JPH04263080A - Production of ultraviolet cutoff filter - Google Patents

Production of ultraviolet cutoff filter

Info

Publication number
JPH04263080A
JPH04263080A JP4410191A JP4410191A JPH04263080A JP H04263080 A JPH04263080 A JP H04263080A JP 4410191 A JP4410191 A JP 4410191A JP 4410191 A JP4410191 A JP 4410191A JP H04263080 A JPH04263080 A JP H04263080A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
titanium
cerium
added
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4410191A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Riichi Nishide
利一 西出
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Nissan Motor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Motor Co Ltd filed Critical Nissan Motor Co Ltd
Priority to JP4410191A priority Critical patent/JPH04263080A/en
Publication of JPH04263080A publication Critical patent/JPH04263080A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce a UV cutoff filter capable of selectively and efficiently cutting off only the UV of 300-400nm on a transparent substrate of glass, etc. CONSTITUTION:Water is added to a mixed soln. contg. an organotitanium compd., a cerium compd. and an org. compd. contg. at least one hydroxyl group and at least one ketonic group, and the soln. is converted to a sol. The liq. reactant is applied on a transparent substrate and sintered.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、紫外線カットフィルタ
ー、特に、ガラスなどの透明基板上に形成された紫外線
カットフィルターの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an ultraviolet cut filter, particularly an ultraviolet cut filter formed on a transparent substrate such as glass.

【0002】0002

【従来の技術】従来の紫外線カットフィルターの製造方
法としては、ガラスなどの透明基板上に屈折率の異なる
物質を交互に多層積層する方法、金属,金属酸化物の蒸
着等による薄膜形成による方法、紫外線吸収剤をなんら
かのバインダーに溶解または分散してこれを塗布する方
法などが知られている。
[Prior Art] Conventional methods for manufacturing ultraviolet cut filters include a method in which multiple layers of substances with different refractive indexes are alternately laminated on a transparent substrate such as glass, a method in which thin films are formed by vapor deposition of metals or metal oxides, etc. A method is known in which a UV absorber is dissolved or dispersed in some kind of binder and then applied.

【0003】また特開昭63−103083 号公報に
はチタンアルコキシドとセリウム化合物の混合液に酸を
加えてpHを 3.5〜5とし、全溶液中の含有水分を
8%以下に調製し、この混合液を基体表面に付着させた
後、200 ℃以上に加熱してセリウム含有チタン酸化
物の皮膜を形成させる方法が開示されている。
[0003] Furthermore, JP-A-63-103083 discloses that an acid is added to a mixed solution of titanium alkoxide and a cerium compound to adjust the pH to 3.5 to 5, and the water content in the total solution is adjusted to 8% or less. A method is disclosed in which this mixed solution is applied to the surface of a substrate and then heated to 200° C. or higher to form a film of cerium-containing titanium oxide.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の方法にあっては、たとえば蒸着法によるもの
ではスループットが小さくまた反応チャンバーが小さい
ので、小さな面積のフィルターしかできず、コストが高
くなるという問題点があった。また、紫外線吸収剤をな
んらかのバインダーに溶解または分散してこれを塗布す
る方法では、バインダーや紫外線吸収剤の種類により好
ましい波長での吸収が得られない、などの問題点があっ
た。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in such conventional methods, for example, those using vapor deposition, the throughput is small and the reaction chamber is small, so only a filter with a small area can be produced, resulting in high costs. There was a problem. Furthermore, the method of dissolving or dispersing an ultraviolet absorber in some kind of binder and applying the same has the problem that absorption at a preferable wavelength cannot be obtained depending on the type of binder or ultraviolet absorber.

【0005】さらに、特開昭63−103083 号公
報に開示された方法では、400nm 以上の可視光域
にも吸収をもち、可視域の一部もカットしてしまい、紫
外線のみをカットできない、という問題点がある。さら
に、pHの制御や含有水分の制御が困難である、混合液
のポットライフが短い、皮膜が失透し透明膜ができない
、という問題点がある。
Furthermore, the method disclosed in JP-A-63-103083 has absorption in the visible light range of 400 nm or more, and also cuts part of the visible range, making it impossible to cut only ultraviolet rays. There is a problem. Further, there are problems in that it is difficult to control pH and water content, the pot life of the mixed liquid is short, and the film devitrifies, making it impossible to form a transparent film.

