JPH0426583A - ZnSe crystal growth method and crystal growth device - Google Patents

ZnSe crystal growth method and crystal growth device

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JPH0426583A
JPH0426583A JP13169490A JP13169490A JPH0426583A JP H0426583 A JPH0426583 A JP H0426583A JP 13169490 A JP13169490 A JP 13169490A JP 13169490 A JP13169490 A JP 13169490A JP H0426583 A JPH0426583 A JP H0426583A
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crystal
solvent
crystal growth
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temperature
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Hiroyuki Kato
裕幸 加藤
Michihiro Sano
道宏 佐野
Yasuo Okuno
奥野 保男
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Stanley Electric Co Ltd
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Stanley Electric Co Ltd
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  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 E産業上の利用分野〕 本発明は、結晶成長に関し、特に化合物半導体のうちZ
nSeの温度差法による液相結晶成長方法と液相結晶成
長装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] E-Industrial Application Field] The present invention relates to crystal growth, and in particular to Z
The present invention relates to a liquid phase crystal growth method and a liquid phase crystal growth apparatus using nSe temperature difference method.

[従来技術] 第4図に、従来の技術による、■−■族化合物半導体Z
nSeの液相結晶成長装置を示す2石英製の結晶成長用
アンプル1の底部に、カーボン等の熱伝導率のよい材料
で作製したヒートシンク6を収納し固定している。ヒー
トシンク6の上には、溶媒2として■族元素Seあるい
はS e −T eが収容される。さらに、成長原料と
なるソース結晶3として粒状の多結晶ZnSeが収容さ
れている。
[Prior art] Fig. 4 shows a ■-■ group compound semiconductor Z according to a conventional technique.
A heat sink 6 made of a material with good thermal conductivity such as carbon is housed and fixed at the bottom of a crystal growth ampoule 1 made of quartz showing an nSe liquid phase crystal growth apparatus. On top of the heat sink 6, group Ⅰ element Se or Se-Te is accommodated as the solvent 2. Further, granular polycrystalline ZnSe is accommodated as a source crystal 3 which is a growth material.

成長アンプル1内に溶媒2およびソース結晶3を収容し
た後、アンプル内は真空に排気され、封止される。この
ような構成からなるアンプルを図中右側に示すような温
度勾配中に配置する。そして上部の高温部分にあるソー
ス結晶3を溶媒2中に飽和溶解度に至るまで溶解させ、
低温部に向かって拡散させる。溶解したソース結晶3は
温度勾配中を輸送され、ヒートシンク6の上面7付近に
至る。ヒートシンク6の上面7付近は上部より温度が低
いので、溶液は過飽和溶液となり、ヒートシンク6の上
面7上にバルク状の結晶を成長させる。
After the solvent 2 and source crystal 3 are placed in the growth ampoule 1, the inside of the ampoule is evacuated and sealed. An ampoule having such a configuration is placed in a temperature gradient as shown on the right side of the figure. Then, the source crystal 3 in the upper high temperature part is dissolved in the solvent 2 until it reaches saturation solubility.
Diffuse toward the low temperature area. The melted source crystal 3 is transported through the temperature gradient and reaches near the top surface 7 of the heat sink 6 . Since the temperature near the upper surface 7 of the heat sink 6 is lower than that above, the solution becomes a supersaturated solution, and bulk crystals grow on the upper surface 7 of the heat sink 6 .

結晶を成長させるカーボンヒートシンク6の上面7は平
坦かつ鏡面に形成されている。
The upper surface 7 of the carbon heat sink 6 on which crystals are grown is formed into a flat and mirror surface.

上記のように、溶媒の内部、たとえば上下に温度差を形
成し、溶媒の高温部にソース結晶を配置し、溶媒の低温
部において一定温度で結晶成長を行う結晶成長方法を温
度差法と呼ぶ。
As mentioned above, a crystal growth method in which a temperature difference is created inside the solvent, for example above and below, the source crystal is placed in the high temperature part of the solvent, and the crystal is grown at a constant temperature in the low temperature part of the solvent is called the temperature difference method. .

