図1は、搬送装置におけるアーム先端の保持手段を
示したものである。図1において、保持手段1は保持部
2及びベース部3により構成されて上下動し、静電チャ
ック4に該保持部2の上面が当接する。
す。図1は、搬送装置におけるアーム先端の保持手段を
示したものである。図1において、保持手段1は保持部
2及びベース部3により構成されて上下動し、静電チャ
ック4に該保持部2の上面が当接する。
【0018】保持部2は、詳細は図2において説明する
が、上面に座ぐりによる段差5が形成され、該段差5に
より半導体基板であるウエハ6の周縁で載置させる。ま
た、保持部2には、位置決め部材のための孔7a,7b
及びガイド部材のための孔8a,8bが形成され、下面
に座ぐり9a〜9cが形成される。
が、上面に座ぐりによる段差5が形成され、該段差5に
より半導体基板であるウエハ6の周縁で載置させる。ま
た、保持部2には、位置決め部材のための孔7a,7b
及びガイド部材のための孔8a,8bが形成され、下面
に座ぐり9a〜9cが形成される。
【0019】一方、ベース部3には、位置決め部材10
a,10bが設けられると共に(後述する)、緩衝機構
11a,11b,11cが設けられる。ここで、緩衝機
構11cは、保持部2の座ぐり9cと、それに対向させ
てベース部3上に形成した座ぐり12との間にバネ13
を設けたもので本装置における補助的な緩衝機構である
。
a,10bが設けられると共に(後述する)、緩衝機構
11a,11b,11cが設けられる。ここで、緩衝機
構11cは、保持部2の座ぐり9cと、それに対向させ
てベース部3上に形成した座ぐり12との間にバネ13
を設けたもので本装置における補助的な緩衝機構である
。
【0020】緩衝機構11a,11bは、まず、ベース
部3に「H」形状の孔14a,14bを保持部2の座ぐ
り9a,9bに対向して形成される。保持部2の孔8a
,8bにボルト15a,15bを貫通させ、後端にフラ
ンジを有するナット16a,16bにより該保持部2及
びベース部3を座ぐり9a,9bと孔14a,14b間
でバネ17a,17bを介在させて締着する。このボル
ト15a,15b及びナット16a,16bは、座ぐり
9a,9b及び孔14a,14bより十分に細い(小径
)ものであり、ガイド部材を構成する。このバネ17a
,17bは、付勢力の強いものが選択され、両端の第1
週目のコイル部分を寸法公差として座ぐり9a,9b及
び孔14a,14bにより保持部2とベース部3の位置
決めを行う。また、バネ17a,17bは、座ぐり9a
,9b及び孔14a,14bに応じてナット16a,1
6bより十分な大口径のものが選択されており、摺動部
分をなくしている。
部3に「H」形状の孔14a,14bを保持部2の座ぐ
り9a,9bに対向して形成される。保持部2の孔8a
,8bにボルト15a,15bを貫通させ、後端にフラ
ンジを有するナット16a,16bにより該保持部2及
びベース部3を座ぐり9a,9bと孔14a,14b間
でバネ17a,17bを介在させて締着する。このボル
ト15a,15b及びナット16a,16bは、座ぐり
9a,9b及び孔14a,14bより十分に細い(小径
)ものであり、ガイド部材を構成する。このバネ17a
,17bは、付勢力の強いものが選択され、両端の第1
週目のコイル部分を寸法公差として座ぐり9a,9b及
び孔14a,14bにより保持部2とベース部3の位置
決めを行う。また、バネ17a,17bは、座ぐり9a
,9b及び孔14a,14bに応じてナット16a,1
6bより十分な大口径のものが選択されており、摺動部
分をなくしている。
【0021】なお、静電チャック4は、例えばアルミ電
極4a上に絶縁体4bを設けたもので、絶縁体4上に生
じる静電力によりウエハ6を吸着する。ここで、4cは
保護部である。
極4a上に絶縁体4bを設けたもので、絶縁体4上に生
じる静電力によりウエハ6を吸着する。ここで、4cは
保護部である。
【0022】ここで、図2に、図1の保持部及び位置決
め部材を説明するための図を示す。図2(A)は保持部
2の正面図を示しており、下方にアーム18上に設けら
れたベース部3が位置する。保持部2は、「U」字形状
に形成され、対向部分にウエハ6の形状に沿って、該ウ
エハ6の外径より0.2 〜0.4mm程度外側になる
ように座ぐり(段差5)を形成したものである。この段
差5縁端の対向する位置に位置決め部材10a〜10d
(図1上では10a,10b)のピン(図2(B)参照
)の先端が表出するように設けられる。そして、ベース
部3との間で設けられる緩衝機構が6箇所で対向して設
けられており(図1では2箇所)、ボルト15a〜15
dの頭部が保持部2上に表われる。
め部材を説明するための図を示す。図2(A)は保持部
2の正面図を示しており、下方にアーム18上に設けら
れたベース部3が位置する。保持部2は、「U」字形状
に形成され、対向部分にウエハ6の形状に沿って、該ウ
エハ6の外径より0.2 〜0.4mm程度外側になる
ように座ぐり(段差5)を形成したものである。この段
差5縁端の対向する位置に位置決め部材10a〜10d
(図1上では10a,10b)のピン(図2(B)参照
)の先端が表出するように設けられる。そして、ベース
部3との間で設けられる緩衝機構が6箇所で対向して設
けられており(図1では2箇所)、ボルト15a〜15
dの頭部が保持部2上に表われる。
【0023】また、図2(B)において、位置決め部材
