JPH04254927A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH04254927A JPH04254927A JP3014418A JP1441891A JPH04254927A JP H04254927 A JPH04254927 A JP H04254927A JP 3014418 A JP3014418 A JP 3014418A JP 1441891 A JP1441891 A JP 1441891A JP H04254927 A JPH04254927 A JP H04254927A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- acrylate
- recording medium
- curable resin
- optical recording
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体に関するもの
である。
である。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光を照射して情報の記録、再生、
消去を行なうための記録媒体として、ガラスやプラスチ
ックなどの基板上に記録層を形成したものが知られてい
る。
消去を行なうための記録媒体として、ガラスやプラスチ
ックなどの基板上に記録層を形成したものが知られてい
る。
【０００３】このような記録媒体を形成するに際して、
記録層の材料開発のみならず、記録層との接着性が良好
でありまた記録層の酸化などによる劣化を防止し機械的
損傷を防ぎ記録媒体の信号品質の劣化を防止する有機系
保護層の開発は極めて重要である。現在、有機高分子系
保護層を施した記録媒体としては記録層表面に紫外線硬
化性樹脂の層を施したもの、例えば特開昭６１−１２０
３６０号公報や特開昭６１−１３３０６７号公報などが
知られている。両面記録、再生、消去可能な光ディスク
においては、これらの有機保護層を施した記録層付の基
板を２枚相対向させて接着剤で貼合せた構造として用い
られている。
記録層の材料開発のみならず、記録層との接着性が良好
でありまた記録層の酸化などによる劣化を防止し機械的
損傷を防ぎ記録媒体の信号品質の劣化を防止する有機系
保護層の開発は極めて重要である。現在、有機高分子系
保護層を施した記録媒体としては記録層表面に紫外線硬
化性樹脂の層を施したもの、例えば特開昭６１−１２０
３６０号公報や特開昭６１−１３３０６７号公報などが
知られている。両面記録、再生、消去可能な光ディスク
においては、これらの有機保護層を施した記録層付の基
板を２枚相対向させて接着剤で貼合せた構造として用い
られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の有機
系保護層を用いて作成した光記録媒体にレーザ光を照射
して記録、再生を行なった場合、記録媒体の信号品質に
とり重要なビットエラーレートが上昇してエラーが発生
するなど記録特性が低下し必ずしも実用的といえないと
いう問題があった。
系保護層を用いて作成した光記録媒体にレーザ光を照射
して記録、再生を行なった場合、記録媒体の信号品質に
とり重要なビットエラーレートが上昇してエラーが発生
するなど記録特性が低下し必ずしも実用的といえないと
いう問題があった。
【０００５】即ち、特開昭６１−１２０３６０号公報は
放射線硬化性塗料の残存応力について規定してあるが、
その要点は接着性の向上にある。しかしながら接着性の
向上が必ずしも実用媒体の保護材として有効であるとい
いがたく、また実施例においても実際の媒体として実用
特性であるビットエラーレートなどについて何ら開示さ
れていない。
放射線硬化性塗料の残存応力について規定してあるが、
その要点は接着性の向上にある。しかしながら接着性の
向上が必ずしも実用媒体の保護材として有効であるとい
いがたく、また実施例においても実際の媒体として実用
特性であるビットエラーレートなどについて何ら開示さ
れていない。
【０００６】また特開昭６１−１３３０６７号公報は光
磁気材料への使用に限定して、特に水分、酸素による劣
化を防止するための放射線硬化形化合物を紫外線により
硬化させることを主張したものである。しかしながら該
特許は紫外線硬化形材料が全て良好な特性を示すと主張
する所に力点がある。しかし単に紫外線硬化形材料であ
ることのみで媒体保護材として実用性があるといいがた
い。また具体例ではＣ／Ｎ特性について例示しているが
、実際にビットエラーが発生するか否かを判定するエラ
ーレートについては何ら開示されていない。
磁気材料への使用に限定して、特に水分、酸素による劣
化を防止するための放射線硬化形化合物を紫外線により
硬化させることを主張したものである。しかしながら該
特許は紫外線硬化形材料が全て良好な特性を示すと主張
する所に力点がある。しかし単に紫外線硬化形材料であ
ることのみで媒体保護材として実用性があるといいがた
い。また具体例ではＣ／Ｎ特性について例示しているが
、実際にビットエラーが発生するか否かを判定するエラ
ーレートについては何ら開示されていない。
【０００７】本発明は、かかる在来技術の諸欠点に鑑み
創案されたものであり、その目的は記録層に対する保護
性に優れた有機保護層を備えてなる光記録媒体を提供す
ることにある。
創案されたものであり、その目的は記録層に対する保護
性に優れた有機保護層を備えてなる光記録媒体を提供す
ることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
