JPH0426059B2 - - Google Patents
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- JPH0426059B2 JPH0426059B2 JP59008657A JP865784A JPH0426059B2 JP H0426059 B2 JPH0426059 B2 JP H0426059B2 JP 59008657 A JP59008657 A JP 59008657A JP 865784 A JP865784 A JP 865784A JP H0426059 B2 JPH0426059 B2 JP H0426059B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- needle
- carrier gas
- sample container
- sleeve
- introducing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/04—Preparation or injection of sample to be analysed
- G01N30/16—Injection
- G01N30/18—Injection using a septum or microsyringe
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、自己シール性薄膜により密閉された
サンプル容器中へキヤリヤガスを導入するため
の、殊にガスクロマトグラフイー中でヘツドスペ
ース法により作動するサンプリング装置のため
の、 (a) 閉鎖可能なキヤリヤガス導管および分離カラ
ム用のポートに連絡するチヤンバを形成する装
置固定のケーシング、 (b) （b1） ケーシング中で、シーリング装置で
シールされて静止位置および作動位置間をス
ライド可能に導かれ、 （b2） 尖端付近に第１の横孔を有し、かつ （b3） 第１の横孔から距離をおいて、ニード
ルの作動位置でチヤンバに連絡する第２の横
孔を有し、その結果第２の孔を経てニードル
中へのおよび第１の孔からのキヤリヤガス流
動が行なわれる、尖端を有するニードル より成るニードル装置に関する。
サンプル容器中へキヤリヤガスを導入するため
の、殊にガスクロマトグラフイー中でヘツドスペ
ース法により作動するサンプリング装置のため
の、 (a) 閉鎖可能なキヤリヤガス導管および分離カラ
ム用のポートに連絡するチヤンバを形成する装
置固定のケーシング、 (b) （b1） ケーシング中で、シーリング装置で
シールされて静止位置および作動位置間をス
ライド可能に導かれ、 （b2） 尖端付近に第１の横孔を有し、かつ （b3） 第１の横孔から距離をおいて、ニード
ルの作動位置でチヤンバに連絡する第２の横
孔を有し、その結果第２の孔を経てニードル
中へのおよび第１の孔からのキヤリヤガス流
動が行なわれる、尖端を有するニードル より成るニードル装置に関する。
薄膜により密閉されたサンプル容器中で、サン
プル液上方のヘツドスペース中に、ヘツドスペー
ス中のサンプル成分の分圧が明白にサンプルの組
成に依存する平衡状態が生じる。ヘツドスペース
法により作動するサンプリング装置の場合、ガス
クロマトグラフの分離カラムに供給されるサンプ
ルがこのヘツドスペースから得られる。この目的
で、ニードルが自己シール性薄膜を貫通して穿刺
される。このニードルは、ガスクロマトグラフの
供給ヘツドの入口に接続されている。さらに、こ
の供給ヘツドがキヤリヤガス導管に接続されてい
る。このキヤリヤガス導管中に閉止弁が配置され
ている。差当り閉止弁が開かれた際に、キヤリヤ
ガスが、ニードルを経て密閉サンプル容器のヘツ
ドスペース中へ流入し、その結果サンプル容器中
にキヤリヤガス圧が形成される。このことが、ヘ
ツドスペース中のサンプル成分分圧を変動させる
ことはない。引続き閉止弁が閉じられた場合、供
給ヘツド中のキヤリヤガス圧が中断される。その
後にガスサンプルが、サンプル容器中の過剰圧力
により、ヘツドスペースから供給ヘツドおよび分
離カラム入口へ圧入される。所定の時間後に、閉
止弁が再び開かれ、それにより供給が終結せしめ
られかつサンプルがガスクロマトグラフの分離カ
ラム中へ搬送される（西ドイツ国特許明細書第
1208523号）。
プル液上方のヘツドスペース中に、ヘツドスペー
ス中のサンプル成分の分圧が明白にサンプルの組
成に依存する平衡状態が生じる。ヘツドスペース
法により作動するサンプリング装置の場合、ガス
クロマトグラフの分離カラムに供給されるサンプ
ルがこのヘツドスペースから得られる。この目的
で、ニードルが自己シール性薄膜を貫通して穿刺
される。このニードルは、ガスクロマトグラフの
供給ヘツドの入口に接続されている。さらに、こ
の供給ヘツドがキヤリヤガス導管に接続されてい
る。このキヤリヤガス導管中に閉止弁が配置され
ている。差当り閉止弁が開かれた際に、キヤリヤ
ガスが、ニードルを経て密閉サンプル容器のヘツ
ドスペース中へ流入し、その結果サンプル容器中
にキヤリヤガス圧が形成される。このことが、ヘ
ツドスペース中のサンプル成分分圧を変動させる
ことはない。引続き閉止弁が閉じられた場合、供
給ヘツド中のキヤリヤガス圧が中断される。その
後にガスサンプルが、サンプル容器中の過剰圧力
により、ヘツドスペースから供給ヘツドおよび分
離カラム入口へ圧入される。所定の時間後に、閉
止弁が再び開かれ、それにより供給が終結せしめ
られかつサンプルがガスクロマトグラフの分離カ
ラム中へ搬送される（西ドイツ国特許明細書第
1208523号）。
ニードルがサンプル容器から引抜かれた後に、
キヤリヤガスが引続き無制限にニードルから流出
しうることを阻止するため、ニードルを、シリン
ダ中に密閉されて可動なピストン中に配置するこ
とが公知である（西ドイツ国特許明細書第
1284660号）。このシリンダは、制流排出口を有し
かつ、サンプル容器に対向するその端面がもう１
つの自己シール性薄膜により密閉されている。こ
