JPH04268017A - 低熱膨張合金の製造方法 - Google Patents
低熱膨張合金の製造方法Info
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- JPH04268017A JPH04268017A JP5063491A JP5063491A JPH04268017A JP H04268017 A JPH04268017 A JP H04268017A JP 5063491 A JP5063491 A JP 5063491A JP 5063491 A JP5063491 A JP 5063491A JP H04268017 A JPH04268017 A JP H04268017A
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- recrystallization annealing
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Landscapes
- Heat Treatment Of Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は圧延面に｛１００｝面を
６０％以上集合させて、そのエッチング性を向上させた
低熱膨張合金を製造する方法に関する。
６０％以上集合させて、そのエッチング性を向上させた
低熱膨張合金を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】テレビジョンセット及びディスプレイに
使用されているシャドウマスク用の低熱膨張合金は、小
型及び中型のテレビジョンセット及びディスプレイの場
合には、アルミキルド鋼が使用され、大型テレビジョン
セット及び大型ディスプレイの場合には、インバーが使
用されている。
使用されているシャドウマスク用の低熱膨張合金は、小
型及び中型のテレビジョンセット及びディスプレイの場
合には、アルミキルド鋼が使用され、大型テレビジョン
セット及び大型ディスプレイの場合には、インバーが使
用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来の低熱膨張合金はエッチング均一性が劣るという
欠点がある。近時、テレビジョンセットの大型化及び高
精細化の要求から、シャドウマスクの孔径及びピッチを
より細かくする必要が生じてきた。この場合に、従来の
低熱膨張合金は、結晶方位がランダムであるため、この
ような微細な孔をエッチングにより穿孔しようとすると
、エッチングされ易い結晶粒とエッチングされにくい結
晶粒とが存在することになり、孔形状のばらつきが発生
する。
の従来の低熱膨張合金はエッチング均一性が劣るという
欠点がある。近時、テレビジョンセットの大型化及び高
精細化の要求から、シャドウマスクの孔径及びピッチを
より細かくする必要が生じてきた。この場合に、従来の
低熱膨張合金は、結晶方位がランダムであるため、この
ような微細な孔をエッチングにより穿孔しようとすると
、エッチングされ易い結晶粒とエッチングされにくい結
晶粒とが存在することになり、孔形状のばらつきが発生
する。
【０００４】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、エッチングの均一性が優れており、エッチ
ングにより均一径の微細な孔を容易に形成することがで
きる低熱膨張合金の製造方法を提供することを目的とす
る。
のであって、エッチングの均一性が優れており、エッチ
ングにより均一径の微細な孔を容易に形成することがで
きる低熱膨張合金の製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る低熱膨張合
金の製造方法は、Ｆｅ−Ｎｉ系又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系
合金を熱間加工した後、最終圧延での圧下率が７０％以
上になるように１又は複数回冷間圧延し、更に６００乃
至１１００℃に３０乃至６００秒加熱して再結晶焼鈍す
ることを特徴とする。
金の製造方法は、Ｆｅ−Ｎｉ系又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系
合金を熱間加工した後、最終圧延での圧下率が７０％以
上になるように１又は複数回冷間圧延し、更に６００乃
至１１００℃に３０乃至６００秒加熱して再結晶焼鈍す
ることを特徴とする。
【０００６】
【作用】本願発明者らは、シャドウマスク用低熱膨張合
金のエッチング均一性を高めるべく、種々実験研究を行
った結果、熱間圧延等の熱間加工により形成された表面
に｛１００｝結晶面を６０％以上集合させることにより
、その表面のエッチング均一性を向上させることができ
ることを見いだした。具体的には、インバー又はスーパ
ーインバー合金等のＦｅ−Ｎｉ系又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ
系合金に熱間鍛造及び熱間圧延等の熱間加工を施した後
、最終圧延での圧下率が７０％以上になるように、１又
は２以上のパスで冷間圧延を実施する。次いで、６００