【0006】本発明の目的は、300 〜400nm 
の紫外線のみを選択的に効率よくカットするフィルター
の製造方法を提供することにある。
[0006] The object of the present invention is to
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a filter that selectively and efficiently cuts only ultraviolet rays.

【0007】さらに本発明の他の目的は製造が容易でp
Hや含有水分の制御が不要である安価で大面積の透明な
紫外線カットフィルターの製造方法を提供することにあ
る。
Still another object of the present invention is to provide a p
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an inexpensive, large-area, transparent ultraviolet cut filter that does not require control of H or moisture content.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の本発明の目的は、
チタンの有機金属化合物とセリウム化合物および水酸基
を少なくとも1つ含みかつケトン基を少なくとも1つ含
む有機化合物を含有する混合溶液に水を添加してゾル化
し、この反応液を透明基板上に塗布し、焼結する方法に
より、達成された。
[Means for Solving the Problems] The above objects of the present invention are as follows:
Water is added to a mixed solution containing an organometallic compound of titanium, a cerium compound, and an organic compound containing at least one hydroxyl group and at least one ketone group to form a sol, and this reaction solution is applied on a transparent substrate, This was achieved by a sintering method.

【0009】以下本発明を詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

【0010】本発明は、チタンの有機金属化合物とセリ
ウム化合物および水酸基を少なくとも1つ含みかつケト
ン基を少なくとも1つ含む有機化合物を含有する混合溶
液に水を添加してゾル化し、この反応液をガラス基板上
に塗布し、焼結することを特徴とするものである。
In the present invention, water is added to a mixed solution containing an organometallic compound of titanium, a cerium compound, and an organic compound containing at least one hydroxyl group and at least one ketone group to form a sol, and this reaction solution is It is characterized by being applied onto a glass substrate and sintered.

【0011】このような混合溶液に水を添加して金属イ
オンをゾル化する方法は、一般にはゾルゲル方法といわ
れているものである。
The method of adding water to such a mixed solution to solify metal ions is generally referred to as a sol-gel method.

【0012】ゾルゲル方法による薄膜の形成方法は、た
とえば「ゾル・ゲル法によるガラス・セラミックスの製
造技術とその応用」(山根正之  監著  応用技術出
版  1989年)108 〜140 ページに記載さ
れている。たとえば、チタンテトラメトキシドをメタノ
ールに溶解しておく。これに、塩酸などの酸、および水
などチタンテトラメトキシドの分解剤を加える。チタン
テトラメトキシドが分解しTi−O−Ti 結合を有す
るゾルが形成される。粘度を適切に選択することにより
、任意の手段で塗布し薄膜を形成する。塗布方法として
は、ディップ法、スピン塗布法、スプレー法などから選
択される。ついで、焼結する。
A method for forming a thin film by the sol-gel method is described, for example, in "Glass/Ceramics Manufacturing Technology by the Sol-Gel Method and Its Applications" (edited by Masayuki Yamane, Oyo Gijutsu Shuppan, 1989), pages 108 to 140. For example, titanium tetramethoxide is dissolved in methanol. To this, an acid such as hydrochloric acid and a decomposing agent for titanium tetramethoxide such as water are added. Titanium tetramethoxide decomposes to form a sol having Ti-O-Ti bonds. By appropriately selecting the viscosity, it can be applied by any means to form a thin film. The coating method is selected from dipping, spin coating, spraying, and the like. Then, it is sintered.

【0013】本発明で用いられるチタンの有機金属化合
物としては、好ましくはチタンアルコキシドである。チ
タンアルコキシドは一般式Ti(OR)n であらわさ
れる。ここでnは整数であり、チタンに対する配位数を
あらわす。Rは任意のアルキル基から選択される。Rと
しては、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、などがある。
The titanium organometallic compound used in the present invention is preferably titanium alkoxide. Titanium alkoxide is represented by the general formula Ti(OR)n. Here, n is an integer and represents the coordination number with respect to titanium. R is selected from any alkyl group. Examples of R include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and the like.

【0014】セリウム化合物としては、セリウムの無機
化合物、たとえば硝酸セリウム、塩化セリウム、硫酸セ
リウムなどが好ましく用いられる。
As the cerium compound, inorganic cerium compounds such as cerium nitrate, cerium chloride, and cerium sulfate are preferably used.

【0015】水酸基を少なくとも1つ含みかつケトン基
を少なくとも1つ含む有機化合物としては、一般にはヒ
ドロキシケトンといわれているものであり、アセトアル
コール、アセトイン、ジアセトンアルコール、ベンゾイ
ンなどが好ましい。
The organic compound containing at least one hydroxyl group and at least one ketone group is generally referred to as hydroxyketone, and preferred are acetoalcohol, acetoin, diacetone alcohol, benzoin, and the like.

【0016】本発明においては、水を添加して金属イオ
ンをゾル化させるのだが、水の量は任意でよい。好まし
くは、金属イオンに対し1〜10倍モル量である。また
、ゾル化するときに、酸を添加してもよい。酸としては
硝酸、塩酸、酢酸、硫酸などが好ましい。反応温度は任
意で良いが、好ましくは、50〜 130℃である。溶
媒は、これらの化合物が溶解するものであれば任意で良
いが、好ましくはエチルアルコール、プロピルアルコー
ル、ブチルアルコールなどのアルコール類、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブなどグリコールのエーテル類
などが用いられる。チタンの有機金属化合物とセリウム
化合物の混合割合としては、モル比でTi:Ce= 1
:5〜100 :1の範囲であることが好ましい。また
水酸基を少なくとも1つ含みかつケトン基を少なくとも
1つ含む有機化合物は、チタンの有機金属化合物とセリ
ウム化合物のチタンおよびセリウム金属としての合計モ
ル数の1/10〜10倍のモル数の分量を添加するのが
好ましく、上記合計モル数と等モル添加するのが一層好
ましい。焼結は有機化合物が除去される温度であるべき
であり、好ましくは200 ℃以上がよい。また基板が
変形または変質しない温度であるべきで、本発明の場合
は700 ℃以下が好ましい。加熱時間は5〜60分で
よい。
In the present invention, water is added to form a sol of metal ions, but the amount of water may be arbitrary. Preferably, the molar amount is 1 to 10 times that of the metal ion. Furthermore, an acid may be added when forming a sol. Preferred acids include nitric acid, hydrochloric acid, acetic acid, and sulfuric acid. Although the reaction temperature may be arbitrary, it is preferably 50 to 130°C. The solvent may be any solvent as long as these compounds can be dissolved therein, but alcohols such as ethyl alcohol, propyl alcohol, and butyl alcohol, and glycol ethers such as ethyl cellosolve and methyl cellosolve are preferably used. The mixing ratio of the titanium organometallic compound and the cerium compound is Ti:Ce=1 in molar ratio.
:5 to 100:1 is preferable. In addition, the organic compound containing at least one hydroxyl group and at least one ketone group should be used in an amount of 1/10 to 10 times the total number of moles of the organic metal compound of titanium and the cerium compound as titanium and cerium metal. It is preferable to add it, and it is more preferable to add it in moles equal to the above total number of moles. Sintering should be at a temperature that removes organic compounds, preferably 200° C. or higher. Further, the temperature should be such that the substrate does not deform or change in quality, and in the case of the present invention, the temperature is preferably 700° C. or less. Heating time may be 5 to 60 minutes.

【0017】本発明で用いられる薄膜は少なくとも1層
以上積層されることが必要であり、吸光度を高めるため
2層以上塗布しても良い。積層方法は1層塗布した後続
いて塗布してもよいし、焼結後さらに塗布してもよい。 塗布する基板としては、透明な基板であれば何でも良い
が、好ましくはソーダライムなどのガラス基板、石英基
板、ポリカーボネートなどのプラスチック基板などから
選択される。
The thin film used in the present invention must be laminated in at least one layer, and may be coated in two or more layers to increase absorbance. The lamination method may be to apply one layer and then apply another layer, or to apply another layer after sintering. The substrate to be coated may be any transparent substrate, but is preferably selected from glass substrates such as soda lime, quartz substrates, and plastic substrates such as polycarbonate.

【0018】[0018]

【作用】本発明によれば、300 〜400nm の紫
外線のみを選択的に効率よくカットするフィルターが得
られる。さらに、安価で大面積のフィルターが得られ、
製造が容易でpHや含有水分の制御が不要であり、透明
なフィルターが得られる。
According to the present invention, a filter can be obtained which selectively and efficiently cuts only ultraviolet rays of 300 to 400 nm. Furthermore, it is possible to obtain a large-area filter at low cost.
It is easy to manufacture, does not require control of pH or water content, and provides a transparent filter.

【0019】[0019]

【実施例】【Example】

【0020】以下、実施例および比較例により本発明を
さらに説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
The present invention will be further explained below with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0021】比較例 塩化セリウム1.26g をエタノール30cc中に溶
解した。この溶液に室温でチタンテトライソプロポキシ
ド1ccを添加し、さらに30%酢酸1ccを加えてp
Hを4とした。この溶液をスピンナーによりソーダライ
ムガラス上に塗布した。スピンナー塗布条件は3000
rpm で30秒であった。塗布試料を大気中で乾燥さ
せた後、電気炉中に入れ、500 ℃で10分間焼結し
た。得られた黄色ガラスは失透していた。このガラス試
料の吸光度を、リファレンスをガラスとして図2に任意
スケールで示した。440nm に吸収極大を持ち、可
視域に吸収をもっていた。さらに、この溶液を室温で1
週間放置したところ、白濁し、塗布が不可能であった。
Comparative Example 1.26 g of cerium chloride was dissolved in 30 cc of ethanol. To this solution, 1 cc of titanium tetraisopropoxide was added at room temperature, and then 1 cc of 30% acetic acid was added.
H was set to 4. This solution was applied onto soda lime glass using a spinner. Spinner application conditions are 3000
rpm for 30 seconds. After drying the coated sample in the air, it was placed in an electric furnace and sintered at 500°C for 10 minutes. The yellow glass obtained was devitrified. The absorbance of this glass sample is shown on an arbitrary scale in FIG. 2, using glass as a reference. It had an absorption maximum at 440 nm and absorption in the visible range. Furthermore, this solution was added at room temperature for 1
When left for a week, it became cloudy and coating was impossible.

【0022】実施例1 塩化セリウム1.26g をエタノール30cc中に加
え溶解した。この溶液にチタニウムテトライソプロポキ
シド1ccを添加し、さらにジアセトアルコール0.8
ml を加え、80℃で1時間撹拌、加熱した。室温ま
で冷却した後、水0.12mlおよび61% 硝酸0.
4 mlを加え、80℃で1時間撹拌、加熱した。この
時のpHは1であった。この溶液を室温まで冷却した後
スピンナーによりソーダライムガラス上に塗布した。ス
ピンナー塗布条件は300rpmで30秒であった。塗
布試料を大気中で乾燥させた後、電気炉中に入れ、50
0 ℃で10分間焼結した。得られたガラス試料は無色
透明であった。このガラス試料の吸光度を図2と同様に
してリファレンスをガラスとして図1に示した。吸収極
大は330nm にあり、300 〜400nm の紫
外線をカットしていることがわかった。
Example 1 1.26 g of cerium chloride was dissolved in 30 cc of ethanol. 1 cc of titanium tetraisopropoxide was added to this solution, and 0.8 cc of diacetalcohol was added.
ml was added, and the mixture was stirred and heated at 80°C for 1 hour. After cooling to room temperature, add 0.12 ml of water and 0.0 ml of 61% nitric acid.
4 ml was added, and the mixture was stirred and heated at 80°C for 1 hour. The pH at this time was 1. After cooling this solution to room temperature, it was applied onto soda lime glass using a spinner. The spinner coating conditions were 300 rpm and 30 seconds. After drying the coated sample in the air, it was placed in an electric furnace and heated for 50 minutes.
Sintering was performed at 0°C for 10 minutes. The obtained glass sample was colorless and transparent. The absorbance of this glass sample is shown in FIG. 1 in the same manner as in FIG. 2, using glass as a reference. It was found that the absorption maximum is at 330 nm and that it blocks ultraviolet rays of 300 to 400 nm.

【0023】また、この反応液を室温で1週間放置した
。反応液は透明で塗布も可能であった。ガラス塗布試料
は上と同じ吸光度を示した。
[0023] Further, this reaction solution was left for one week at room temperature. The reaction solution was transparent and could be coated. The glass coated sample showed the same absorbance as above.