のシリンダは、ピストンに支持されかつシリンダ
をニードルを経てスライドさせることを目的とす
る圧縮ばねの作用下にある。静止位置で、ニード
ルの、尖端付近に配置されたその孔がシリンダ内
部にある。
キヤリヤガスが引続き無制限にニードルから流出
しうることを阻止するため、ニードルを、シリン
ダ中に密閉されて可動なピストン中に配置するこ
とが公知である（西ドイツ国特許明細書第
1284660号）。このシリンダは、制流排出口を有し
かつ、サンプル容器に対向するその端面がもう１
つの自己シール性薄膜により密閉されている。こ
のシリンダは、ピストンに支持されかつシリンダ
をニードルを経てスライドさせることを目的とす
る圧縮ばねの作用下にある。静止位置で、ニード
ルの、尖端付近に配置されたその孔がシリンダ内
部にある。
この公知の装置の場合、ニードルが、固定配置
されかつ不断に供給ヘツドおよびキヤリヤガス導
管に接続されている。シリンダが、この固定ニー
ドルに対し長手方向可動に案内される。サンプル
容器は、その自己シール性薄膜、他の自己シール
性薄膜により密閉されたシリンダ端面へ接触せし
めかつ上方へ移動され、その場合シリンダが後退
せしめられかつニードルが２枚の自己シール性薄
膜を経てサンプル容器中へ侵入する。静止位置
で、洗浄流がニードルを経て流動するが、この流
れの流量はシリンダの排出口を絞ることにより設
定される。この洗浄流が、ニードル中の蒸気が１
つのサンプルから次のサンプルへ搬入されないこ
とを保証する。
されかつ不断に供給ヘツドおよびキヤリヤガス導
管に接続されている。シリンダが、この固定ニー
ドルに対し長手方向可動に案内される。サンプル
容器は、その自己シール性薄膜、他の自己シール
性薄膜により密閉されたシリンダ端面へ接触せし
めかつ上方へ移動され、その場合シリンダが後退
せしめられかつニードルが２枚の自己シール性薄
膜を経てサンプル容器中へ侵入する。静止位置
で、洗浄流がニードルを経て流動するが、この流
れの流量はシリンダの排出口を絞ることにより設
定される。この洗浄流が、ニードル中の蒸気が１
つのサンプルから次のサンプルへ搬入されないこ
とを保証する。
西ドイツ国特許公開明細書第2815023号によれ
ば、前記種類の装置において、キヤリヤガスが装
置固定のケーシング中へ導入され、かつニードル
がケーシング中でシーリング装置で密閉されて静
止位置および作動位置間をスライドして案内され
るニードル装置が公知である。ニードルがが尖端
を有する。この尖端付近に第１の横孔が備えられ
ている。ニードルは、第１の横孔から距離をおい
て第２の孔を有する。ニードルの作動位置で、第
２の孔が、ケーシング中に形成されたチヤンパに
連結し、その結果第２の孔を経てニードル中へ
の、および第１の孔から外方へのキヤリヤガス流
動が行なわれる。サンプル容器が戻しばねの作用
に対し圧迫された場合、ニードルが、静止位置お
よび作動位置間で長手方向にスライドして案内さ
れる。静止位置で、ニードルの第２の孔が、制限
された洗浄流の射突するチヤンバ中に配置され
る。その後にこの洗浄流が、第２の横孔、ニード
ルを経て流動し、かつ第１の横孔を経て大気中へ
流出する。サンプル容器が圧迫された場合、ニー
ドルが、直接にまたはばね機構を経て作動位置へ
移動する。
ば、前記種類の装置において、キヤリヤガスが装
置固定のケーシング中へ導入され、かつニードル
がケーシング中でシーリング装置で密閉されて静
止位置および作動位置間をスライドして案内され
るニードル装置が公知である。ニードルがが尖端
を有する。この尖端付近に第１の横孔が備えられ
ている。ニードルは、第１の横孔から距離をおい
て第２の孔を有する。ニードルの作動位置で、第
２の孔が、ケーシング中に形成されたチヤンパに
連結し、その結果第２の孔を経てニードル中へ
の、および第１の孔から外方へのキヤリヤガス流
動が行なわれる。サンプル容器が戻しばねの作用
に対し圧迫された場合、ニードルが、静止位置お
よび作動位置間で長手方向にスライドして案内さ
れる。静止位置で、ニードルの第２の孔が、制限
された洗浄流の射突するチヤンバ中に配置され
る。その後にこの洗浄流が、第２の横孔、ニード
ルを経て流動し、かつ第１の横孔を経て大気中へ
流出する。サンプル容器が圧迫された場合、ニー
ドルが、直接にまたはばね機構を経て作動位置へ
移動する。
公知のニードル装置、また西ドイツ国特許公開
明細書第2815023号による装置は、サンプル容器
の押上げおよびサンプル容器のニードルに対する
圧迫を必要とす。このことは、とくにサンプル容
器が恒温制御されるターンテーブル中に配置され
た場合に大きい構造的費用を必要とする（西ドイ
ツ国特許明細書第1297904号または同第2818251
号）。
明細書第2815023号による装置は、サンプル容器
の押上げおよびサンプル容器のニードルに対する
圧迫を必要とす。このことは、とくにサンプル容
器が恒温制御されるターンテーブル中に配置され
た場合に大きい構造的費用を必要とする（西ドイ
ツ国特許明細書第1297904号または同第2818251
号）。
本発明の根底をなす課題は、前記せる種類のニ
ードル装置を、サンプル容器のニードル装置に対
する圧迫が不必要であるように形成することであ
る。
ードル装置を、サンプル容器のニードル装置に対
する圧迫が不必要であるように形成することであ
る。
本発明によれば、この課題は、
(c) ニードルが、サーボモーターにより、静止位
置および作動位置間で固定ケーシングに対し相
対的に移動可能であり、 (d) ケーシングが、その管路壁がニードルをせま
い環状スリツトを残して、ニードルの尖端に隣
接する第１の終端部および尖端から離れた第２
の終端部で包囲する長手管路を有し、 (e) シーリング装置が、 （e1） 長手管路の第１の終端部の範囲内に軸
方向に距離をおいて相互に備えられかつ緊密
にニードルに接触する１組のシールを有し、
かつ （e2） 長手管路の第２の終端部の範囲内に備
えられかつ緊密にニードルに接触するシール
を有し、 (f) キヤリヤガス導管のポートが、第１の終端部