乃至１１００℃に３０乃至６００秒間加熱することによ
り、合金に再結晶焼鈍処理を施す。これにより、合金の
表面に｛１００｝結晶面が６０％以上集合し、エッチン
グ均一性を向上させることができる。
金のエッチング均一性を高めるべく、種々実験研究を行
った結果、熱間圧延等の熱間加工により形成された表面
に｛１００｝結晶面を６０％以上集合させることにより
、その表面のエッチング均一性を向上させることができ
ることを見いだした。具体的には、インバー又はスーパ
ーインバー合金等のＦｅ−Ｎｉ系又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ
系合金に熱間鍛造及び熱間圧延等の熱間加工を施した後
、最終圧延での圧下率が７０％以上になるように、１又
は２以上のパスで冷間圧延を実施する。次いで、６００
乃至１１００℃に３０乃至６００秒間加熱することによ
り、合金に再結晶焼鈍処理を施す。これにより、合金の
表面に｛１００｝結晶面が６０％以上集合し、エッチン
グ均一性を向上させることができる。
【０００７】結晶面の集合度（％）は下記数式１により
表される。
表される。
【０００８】
【数１】
但し、Ｉは各結晶面のＸ線回折によるピーク強度である
。
。
【０００９】また、最終圧延迄の圧下率とは、複数回の
冷間圧延パスで冷間圧延を実施した場合には、最終圧延
後の板厚と冷間圧延前の板厚とから算出される冷間圧延
全体の圧下率である。
冷間圧延パスで冷間圧延を実施した場合には、最終圧延
後の板厚と冷間圧延前の板厚とから算出される冷間圧延
全体の圧下率である。
【００１０】更に、Ｆｅ−Ｎｉ系合金及びＦｅ−Ｎｉ−
Ｃｏ系合金とは、夫々Ｆｅ及びＮｉ、又はＦｅ、Ｎｉ及
びＣｏを主成分とする合金をいい、これらの主成分の外
に他の添加成分及び不可避的不純物を含有するものも含
むことは勿論である。
Ｃｏ系合金とは、夫々Ｆｅ及びＮｉ、又はＦｅ、Ｎｉ及
びＣｏを主成分とする合金をいい、これらの主成分の外
に他の添加成分及び不可避的不純物を含有するものも含
むことは勿論である。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して具体的に説明する。
参照して具体的に説明する。
【００１２】先ず、Ｆｅ−Ｎｉ系合金及びＦｅ−Ｎｉ−
Ｃｏ系合金に熱間鍛造及び熱間圧延を施し、次いで最終
圧延での圧下率で７０％以上の冷間圧延を施す。
Ｃｏ系合金に熱間鍛造及び熱間圧延を施し、次いで最終
圧延での圧下率で７０％以上の冷間圧延を施す。
【００１３】再結晶焼鈍処理により｛１００｝結晶面を
集合させるためには、Ｆｅ−Ｎｉ系又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃ
ｏ系合金を強圧延して圧延集合組織｛１１０｝を表面に
集合させた後、熱処理することにより、｛１００｝再結
晶集合組織を得ることができる。
集合させるためには、Ｆｅ−Ｎｉ系又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃ
ｏ系合金を強圧延して圧延集合組織｛１１０｝を表面に
集合させた後、熱処理することにより、｛１００｝再結
晶集合組織を得ることができる。
【００１４】圧下率が７０％より低い場合は、｛１１０
｝面の集合度が小さく、その後、熱処理を行っても｛１
００｝面を十分に集合させることができない。
｝面の集合度が小さく、その後、熱処理を行っても｛１
００｝面を十分に集合させることができない。
【００１５】次いで、合金を６００乃至１１００℃に３
０乃至６００秒間加熱して、冷間圧延後の合金に再結晶
焼鈍処理を施す。焼鈍温度が６００℃未満であると、合
金は十分に再結晶しない。また、焼鈍温度が１１００℃
を超えると、結晶粒が粗大化し、エッチング孔の形状が
不均一になる。一方、焼鈍時間が３０秒より短いと、十
分な再結晶を得ることができない。また、焼鈍時間が６
００秒を超えると、結晶粒が粗大化すると共に、長時間
の処理は製造コストを上昇させてしまう。
０乃至６００秒間加熱して、冷間圧延後の合金に再結晶
焼鈍処理を施す。焼鈍温度が６００℃未満であると、合
金は十分に再結晶しない。また、焼鈍温度が１１００℃
を超えると、結晶粒が粗大化し、エッチング孔の形状が
不均一になる。一方、焼鈍時間が３０秒より短いと、十
分な再結晶を得ることができない。また、焼鈍時間が６
００秒を超えると、結晶粒が粗大化すると共に、長時間
の処理は製造コストを上昇させてしまう。
【００１６】図１は横軸に温度（℃）をとり、縦軸に再
結晶の度合いをとって、両者の県警を示すグラフ図であ
る。但し、再結晶の度合いとは、圧延面での｛１００｝
面のＸ線回折におけるピーク強度を｛１１０｝面のＸ線
回折におけるピーク強度で除したものであり、圧延面で
再結晶がどの程度進行しているかを示す指標になる。ま
た、図中３曲線は最終圧下率が夫々９８％、８４％及び
７５％の場合のデータである。なお、再結晶焼鈍時間は
３００秒に固定した。この図１に示すように、再結晶焼
鈍温度が６００℃未満であると、十分に再結晶せず、｛
１００｝面の集合が不足する。また、再結晶焼鈍温度が
１１００℃を超えると、集合度の向上効果が鈍化し、熱
処理に要するエネルギが無駄になる。
結晶の度合いをとって、両者の県警を示すグラフ図であ
る。但し、再結晶の度合いとは、圧延面での｛１００｝
面のＸ線回折におけるピーク強度を｛１１０｝面のＸ線
回折におけるピーク強度で除したものであり、圧延面で
再結晶がどの程度進行しているかを示す指標になる。ま
た、図中３曲線は最終圧下率が夫々９８％、８４％及び
７５％の場合のデータである。なお、再結晶焼鈍時間は
３００秒に固定した。この図１に示すように、再結晶焼
鈍温度が６００℃未満であると、十分に再結晶せず、｛
１００｝面の集合が不足する。また、再結晶焼鈍温度が
１１００℃を超えると、集合度の向上効果が鈍化し、熱
処理に要するエネルギが無駄になる。
【００１７】また、図２は横軸に再結晶焼鈍時間をとり
、縦軸に再結晶の度合いをとって、両者の関係を示すグ
ラフ図である。なお、図中３曲線は同様に最終圧下率を
異ならせた場合のデータである。また、再結晶焼鈍温度
は９００℃に固定した。この図２に示すように、再結晶
焼鈍時間が３０秒未満であると、再結晶が不十分である
。 また、この再結晶焼鈍時間が６００秒を超えると、再結
晶の集合度の向上効果が鈍化する。
、縦軸に再結晶の度合いをとって、両者の関係を示すグ
ラフ図である。なお、図中３曲線は同様に最終圧下率を
異ならせた場合のデータである。また、再結晶焼鈍温度
は９００℃に固定した。この図２に示すように、再結晶
焼鈍時間が３０秒未満であると、再結晶が不十分である
。 また、この再結晶焼鈍時間が６００秒を超えると、再結
晶の集合度の向上効果が鈍化する。
【００１８】一方、図３は横軸に再結晶焼鈍温度をとり
、縦軸に再結晶粒の面積をとって、３種の最終圧下率に
ついて両者の関係を示すグラフ図である。この図から明
らかなように、再結晶焼鈍温度が１１００℃を超えると
、再結晶粒が粗大化するため好ましくない。また、最終
圧下率が小さい方（７５％）が、最終圧下率が大きい場
合（９８％）よりも、再結晶粒が大きくなることがわか
る。
、縦軸に再結晶粒の面積をとって、３種の最終圧下率に
ついて両者の関係を示すグラフ図である。この図から明
らかなように、再結晶焼鈍温度が１１００℃を超えると
、再結晶粒が粗大化するため好ましくない。また、最終
圧下率が小さい方（７５％）が、最終圧下率が大きい場
合（９８％）よりも、再結晶粒が大きくなることがわか
る。
【００１９】図４は横軸に再結晶焼鈍時間をとり、縦軸
に再結晶粒の面積をとって両者の関係を示すグラフ図で
ある。この図から明らかなように、再結晶焼鈍時間が６
００秒を超えると、再結晶粒の面積が粗大化する。また
、最終圧下率が大きい方が再結晶粒が小さく、好ましい
。
に再結晶粒の面積をとって両者の関係を示すグラフ図で
ある。この図から明らかなように、再結晶焼鈍時間が６
００秒を超えると、再結晶粒の面積が粗大化する。また
、最終圧下率が大きい方が再結晶粒が小さく、好ましい
。
【００２０】次に、供試材として下記表１に示す２種類
の合金を用意し、その製造条件を種々変更してその特性
を調査した結果について説明する。製造条件は下記表２
に示すとおりである。この場合に、合金はインゴットの
状態で厚さが４００ｍｍであった。そして、この合金イ
ンゴットを１２００℃の熱間鍛造で１００ｍｍに鍛造し
、１０００℃の熱間圧延で２０ｍｍに圧延した。次いで
、冷間圧延工程と、連続焼鈍（再結晶焼鈍）の熱処理工
程とを交互に繰り返し、所定の最終冷間加工率で０．２
５ｍｍの薄板を得た。この薄板に対し、所定の焼鈍処理
を実施した。その結果得られた製品について、｛１００
｝面の集合度（％）、ＥＦ（エッチングファクター）及
びエッチング深さ方向のエッチング速度（μｍ／秒）の
各特性を測定し、そのデータを合わせて表２に示した。
の合金を用意し、その製造条件を種々変更してその特性
を調査した結果について説明する。製造条件は下記表２
に示すとおりである。この場合に、合金はインゴットの
状態で厚さが４００ｍｍであった。そして、この合金イ
ンゴットを１２００℃の熱間鍛造で１００ｍｍに鍛造し
、１０００℃の熱間圧延で２０ｍｍに圧延した。次いで
、冷間圧延工程と、連続焼鈍（再結晶焼鈍）の熱処理工
程とを交互に繰り返し、所定の最終冷間加工率で０．２
５ｍｍの薄板を得た。この薄板に対し、所定の焼鈍処理
を実施した。その結果得られた製品について、｛１００
｝面の集合度（％）、ＥＦ（エッチングファクター）及
びエッチング深さ方向のエッチング速度（μｍ／秒）の
各特性を測定し、そのデータを合わせて表２に示した。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【表２】
但し、供試材欄において、ＦＮは表１のＦｅ−Ｎｉ系合
金を示し、ＦＮＣはＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金を示す。ま
た、エッチングファクターＥＦは図５に示すように、レ
ジストパターンの孔径をｂとし、このレジストパターン
を使用してエッチングした場合の材料中の穴径をａ、穴
の深さをｈとしたとき、ＥＦは下記数式２にて表される
。
金を示し、ＦＮＣはＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金を示す。ま
た、エッチングファクターＥＦは図５に示すように、レ
ジストパターンの孔径をｂとし、このレジストパターン
を使用してエッチングした場合の材料中の穴径をａ、穴
の深さをｈとしたとき、ＥＦは下記数式２にて表される
。
【００２３】
【数２】ＥＦ＝ｈ／｛（ａ−ｂ）／２｝但し、表２のＥ
Ｆ欄はｂが０．１ｍｍのレジストパターンを設け、ａ＝
０．１５ｍｍになったときのｈから、ＥＦ＝４０ｈの式
に基づいて算出した。
Ｆ欄はｂが０．１ｍｍのレジストパターンを設け、ａ＝
０．１５ｍｍになったときのｈから、ＥＦ＝４０ｈの式
に基づいて算出した。
【００２４】この表２から本発明の実施例の場合には、
孔形状のばらつきも無く、またエッチング速度は０．２
７μｍ／秒以上と速く、エッチングファクターＥＦも２
．７８以上と十分に高いものであった。しかし、比較例
７は最終冷間圧延加工率が５５．２％と小さいため、ま
た比較例８は再結晶焼鈍温度が５１０℃と低いため、更
に比較例９，１０は再結晶焼鈍温度が１２８０℃、焼鈍
時間が８００秒と本発明の範囲から外れているため、い
ずれも孔形状のばらつきが存在し、ＥＦが低く、エッチ
ング速度が遅いものであった。
孔形状のばらつきも無く、またエッチング速度は０．２
７μｍ／秒以上と速く、エッチングファクターＥＦも２
．７８以上と十分に高いものであった。しかし、比較例
７は最終冷間圧延加工率が５５．２％と小さいため、ま
た比較例８は再結晶焼鈍温度が５１０℃と低いため、更
に比較例９，１０は再結晶焼鈍温度が１２８０℃、焼鈍
時間が８００秒と本発明の範囲から外れているため、い
ずれも孔形状のばらつきが存在し、ＥＦが低く、エッチ
ング速度が遅いものであった。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
最終圧延迄の圧下率が７０％以上になるように冷間圧延
を実施し、その後所定の条件で再結晶焼鈍の熱処理を施
すから、圧延面における｛１００｝結晶面の集合度を６
０％以上にして、エッチング均一性を高めることができ
る。 このため、本発明は、シャドウマスクの孔及びそのピッ
チの微細化に寄与し、その高精細化に貢献することがで
きる。
最終圧延迄の圧下率が７０％以上になるように冷間圧延
を実施し、その後所定の条件で再結晶焼鈍の熱処理を施
すから、圧延面における｛１００｝結晶面の集合度を６
０％以上にして、エッチング均一性を高めることができ
る。 このため、本発明は、シャドウマスクの孔及びそのピッ
チの微細化に寄与し、その高精細化に貢献することがで
きる。
【図１】再結晶の度合いと焼鈍温度との関係を示すグラ
フ図である。
フ図である。
【図２】再結晶の度合いと焼鈍時間との関係を示すグラ
フ図である。
フ図である。
【図３】再結晶粒の面積と再結晶温度との関係を示すグ
ラフ図である。
ラフ図である。
【図４】再結晶粒の面積と焼鈍時間との関係を示すグラ
フ図である。
フ図である。
【図５】エッチングファクターの算出方法を説明する図
である。
である。
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｆｅ−Ｎｉ系又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系
合金を熱間加工した後、最終圧延での圧下率が７０％以
上になるように１又は複数回冷間圧延し、更に６００乃
至１１００℃に３０乃至６００秒加熱して再結晶焼鈍す
ることを特徴とする低熱膨張合金の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5063491A JPH04268017A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 低熱膨張合金の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5063491A JPH04268017A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 低熱膨張合金の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04268017A true JPH04268017A (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=12864397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5063491A Pending JPH04268017A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 低熱膨張合金の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04268017A (ja) |
-
1991
- 1991-02-22 JP JP5063491A patent/JPH04268017A/ja active Pending
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