E発明が解決しようとする課I!] この成長装置によれば、ソース結晶3と溶!2との比重
差およびこの溶液の対流によりソース結晶3の位1か不
確定となる。そのために、M密にはソース結晶3の部分
の温度は一定でなく、飽和溶解度か変化する。また、カ
ーボンヒートシンク6により、溶媒2中の温度勾配は結
晶析出面(上面7)近傍では急峻となる。従って、再現
性のよい安定した結晶成長が行われない、さらに、ソー
ス結晶3がヒートシンク6の上面7まで落下し、結晶の
成長が行われないこともある。
Problem I that the E-invention aims to solve! ] According to this growth apparatus, source crystal 3 and melt! Due to the difference in specific gravity with 2 and the convection of this solution, it is unclear whether the source crystal 3 is 1 or not. Therefore, the temperature of the source crystal 3 is not constant in the M-density region, and the saturation solubility changes. Further, due to the carbon heat sink 6, the temperature gradient in the solvent 2 becomes steep near the crystal precipitation surface (upper surface 7). Therefore, stable crystal growth with good reproducibility is not performed, and furthermore, the source crystal 3 may fall to the upper surface 7 of the heat sink 6, and no crystal growth may occur.

本発明の目的は、温度差法を用いたZnSeの結晶成長
方法において、ソース結晶付近の温度を一定とし、安定
かつ再現性の良い定常的な結晶成長を行うことのできる
結晶成長方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a ZnSe crystal growth method using a temperature difference method, in which the temperature near the source crystal is kept constant and steady crystal growth can be performed with good stability and reproducibility. That's true.

本発明の他の目的は、このような結晶成長を行うことの
できる結晶成長装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a crystal growth apparatus that can perform such crystal growth.

3課題を解決するための手段] 本発明によれば、溶媒の上下に温度差を形成し、溶媒の
高温部にソース結晶を配置し、溶媒の低温部において一
定温度で結晶成長を行う温度差法を用いた結晶成長方法
において、ソース結晶として用いるインゴット状のZn
Se多結晶を溶媒上部に固定し一該ゾース結晶と結晶を
析出させる面との間の距離を3CI以上としたことを特
徴とするZnSeの結晶成長方法が提供される。
Means for Solving 3 Problems] According to the present invention, a temperature difference is formed above and below a solvent, a source crystal is placed in a high temperature part of the solvent, and crystal growth is performed at a constant temperature in a low temperature part of the solvent. In the crystal growth method using the method, ingot-shaped Zn used as a source crystal
A method for growing ZnSe crystals is provided, which is characterized in that a Se polycrystal is fixed above a solvent, and the distance between the sos crystal and the surface on which the crystal is deposited is 3 CI or more.

「作 用」 ソース結晶の位置を固定することにより、ソース結晶は
常に一定温度の位1に保持される4ソース結晶付近の温
度が一定なので、飽和溶解度が一定となる。そのため、
結晶析出部への溶質の拡散量は一定となり、安定した結
晶成長が可能となる。
"Function" By fixing the position of the source crystal, the source crystal is always kept at a constant temperature of 1.4 Since the temperature near the source crystal is constant, the saturated solubility becomes constant. Therefore,
The amount of solute diffused into the crystal precipitation area becomes constant, allowing stable crystal growth.

ソース結晶の固定する位置を結晶を析出させる面(例え
ば、ヒートシンク上面のカーボン面)がら31以上離す
ことにより、溶媒中の温度勾配が一定の領域にソース結
晶を配置することができる。
By setting the position where the source crystal is fixed at a distance of 3 degrees or more from the surface on which the crystal is deposited (for example, the carbon surface on the top surface of the heat sink), the source crystal can be placed in a region where the temperature gradient in the solvent is constant.

そのため、結晶の成長は溶媒中の温度勾配による拡散律
速となり、安定かつ再現性のよい定常的な結晶成長が可
能となる。
Therefore, crystal growth is diffusion controlled by the temperature gradient in the solvent, and stable and steady crystal growth with good reproducibility is possible.

;実施例] 第1図に本発明の実施例による、ZnSeの結晶成長を
行う半導体結晶成長装置を示す。
Example] FIG. 1 shows a semiconductor crystal growth apparatus for growing ZnSe crystals according to an example of the present invention.

石英製の結晶成長用アンプル1の底部に、カーボン等の
熱伝導率のよい材料で作製したヒートシンク6を収納し
、ヒートシンク6の一部に刻みを入れ、成長用アンプル
1をそれに応じて変形させることによってヒートシンク
6を固定している。
A heat sink 6 made of a material with good thermal conductivity such as carbon is stored in the bottom of a crystal growth ampoule 1 made of quartz, a part of the heat sink 6 is notched, and the growth ampoule 1 is deformed accordingly. This fixes the heat sink 6.