でシールから軸方向内側に開口し、かつ (g) ニードルが、サーボモーターにより制御さ
れ、 （g1） 第１の横孔が第１の終端部で１組のシ
ール間に位置する静止位置へ移動可能であ
り、かつ （g2） ニードルのその尖端および第１の横孔
が第１の終端部でケーシングから突出しかつ
第２の横孔がキヤリヤガス導管のポートに隣
接配置される作動位置へ移動可能である ことにより解決される。
置および作動位置間で固定ケーシングに対し相
対的に移動可能であり、 (d) ケーシングが、その管路壁がニードルをせま
い環状スリツトを残して、ニードルの尖端に隣
接する第１の終端部および尖端から離れた第２
の終端部で包囲する長手管路を有し、 (e) シーリング装置が、 （e1） 長手管路の第１の終端部の範囲内に軸
方向に距離をおいて相互に備えられかつ緊密
にニードルに接触する１組のシールを有し、
かつ （e2） 長手管路の第２の終端部の範囲内に備
えられかつ緊密にニードルに接触するシール
を有し、 (f) キヤリヤガス導管のポートが、第１の終端部
でシールから軸方向内側に開口し、かつ (g) ニードルが、サーボモーターにより制御さ
れ、 （g1） 第１の横孔が第１の終端部で１組のシ
ール間に位置する静止位置へ移動可能であ
り、かつ （g2） ニードルのその尖端および第１の横孔
が第１の終端部でケーシングから突出しかつ
第２の横孔がキヤリヤガス導管のポートに隣
接配置される作動位置へ移動可能である ことにより解決される。
本発明の装置において、ニードルがサーボモー
ターにより移動せしめられ、その結果作動位置で
ニードルが、その平面中に残存するサンプル容器
中へ穿刺されることができる。しかしながらこの
ことは、キヤリヤガスを、サンプル混合汚染を生
じることのある死容積ができるだけ小さく維持さ
れるように可動ニードル中へ導入することを必要
とする。このことが、せまい長手管路およびシー
リング装置を有するケーシングを形成することに
より達成される。
ターにより移動せしめられ、その結果作動位置で
ニードルが、その平面中に残存するサンプル容器
中へ穿刺されることができる。しかしながらこの
ことは、キヤリヤガスを、サンプル混合汚染を生
じることのある死容積ができるだけ小さく維持さ
れるように可動ニードル中へ導入することを必要
とする。このことが、せまい長手管路およびシー
リング装置を有するケーシングを形成することに
より達成される。
本発明の実施例は従属請求項から明白である。
以下に、本発明を図面実施例につき詳説する。
第１図によるニードル装置は、チヤンバ１２を
形成する装置固定のケーシング１０より成る。チ
ヤンバ１２が、閉止可能なキヤリヤガス導管１６
および分離カラム１８のポート１４に接続されて
いる（第３図）。尖端２２を有するニードル２０
が、ケーシング１０中でシーリング装置で静止位
置および作動位置間をスライド可能に案内され
る。ニードルは、尖端２２付近の第１の横孔２４
および、この第１の横孔２４から距離をおいた第
２の横孔２６を有する。これら２つの孔が、ニー
ドルの長手方向に延びる管路２８により相互に接
続されている。第２図において、下側の終端部
で、管路２８が、尖端２２を形成する終端部材３
０により密閉されている。第２の孔２６の上方
で、管路２８が、中実の上端部材３２により密閉
されている。第４図において“位置２”と表わさ
れた作動位置で、第２の横孔２６がチヤンバ１２
に接続し、その結果以下に詳述するように、第２
の孔２６を経てニードル２０中への、および第１
の孔２４から外方へのキヤリヤガス流動が行なわ
れる。
形成する装置固定のケーシング１０より成る。チ
ヤンバ１２が、閉止可能なキヤリヤガス導管１６
および分離カラム１８のポート１４に接続されて
いる（第３図）。尖端２２を有するニードル２０
が、ケーシング１０中でシーリング装置で静止位
置および作動位置間をスライド可能に案内され
る。ニードルは、尖端２２付近の第１の横孔２４
および、この第１の横孔２４から距離をおいた第
２の横孔２６を有する。これら２つの孔が、ニー
ドルの長手方向に延びる管路２８により相互に接
続されている。第２図において、下側の終端部
で、管路２８が、尖端２２を形成する終端部材３
０により密閉されている。第２の孔２６の上方
で、管路２８が、中実の上端部材３２により密閉
されている。第４図において“位置２”と表わさ
れた作動位置で、第２の横孔２６がチヤンバ１２
に接続し、その結果以下に詳述するように、第２
の孔２６を経てニードル２０中への、および第１
の孔２４から外方へのキヤリヤガス流動が行なわ
れる。
ニードルは、サーボモーター３４により、第１
図および第３図に示した静止位置（第４ａ図の位
置１）および作動位置（第４ｂ図の位置２）間で
固定ゲーシングに対し相対的にスライド可能であ
る。ケーシング１０は、前記チヤンバを形成する
長手管路１２を有し、その管壁がニードル２０を
自由なせまい環状ギヤツプの残存下に包囲する。
この長手管路は、ニードル２０の尖端２２に隣接
する、第１図において下側の第１の終端部、およ
び尖端２２から距離をおいた、第１図において上
側の第２の終端部を有する。シーリング装置は、
長手管路１２の第１の終端部の範囲内に軸方向に
相互に距離をおいて備えられかつニードル２０に
緊密に接触する１組のシール３６および３８を有
する。長手管路１２の第２の終端部の範囲内に、
ニードル２０に緊密に接触するシール４０が備え
られている。キヤリヤガス導管１６のポート１４
が、第１の終端部でシール３６および３８の軸方
向内側に開口する。ニードルは、サーボモーター
３４により、第１の終端部の第１の横孔２４が１
組のシール３６および３８間に配置される静止位
置（位置１）へ、および、ニードル２０のその尖
端および第１の横孔２４がケーシング１０から突
出しかつ第２の横孔２６がキヤリヤガス導管１６
のポート１４に並列配置される作動位置（位置
２）へ移動可能である。第２の終端部のシール４
０の軸方向内側に、大気に接続されたポート４２
が備えられている。
図および第３図に示した静止位置（第４ａ図の位
置１）および作動位置（第４ｂ図の位置２）間で