基板と記録層と有機系保護層を少くとも備えた光記録媒
体であって、該有機系保護層が重合性モノマを主成分と
する化学線硬化性樹脂組成物の硬化層からなり、該有機
系保護層の伸ビが１０％以上であることを特徴とする光
記録媒体により達成される。
基板と記録層と有機系保護層を少くとも備えた光記録媒
体であって、該有機系保護層が重合性モノマを主成分と
する化学線硬化性樹脂組成物の硬化層からなり、該有機
系保護層の伸ビが１０％以上であることを特徴とする光
記録媒体により達成される。
【０００９】本発明において使用される基板および記録
層としては特に限定はなく公知のものが使用できる。
層としては特に限定はなく公知のものが使用できる。
【００１０】基板としてはポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネートおよびエポキシ樹脂などのプラスチッ
クやガラスなどが使用でき、その厚さは通常１０μｍ〜
５ｍｍの範囲である。基板は通常ディスク状で使用され
るが、テープ状、シート状あるいはカード状で用いるこ
ともできる。
ポリカーボネートおよびエポキシ樹脂などのプラスチッ
クやガラスなどが使用でき、その厚さは通常１０μｍ〜
５ｍｍの範囲である。基板は通常ディスク状で使用され
るが、テープ状、シート状あるいはカード状で用いるこ
ともできる。
【００１１】記録層としては例えば下記のものが挙げら
れるが、これらに限定されない。
れるが、これらに限定されない。
【００１２】（１）基板上にＴｅ化合物系記録膜や光磁
気系記録膜を直接形成したもの、（２）基板上にＳｉＯ
、ＳｉＯ２ 、ＳＩＡＬＯＮ、Ｓｉ３ Ｎ４ 、Ｔａ２
Ｏ２ 、ＧｅＯ２ 、ＺｎＳおよびＭｇＯなどの無機
系保護膜を形成した後、上述の記録膜を形成したもの、
（３）基板上に無機系保護膜、記録膜および無機系保護
膜をこの順で形成したもの。
気系記録膜を直接形成したもの、（２）基板上にＳｉＯ
、ＳｉＯ２ 、ＳＩＡＬＯＮ、Ｓｉ３ Ｎ４ 、Ｔａ２
Ｏ２ 、ＧｅＯ２ 、ＺｎＳおよびＭｇＯなどの無機
系保護膜を形成した後、上述の記録膜を形成したもの、
（３）基板上に無機系保護膜、記録膜および無機系保護
膜をこの順で形成したもの。
【００１３】（４）基板上に無機系保護膜、記録膜およ
び無機系保護膜を形成した後、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ａｕ
、Ｔｉ、Ｔａなどの金属やそれらの合金などからなる反
射膜を形成したもの。
び無機系保護膜を形成した後、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ａｕ
、Ｔｉ、Ｔａなどの金属やそれらの合金などからなる反
射膜を形成したもの。
【００１４】記録層は公知の方法により形成することが
でき、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーテ
ィングなどにより行なうことができる。
でき、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーテ
ィングなどにより行なうことができる。
【００１５】記録膜の厚さは１０ｎｍ〜１００ｎｍの範
囲で用いることができ、より高い記録感度を得るために
は１０〜５０ｎｍの範囲が好ましい。また無機系保護膜
および反射膜の厚さは通常１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範
囲で使用できる。
囲で用いることができ、より高い記録感度を得るために
は１０〜５０ｎｍの範囲が好ましい。また無機系保護膜
および反射膜の厚さは通常１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範
囲で使用できる。
【００１６】本発明の記録媒体は半導体レーザやストロ
ボ光などの記録光の照射により、記録膜に熱的または光
学的に検知可能な物性の変化、あるいは形態の変化を生
ぜしめることによって記録を行なうことができるもので
ある。
ボ光などの記録光の照射により、記録膜に熱的または光
学的に検知可能な物性の変化、あるいは形態の変化を生
ぜしめることによって記録を行なうことができるもので
ある。
【００１７】本発明による有機系保護膜は重合性モノマ
を主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化層からな
り、該有機系保護層の伸ビがＪＩＳ Ｋ６３０１の引
張試験による伸ビで１０％以上からなるものであるが、
より好ましくは３０％以上である。１０％未満の場合は
ビットエラーレートの上昇など媒体の信頼性が低下し十
分な保護性が得られない。一方伸ビの上限については特
に制限はないが機械的損傷に対する十分な保護性を重視
する場合などには３００％以下にすることが好ましい。
を主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化層からな
り、該有機系保護層の伸ビがＪＩＳ Ｋ６３０１の引
張試験による伸ビで１０％以上からなるものであるが、
より好ましくは３０％以上である。１０％未満の場合は
ビットエラーレートの上昇など媒体の信頼性が低下し十
分な保護性が得られない。一方伸ビの上限については特
に制限はないが機械的損傷に対する十分な保護性を重視
する場合などには３００％以下にすることが好ましい。
【００１８】本発明において使用される重合性モノマと
しては、１例として１分子中に１個の重合性二重結合を
有する化合物が挙げられる。
しては、１例として１分子中に１個の重合性二重結合を
有する化合物が挙げられる。