ヒートシンク6の上面7(結晶を析出させる面)は平坦
かつ鏡面に処理しである。ヒートシンク6は、たとえば
直径8〜201iで長さ5〜2001m1Mの円柱状の
高純度カーボンからなる0石英アンプル1は、下側の小
口径の異径管11と、上側の大口径の異径管12とを接
続したものである。
The upper surface 7 of the heat sink 6 (the surface on which crystals are deposited) is treated to be flat and mirror-finished. The heat sink 6 is made of cylindrical high-purity carbon with a diameter of 8 to 201 m and a length of 5 to 2001 m, for example. The quartz ampoule 1 includes a lower small diameter tube 11 and an upper large diameter tube. 12 are connected.

鏡面研磨されたヒートシンク上面7の上には、溶媒2と
して■族元素のSeあるいは5e−Teを収容する。成
長原料となるソース結晶3として、石英アンプル1内に
インゴット状のZnSe多結晶を入れる。このZnSe
多結晶の径は一石英アンプル1の下部の小口径部11の
内径より大きく、かつ大口径部12の内径より小さくす
る。このためソース結晶3は、小口径部11と大口径部
12との接続部分の段差4により保持される。成長アン
プル1内に、溶媒2およびソース結晶3を収容した後、
アンプル1内は2 X 10 ’Torrよりも高い真
空度で真空に排気され、封止される。
On the mirror-polished upper surface 7 of the heat sink, Se or 5e-Te, which is a group Ⅰ element, is accommodated as the solvent 2. An ingot-shaped ZnSe polycrystal is placed in a quartz ampoule 1 as a source crystal 3 serving as a growth raw material. This ZnSe
The diameter of the polycrystal is larger than the inner diameter of the small diameter part 11 at the bottom of the monoquartz ampule 1 and smaller than the inner diameter of the large diameter part 12. Therefore, the source crystal 3 is held by the step 4 at the connecting portion between the small diameter portion 11 and the large diameter portion 12. After accommodating the solvent 2 and the source crystal 3 in the growth ampoule 1,
The inside of the ampoule 1 is evacuated to a vacuum level higher than 2×10' Torr and sealed.

このような構成からなるアングル1をあらかじめソース
結晶温度Tsおよび結晶成長開始部温度Tgの温度勾配
が形成された炉に配置する0回申右側は、アンプル1が
配置される温度勾配を示す。
When the angle 1 having such a configuration is placed in a furnace in which a temperature gradient of the source crystal temperature Ts and the crystal growth start temperature Tg is formed in advance, the right side shows the temperature gradient where the ampoule 1 is placed.

このような温度勾配中にアンプル1を配置することによ
り、高温部分にあるソース結晶3を溶媒2中に溶解させ
、温度勾配中を拡散で輸送させて、ヒートシンク6の上
面7上に析出させる。
By placing the ampoule 1 in such a temperature gradient, the source crystal 3 in the high temperature portion is dissolved in the solvent 2, transported through the temperature gradient by diffusion, and deposited on the upper surface 7 of the heat sink 6.

第3図は、ソース結晶3の保持位置と結晶成長開始部(
カーボン面7)との間の距離dと成長速度Vとの間の関
係を示す、このグラフは、溶媒2としてSe:Te=3
0+70のS e −T eを用い、成長温度Tg=9
50℃、ソース結晶と成長開始部との間の温度差ΔT=
10℃/C履としたときのグラフである。
Figure 3 shows the holding position of the source crystal 3 and the crystal growth starting point (
This graph shows the relationship between the distance d from the carbon surface 7) and the growth rate V, with Se:Te=3 as the solvent 2.
Using S e - T e of 0+70, growth temperature Tg = 9
50°C, temperature difference ΔT between the source crystal and the growth start point =
This is a graph when shoes are worn at 10°C/C.

溶AI2中の温度勾配は、カーボンヒートシンク6によ
り、結晶析出部(上面7)近傍で急談となる。また、結
晶析出部から離れるにしたがい一定の温度勾配になる。
Due to the carbon heat sink 6, the temperature gradient in the molten AI2 becomes abrupt near the crystal precipitation area (upper surface 7). Further, the temperature gradient becomes constant as the distance from the crystal precipitation area increases.