固定ゲーシングに対し相対的にスライド可能であ
る。ケーシング１０は、前記チヤンバを形成する
長手管路１２を有し、その管壁がニードル２０を
自由なせまい環状ギヤツプの残存下に包囲する。
この長手管路は、ニードル２０の尖端２２に隣接
する、第１図において下側の第１の終端部、およ
び尖端２２から距離をおいた、第１図において上
側の第２の終端部を有する。シーリング装置は、
長手管路１２の第１の終端部の範囲内に軸方向に
相互に距離をおいて備えられかつニードル２０に
緊密に接触する１組のシール３６および３８を有
する。長手管路１２の第２の終端部の範囲内に、
ニードル２０に緊密に接触するシール４０が備え
られている。キヤリヤガス導管１６のポート１４
が、第１の終端部でシール３６および３８の軸方
向内側に開口する。ニードルは、サーボモーター
３４により、第１の終端部の第１の横孔２４が１
組のシール３６および３８間に配置される静止位
置（位置１）へ、および、ニードル２０のその尖
端および第１の横孔２４がケーシング１０から突
出しかつ第２の横孔２６がキヤリヤガス導管１６
のポート１４に並列配置される作動位置（位置
２）へ移動可能である。第２の終端部のシール４
０の軸方向内側に、大気に接続されたポート４２
が備えられている。
図示せる有利な実施例において、長手管路１２
がスリーブ４４により形成される。このスリーブ
は供給ヘツド４６中に配置され、この供給ヘツド
に加硫されたシリコーン絶縁のヒータ４８が設け
られている。このヒータを使用し、供給ヘツド４
６の温度が30℃〜190℃に制御されることができ
る。チヤンバ１２を密閉するシーリング装置は、
スリーブ４４の第１の、第１図中で下側の終端部
のその端面に接触する第１のヘツド部材５０を含
有する。このヘツド部材５０は、スリーブ４４の
長手管路と直列する孔５２を有する。ヘツド部材
５０中に、スリーブ４４の第１の終端部の範囲内
に備えられる１組のシール３６，３８が支持され
ている。第２の１組のシール３６および３８が、
ヘツド部材５０の環状溝中に配置されたＯリング
により形成される。有利な実施例において、これ
らＯリングは、フルオルシリコーンより成りかつ
摩擦低抗を低減させるためグラフアイト末が塗擦
されている。さらにシーリング装置は、プラスチ
ツクより成る第２のヘツド部材５４を含有し、こ
のヘツド部材がスリーブ４４の第２の、第１図中
で上側の終端部のその端面に接触しかつまたスリ
ーブ４４の長手管路に直列する孔５６を有する。
この第２のヘツド部材中に、スリーブ４４の第２
の終端部の範囲内に備えられるシール４０が支持
されている。このシール４０も、孔５６中の環状
溝中に配置されたＯリングから形成され、このも
のはフルオルシリコーンより成りかつグラフアイ
ト末が塗擦されている。ヘツド部材５０および５
４中で、孔５２および５６と直列にプラスチツク
リング５８ないしは６０が支持されている。ニー
ドル２０が、これらプラスチツクリング５８，６
０中で長手方向可動に案内される。この方法で、
案内および軸方向密閉の機能が相互に分離され
る。少くとも１つのプラスチツクリング、有利な
実施例の場合プラスチツクリング５８が高耐薬品
性のプラスチツクより成る。このリングは、付属
のＯリング３６，３８の、チヤンバ１２に対向す
る側面に配置される。この方法で、Ｏリングが、
サンプルガス中の腐食性成分の作用から十分に保
護される。
がスリーブ４４により形成される。このスリーブ
は供給ヘツド４６中に配置され、この供給ヘツド
に加硫されたシリコーン絶縁のヒータ４８が設け
られている。このヒータを使用し、供給ヘツド４
６の温度が30℃〜190℃に制御されることができ
る。チヤンバ１２を密閉するシーリング装置は、
スリーブ４４の第１の、第１図中で下側の終端部
のその端面に接触する第１のヘツド部材５０を含
有する。このヘツド部材５０は、スリーブ４４の
長手管路と直列する孔５２を有する。ヘツド部材
５０中に、スリーブ４４の第１の終端部の範囲内
に備えられる１組のシール３６，３８が支持され
ている。第２の１組のシール３６および３８が、
ヘツド部材５０の環状溝中に配置されたＯリング
により形成される。有利な実施例において、これ
らＯリングは、フルオルシリコーンより成りかつ
摩擦低抗を低減させるためグラフアイト末が塗擦
されている。さらにシーリング装置は、プラスチ
ツクより成る第２のヘツド部材５４を含有し、こ
のヘツド部材がスリーブ４４の第２の、第１図中
で上側の終端部のその端面に接触しかつまたスリ
ーブ４４の長手管路に直列する孔５６を有する。
この第２のヘツド部材中に、スリーブ４４の第２
の終端部の範囲内に備えられるシール４０が支持
されている。このシール４０も、孔５６中の環状
溝中に配置されたＯリングから形成され、このも
のはフルオルシリコーンより成りかつグラフアイ
ト末が塗擦されている。ヘツド部材５０および５
４中で、孔５２および５６と直列にプラスチツク
リング５８ないしは６０が支持されている。ニー
ドル２０が、これらプラスチツクリング５８，６
０中で長手方向可動に案内される。この方法で、
案内および軸方向密閉の機能が相互に分離され
る。少くとも１つのプラスチツクリング、有利な
実施例の場合プラスチツクリング５８が高耐薬品
性のプラスチツクより成る。このリングは、付属
のＯリング３６，３８の、チヤンバ１２に対向す
る側面に配置される。この方法で、Ｏリングが、
サンプルガス中の腐食性成分の作用から十分に保
護される。
スリーブ４４の第１の終端部のヘツド部材５０
が供給ヘツド４６のリセス６２中に配置され、そ
の結果ヘツド部材がリセス６２の底面および、こ
の底面と大体において整列する、スリーブ４４の
端面に緊密に接触する。リセス６２が雌ねじ６４
を有し、この中へ、スリーブ４４の長手管路に直
列する中心孔６６が備えられたナツト６８がねじ
込まれる。このナツト６８が、ヘツド部材５０
を、リセス６２の底面およびスリーブ４４の端面
に対し圧迫する。供給ヘツド４６は、ヘツド部材
５０の側面に、ヘツド部材５０を収容するリセス
６２を切欠した横溝７０を有する。ニードル２０
