JPH04257244A - ウェーハキャリア - Google Patents
ウェーハキャリアInfo
- Publication number
- JPH04257244A JPH04257244A JP1854191A JP1854191A JPH04257244A JP H04257244 A JPH04257244 A JP H04257244A JP 1854191 A JP1854191 A JP 1854191A JP 1854191 A JP1854191 A JP 1854191A JP H04257244 A JPH04257244 A JP H04257244A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- door
- wafer
- wafer carrier
- wall
- inner door
- Prior art date
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- Withdrawn
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空雰囲気内でウェーハ
を収納して置けるウェーハキャリアに係わり、ロードロ
ック室などの真空チャンバ内で、扉を小さなトルクで開
閉できて、しかも気密性が完全に保持できるウェーハキ
ャリアに関する。
を収納して置けるウェーハキャリアに係わり、ロードロ
ック室などの真空チャンバ内で、扉を小さなトルクで開
閉できて、しかも気密性が完全に保持できるウェーハキ
ャリアに関する。
【0002】近年、エレクトロニクスの発展は目ざまし
いものがあるが、その発展は半導体装置の製造技術の革
新に負うところが大きい。ところで、シリコンウェーハ
から半導体素子に仕上げるまでの一連の工程、いわゆる
ウェーハプロセスと呼ばれる工程においては、一般に、
酸化、レジスト処理、露光、現像、エッチング、不純物
導入といった幾つかの工程が何回か繰り返されるが、そ
の工程の各所でウェーハの保持や移動、移載が行われて
いる。
いものがあるが、その発展は半導体装置の製造技術の革
新に負うところが大きい。ところで、シリコンウェーハ
から半導体素子に仕上げるまでの一連の工程、いわゆる
ウェーハプロセスと呼ばれる工程においては、一般に、
酸化、レジスト処理、露光、現像、エッチング、不純物
導入といった幾つかの工程が何回か繰り返されるが、そ
の工程の各所でウェーハの保持や移動、移載が行われて
いる。
【0003】そして、半導体素子の集積度が増大するに
つれて、微細なパターニングを行ったり、スパッタのよ
うな真空処理を行ったりする工程などにおいては、ウェ
ーハを如何に清浄な状態を保ちながら持ち運び、装置内
に搬入したり搬出したりするかが重要な製造技術となっ
ている。
つれて、微細なパターニングを行ったり、スパッタのよ
うな真空処理を行ったりする工程などにおいては、ウェ
ーハを如何に清浄な状態を保ちながら持ち運び、装置内
に搬入したり搬出したりするかが重要な製造技術となっ
ている。
【0004】
【従来の技術】半導体装置に用いられる素子の集積度が
増大して例えば16Mビットとか64Mビットといった
超高集積度をもった半導体装置が開発されるに伴って、
半導体素子の製造工程における微細化指向がますます進
められている。その結果、例えばウェーハプロセスが行
われるクリーンルームは、クラス1以下といった高い清
浄度(クリーン度)が要求されるようになっている。
増大して例えば16Mビットとか64Mビットといった
超高集積度をもった半導体装置が開発されるに伴って、
半導体素子の製造工程における微細化指向がますます進
められている。その結果、例えばウェーハプロセスが行
われるクリーンルームは、クラス1以下といった高い清
浄度(クリーン度)が要求されるようになっている。
【0005】そこで、このような高清浄度のクリーンル
ームを建設する巨額な費用の低減を図るために、クリー
ンベンチなどの局所クリーンエリア方式が採られるよう
になってきており、各種真空処理装置の中も局所クリー
ンエリアの一種と考えられるようになってきている。
ームを建設する巨額な費用の低減を図るために、クリー
ンベンチなどの局所クリーンエリア方式が採られるよう
になってきており、各種真空処理装置の中も局所クリー
ンエリアの一種と考えられるようになってきている。