従って4第3図に示すように距離dの値が小さいと成長
速度Vが速くなる。また、距Mdの値が大きくなると、
成長速度Vかある程度一定値となる。距Mdの値か小さ
く成長速度■か速いと、析出する結晶は多結晶化してし
まう、653cm以上では多結晶化は起こらず、はぼ一
定の成長速度で結晶が成長し、バルク状の結晶が得られ
た。
Therefore, as shown in FIG. 4, when the value of distance d is small, the growth rate V becomes faster. Also, as the value of distance Md increases,
The growth rate V becomes a constant value to some extent. If the distance Md is small and the growth rate is fast, the precipitated crystals will become polycrystalline. If the distance is 653 cm or more, polycrystalization will not occur, and the crystals will grow at a constant growth rate, resulting in bulk crystals. Obtained.

第2図は5発明の他の実施例による、ZnSeの結晶成
長を行う半導体結晶成長装!を示す。
FIG. 2 shows a semiconductor crystal growth apparatus for growing ZnSe crystals according to another embodiment of the invention! shows.

この実施例では、石英製の結晶成長用アンプル1の構成
が第1図のものと興なる。この石英アングル1の形状は
ストレート管である。ヒートシンク6の構成およびその
固定方法は、第1図の実施例と同様である。溶媒2およ
びソース結晶3も第1図の実施例と同機である8石英ア
ングル1の形状かストレート管であるので、そのままで
はソース結晶を支持する機構かない、そこで、ソース結
晶3を止める部材として石英製リング5をアンプル1の
内壁に溶着している。ソース結晶3であるZnSe多結
晶の径は、ソース結晶止めである石英リング5の内径よ
り大きく、アングル1の内径より小さくする。このよう
にして、ソース結晶3を保持する。ソース結晶3を収容
した後、その上に重り13を配置する。この重り13も
リンク状の石英材で構成できる0重り13は省略しても
よい。
In this embodiment, the structure of the crystal growth ampoule 1 made of quartz is similar to that in FIG. The shape of this quartz angle 1 is a straight tube. The structure of the heat sink 6 and its fixing method are the same as in the embodiment shown in FIG. Since the solvent 2 and the source crystal 3 are also straight tubes or have an 8-quartz angle 1 shape, which is the same as the embodiment shown in FIG. A manufactured ring 5 is welded to the inner wall of the ampoule 1. The diameter of the ZnSe polycrystal, which is the source crystal 3, is larger than the inner diameter of the quartz ring 5, which is the source crystal stopper, and smaller than the inner diameter of the angle 1. In this way, the source crystal 3 is held. After housing the source crystal 3, a weight 13 is placed on top of it. The zero weight 13, which can also be made of a link-shaped quartz material, may be omitted.

第1図の実施例と同機に、成長アングル1内に、溶媒2
およびソース結晶3を収容した後、アングルl内はXπ
に排気され、封止される。
In the same machine as the embodiment shown in FIG. 1, within the growth angle 1, the solvent 2
and after accommodating source crystal 3, inside angle l is Xπ
It is evacuated and sealed.

このような構成からなるアンプル1を、第1図中右側に
示すような、温度勾配中に配置することにより、高温部
分にあるソース結晶3を溶媒2中に溶解させ、温度勾配
中を輸送させて、ヒートシンク6の上面7上に析出させ
る。
By placing the ampoule 1 having such a configuration in a temperature gradient as shown on the right side of FIG. 1, the source crystal 3 in the high temperature part is dissolved in the solvent 2 and transported through the temperature gradient. Then, it is deposited on the upper surface 7 of the heat sink 6.

この実施例においても、ソース結晶3は結晶を析出させ
るヒートシンク6の上面7までの距Mdか3ci以上に
なるような位置に保持されている。
In this embodiment as well, the source crystal 3 is held at a position such that the distance Md to the upper surface 7 of the heat sink 6 on which the crystal is deposited is 3 ci or more.

そのため、多結晶化は起こらず、はぼ一定の成長速度で
結晶か成長し−バルク状の単結晶か得られる。
Therefore, polycrystallization does not occur, and the crystal grows at an almost constant growth rate - a bulk single crystal is obtained.