は、サーボモーター３４により、尖端２２が完全
にスリーブ４４内部に配置される位置へ後退可能
である。その後にヘツド部材５０は、ナツト６８
を除去することにより横溝７０を経て横方向取出
し可能であるか、またはヘツド部材５０は横溝７
０を経て挿入可能である。このことが、作動中に
磨耗を受け、従つて場合により交換されるべきヘ
ツド部材５０の容易な交換を許容する。供給ヘツ
ド４６には、スリーブ４４の第２の終端部周りで
かつこれと同軸に、雄ねじの設けられた延長部７
２が備えられる。この延長部へ、ニードル２０用
の長手管路７６および、雌ねじの設けられた円筒
形リセス７２を有し、このリセスにより延長部７
２にわたり延びる胴体７４がねじ固定され、その
場合胴体７４の雌ねじが延長部７２の雄ねじにね
じ込まれる。スリーブ４４の第２の終端部に配置
されるヘツド部材５４が、この胴体７４のリセス
７８の底面とスリーブ４４および延長部７２のこ
れら端面との間に支持されかつこれら端面に対し
圧迫される。リセス７８の底面およびヘツド部材
７２間に、スプリングワツシヤ、例えばカツプス
プリングが配置される。このカツプスプリング
が、プラスチツクの流れにより惹起されるヘツド
部材５４の寸法変動を補償する。
が供給ヘツド４６のリセス６２中に配置され、そ
の結果ヘツド部材がリセス６２の底面および、こ
の底面と大体において整列する、スリーブ４４の
端面に緊密に接触する。リセス６２が雌ねじ６４
を有し、この中へ、スリーブ４４の長手管路に直
列する中心孔６６が備えられたナツト６８がねじ
込まれる。このナツト６８が、ヘツド部材５０
を、リセス６２の底面およびスリーブ４４の端面
に対し圧迫する。供給ヘツド４６は、ヘツド部材
５０の側面に、ヘツド部材５０を収容するリセス
６２を切欠した横溝７０を有する。ニードル２０
は、サーボモーター３４により、尖端２２が完全
にスリーブ４４内部に配置される位置へ後退可能
である。その後にヘツド部材５０は、ナツト６８
を除去することにより横溝７０を経て横方向取出
し可能であるか、またはヘツド部材５０は横溝７
０を経て挿入可能である。このことが、作動中に
磨耗を受け、従つて場合により交換されるべきヘ
ツド部材５０の容易な交換を許容する。供給ヘツ
ド４６には、スリーブ４４の第２の終端部周りで
かつこれと同軸に、雄ねじの設けられた延長部７
２が備えられる。この延長部へ、ニードル２０用
の長手管路７６および、雌ねじの設けられた円筒
形リセス７２を有し、このリセスにより延長部７
２にわたり延びる胴体７４がねじ固定され、その
場合胴体７４の雌ねじが延長部７２の雄ねじにね
じ込まれる。スリーブ４４の第２の終端部に配置
されるヘツド部材５４が、この胴体７４のリセス
７８の底面とスリーブ４４および延長部７２のこ
れら端面との間に支持されかつこれら端面に対し
圧迫される。リセス７８の底面およびヘツド部材
７２間に、スプリングワツシヤ、例えばカツプス
プリングが配置される。このカツプスプリング
が、プラスチツクの流れにより惹起されるヘツド
部材５４の寸法変動を補償する。
ニードル２０は、尖端２２と反対側のその終端
部が、サーボモーター３４により可動であるリフ
ト部材８２に中間スプリング部材８４を経て結合
され、この中間スプリング部材がニードル２０の
案内および駆動間の誤差を補償する（第２図）。
第２図から明白なように、段付きの長手孔８８を
有する細長い円筒形のクランプヘツド８６が備え
られる。この長手孔の、クランプヘツド８６終端
部の最狭部９０が中間スプリング部材８４を把持
する。従つて、中間スプリング部材８４は、大き
い直径を有しかつ従つて中間スプリング部材８４
の横方向移動を許容する長手孔の中間部９２を経
て延びる。中間スプリング部材８４は、その自由
端が、ニードル２０の尖端２２と反対側の中実部
３２に接続される。長手孔８８の第３の拡大部９
４が、ニードル２０のこの終端部にわたり延び
る。クランプヘツド８６は、リフト部材８２の端
面のリセス中に配置されかつカツプナツト９６に
より支持される。ニードル２０が接続されるリフ
ト部材８２は、スリーブ４４の長手管路と直列し
長手方向可動に案内されるラツクである。このラ
ツクが、サーボモーター３４により駆動可能であ
るピニオン９８と噛合う。サーボモーターを監視
および制御するため、ピニオン９８に、走査ヘツ
ド、例えば光バリヤーにより走査可能であるコー
ドデイスク１００が結合される。この実施例の場
合、モーター３４にポツト形の延長ケーシング１
０４が備えられ、この延長ケーシングがラツク８
２の案内部へ移行しかつ胴体４４にわたり延び
る。この方法で、ラツク８２およびスリーブ４４
並びにニードル２０の良好な整列が保証される。
誤差が中間スプリング部材８４により吸収され
る。胴体７４は絶縁ジヤケツト１０６により包囲
されている。
部が、サーボモーター３４により可動であるリフ
ト部材８２に中間スプリング部材８４を経て結合
され、この中間スプリング部材がニードル２０の
案内および駆動間の誤差を補償する（第２図）。
第２図から明白なように、段付きの長手孔８８を
有する細長い円筒形のクランプヘツド８６が備え
られる。この長手孔の、クランプヘツド８６終端
部の最狭部９０が中間スプリング部材８４を把持
する。従つて、中間スプリング部材８４は、大き
い直径を有しかつ従つて中間スプリング部材８４
の横方向移動を許容する長手孔の中間部９２を経
て延びる。中間スプリング部材８４は、その自由
端が、ニードル２０の尖端２２と反対側の中実部
３２に接続される。長手孔８８の第３の拡大部９
４が、ニードル２０のこの終端部にわたり延び
る。クランプヘツド８６は、リフト部材８２の端
面のリセス中に配置されかつカツプナツト９６に
より支持される。ニードル２０が接続されるリフ
ト部材８２は、スリーブ４４の長手管路と直列し
長手方向可動に案内されるラツクである。このラ
ツクが、サーボモーター３４により駆動可能であ
るピニオン９８と噛合う。サーボモーターを監視
および制御するため、ピニオン９８に、走査ヘツ
ド、例えば光バリヤーにより走査可能であるコー