【0006】この真空がクリーンエリアであるとの考え
方から、局所クリーンエリア間でウェーハを移動させる
際、ウェーハキャリアも内部を真空にした状態で持ち運
びができる形態になってきている。
方から、局所クリーンエリア間でウェーハを移動させる
際、ウェーハキャリアも内部を真空にした状態で持ち運
びができる形態になってきている。
【0007】図4はウェーハキャリアの一例の一部切欠
き斜視図、図5は図4の取り扱い例の斜視図である。図
において、1はウェーハ、2はウェーハキャリア、2a
は衝合面、2bは扉、2cは軸、6はOリング、7は支
持部材、8はロードロック室、8aはロードロック扉、
8bは開閉機構、8cはロボットアーム、8dは排気手
段である。
き斜視図、図5は図4の取り扱い例の斜視図である。図
において、1はウェーハ、2はウェーハキャリア、2a
は衝合面、2bは扉、2cは軸、6はOリング、7は支
持部材、8はロードロック室、8aはロードロック扉、
8bは開閉機構、8cはロボットアーム、8dは排気手
段である。
【0008】図4において、ウェーハキャリア2は、複
数枚のウェーハ1を収納する容器であり、清浄度を保つ
ために内部を真空にして収納できるので真空キャリアと
も呼ばれている。
数枚のウェーハ1を収納する容器であり、清浄度を保つ
ために内部を真空にして収納できるので真空キャリアと
も呼ばれている。
【0009】ウェーハキャリア2の扉2bの内周壁には
、Oリング6が設けられている。そして、扉2bを閉じ
たとき、このOリング6がウェーハキャリア2の衝合面
2aに弾接し、ウェーハキャリア2の内部の気密性が保
てるようになっている。
、Oリング6が設けられている。そして、扉2bを閉じ
たとき、このOリング6がウェーハキャリア2の衝合面
2aに弾接し、ウェーハキャリア2の内部の気密性が保
てるようになっている。
【0010】また、収納されているウェーハ1がキャリ
ア内で動かないように支持するために、扉2bの内側に
はゴムなどの弾性体からなる支持部材7が設けられてい
る。一方、ウェーハ1は、このウェーハキャリア2に収
納され、ロードロック室8に運び込まれて、ウェーハ1
を搬入したり搬出したりすることが行われる。
ア内で動かないように支持するために、扉2bの内側に
はゴムなどの弾性体からなる支持部材7が設けられてい
る。一方、ウェーハ1は、このウェーハキャリア2に収
納され、ロードロック室8に運び込まれて、ウェーハ1
を搬入したり搬出したりすることが行われる。
【0011】図5において、ロードロック室8は、図示
してないが例えば真空処理装置などに連なっており、上
部に設けられているロードロック扉8aを開ければ、ウ
ェーハキャリア2を出し入れできるようになっている。 そして、ウェーハキャリア2を所定の位置に配置すると
開閉機構8bが係合して、ロードロック室8の外部から
遠隔操作でウェーハキャリア2の扉2bを開閉できるよ
うになっている。
してないが例えば真空処理装置などに連なっており、上
部に設けられているロードロック扉8aを開ければ、ウ
ェーハキャリア2を出し入れできるようになっている。 そして、ウェーハキャリア2を所定の位置に配置すると
開閉機構8bが係合して、ロードロック室8の外部から
遠隔操作でウェーハキャリア2の扉2bを開閉できるよ
うになっている。
【0012】また、ロードロック室8の内部にはロボッ
トアーム8cが設けられており、このロボットアーム8
cによってウェーハ1をウェーハキャリア2の中からロ
ードロック室8に連なる真空処理装置などに搬出したり
、ウェーハ1をウェーハキャリア2の中に搬入したりす
るようになっている。
トアーム8cが設けられており、このロボットアーム8
cによってウェーハ1をウェーハキャリア2の中からロ
ードロック室8に連なる真空処理装置などに搬出したり
、ウェーハ1をウェーハキャリア2の中に搬入したりす
るようになっている。
【0013】さらに、ロードロック室8の底部は排気手
段8dに連なっており、ロードロック室8の内部を減圧
してウェーハキャリア2の内部とほゞ同じ気圧にすれば
、開閉機構8bによって扉2bを開閉できるようになっ
ている。
段8dに連なっており、ロードロック室8の内部を減圧
してウェーハキャリア2の内部とほゞ同じ気圧にすれば
、開閉機構8bによって扉2bを開閉できるようになっ
ている。
【0014】ところで、従来のウェーハキャリア2の扉