【００１９】これらの化合物としてはアクリロイルオキ
シ基又はメタアクリロイルオキシ基（以下、両方の基を
総称して（メタ）アクリロイルオキシ基と記載する）を
有する化合物が好ましく用いられ、その具体例としては
以下に示すアクリレートを挙げることができる。即ち一
価アルコールの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する
（メタ）アクリル酸エステル類：メチル（メタ）アクリ
レート、エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキ
シル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボル
ニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（
メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル誘導体の
（メタ）アクリレート、１Ｈ・１Ｈ・５Ｈ−オクタフル
オロペンチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
シ基又はメタアクリロイルオキシ基（以下、両方の基を
総称して（メタ）アクリロイルオキシ基と記載する）を
有する化合物が好ましく用いられ、その具体例としては
以下に示すアクリレートを挙げることができる。即ち一
価アルコールの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する
（メタ）アクリル酸エステル類：メチル（メタ）アクリ
レート、エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキ
シル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボル
ニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（
メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル誘導体の
（メタ）アクリレート、１Ｈ・１Ｈ・５Ｈ−オクタフル
オロペンチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２０】また有機系保護層の硬化性の向上や伸ビの
調整を行なう目的で、前述のモノマと共重合可能な他の
モノマを混合して用いることができる。これらの共重合
可能なモノマの例としては１分子中に２個以上の重合性
二重結合を有する化合物が挙げられる。その具体例とし
ては下記の（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレートを挙
げることができる。
調整を行なう目的で、前述のモノマと共重合可能な他の
モノマを混合して用いることができる。これらの共重合
可能なモノマの例としては１分子中に２個以上の重合性
二重結合を有する化合物が挙げられる。その具体例とし
ては下記の（ａ）〜（ｆ）の（メタ）アクリレートを挙
げることができる。
【００２１】（ａ）ジイソシアネート化合物と２個以上
のアルコール性水酸基を有する化合物を予め反応させて
得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにア
ルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ
て得られる１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル
オキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類：具
体例としては、根上工業（株）製の商品名であるアート
シジンＵＮ−６０６０Ｐ、ＵＮ−１１０１Ｔ、ＵＮ−５
２００、ＵＮ−１２５５、ＵＮ−９０００ＰＥＰ、ＵＮ
−９０００Ｈなど、（ｂ）炭素数２〜１２のアルキレン
グリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（
メタ）アクリレートなど。
のアルコール性水酸基を有する化合物を予め反応させて
得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにア
ルコール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ
て得られる１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル
オキシ基を有するウレタン（メタ）アクリレート類：具
体例としては、根上工業（株）製の商品名であるアート
シジンＵＮ−６０６０Ｐ、ＵＮ−１１０１Ｔ、ＵＮ−５
２００、ＵＮ−１２５５、ＵＮ−９０００ＰＥＰ、ＵＮ
−９０００Ｈなど、（ｂ）炭素数２〜１２のアルキレン
グリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類：エチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（
メタ）アクリレートなど。
【００２２】（ｃ）ポリオキシアルキレングリコールの
（メタ）アクリル酸ジエステル類：ジエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（
メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ
）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アク
リレートなど、（ｄ）多価アルコールの２個以上の（メ
タ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリル酸
ポリエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート
、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート
など、（ｅ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノール
Ａの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキ
シド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類。
（メタ）アクリル酸ジエステル類：ジエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（
メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ
）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アク
リレートなど、（ｄ）多価アルコールの２個以上の（メ
タ）アクリロイルオキシ基を有する（メタ）アクリル酸
ポリエステル類：ペンタエリスリトールジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート
、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート
など、（ｅ）ビスフェノールＡあるいはビスフェノール
Ａの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキ
シド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類。
【００２３】（ｆ）分子中に２個以上のエポキシ基を有
する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて
得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキ
シ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類。
する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて
得られる分子内に２個以上の（メタ）アクリロイルオキ
シ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート類。
【００２４】本発明の有機系保護層は前述のごとく、Ｊ
ＩＳＫ６３０１の引張試験による伸ビが１０％以上であ
ることを必須条件とする化学線硬化性樹脂組成物である
。この観点から十分な伸ビが得られる共重合可能なモノ
マとしては一分子中に２個の（メタ）アクリロイルオキ
シ基を有する化合物を用いることができる。また記録層
に対し特に優れた接着性を示す化合物群としてはウレタ
ン（メタ）アクリレート類を用いることができる。これ
ら共重合可能なモノマを配合する割合としては、一分子
中に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するモノ
マを、少くとも配合した組成物中の重合性モノマ総量の
５重量％以上として用いることが好ましい。またより好
ましくは１０重量％以上使用するのがよい。特に好まし
いアクリルモノマの配合例としては上記一分子中に１個
の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート又はベンジルアクリレート９０
〜６０重量％と一分子中に２個の（メタ）アクリロイル
オキシ基を有する（ａ）群のウレタン（メタ）アクリレ
ート中アートレジンＵＮ−６０６０Ｐ１０〜４０重量％
の混合系が挙げられる。
ＩＳＫ６３０１の引張試験による伸ビが１０％以上であ
ることを必須条件とする化学線硬化性樹脂組成物である
。この観点から十分な伸ビが得られる共重合可能なモノ
マとしては一分子中に２個の（メタ）アクリロイルオキ
シ基を有する化合物を用いることができる。また記録層
に対し特に優れた接着性を示す化合物群としてはウレタ
ン（メタ）アクリレート類を用いることができる。これ
ら共重合可能なモノマを配合する割合としては、一分子
中に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するモノ
マを、少くとも配合した組成物中の重合性モノマ総量の
５重量％以上として用いることが好ましい。またより好
ましくは１０重量％以上使用するのがよい。特に好まし
いアクリルモノマの配合例としては上記一分子中に１個
の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート又はベンジルアクリレート９０
〜６０重量％と一分子中に２個の（メタ）アクリロイル
オキシ基を有する（ａ）群のウレタン（メタ）アクリレ
ート中アートレジンＵＮ−６０６０Ｐ１０〜４０重量％
の混合系が挙げられる。
【００２５】本発明で用いる化学線硬化性樹脂組成物中
には１種または２種以上の光重合開始剤を加えることが
できる。光重合開始剤としては従来公知のものが使用で
き、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ｐ−ジメ
チルアミノプロピオフェノンなどのケトン系、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ−
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイ
ン系、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメ
チルチウラムジスルフィドなどのスルフィド系、チオキ
サン、２−メチルチオキサンなどのチオキサン系、ベン
ゾインパーオキサイドジ−ｔ−ブチルパーオキサイドな
どのパーオキサイド系などが挙げられる。光重合開始剤
の使用量は重合性モノマ組成物１００重量部に対して０
．０１〜１０重量部が適当である。
には１種または２種以上の光重合開始剤を加えることが
できる。光重合開始剤としては従来公知のものが使用で
き、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ｐ−ジメ
チルアミノプロピオフェノンなどのケトン系、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ−
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイ
ン系、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメ
チルチウラムジスルフィドなどのスルフィド系、チオキ
サン、２−メチルチオキサンなどのチオキサン系、ベン
ゾインパーオキサイドジ−ｔ−ブチルパーオキサイドな
どのパーオキサイド系などが挙げられる。光重合開始剤
の使用量は重合性モノマ組成物１００重量部に対して０
．０１〜１０重量部が適当である。
【００２６】また本発明で用いる化学線硬化性樹脂組成
物には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するた
めに、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエー
テル、２，５−ｔ−ブチルハイドロキノンなどの公知の
熱重合防止剤を加えることができる。添加量は重合性化
合物総重量に対し、０．００１〜０．１重量％が好まし
い。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、
必ずしも重合開始剤を使用する必要はない。
物には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するた
めに、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエー
テル、２，５−ｔ−ブチルハイドロキノンなどの公知の
熱重合防止剤を加えることができる。添加量は重合性化
合物総重量に対し、０．００１〜０．１重量％が好まし
い。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、
必ずしも重合開始剤を使用する必要はない。
【００２７】本発明に用いる化学線硬化性樹脂組成物に
は塗工性を改良するためにシリコーン系材料などからな
るレベリング材を加えることができ、また必要に応じて
帯電防止剤など他の添加剤を加えることもできる。さら
に塗工時の作業性向上や塗工膜厚のコントロールのため
にアルコール系溶剤、酢酸エステル系溶剤、ケトン系溶
剤などの有機溶剤を配合することもできる。
は塗工性を改良するためにシリコーン系材料などからな
るレベリング材を加えることができ、また必要に応じて
帯電防止剤など他の添加剤を加えることもできる。さら
に塗工時の作業性向上や塗工膜厚のコントロールのため
にアルコール系溶剤、酢酸エステル系溶剤、ケトン系溶
剤などの有機溶剤を配合することもできる。
【００２８】本発明の化学線硬化性樹脂組成物の硬化層
は、基板上に形成した記録層上に該組成物を通常の方法
で塗布した後、化学線、すなわち紫外線、電子線あるい
はガンマ線などの活性エネルギー線を照射して硬化する
。
は、基板上に形成した記録層上に該組成物を通常の方法
で塗布した後、化学線、すなわち紫外線、電子線あるい
はガンマ線などの活性エネルギー線を照射して硬化する
。
【００２９】硬化性組成物の塗布方法は周知の方法によ
って行なえばよく、例えばスピンコーティング、バーコ
ーティング、ロールコーティング、スプレーコーティン
グ、グラビアコーティング、スリットダイコーティング
などが用いられる。
って行なえばよく、例えばスピンコーティング、バーコ
ーティング、ロールコーティング、スプレーコーティン
グ、グラビアコーティング、スリットダイコーティング
などが用いられる。
【００３０】硬化層の厚さとしては０．５μｍ〜３０μ
ｍの範囲が好ましく、より好ましくは１μｍ〜１０μｍ
である。
ｍの範囲が好ましく、より好ましくは１μｍ〜１０μｍ
である。
【００３１】次に本発明の光記録媒体の構成１例を製造
する方法を説明する。すなわち、まず基板上にスパッタ
リング法などにより無機系保護膜、記録膜、無機系保護
膜および／反射膜を順次形成する。次に該反射膜上に本
発明の重合性モノマを主成分とする化学線硬化性樹脂組
成物を均一に塗布した後、該塗布面から紫外線ランプを
用いて紫外線を照射して組成物を硬化することにより光
記録媒体が得られる。 〔ＪＩＳ Ｋ６３０１の引張試験による伸ビの評価〕
■試験片の作成 化学線硬化性樹脂組成物をＮ２ 雰囲気下で強度１４０
０ｍＪ／ｃｍ２ の高圧水銀灯で硬化し、形状はタンベ