10a〜10dは、ベース部3に形成された段差19a
を有する孔19に中位置にフランジ20aを有するピン
20がバネ21を該段差19aとフランジ20e間に介
在させて設けたものである。なお、22はストッパであ
り、ピン20の上限位置を規制する。また、ピン20の
先端部20bにはテーパが形成される。
10a〜10dは、ベース部3に形成された段差19a
を有する孔19に中位置にフランジ20aを有するピン
20がバネ21を該段差19aとフランジ20e間に介
在させて設けたものである。なお、22はストッパであ
り、ピン20の上限位置を規制する。また、ピン20の
先端部20bにはテーパが形成される。
【0024】そこで、保持部2によるウエハ6の保持動
作を説明する。図1に示すように、ある処理室内で静電
チャック4に吸着されているウエハ6(被加工面が下側
)に向ってアーム18が例えば約10mm上昇して保持
部2上の段差5内にウエハ6を位置させる。この場合、
静電チャック4面(保護部4c面)に位置決め部材10
a〜10dのピン20の先端部20bが当りベース部3
内に引っ込む。そして、吸着が解除されたウエハ6が段
差5上に載置されてアーム18が下降すると、ピン20
がバネ21により保持部2上に表出する。すなわち、ウ
エハ6がピン20の先端部20bのテーパに沿って常に
位置決めされるものである。これにより、ウエハ6をあ
る処理室に取りにいく場合、アーム18が下降したとき
にウエハ6の位置が補正され、そのままの状態で次の処
理室まで搬送される。
作を説明する。図1に示すように、ある処理室内で静電
チャック4に吸着されているウエハ6(被加工面が下側
)に向ってアーム18が例えば約10mm上昇して保持
部2上の段差5内にウエハ6を位置させる。この場合、
静電チャック4面(保護部4c面)に位置決め部材10
a〜10dのピン20の先端部20bが当りベース部3
内に引っ込む。そして、吸着が解除されたウエハ6が段
差5上に載置されてアーム18が下降すると、ピン20
がバネ21により保持部2上に表出する。すなわち、ウ
エハ6がピン20の先端部20bのテーパに沿って常に
位置決めされるものである。これにより、ウエハ6をあ
る処理室に取りにいく場合、アーム18が下降したとき
にウエハ6の位置が補正され、そのままの状態で次の処
理室まで搬送される。
【0025】従って、異なる処理を行う処理室が連結さ
れたプロセスで、処理室ごとにウエハ6の位置が異なる
場合であっても、アーム18の保持段階で常に正確な位
置にウエハ6が存在することから連続的に各処理室間を
高精度に搬送することができる。
れたプロセスで、処理室ごとにウエハ6の位置が異なる
場合であっても、アーム18の保持段階で常に正確な位
置にウエハ6が存在することから連続的に各処理室間を
高精度に搬送することができる。
【0026】また、保持部2が静電チャック4に当たる
部分の衝撃を緩衝機構11a〜11fにより緩衝してお
り、この場合のバネ17a〜17f(図1上は17a,
17b)等がどの部分にも接触しないことからパーティ
クルの発生を防止することができるものである。
部分の衝撃を緩衝機構11a〜11fにより緩衝してお
り、この場合のバネ17a〜17f(図1上は17a,
17b)等がどの部分にも接触しないことからパーティ
クルの発生を防止することができるものである。
【0027】なお、上記実施例では、本発明における位
置決め部材10a〜10d及び緩衝機構11a〜11f
を共に設けた場合を示しているが、それぞれ別個に設け
た場合にはそれぞれの効果を有するものである。
置決め部材10a〜10d及び緩衝機構11a〜11f
を共に設けた場合を示しているが、それぞれ別個に設け
た場合にはそれぞれの効果を有するものである。
【0028】次に、図3に、本発明の第2の実施例の構
成図を示す。図3(A)は側面図を示したものであり、
図3(B)は平面図を示したものである。図3(A),
(B)において、保持手段1はアーム18に設けられた
ベース部3上にはウエハ(6)の載置台30が設けられ
る。このベース部3の上方には、対向する把持部材2a
,2bにより構成される保持部2が8個の連結部材31
により連結される。把持部材2a,2bはバネ32によ
り連結されており、内側部分はウエハの形状に沿って円
弧上に形成され、その把持部2a1 ,2b1によりウ
エハの周側面を把持する。また、把持部材2a,2bは
、両端の軸により保持部材2a,2b及びベース部3で
回動する。すなわち、把持部材2a,2bは、ベース部
3を支点にして矢印のように平面移動する。そして、把
持部材2a,2bの外側の一部にそれぞれローラ33a
,33bが設けられる。
成図を示す。図3(A)は側面図を示したものであり、
図3(B)は平面図を示したものである。図3(A),
(B)において、保持手段1はアーム18に設けられた
ベース部3上にはウエハ(6)の載置台30が設けられ
る。このベース部3の上方には、対向する把持部材2a
,2bにより構成される保持部2が8個の連結部材31
により連結される。把持部材2a,2bはバネ32によ
り連結されており、内側部分はウエハの形状に沿って円
弧上に形成され、その把持部2a1 ,2b1によりウ
エハの周側面を把持する。また、把持部材2a,2bは
、両端の軸により保持部材2a,2b及びベース部3で
回動する。すなわち、把持部材2a,2bは、ベース部
3を支点にして矢印のように平面移動する。そして、把
持部材2a,2bの外側の一部にそれぞれローラ33a