2bは、一端部が軸2cを介してウェーハキャリア2の
一辺部に枢支されており、この軸2cに開閉機構8bが
係合して回動し、扉2bを開閉する構成になっている。
2bは、一端部が軸2cを介してウェーハキャリア2の
一辺部に枢支されており、この軸2cに開閉機構8bが
係合して回動し、扉2bを開閉する構成になっている。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】そのため、扉2bを閉
じる際、軸2cに近いOリング6から順次衝合面2aに
弾接していく。そのため、非常に強いトルクで軸2cを
回さないと、扉2bが十分気密性を保って閉まり切らな
い。そればかりでなく、Oリング6が扱かれて皺が生じ
、Oリング6と衝合面2aとの弾接状態が不揃いとなっ
て、気密性が阻害されることが間々起こる問題があった
。
じる際、軸2cに近いOリング6から順次衝合面2aに
弾接していく。そのため、非常に強いトルクで軸2cを
回さないと、扉2bが十分気密性を保って閉まり切らな
い。そればかりでなく、Oリング6が扱かれて皺が生じ
、Oリング6と衝合面2aとの弾接状態が不揃いとなっ
て、気密性が阻害されることが間々起こる問題があった
。
【0016】さらに、扉2bに内張りされた支持部材7
が円弧を描いてウェーハ1の周縁部に当接するので、ウ
ェーハ1の周縁部を擦って塵が生ずる原因となり、製造
工程における歩留りを落とす原因となっていた。
が円弧を描いてウェーハ1の周縁部に当接するので、ウ
ェーハ1の周縁部を擦って塵が生ずる原因となり、製造
工程における歩留りを落とす原因となっていた。
【0017】そこで本発明はウェーハキャリアの扉を二
重構造となし、外扉を閉めたあと内扉がウェーハキャリ
アの衝合面に平行に弾接するように構成してなるウェー
ハキャリアを提供することを目的としている。
重構造となし、外扉を閉めたあと内扉がウェーハキャリ
アの衝合面に平行に弾接するように構成してなるウェー
ハキャリアを提供することを目的としている。
【0018】
【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、ウェ
ーハを真空雰囲気で収納できる気密性を具えたウェーハ
キャリアであって、外扉と内扉を有し、前記外扉は、ウ
ェーハキャリアの壁の一辺部に擺動可能に枢支されてい
るものであり、前記内扉は、外壁が外扉の内壁に押圧手
段を介して前進・後退可能に支持されており、かつ内壁
の、周辺部にOリングと中央部に支持部材を有するもの
であり、前記内扉は、外扉が閉じた際、押圧手段によっ
て前進させられ、Oリングが衝合面に気密可能に弾接す
るとともに、支持部材がウェーハの周縁部を支持するも
のであるように構造されたウェーハキャリアによって解
決される。
ーハを真空雰囲気で収納できる気密性を具えたウェーハ
キャリアであって、外扉と内扉を有し、前記外扉は、ウ
ェーハキャリアの壁の一辺部に擺動可能に枢支されてい
るものであり、前記内扉は、外壁が外扉の内壁に押圧手
段を介して前進・後退可能に支持されており、かつ内壁
の、周辺部にOリングと中央部に支持部材を有するもの
であり、前記内扉は、外扉が閉じた際、押圧手段によっ
て前進させられ、Oリングが衝合面に気密可能に弾接す
るとともに、支持部材がウェーハの周縁部を支持するも
のであるように構造されたウェーハキャリアによって解
決される。
【0019】
【作用】ロードロック室に着脱可能に配設される従来の
ウェーハキャリアは、扉を閉じる際、内壁に設けられて
いるOリングが扱くように押圧されるので、閉めるのに
強い力が必要なばかりでなく、気密性が損なわれること
が間々起こったが、本発明においては、扉を外扉と内扉
の二重構造にして、Oリングが扱かれないようになって
いる。
ウェーハキャリアは、扉を閉じる際、内壁に設けられて
いるOリングが扱くように押圧されるので、閉めるのに
強い力が必要なばかりでなく、気密性が損なわれること
が間々起こったが、本発明においては、扉を外扉と内扉
の二重構造にして、Oリングが扱かれないようになって
いる。
【0020】すなわち、外扉の内壁に押圧手段を介して
設けられた内扉が、押圧手段によって前進・後退するよ
うにしている。そして、外扉を閉じたあと内扉を押圧手
段によって平行に前進させて、Oリングをウェーハキャ
リアの衝合面に一様に弾接させるようにしている。
設けられた内扉が、押圧手段によって前進・後退するよ
うにしている。そして、外扉を閉じたあと内扉を押圧手
段によって平行に前進させて、Oリングをウェーハキャ
リアの衝合面に一様に弾接させるようにしている。
【0021】こうすると、外扉が小さなトルクによって
開閉できるとともに、Oリングを扱く力が働かないので
、安定な気密性を得ることができる。
開閉できるとともに、Oリングを扱く力が働かないので
、安定な気密性を得ることができる。
【0022】
【実施例】図1は本発明の一実施例の一部切欠き斜視図
、図2は図1の開閉動作を説明する上断面図、図3は本
発明の他の実施例の要部の上断面図である。図において
、1はウェーハ、2はウェーハキャリア、2aは衝合面
、3は外扉、3aは案内孔、4は内扉、4aは案内軸、
5は押圧手段、5aはガス導入孔、5bは加圧ガス、6
はOリング、7は支持部材である。
、図2は図1の開閉動作を説明する上断面図、図3は本
発明の他の実施例の要部の上断面図である。図において
、1はウェーハ、2はウェーハキャリア、2aは衝合面
、3は外扉、3aは案内孔、4は内扉、4aは案内軸、
5は押圧手段、5aはガス導入孔、5bは加圧ガス、6
はOリング、7は支持部材である。
【0023】実施例:1
図1〜図2において、複数枚のウェーハ1が収納される
ウェーハキャリア2には、外扉3と内扉4の二重構造の
扉が設けられている。そして、内扉4は外扉3の内壁に
複数個の押圧手段5を介して支持されている。
ウェーハキャリア2には、外扉3と内扉4の二重構造の
扉が設けられている。そして、内扉4は外扉3の内壁に
複数個の押圧手段5を介して支持されている。
【0024】内扉4の内壁の周囲には、ウェーハキャリ
ア2の衝合面2aに対向してOリング6が設けられてい
る。このOリング6には、例えば弾力性のあるシリコー
ンゴムやウレタンゴムなどのOリングが用いられる。ま
た、内扉4の内壁の中央部にはウェーハキャリア2に収
納されるウェーハ1が動かないように周縁部を支持する
支持部材7が設けられている。この支持部材7にも弾力
性のあるシリコーンゴムやウレタンゴムなどが用いられ
る。
ア2の衝合面2aに対向してOリング6が設けられてい
る。このOリング6には、例えば弾力性のあるシリコー
ンゴムやウレタンゴムなどのOリングが用いられる。ま
た、内扉4の内壁の中央部にはウェーハキャリア2に収
納されるウェーハ1が動かないように周縁部を支持する
支持部材7が設けられている。この支持部材7にも弾力
性のあるシリコーンゴムやウレタンゴムなどが用いられ
る。
【0025】押圧手段5は、内扉4を支持するに足る複
数個のベローズからなり、ガス導入孔5aを通して内部
に加圧ガス5bが吹き込めるようになっている。そして
、このベローズは、図2(A)に示したように常時ベロ
ーズが縮まっているので、外扉3を閉めてもOリング6
が衝合面2aと僅かな隙間が開くようになっている。
数個のベローズからなり、ガス導入孔5aを通して内部
に加圧ガス5bが吹き込めるようになっている。そして
、このベローズは、図2(A)に示したように常時ベロ
ーズが縮まっているので、外扉3を閉めてもOリング6
が衝合面2aと僅かな隙間が開くようになっている。
【0026】一方、例えば高圧窒素ガスなどの加圧ガス
5bをガス導入孔5aから吹き込むと、図2(B)に示
したようにベローズが伸びて内扉4が前進し、Oリング
6がウェーハキャリア2の衝合面2aに弾接するように
なっている。そして、キャリア2の内部が真空になった
状態では、内扉4は大気圧によって常に押圧されて、ウ
ェーハキャリア2の内部の気密が保たれるようになって
いる。
5bをガス導入孔5aから吹き込むと、図2(B)に示
したようにベローズが伸びて内扉4が前進し、Oリング
6がウェーハキャリア2の衝合面2aに弾接するように
なっている。そして、キャリア2の内部が真空になった
状態では、内扉4は大気圧によって常に押圧されて、ウ
ェーハキャリア2の内部の気密が保たれるようになって
いる。
【0027】ウェーハ1を内部が真空になったウェーハ
キャリア2から搬出する場合には、まず、ウェーハキャ
リア2を図示してないロードロック室の中の所定の位置
に配置する。次いで、ロードロック室の中を排気してウ
ェーハキャリア2の内部の気圧と同じにする。そうする
と内扉4は、押圧手段5であるベローズの収縮によって
自発的に後退してOリング6が衝合面2aから僅かに離
れるので、外扉3を開くことができる。次いで、図示し
てないロボットアームなどによってウェーハ1の搬出が
行われる。
キャリア2から搬出する場合には、まず、ウェーハキャ
リア2を図示してないロードロック室の中の所定の位置
に配置する。次いで、ロードロック室の中を排気してウ
ェーハキャリア2の内部の気圧と同じにする。そうする
と内扉4は、押圧手段5であるベローズの収縮によって
自発的に後退してOリング6が衝合面2aから僅かに離
れるので、外扉3を開くことができる。次いで、図示し
てないロボットアームなどによってウェーハ1の搬出が
行われる。
【0028】一方、ウェーハ1をウェーハキャリア2の
中に搬入する場合には、減圧された図示してないロード
ロック室の中でウェーハ1をウェーハキャリア2に搬入
し終わったら、まず、外扉3を閉じる。次いで、押圧手
段5によって内扉4を前進させる。つまり、ガス導入孔
5aから加圧ガス5bを吹き込んでベローズを伸長させ
、Oリング6を衝合面2aに弾接させる。次いで、ロー
ドロック室をリークさせて大気圧に戻すと内扉4が大気
圧に押圧されてOリング6が衝合面2aに密接して閉成
される。 そして、ウェーハキャリア2がロードロック室の中から
取り出されて適宜持ち運ばれる。
中に搬入する場合には、減圧された図示してないロード
ロック室の中でウェーハ1をウェーハキャリア2に搬入
し終わったら、まず、外扉3を閉じる。次いで、押圧手
段5によって内扉4を前進させる。つまり、ガス導入孔
5aから加圧ガス5bを吹き込んでベローズを伸長させ
、Oリング6を衝合面2aに弾接させる。次いで、ロー
ドロック室をリークさせて大気圧に戻すと内扉4が大気
圧に押圧されてOリング6が衝合面2aに密接して閉成
される。 そして、ウェーハキャリア2がロードロック室の中から
取り出されて適宜持ち運ばれる。
【0029】実施例:2
図3において、内扉4は外扉3と平行に前進・後退する
ことが望ましい。そこで、内扉4には適宜複数個の案内
軸4aが設けられており、この案内軸4aが滑動自在に
嵌合する案内孔3aが外扉3に設けられている。そして
、内扉4はこの案内軸4aによって支持されながら前進
・後退するようになっている。
ことが望ましい。そこで、内扉4には適宜複数個の案内
軸4aが設けられており、この案内軸4aが滑動自在に
嵌合する案内孔3aが外扉3に設けられている。そして
、内扉4はこの案内軸4aによって支持されながら前進
・後退するようになっている。
【0030】こうすると、押圧手段5は内扉4を前進・
後退させるだけの機能なので、例えばベローズを1個設
けるだけでよい。こゝでは押圧手段5にはベローズと加
圧ガスを用いているが、コイルばねや板ばねなどの引っ
張りばねと内扉4を機械的に押す手段を組み合わせるこ
ともでき、種々の変形が可能である。
後退させるだけの機能なので、例えばベローズを1個設
けるだけでよい。こゝでは押圧手段5にはベローズと加
圧ガスを用いているが、コイルばねや板ばねなどの引っ
張りばねと内扉4を機械的に押す手段を組み合わせるこ
ともでき、種々の変形が可能である。
【0031】
【発明の効果】内部を真空にしてウェーハを収納する従
来のウェーハキャリアは、扉の開閉に強い力を要したり
気密性が不完全であったりする難点があったが、本発明
になるウェーハキャリアは、扉を二重構造にすることに
よって、軽く開閉できてしかも気密性も完全に保持する
ことができる。
来のウェーハキャリアは、扉の開閉に強い力を要したり
気密性が不完全であったりする難点があったが、本発明
になるウェーハキャリアは、扉を二重構造にすることに
よって、軽く開閉できてしかも気密性も完全に保持する
ことができる。
【0032】その結果、ますます集積度が増大して塵埃
による汚染を避けなければならないウェーハプロセスに
おいて、ロードロック室のような真空チャンバの中に配
置されて遠隔操作されるウェーハキャリアの操作性の向
上とそれに因ってきたるプロセスの効率化に対して、本
発明は寄与するところが大である。
による汚染を避けなければならないウェーハプロセスに
おいて、ロードロック室のような真空チャンバの中に配
置されて遠隔操作されるウェーハキャリアの操作性の向
上とそれに因ってきたるプロセスの効率化に対して、本
発明は寄与するところが大である。
【図1】 本発明の一実施例の一部切欠き斜視図であ
る。
る。