ル状、形別は３号形、平行部分の厚さは０．３ｍｍの試
験片を各組成物について４個作成した。
する方法を説明する。すなわち、まず基板上にスパッタ
リング法などにより無機系保護膜、記録膜、無機系保護
膜および／反射膜を順次形成する。次に該反射膜上に本
発明の重合性モノマを主成分とする化学線硬化性樹脂組
成物を均一に塗布した後、該塗布面から紫外線ランプを
用いて紫外線を照射して組成物を硬化することにより光
記録媒体が得られる。 〔ＪＩＳ Ｋ６３０１の引張試験による伸ビの評価〕
■試験片の作成 化学線硬化性樹脂組成物をＮ２ 雰囲気下で強度１４０
０ｍＪ／ｃｍ２ の高圧水銀灯で硬化し、形状はタンベ
ル状、形別は３号形、平行部分の厚さは０．３ｍｍの試
験片を各組成物について４個作成した。
【００３２】■伸ビの測定および計算方法ＪＩＳＫ６３
０１に従った。
０１に従った。
【００３３】〔記録特性の評価方法〕記録方法は２−７
変調ポジション記録で、繰返しは１．５Ｔ（３．７ＭＨ
ｚ）の単一信号を１万回繰返しオーバライトし、その後
、２−７ランダムパターンを１回オーバライトしてビッ
トエラーレートを測定した。測定条件は下記の通りであ
る。
変調ポジション記録で、繰返しは１．５Ｔ（３．７ＭＨ
ｚ）の単一信号を１万回繰返しオーバライトし、その後
、２−７ランダムパターンを１回オーバライトしてビッ
トエラーレートを測定した。測定条件は下記の通りであ
る。
【００３４】
基板：ＩＳＯ準処フォーマットディスク，１３０ｍｍφ
評価機の光学系：λ＝８３０ｎｍ，Ｎ＝０．５３基板回
転数：１８００ｒｐｍ 記録パワー：２０ｍＷ 消去パワー：１０ｍＷ 記録パルス幅：５０ｎＳ
評価機の光学系：λ＝８３０ｎｍ，Ｎ＝０．５３基板回
転数：１８００ｒｐｍ 記録パワー：２０ｍＷ 消去パワー：１０ｍＷ 記録パルス幅：５０ｎＳ
【００３５】
【実施例】以下実施例により本発明を説明するが、本発
明はこれらに限定されない。
明はこれらに限定されない。
【００３６】実施例１
ＪＩＳ Ｋ６３０１の引張り試験による伸ビを測定す
るために下記の化学線硬化性樹脂組成物の試験片を作成
した。得られた試験片の伸ビは１３０％であった。
るために下記の化学線硬化性樹脂組成物の試験片を作成
した。得られた試験片の伸ビは１３０％であった。
【００３７】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］アート
レジンＵＮ−６０６０Ｐ（根上工業（株）製ウレタンア
クリレート）３０重量部、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート７０重量部、を混合した液に１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア１８４，チ
バガイギー社製）５重量部を混合溶解して、紫外線硬化
性樹脂保護層組成物とした。
レジンＵＮ−６０６０Ｐ（根上工業（株）製ウレタンア
クリレート）３０重量部、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート７０重量部、を混合した液に１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア１８４，チ
バガイギー社製）５重量部を混合溶解して、紫外線硬化
性樹脂保護層組成物とした。
【００３８】実施例２
実施例１で用いた紫外線硬化性樹脂保護層組成物の代り
に下記の組成物を使用した他は実施例１と全く同様にし
て伸ビ測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビ
は１８０％であった。
に下記の組成物を使用した他は実施例１と全く同様にし
て伸ビ測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビ
は１８０％であった。
【００３９】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］アート
レジンＵＮ６０６０Ｐ
３０重量部ベンジ
ルアクリレート（ビスコート１６０，大阪有機化学工業
（株）製）
７０重量部イルガキュア１
８４
５重量部実施例３ 厚さ１．２ｍｍ、直径１３ｃｍ、１．６μｍピッチのス
パイラル状のグループ付ポリカーボネート基板を毎分３
０回転しながら、アルゴンガス圧０．５Ｐａの条件で水
晶振動子で膜厚をモニタしながらスパッタリング法で下
記の記録層形成基板積層体を作成した。
レジンＵＮ６０６０Ｐ
３０重量部ベンジ
ルアクリレート（ビスコート１６０，大阪有機化学工業
（株）製）
７０重量部イルガキュア１
８４
５重量部実施例３ 厚さ１．２ｍｍ、直径１３ｃｍ、１．６μｍピッチのス
パイラル状のグループ付ポリカーボネート基板を毎分３
０回転しながら、アルゴンガス圧０．５Ｐａの条件で水
晶振動子で膜厚をモニタしながらスパッタリング法で下
記の記録層形成基板積層体を作成した。
【００４０】すなわち、基板上に２００ｎｍのＺｎＳと
ＳｉＯ２ の混合層（モル比８０：２０）、２０ｎｍの
Ｐｄ３ Ｓｂ１７Ｔｅ５０Ｇｅ３０の混合層、２０ｎｍ
のＺｎＳとＳｉＯ２ の混合層（モル比８０：２０）、
８０ｎｍのＡｌ層を順次形成することにより記録層形成
基板積層体を得た。次に、得られた記録層形成基板積層
体上に実施例１で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を硬
化後の膜厚が８μｍになるように塗布し、Ｎ２ 雰囲気
下で強度１４００ｍＪ／ｃｍ２ の高圧水銀灯を照射し
て保護層を完全に硬化して光記録媒体を作成した。
ＳｉＯ２ の混合層（モル比８０：２０）、２０ｎｍの
Ｐｄ３ Ｓｂ１７Ｔｅ５０Ｇｅ３０の混合層、２０ｎｍ
のＺｎＳとＳｉＯ２ の混合層（モル比８０：２０）、
８０ｎｍのＡｌ層を順次形成することにより記録層形成
基板積層体を得た。次に、得られた記録層形成基板積層
体上に実施例１で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を硬
化後の膜厚が８μｍになるように塗布し、Ｎ２ 雰囲気
下で強度１４００ｍＪ／ｃｍ２ の高圧水銀灯を照射し
て保護層を完全に硬化して光記録媒体を作成した。
【００４１】得られた光記録媒体についてビットエラー
レートを測定したところ、１０−５台以下の値が得られ
た。この値は光記録媒体として十分な値といえる。更に
８０℃、相対湿度８０％の環境下に２００時間放置した
後取り出し、再び同様の測定をしたところ、ビットエラ
ーレートは同じく１０−５台以下で何ら劣化は見られな
かった。
レートを測定したところ、１０−５台以下の値が得られ
た。この値は光記録媒体として十分な値といえる。更に
８０℃、相対湿度８０％の環境下に２００時間放置した
後取り出し、再び同様の測定をしたところ、ビットエラ
ーレートは同じく１０−５台以下で何ら劣化は見られな
かった。
【００４２】実施例４
実施例２で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を保護層と
して用いた他は実施例３と全く同様にして光記録媒体を
作成した。
して用いた他は実施例３と全く同様にして光記録媒体を
作成した。
【００４３】得られた光記録媒体についてビットエラー
レートを測定したところ、１０−５台以下の値が得られ
た。この値は光記録媒体として十分な値といえる。更に
８０℃、相対湿度８０％の環境下に２００時間放置した
後取り出し、再び同様の測定をしたところ、ビットエラ
ーレートは同じく１０−５台以下で何ら劣化は見られな
かった。
レートを測定したところ、１０−５台以下の値が得られ
た。この値は光記録媒体として十分な値といえる。更に
８０℃、相対湿度８０％の環境下に２００時間放置した
後取り出し、再び同様の測定をしたところ、ビットエラ
ーレートは同じく１０−５台以下で何ら劣化は見られな
かった。
【００４４】比較例１
実施例１で作成した紫外線硬化性樹脂組成物の代りに下
記組成物を使用した他は実施例１と全く同様にして伸ビ
測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビは３％
であった。
記組成物を使用した他は実施例１と全く同様にして伸ビ
測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビは３％
であった。
【００４５】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］アート
レジンＵＮ６０６０Ｐ
３０重量部ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート（ライトアクリレート
ＮＰ−Ａ，共栄社油脂化学工業（株）製）
２０重量部２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート
５０重量部イルガキュア１８４
５重量部比較例２ 実施例１で使用した紫外線硬化性樹脂組成物の代りに下
記組成物を使用した他は実施例１と全く同様にして伸ビ
測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビは５％
であった。
レジンＵＮ６０６０Ｐ
３０重量部ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート（ライトアクリレート
ＮＰ−Ａ，共栄社油脂化学工業（株）製）
２０重量部２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート
５０重量部イルガキュア１８４
５重量部比較例２ 実施例１で使用した紫外線硬化性樹脂組成物の代りに下
記組成物を使用した他は実施例１と全く同様にして伸ビ
測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビは５％
であった。
【００４６】［化学線硬化性樹脂組成物の構成］アート
レジンＵＮ６０６０Ｐ
３０重量部ライト
アクリレートＮＰ−Ａ
２０重量部ビスコ
ート１６０
５０重
量部イルガキュア１８４
５重量部比較例３ 比較例１で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を保護層と
して使用した他は実施例３と全く同様にして光記録媒体
を作成した。得られた光記録媒体についてビットエラー
レートを測定したところ、１０−２台に大きく劣化して
おり、記録信号の再生が不可能であった。以上により本
発明によらない紫外線硬化性樹脂保護層組成物では繰返
しによる信号劣化は大きいことが明らかである。
レジンＵＮ６０６０Ｐ
３０重量部ライト
アクリレートＮＰ−Ａ
２０重量部ビスコ
ート１６０
５０重
量部イルガキュア１８４
５重量部比較例３ 比較例１で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を保護層と
して使用した他は実施例３と全く同様にして光記録媒体
を作成した。得られた光記録媒体についてビットエラー
レートを測定したところ、１０−２台に大きく劣化して
おり、記録信号の再生が不可能であった。以上により本
発明によらない紫外線硬化性樹脂保護層組成物では繰返
しによる信号劣化は大きいことが明らかである。