″L発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、ソース結晶の位
置を固定し、その位置を結晶を析出させる面から3CI
以上離すようにしているので、溶質の拡散か溶媒中の一
定温度勾配領域による拡散律速となり、安定かつ再現性
の良い定常的な結晶成長が可能となる。
``Effects of the L Invention'' As explained above, according to the present invention, the position of the source crystal is fixed, and the position is separated by 3 CIs from the surface on which the crystal is deposited.
Since the separation is above, the rate of diffusion of the solute is determined by the constant temperature gradient region in the solvent, and stable and steady crystal growth with good reproducibility is possible.

また、成長開始時から終了時までの間は、はぼ一定状態
で結晶成長か進行するので、均質性に優れたバルク状の
単結晶の成長が可能である。
Furthermore, since crystal growth progresses in an almost constant state from the start to the end of growth, it is possible to grow a bulk single crystal with excellent homogeneity.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の実施例によるZnSeの結晶成長を
行う結晶成長装置を説明する断面図お上び温度分布図、 第2図は、本発明の他の実施例によるZnSeの結晶成
長を行う結晶成長装置を説明する断面図、第3図は、ソ
ース結晶の位置と結晶成長装置部との間の距離dと成長
速度Vとの関係を示すグラフ、 第4図は、従来技術による半導体結晶の成長を行う液相
成長装置を説明する断面図および温度分布図である。 結晶成長用アンプル Seあるいは5e−Te溶媒 ソース結晶 段差 石英製リング ヒートシンク 結晶析出面 小口径部 大口径部 第1図
FIG. 1 is a cross-sectional view and temperature distribution diagram illustrating a crystal growth apparatus for growing ZnSe crystals according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating a crystal growth apparatus for growing ZnSe crystals according to another embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a crystal growth apparatus used for this purpose. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the distance d between the source crystal position and the crystal growth apparatus section and the growth rate V. FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view and a temperature distribution diagram illustrating a liquid phase growth apparatus for growing crystals. Ampoule for crystal growth Se or 5e-Te solvent source crystal step quartz ring heat sink crystal precipitation surface small diameter section large diameter section Fig. 1

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)、溶媒の上下に温度差を形成し、溶媒の高温部に
ソース結晶を配置し溶媒の低温部において一定温度で結
晶成長を行う温度差法を用いた結晶成長方法において、 ソース結晶として用いるインゴット状のZnSe多結晶
を溶媒上部に固定し、該ソース結晶と結晶を析出させる
面との間の距離を3cm以上としたことを特徴とするZ
nSeの結晶成長方法。
(1) In a crystal growth method using a temperature difference method in which a temperature difference is formed above and below the solvent, the source crystal is placed in the high temperature part of the solvent, and the crystal is grown at a constant temperature in the low temperature part of the solvent, as the source crystal. ZnSe is characterized in that the ingot-shaped ZnSe polycrystal used is fixed on the upper part of the solvent, and the distance between the source crystal and the surface on which the crystal is deposited is 3 cm or more.
A method for growing nSe crystals.
(2)、溶媒の上下に温度差を形成し、溶媒の高温部に
ソース結晶を配置し温度差法を用いて溶媒の低温部にお
いて一定温度で結晶成長を行うための結晶成長装置にお
いて、 低温部に配置されたヒートシンクと、 ヒートシンクの上面から3cm以上離れた高さにZnS
eソース結晶を保持するソース結晶保持機構と を有するZnSeの結晶成長装置。
(2) In a crystal growth apparatus that forms a temperature difference above and below the solvent, places the source crystal in the high temperature part of the solvent, and performs crystal growth at a constant temperature in the low temperature part of the solvent using the temperature difference method. ZnS is placed at a height of at least 3 cm from the top surface of the heat sink.
A ZnSe crystal growth apparatus having a source crystal holding mechanism that holds an e-source crystal.
JP2131694A 1990-05-22 1990-05-22 Crystal growth method and crystal growth apparatus for ZnSe Expired - Lifetime JP2525931B2 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5499600A (en) * 1993-12-24 1996-03-19 Stanley Electric Co., Ltd. Methods for compound semiconductor crystal growth from solution

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5499600A (en) * 1993-12-24 1996-03-19 Stanley Electric Co., Ltd. Methods for compound semiconductor crystal growth from solution

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