ドデイスク１００が結合される。この実施例の場
合、モーター３４にポツト形の延長ケーシング１
０４が備えられ、この延長ケーシングがラツク８
２の案内部へ移行しかつ胴体４４にわたり延び
る。この方法で、ラツク８２およびスリーブ４４
並びにニードル２０の良好な整列が保証される。
誤差が中間スプリング部材８４により吸収され
る。胴体７４は絶縁ジヤケツト１０６により包囲
されている。
第３図から明白なように、１方でポート１４
が、調圧装置１０８および電磁弁１１０を含有す
るキヤリヤガス導管に接続されている。他方で、
ポート１４に分離カラム１８が導管１１２を経て
接続されている。ポート４２は、電磁弁１１４お
よび制流装置１１６を経て大気に接続されてい
る。
が、調圧装置１０８および電磁弁１１０を含有す
るキヤリヤガス導管に接続されている。他方で、
ポート１４に分離カラム１８が導管１１２を経て
接続されている。ポート４２は、電磁弁１１４お
よび制流装置１１６を経て大気に接続されてい
る。
第４ｂ図から明白なように、ニードル２０は、
サーボモーターにより制御され、第４ｂ図中の
“位置３”により表わされた第３の位置（スタン
バイ位置）へ移動されることができる。
サーボモーターにより制御され、第４ｂ図中の
“位置３”により表わされた第３の位置（スタン
バイ位置）へ移動されることができる。
この第３の位置で、第２の横孔２６が、長手管
路１２の第１の終端部に備えられた２つのシール
３６および３８間に配置される。さらにニードル
は、サーボモーター３４により、第４ｂ図の“位
置４”により表わされた第４の位置（ベント位
置）へ移動可能である。この第４の位置で、第２
の横孔が、長手管路の第１の終端部に備えられた
た２つのシール３６，３８の軸方向外側に配置さ
れかつ大気に接続される。第４ａ図に示したよう
に、ニードル２０よりも高くサンプル容器１１８
が配置された場合、第３の位置で、ニードル２０
の長手管路２８が第１の横孔２４を経てサンプル
容器１１８の内部に接続されるとともに、第２の
横孔２６が２つのシーリング３６および３８によ
り緊密に密閉される。従つて、ガスがサンプル容
器１１８から逃出することはない。キヤリヤガス
流が、洗浄流として、ポート１４からチヤンバ１
２を経てポート４２に流動しかつ絞られて大気中
へ流出する。
路１２の第１の終端部に備えられた２つのシール
３６および３８間に配置される。さらにニードル
は、サーボモーター３４により、第４ｂ図の“位
置４”により表わされた第４の位置（ベント位
置）へ移動可能である。この第４の位置で、第２
の横孔が、長手管路の第１の終端部に備えられた
た２つのシール３６，３８の軸方向外側に配置さ
れかつ大気に接続される。第４ａ図に示したよう
に、ニードル２０よりも高くサンプル容器１１８
が配置された場合、第３の位置で、ニードル２０
の長手管路２８が第１の横孔２４を経てサンプル
容器１１８の内部に接続されるとともに、第２の
横孔２６が２つのシーリング３６および３８によ
り緊密に密閉される。従つて、ガスがサンプル容
器１１８から逃出することはない。キヤリヤガス
流が、洗浄流として、ポート１４からチヤンバ１
２を経てポート４２に流動しかつ絞られて大気中
へ流出する。
ニードルの第４の位置で、第２の横孔２６が大
気に接続される。この場合、サンプルガスが大気
中へ逃出することができ、その結果サンプル容器
１１８中で圧力の平衡化が行なわれる。このこと
が、多数のサンプルが採られかつその間の時間で
サンプル容器がそれぞれ通気される“ガス抽出
法”を許容する。
気に接続される。この場合、サンプルガスが大気
中へ逃出することができ、その結果サンプル容器
１１８中で圧力の平衡化が行なわれる。このこと
が、多数のサンプルが採られかつその間の時間で
サンプル容器がそれぞれ通気される“ガス抽出
法”を許容する。
ニードル２０は、サーボモーター３４により制
御され、第４ｂ図中で“位置５”として表わされ
た第５の位置（逆洗位置）へ移動可能である。こ
の第５の位置で、第１の横孔２４が、長手方向通
路１２の第１の終端部に備えられた２つのシール
３６，３８から軸方向に密接に外側に配置されか
つ大気に接続される。第２の横孔２６が、１方で
長手管路の第１の終端部に備えられた２つのシー
ル３６，３８および他方で長手管路の他の終端部
のシール４０間に配置されかつこうしてこれらシ
ール間に形成されたチヤンバ１２に接続される。
次いで、公知方法による逆洗作動に際し、分離カ
ラムを通る流動方向と反対に、キヤリヤガスが分
離カラムから分離カラム入口を経て大気中へ導か
れ、その場合サンプルの特定の難揮発性成分が分
離カラムから逆洗されることができる。
御され、第４ｂ図中で“位置５”として表わされ
た第５の位置（逆洗位置）へ移動可能である。こ
の第５の位置で、第１の横孔２４が、長手方向通
路１２の第１の終端部に備えられた２つのシール
３６，３８から軸方向に密接に外側に配置されか
つ大気に接続される。第２の横孔２６が、１方で
長手管路の第１の終端部に備えられた２つのシー
ル３６，３８および他方で長手管路の他の終端部
のシール４０間に配置されかつこうしてこれらシ
ール間に形成されたチヤンバ１２に接続される。
次いで、公知方法による逆洗作動に際し、分離カ
ラムを通る流動方向と反対に、キヤリヤガスが分
離カラムから分離カラム入口を経て大気中へ導か
れ、その場合サンプルの特定の難揮発性成分が分
離カラムから逆洗されることができる。
これら操作法において、ニードル２０が、シー
ル３６，３８および４０と一緒になり同時に滑り
弁として作動する。
ル３６，３８および４０と一緒になり同時に滑り
弁として作動する。
第１図は本発明による装置の１実施例を部分的
に縦断して示す側面図、第２図は第１図のニード
ル部分およびその支持構造を詳示する縦断面図、
第３図はガスクロマトグラフイーにおけるキヤリ
ヤガス流動の経路を示す系統図、並びに第４ａ図
および第４ｂ図は、ニードルのそれぞれ静止状態
および種々の作動状態を示す縦断面図および略示
側面図である。 １０…ケーシング、１２…チヤンバ、１４…ポ