【図2】 図1の開閉動作の説明する上断面図である
。
。
【図3】 本発明の他の実施例の要部の上断面図であ
る。
る。
【図4】 ウェーハキャリアの一例の一部切欠き斜視
図である。
図である。
【図5】 図4の取り扱い例の斜視図である。
1 ウェーハ
2 ウェーハキャリア 2a 衝合面3
外扉 4 内扉 5 押圧手段 5a ガス
導入孔 5b 加圧ガス 6 Oリング 7 支持部材
外扉 4 内扉 5 押圧手段 5a ガス
導入孔 5b 加圧ガス 6 Oリング 7 支持部材
Claims (3)
- 【請求項1】 ウェーハ(1) を真空雰囲気で収納
できる気密性を具えたウェーハキャリア(2) であっ
て、外扉(3) と内扉(4) を有し、前記外扉(3
) は、前記ウェーハキャリア(2) の壁の一辺部に
擺動可能に枢支されているものであり、前記内扉(4)
は、外壁が前記外扉(3) の内壁に押圧手段(5)
を介して前進・後退可能に支持されており、かつ内壁
の、周辺部にOリング(6) と中央部に支持部材(7
) を有するものであり、前記内扉(4) は、前記外
扉(3) が閉じた際、前記押圧手段(5) によって
前進させられ、Oリング(6) が前記衝合面(2a)
に気密可能に弾接するとともに、支持部材(7) が前
記ウェーハ(1) の周縁部を支持するものであること
を特徴とするウェーハキャリア。 - 【請求項2】 前記押圧手段(5) は、前記外扉(
3) の内壁と前記内扉(4) の外壁の間に気密可能
に架設され、かつ該外扉(3) に穿設されたガス導入
孔(5a)に連なっているベローズからなり、該ガス導
入孔(5a)から加圧ガス(5b)が吹き込まれた際、
伸長して該内扉(4) を前進させるものである請求項
1記載のウェーハキャリア。 - 【請求項3】 前記内扉(4) は、案内軸(4a)
を有し、該案内軸(4a)が前記外扉(3) に設けら
れた案内孔(3a)に滑動自在に嵌合して前進・後退す
るものである請求項1記載のウェーハキャリア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1854191A JPH04257244A (ja) | 1991-02-12 | 1991-02-12 | ウェーハキャリア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1854191A JPH04257244A (ja) | 1991-02-12 | 1991-02-12 | ウェーハキャリア |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04257244A true JPH04257244A (ja) | 1992-09-11 |
Family
ID=11974495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1854191A Withdrawn JPH04257244A (ja) | 1991-02-12 | 1991-02-12 | ウェーハキャリア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04257244A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6113734A (en) * | 1997-01-09 | 2000-09-05 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for opening/closing a process chamber door of ovens used for manufacturing semiconductor devices |
| KR100432975B1 (ko) * | 1995-07-27 | 2004-10-22 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 반도체웨이퍼의수납·인출장치및이것에이용되는반도체웨이퍼의운반용기 |
| KR100506972B1 (ko) * | 1999-01-12 | 2005-08-09 | 삼성전자주식회사 | 이온 주입기의 로드락 도어 개폐 장치 |
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