,33bが設けられる。
【0029】このような保持手段1は、アーム18が上
昇して保持部2が図1のような静電チャック4面に当接
すると、ローラ33a,33bが押されて把持部材2a
,2bが外側に開くように水平移動する。このとき、ウ
エハ(6)はベース部3の載置台30上に位置し、アー
ム18が下降するとバネ32の付勢力により該把持部材
2a,2bが内側に閉じるように水平移動する。この場
合、把持部材2a,2bの把持部2a1 ,2b1 が
ウエハ(6)の周側面を把持するものである。すなわち
、ウエハ(6)の把持状態は、常に所定場所に位置決め
される。従って、アーム18が下降したときにウエハ(
6)の位置が補正され、そのままの状態で次の処理室ま
で搬送される。
昇して保持部2が図1のような静電チャック4面に当接
すると、ローラ33a,33bが押されて把持部材2a
,2bが外側に開くように水平移動する。このとき、ウ
エハ(6)はベース部3の載置台30上に位置し、アー
ム18が下降するとバネ32の付勢力により該把持部材
2a,2bが内側に閉じるように水平移動する。この場
合、把持部材2a,2bの把持部2a1 ,2b1 が
ウエハ(6)の周側面を把持するものである。すなわち
、ウエハ(6)の把持状態は、常に所定場所に位置決め
される。従って、アーム18が下降したときにウエハ(
6)の位置が補正され、そのままの状態で次の処理室ま
で搬送される。
【0030】これにより、ウエハの位置を補正するため
のバッファが不要となり、図1と同様にスループットの
向上、省スペース化を図ることができる。
のバッファが不要となり、図1と同様にスループットの
向上、省スペース化を図ることができる。
【0031】次に、図4に、本発明の一適用例の概念図
を示す。図4は、ロードロック40a,40b間に処理
室41a,41bが配設され、該処理室41a,41b
の間に本発明の搬送装置の保持手段1が配置される。な
お、ロードロック40aと処理室41a,及び処理室4
1bとロードロック40bとの間にも一般の搬送装置の
保持手段42a,42bが配置される。すなわち、保持
手段42aによりロードロック40aよりウエハを被加
工面を下にして処理室41aに搬送し、静電チャックに
吸着させる。処理室41aにおいて処理が終了すると本
発明の保持手段1により次の処理室41bに搬送し、処
理が終了すると保持手段42bにより所定の処理済のウ
エハをロードロック40bに搬送するものである。
を示す。図4は、ロードロック40a,40b間に処理
室41a,41bが配設され、該処理室41a,41b
の間に本発明の搬送装置の保持手段1が配置される。な
お、ロードロック40aと処理室41a,及び処理室4
1bとロードロック40bとの間にも一般の搬送装置の
保持手段42a,42bが配置される。すなわち、保持
手段42aによりロードロック40aよりウエハを被加
工面を下にして処理室41aに搬送し、静電チャックに
吸着させる。処理室41aにおいて処理が終了すると本
発明の保持手段1により次の処理室41bに搬送し、処
理が終了すると保持手段42bにより所定の処理済のウ
エハをロードロック40bに搬送するものである。
【0032】すなわち、処理室間の搬送を本発明の保持
手段1により行うことにより、多数の処理室が連結され
た場合であっても、また、異なる処理を行う処理室が連
結される場合であっても、パーティクルを減少させて搬
送の位置精度を向上させることができる。
手段1により行うことにより、多数の処理室が連結され
た場合であっても、また、異なる処理を行う処理室が連
結される場合であっても、パーティクルを減少させて搬
送の位置精度を向上させることができる。
【0033】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、位置決め
部材及び把持部材を設けることにより、また大口径の弾
性部材により緩衝機構を構成することにより、パーティ
クルの発生を防止し、半導体基板の搬送位置精度を向上
させて搬送系の信頼度を向上させることができる。
部材及び把持部材を設けることにより、また大口径の弾
性部材により緩衝機構を構成することにより、パーティ
クルの発生を防止し、半導体基板の搬送位置精度を向上
させて搬送系の信頼度を向上させることができる。
【図1】本発明の第1の実施例の構成図である。
【図2】図1の保持部及び位置決め部材を説明するため
の図である。
の図である。
【図3】本発明の第2の実施例の構成図である。
【図4】本発明の一適用例の概念図である。
【図5】従来の搬送装置の一部構成図である。
1 保持手段
2 保持部
2a,2b 把持部材
3 ベース部
4 静電チャック
5 段差
6 ウエハ
10a,10b 位置決め部材
15a,15b ボルト
16a,16b ナット
17a,17b バネ
31 連結部材
33a,33b ローラ
Claims (3)
- 【請求項1】 半導体基板(6)の所定の処理を行う
所定数の処理室(41a,41b)に、被加工面が下方
向の該半導体基板(6)を、アーム(18)先端の保持
手段(1)により保持して搬送を行う搬送装置において
、前記保持手段(1)は、前記半導体基板(6)の周縁
を支持する段差(5)が形成された保持部(2)と、先
端がテーパ状に形成され、該段差(5)縁端の所定位置
に該テーパ状の先端が表出する所定数の位置決め部材(
10a〜10d)が上下動可能に設けられて、該保持部