【0024】実施例2 実施例1における塩化セリウムに変えて硝酸セリウムを
1.47g 用い、チタニウムテトライソプロポキシド
に変えてチタニウムテトラ−n− ブトキシドを1.1
6g 用い、ジアセトンアルコールに変えてアセトイン
を0.53ml用いた他は、実施例1と同様にしてガラ
ス試料を作製した。得られたガラス試料の吸光度は実施
例1と同様に 300〜400 nmの紫外線をカット
していた。
Example 2 1.47 g of cerium nitrate was used instead of cerium chloride in Example 1, and 1.1 g of titanium tetra-n-butoxide was used instead of titanium tetraisopropoxide.
A glass sample was prepared in the same manner as in Example 1, except that 0.53 ml of acetoin was used instead of diacetone alcohol. The absorbance of the obtained glass sample was similar to that of Example 1, and showed that ultraviolet rays of 300 to 400 nm were blocked.

【0025】実施例3 実施例1における水の量を0.12mlから0.2, 
0.5, 0.6mlと変化させた。実施例1と同様に
塗布し、焼結した。実施例1と同様に300〜400n
m の紫外線をカットしていた。また、この反応液を室
温で1週間放置した。溶液は、透明であり、塗布も可能
であった。塗布したガラス試料は上と同様の吸光度を示
した。
Example 3 The amount of water in Example 1 was changed from 0.12 ml to 0.2 ml.
The amount was changed to 0.5, 0.6 ml. It was coated and sintered in the same manner as in Example 1. 300 to 400n as in Example 1
It was blocking ultraviolet rays. Further, this reaction solution was left at room temperature for one week. The solution was clear and coatable. The coated glass sample showed similar absorbance as above.

【0026】実施例4 実施例1における硝酸に変えて、35% 塩酸を用い、
その量を0.1,0.3, 0.6, 0.8, 1.
0 mlと変化させた。この時の溶液のpHは 3.0
から 0.1であった。実施例1と同様にして塗布試料
を作製した。得られた試料の吸光度は実施例1と同様に
 300〜400nm の紫外線をカットしていた。
Example 4 Using 35% hydrochloric acid instead of nitric acid in Example 1,
The amount is 0.1, 0.3, 0.6, 0.8, 1.
The volume was changed to 0 ml. The pH of the solution at this time is 3.0
It was 0.1. A coated sample was prepared in the same manner as in Example 1. The absorbance of the obtained sample was the same as in Example 1, which blocked ultraviolet rays of 300 to 400 nm.

【0027】実施例5 実施例1における塩化セリウムに変えて酢酸セリウム1
.5gを用い、チタニウムテトライソプロポキシドに変
えてチタニウムテトラエトキシド1.6gを用い、ジア
セトンアルコールに変えてベンゾイン1.3 mlを用
い、溶媒をエタノールに変えてn−ブタノール 100
mlに変えた他は実施例1と同様にして塗布した。得ら
れた試料の吸光度は実施例1と同様に 300〜400
nm の紫外線をカットしていた。
Example 5 Cerium acetate 1 was used instead of cerium chloride in Example 1.
.. Using 5 g of titanium tetraisopropoxide, 1.6 g of titanium tetraethoxide was used instead of titanium tetraisopropoxide, 1.3 ml of benzoin was used instead of diacetone alcohol, and the solvent was changed to ethanol and n-butanol 100
Coating was carried out in the same manner as in Example 1 except that the volume was changed to ml. The absorbance of the obtained sample was 300 to 400 as in Example 1.
It blocks ultraviolet rays of nanometers.

【0028】実施例6 実施例1におけるソーダライムガラスに変えて石英ガラ
スを用いた他は実施例1と同様にして塗布試料を作製し
た。得られた試料の吸光度は 300〜400nm の
紫外線をカットしていた。
Example 6 A coated sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that quartz glass was used instead of soda lime glass in Example 1. The absorbance of the obtained sample was such that ultraviolet rays of 300 to 400 nm were blocked.

【0029】実施例7 実施例2におけるスピンナー塗布に変えて、ディップ塗
布法を用い、ガラス基板の大きさを500 mm×50
0 mm×3 mmtとした他は、実施例2と同様にし
てガラス塗布試料を作製した。塗布は均一で、 300
〜400nm の紫外線をカットしていた。
Example 7 Instead of spinner coating in Example 2, a dip coating method was used, and the size of the glass substrate was 500 mm x 50 mm.
A glass coating sample was prepared in the same manner as in Example 2, except that the thickness was 0 mm x 3 mm. Application is uniform, 300
It blocks ultraviolet rays of ~400 nm.

【0030】(発明の効果)以上詳述したように、本発
明によれば、 300〜400nm の紫外線のみを選
択的に効率よくカットするフィルターが提供できる。さ
らに製造が容易でpHや含有水分の制御が不要であり、
透明膜を作製する方法が提供できる。
(Effects of the Invention) As detailed above, according to the present invention, it is possible to provide a filter that selectively and efficiently cuts only ultraviolet rays of 300 to 400 nm. Furthermore, it is easy to manufacture and does not require control of pH or moisture content.
A method for producing a transparent film can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の実施例1のガラス塗布試料の吸光度曲
線を示す線図である。
FIG. 1 is a diagram showing the absorbance curve of a glass coated sample of Example 1 of the present invention.

【図2】比較例のガラス塗布試料の吸光度曲線を示す線
図である。
FIG. 2 is a diagram showing the absorbance curve of a comparative glass-coated sample.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  チタンの有機金属化合物とセリウム化
合物および水酸基を少なくとも1つ含みかつケトン基を
少なくとも1つ含む有機化合物とを含有する混合溶液に
水を添加してゾル化し、この反応液を透明基板上に塗布
し、焼結することを特徴とする紫外線カットフィルター
の製造方法。
Claim 1: Water is added to a mixed solution containing an organometallic compound of titanium, a cerium compound, and an organic compound containing at least one hydroxyl group and at least one ketone group, and the reaction solution is made transparent. A method for producing an ultraviolet cut filter, which is characterized by coating it on a substrate and sintering it.
JP4410191A 1991-02-18 1991-02-18 Production of ultraviolet cutoff filter Pending JPH04263080A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4410191A JPH04263080A (en) 1991-02-18 1991-02-18 Production of ultraviolet cutoff filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4410191A JPH04263080A (en) 1991-02-18 1991-02-18 Production of ultraviolet cutoff filter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04263080A true JPH04263080A (en) 1992-09-18

Family

ID=12682229

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4410191A Pending JPH04263080A (en) 1991-02-18 1991-02-18 Production of ultraviolet cutoff filter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04263080A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015026693A (en) * 2013-07-25 2015-02-05 株式会社ユーテック Membrane manufacturing method and multi-chamber apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015026693A (en) * 2013-07-25 2015-02-05 株式会社ユーテック Membrane manufacturing method and multi-chamber apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5091009A (en) Coating composition and a process for manufacturing the same
US5897958A (en) Modified titanium oxide sol, photocatalyst composition and photocatalyst composition-forming agent
DE69801217T2 (en) METHOD FOR PRODUCING A MULTI-LAYER OPTICAL OBJECT WITH CROSS-NETWORKING COMPRESSION BY EXPOSURE WITH UV RADIATION AND THE OPTICAL OBJECT OBTAINED THEREFORE
DE19831611A1 (en) Hydrophilic article used as window pane or mirror
JPS6048461B2 (en) Heat reflective glass plate and its manufacturing method
JPS59213623A (en) Manufacture of indium oxide-tin oxide layer and indium oxide-tin oxide layer material
WO1998018736A1 (en) Method for manufacturing substrates with transparent and colour coatings stable at high temperatures and in the presence of ultraviolet rays
CA2385206A1 (en) Polarization element and method for manufacturing the same
US3660137A (en) Heat-reflecting glass and method for manufacturing the same
JPH06199528A (en) Production of film and spherical fine particles of metal oxide glass
JP3328493B2 (en) Substrate with thin film and method of manufacturing the same
JPH0497103A (en) Production of uv cut filter
JPH05173018A (en) Production of uv cut filter
JPH04177204A (en) Ultraviolet and infrared ray cut filter
JPH04130301A (en) Ultraviolet ray cut filter
JPH10316885A (en) Composition for forming colored film and production of glass product coated with colored film thereof
JP3456396B2 (en) Method for producing glass substrate with translucent colored film
JPH0753240A (en) Ultraviolet-transmission preventive glass
JPH0753241A (en) Ultraviolet-transmission preventive glass and its production
JPH04132638A (en) Glass having low reflecting multilayer film
JP3135679B2 (en) Ultraviolet shielding film forming solution and method for producing ultraviolet shielding film using the same
JP2827542B2 (en) Ultraviolet absorbing film forming composition and use thereof
JP3400826B2 (en) Spacer for liquid crystal display comprising colored spherical silica particles, and liquid crystal display
JP3258023B2 (en) Titanium oxide photocatalyst structure and method for producing the same
JP2002188054A (en) Coating liquid for forming colored film