【００４７】比較例４
比較例２で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を使用した
他は実施例３と全く同様にして光記録媒体を作成した。 得られた光記録媒体についてビットエラーレートを測定
したところ、１０−２台に大きく劣化しており、記録信
号の再生が不可能であった。以上により本発明によらな
い紫外線硬化性樹脂保護層組成物では繰返しによる信号
劣化は大きいことが明らかである。
他は実施例３と全く同様にして光記録媒体を作成した。 得られた光記録媒体についてビットエラーレートを測定
したところ、１０−２台に大きく劣化しており、記録信
号の再生が不可能であった。以上により本発明によらな
い紫外線硬化性樹脂保護層組成物では繰返しによる信号
劣化は大きいことが明らかである。
【００４８】
【発明の効果】本発明は、上述のごとく記録層および伸
ビが１０％以上である化学線硬化性樹脂組成物からなる
保護層を設けることにより記録層の保護性に優れ良好な
信号品質を示す光記録媒体を実現するものである。
ビが１０％以上である化学線硬化性樹脂組成物からなる
保護層を設けることにより記録層の保護性に優れ良好な
信号品質を示す光記録媒体を実現するものである。
Claims (1)
- 【請求項１】基板と記録層と有機系保護層を少くとも備
えた光記録媒体であって、該有機系保護層が重合性モノ
マを主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化層から
なり、該有機系保護層の伸ビが１０％以上であることを
特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3014418A JPH04254927A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3014418A JPH04254927A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04254927A true JPH04254927A (ja) | 1992-09-10 |
Family
ID=11860473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3014418A Pending JPH04254927A (ja) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04254927A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1178479A3 (en) * | 2000-08-01 | 2002-05-15 | TDK Corporation | Optical information medium |
| EP1168320A3 (en) * | 2000-06-26 | 2002-05-22 | TDK Corporation | Optical information medium, method of manufacture, recording/reading method, and inspecting method |
| EP2180473A4 (en) * | 2007-08-22 | 2011-04-06 | Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd | OPTICAL RECORDING MEDIUM |
-
1991
- 1991-02-05 JP JP3014418A patent/JPH04254927A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1168320A3 (en) * | 2000-06-26 | 2002-05-22 | TDK Corporation | Optical information medium, method of manufacture, recording/reading method, and inspecting method |
| US6667952B2 (en) | 2000-06-26 | 2003-12-23 | Tdk Corporation | Optical storage medium having a specific light transmitting layer for small laser beam and high linear velocity |
| EP1178479A3 (en) * | 2000-08-01 | 2002-05-15 | TDK Corporation | Optical information medium |
| US6731591B2 (en) | 2000-08-01 | 2004-05-04 | Tdk Corporation | Optical information medium |
| EP2180473A4 (en) * | 2007-08-22 | 2011-04-06 | Mitsubishi Kagaku Media Co Ltd | OPTICAL RECORDING MEDIUM |
| US8221865B2 (en) | 2007-08-22 | 2012-07-17 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium |
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