ート、１６…キヤリヤガス導管、１８…分離カラ
ム、２０…ニードル、２２…ニードルの尖端、２
４…第１の横孔、２６…第２の横孔、３４…サー
ボモーター、３６，３８，４０…シール、４２…
ポート、４４…スリーブ、４６…加熱供給ヘツ
ド、５０…第１のヘツド部材、５４…第２のヘツ
ド部材、５８，６０…プラスチツクリング、６２
…供給ヘツドのリセス、６４…リセスの雌ねじ、
６６…ナツトの中心孔、６８…ナツト、７０…供
給ヘツドの横溝、７２…供給ヘツドの延長部、７
４…胴体、７６…長手管路、７８…円筒形リセ
ス、８０…スプリングワツシヤ、８２…ラツク、
８４…中間スプリング部材、９８…ピニオン、１
００…コードデイスク、１０２…走査ヘツド。
に縦断して示す側面図、第２図は第１図のニード
ル部分およびその支持構造を詳示する縦断面図、
第３図はガスクロマトグラフイーにおけるキヤリ
ヤガス流動の経路を示す系統図、並びに第４ａ図
および第４ｂ図は、ニードルのそれぞれ静止状態
および種々の作動状態を示す縦断面図および略示
側面図である。 １０…ケーシング、１２…チヤンバ、１４…ポ
ート、１６…キヤリヤガス導管、１８…分離カラ
ム、２０…ニードル、２２…ニードルの尖端、２
４…第１の横孔、２６…第２の横孔、３４…サー
ボモーター、３６，３８，４０…シール、４２…
ポート、４４…スリーブ、４６…加熱供給ヘツ
ド、５０…第１のヘツド部材、５４…第２のヘツ
ド部材、５８，６０…プラスチツクリング、６２
…供給ヘツドのリセス、６４…リセスの雌ねじ、
６６…ナツトの中心孔、６８…ナツト、７０…供
給ヘツドの横溝、７２…供給ヘツドの延長部、７
４…胴体、７６…長手管路、７８…円筒形リセ
ス、８０…スプリングワツシヤ、８２…ラツク、
８４…中間スプリング部材、９８…ピニオン、１
００…コードデイスク、１０２…走査ヘツド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 自己シール性薄膜により密閉されたサンプル
容器中へキヤリヤガスを導入するための、殊にガ
スクロマイグラフイー中でヘツドスペース法によ
り作動するサンプリング装置のための、 (a) 閉鎖可能なキヤリヤガス導管１６および分離
カラム１８用のポート１４に連絡するチヤンバ
１２を形成する装置固定のケーシング１０、 (b) （b1） ケーシング１０中で、シーリング装
置でシールされて静止位置および作動位置間
をスライド可能に導かれ、 （b2） 尖端２２付近に第１の横孔２４を有
し、かつ （b3） 第１の横孔２４から距離をおいて、ニ
ードル２０の作動位置でチヤンバ１２に連絡
する第２の横孔２６を有し、その結果第２の
孔２６を経てニードル２０中へのおよび第１
の孔２４からのキヤリヤガス流動が行なわれ
る、尖端２２を有するニードル２０ より成る装置において、 (c) ニードル２０が、サーボモーター３４によ
り、静止位置および作動位置間で固定ケーシン
グ１０に対し相対的に移動可能であり、 (d) ケーシング１０が、その管路壁がニードル２
０をせまい環状スリツトを残して、ニードル２
０の尖端２２に隣接する第１の終端部および尖
端２２から離れた第２の終端部で包囲する長手
管路を有し、 (e) シーリング装置が、 （e1） 長手管路の第１の終端部の範囲内に軸
方向に距離をおいて相互に備えられかつ緊密
にニードル２０に接触する１組のシール３
６，３８を有し、かつ （e2） 長手管路の第２の終端部の範囲内に備
えられかつ緊密にニードル２０に接触するシ
ール４０を有し、 (f) キヤリヤガス導管１６のポート１４が、第１
の終端部でシール３６，３８から軸方向内側に
開口し、かつ (g) ニードル２０が、サーボモーター３４により
制御され、 （g1） 第１の横孔２４が第１の終端部で１組
のシール３６，３８間に位置する静止位置へ
移動可能であり、かつ （g2） ニードル２０のその尖端２２および第
１の横孔２４が第１の終端部でケーシング１
０から突出しかつ第２の横孔２６がキヤリヤ
ガス導管１６のポート１４に隣接配置される
作動位置へ移動可能である ことを特徴とするキヤリヤガスをサンプル容器中
へ導入するためのニードル装置。 ２ (h) 第２の終端部でシール４０の軸方向内側
に、大気と接続可能なポート４２が備えられてい
ることを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載
のキヤリヤガスをサンプル容器中へ導入するため
のニードル装置。 ３ ニードル２０が、サーボモーター３４により
制御され、 (a) 第２の横孔２６が、長手管路の第１の終端部
に備えられた２つのシール３６，３８間に位置
する第３の位置、すなわちスタンバイ位置へ移
動可能であり、かつ (b) 第２の横孔２６が、長手管路の第１の終端部
に備えられた２つのシール３６，３８の軸方向
外側に位置しかつ大気に接続される第４の位
置、すなわちベント位置へ移動可能であること
を特徴とする、特許請求の範囲第１または第２
項のいずれか１項に記載のキヤリヤガスをサン
プル容器中へ導入するためのニードル装置。 ４ ニードル２０が、サーボモーター３４により
制御され、第１の横孔２４が長手管路の第１の終
端部に備えられた２つのシール３６，３８の軸方
向近外側に配置されかつ大気に接続され、かつ第
２の横孔２６が１方で長手管路の第１の終端部に
備えられた２つのシール３６，３８および他方で
長手管路の他端のシール４０間に配置されかつチ
ヤンバ１２に接続される第５の位置、すなわち逆
洗位置へ移動可能であることを特徴とする、特許
請求の範囲第１〜第３項のいずれか１項に記載の
キヤリヤガスをサンプル容器中へ導入するための
ニードル装置。 ５ 長手管路がスリーブ４４により形成されてい
ることを特徴とする、特許請求の範囲第１〜第４
項のいずれか１項に記載のキヤリヤガスをサンプ
ル容器中へ導入するためのニードル装置。 ６ シーリング装置が、 (a) スリーブ４４の第１の終端部でその端面に接
触し、スリーブ４４の長手管路と直列する孔５
２を有しかつこの孔中に、スリーブ４４の第１
の終端部の範囲内に備えられる１組のシール３