(2)の下方に配置されるベース部(3)と、を有する
ことを特徴とする搬送装置。 - 【請求項2】 半導体基板(6)の所定の処理を行う
所定数の処理室(41a,41b)に、被加工面が下方
向の該半導体基板(6)を、アーム(18)先端の保持
手段(1)により保持して搬送を行う搬送装置において
、前記保持手段(1)は、前記半導体基板(6)の周縁
を支持する段差(5)が形成されると共に、下方向に断
面小径のガイド部材(15a,15b,16a,16b
)を所定位置に所定数固定した保持部(2)と、該ガイ
ド部材(15a,15b,16a,16b)より大口径
の弾性部材(17a,17b)を該ガイド部材(15a
,15b,16a,16b)の周囲に該保持部(2)と
位置決めして配設し、該弾性部材(17a,17b)の
付勢力により該保持部(2)の緩衝を行うベース部(3
)と、を有することを特徴とする搬送装置。 - 【請求項3】 半導体基板(6)の所定の処理を行う
所定数の処理室(41a,41b)に、被加工面が下方
向の該半導体基板(6)を、アーム(18)先端の保持
手段(1)により保持して搬送を行う搬送装置において
、前記保持手段(1)は、前記アーム(18)先端に設
けられたベース部(3)と、該ベース部(3)上に位置
し、該ベース部(3)を支点にして水平移動する所定数
の把持部材(2a,2b)で前記半導体基板(6)の周
側面を把持する保持部(2)と、を有することを特徴と
する搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP931491A JP2606970B2 (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | 搬送装置及びそれを用いた搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP931491A JP2606970B2 (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | 搬送装置及びそれを用いた搬送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04253355A true JPH04253355A (ja) | 1992-09-09 |
| JP2606970B2 JP2606970B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=11717013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP931491A Expired - Lifetime JP2606970B2 (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | 搬送装置及びそれを用いた搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2606970B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100696027B1 (ko) * | 1999-03-18 | 2007-03-15 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 웨이퍼 핸들링 로봇용 기계식 그리퍼 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5968115A (ja) * | 1982-10-08 | 1984-04-18 | 株式会社 天禄商会 | 碍子洗浄用具 |
| JPH02159744A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-19 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体ウエハチャック装置のウエハ離脱機構 |
-
1991
- 1991-01-29 JP JP931491A patent/JP2606970B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5968115A (ja) * | 1982-10-08 | 1984-04-18 | 株式会社 天禄商会 | 碍子洗浄用具 |
| JPH02159744A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-19 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体ウエハチャック装置のウエハ離脱機構 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100696027B1 (ko) * | 1999-03-18 | 2007-03-15 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 웨이퍼 핸들링 로봇용 기계식 그리퍼 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2606970B2 (ja) | 1997-05-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19961210 |