６，３８が支持されている、プラスチツクより
成る第１のヘツド部材５０、および (b) スリーブ４４の第２の終端部でその端面に接
触し、スリーブ４４の長手管路と直列する孔５
６を有しかつこの孔中に、スリーブ４４の第２
の終端部の範囲内に備えられるシール４０が支
持されている、プラスチツクより成る第２のヘ
ツド部材５４より成ることを特徴とする、特許
請求の範囲第５項記載のキヤリヤガスをサンプ
ル容器中へ導入するためのニードル装置。 ７ シール３６，３８，４０が、ヘツド部材５
０，５４の孔５２，５６中の環状溝中に配置され
たＯリングより成ることを特徴とする、特許請求
の範囲第６項記載のキヤリヤガスをサンプル容器
中へ導入するためのニードル装置。 ８ Ｏリング３６，３８，４０が、フルオルシリ
コーンより成りかつ、摩擦抵抗を低減させるため
のグラフアイト末が塗擦されていることを特徴と
する、特許請求の範囲第７項記載のキヤリヤガス
をサンプル容器中へ導入するためのニードル装
置。 ９ (a) ヘツド部材５０，５４中でプラスチツク
リング５８，６０が孔５２，５６に直列に支持
され、かつ (b) ニードル２０がこれらプラスチツクリング５
８，６０中で長手方向可動に案内されることを
特徴とする、特許請求の範囲第７または第８項
のいずれか１項に記載のキヤリヤガスをサンプ
ル容器中へ導入する装置。 １０ 少なくとも１方のプラスチツクリング５８
が、 (a) 高耐薬品性のプラスチツクより成り、かつ (b) 付属するＯリング３６，３８の、チヤンバ１
２に対向する側面に配置されていることを特徴
とする、特許請求の範囲第９項記載のキヤリヤ
ガスをサンプル容器中へ導入するためのニード
ル装置。 １１ (a) スリーブ４４が加熱供給ヘツド４６中
に配置され、 (b) ヘツド部材５０が、供給ヘツド４６のリセス
６２中の、スリーブ４４の第１の終端部に配置
され、その結果ヘツド部材がリセス６２の底面
および、この底面と大体において直列する、ス
リーブ４４の端面に緊密に接触し、かつ (c) リセス６２が雌ねじ６４を有し、この雌ねじ
中へ、スリーブ４４の長手管路と直列する中心
孔６６が備えられたナツト６８がねじ込まれ、
このナツトがヘツド部材５０をリセス６２の底
面およびスリーブ４４の端面に対し圧迫するこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第５〜第１０
項のいずれか１項に記載のキヤリヤガスをサン
プル容器中へ導入するためのニードル装置。 １２ (a) 供給ヘツド４６が、ヘツド部材５０の
側面に、ヘツド部材５０を収容するリセス６２
を切欠した横溝７０を有し、 (b) ニードル２０が、サーボモーター３４により
制御され、ニードル２０の尖端２２が完全にス
リーブ４４中に配置される位置へ後退可能であ
り、その結果ヘツド部材５０がナツト６８の除
去後に横溝７０を経て側面方向に抜取り可能で
あるか、またはヘツド部材５０が横溝７０を経
て挿入可能であることを特徴とする、特許請求
の範囲第１１項記載のキヤリヤガスをサンプル
容器中へ導入するためのニードル装置。 １３ (a) 供給ヘツド４６に、スリーブブ４４の
第２の終端部周りにかつスリーブと同軸に、雄
ねじの設けられた延長部７２が備えられ、 (b) この延長部７２へ、 （b1） ニードル２０のための長手管路７６、
および （b2） 雌ねじの設けられた円筒形リセス７８
を有し、このリセスにより延長部７２にわた
り延びる胴体７４がねじ固定され、 その場合胴体７４の雌ねじが延長部７２の雄
ねじへねじ込まれ、 (c) スリーブ４４の第２の終端部に配置されたヘ
ツド部材５４が、この胴体７４のリセス７８の
底面とスリーブ４４および延長部７２の端面と
の間に支持されかつこれら端面に対し圧迫され
ることを特徴とする、特許請求の範囲第５〜第
１２項のいずれか１項に記載のキヤリヤガスを
サンプル容器中へ導入するためのニードル装
置。 １４ リセス７８の底面およびヘツド部材５４間
にスプリングワツシヤ８０、例えばカツプスプリ
ングが配置されていることを特徴とする、特許請
求の範囲第１３項記載のキヤリヤガスをサンプル
容器中へ導入するためのニードル装置。 １５ (a) ニードル２０が、スリーブ４４の長手
管路に直列し長手方向可動に案内されるラツク
８２に結合され、 (b) ラツク８２が、サーボモーター３４により駆
動可能であるピニオン９８と噛合つていること
を特徴とする、特許請求の範囲第１〜第１４項
のいずれか１項に記載のキヤリヤガスをサンプ
ル容器中へ導入するためのニードル装置。 １６ サーボモーター３４を監視および制御する
ため、ピニオン９８に、走査ヘツド１０２、例え
ば光バリヤーにより走査可能であるコードデイス
ク１００が結合されていることを特徴とする、特
許請求の範囲第１５項記載のキヤリヤガスをサン
プル容器中へ導入するためのニードル装置。 １７ ニードル２０の尖端２２と反対側のその終
端部が、サーボモーター３４により可動なリフト
部材８２に中間スプリング部材８４を経て結合さ
れ、この中間スプリング部材がニードル２０の案
内および駆動間誤差の補償を許容することを特徴
とする、特許請求の範囲第１〜第１６項のいずれ
か１項に記載のキヤリヤガスをサンプル容器中へ
導入するためのニードル装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19833302158 DE3302158A1 (de) | 1983-01-22 | 1983-01-22 | Stechkanuelenanordnung zum einleiten eines traegergases in ein probengefaess |
| DE3302158.9 | 1983-01-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59192957A JPS59192957A (ja) | 1984-11-01 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |