JPH04268086A - 金属表面の腐食を抑制する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は水系に接触している金属
表面の腐食を抑制する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】米国特許明細第４０４６７０７号におい
て水系からカルシウム、マグネシウム、バリウムおよび
ストロンチウムのスケール形成塩の沈積の抑制の方法が
示されている。この方法は水系に、次式：

【化２】 〔式中Ｒ”は水素原子、メチル基またはエチル基を表し
；Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基
、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、次式：

【化３】 （式中、Ｒ”は上記の意味を持ち、およびｍとｎの合計
は最大１００の整数を表す。）で表される残基を表すか
、またはＲはＸが水素原子または炭素原子数１ないし４
のアルキル基を表す−ＯＸ残基を表し；およびＲ１　は
Ｘが前記の意味を持つ−ＯＸ残基を表す。〕で表される
テロマー系化合物およびその塩を含有する生成物の少量
を加えることを包含している。

【０００３】米国特許明細第４０４６７０７号において
は中に示されているテロマー類のいずれかにいくつか内
在の腐食−抑制性もつ可能性があるという提案はなされ
ていない。実際、示されているテロマーの多くは全く示
さないかまたは最小の腐食−抑制性を示す。

【０００４】米国特許明細第４２３９６４８号ではａ）
米国特許第４０４６７０７号の方法で使用されるテロマ
ー化合物およびｂ）ｉ）亜鉛塩、ｉｉ）ポリリン酸塩、
ｉｉｉ）ケイ酸塩および／またはｉｖ）モリブデン酸塩
から選択された１つまたはそれ以上の化合物からなる、
水系との接触における鉄金属の腐食の抑制に有効な、組
成物が明示されている。

【０００５】米国特許明細第４２３９４６８号における
組成物の中で使用するのに好ましいテロマー類は次式：

【化４】 （式中、Ｒ’’、Ｘおよびｍは前出の意味を持つ。）で
表されるこれらである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】これら好ましいテロマ
ーは通気溶液容器試験（Ａｅｒａｔｅｄ　Ｓｏｌｕｔｉ
ｏｎ　Ｂａｔｔｌｅ　Ｔｅｓｔ）における１００ｐｐｍ
の段階で単独使用されるとき、多くとも、４３％だけの
腐食抑制の程度割合を与えるにすぎない。これらの好ま
しいテロマーが亜鉛塩、ポリリン酸塩、ケイ酸塩または
モリブデン酸塩助剤と共に使用される場合のみそれから
得られた配合物は８０％またはそれ以上の十分な腐食抑
制程度を与える。

【０００７】

【課題を解決するための手段】今や驚いたことには、米
国特許第４２３９４６８号の中の好ましいこれらとは別
の、米国特許第４０４６７０７号で示されているテロマ
ー類の広い範囲からあるテロマーを選ぶことにより、選
択されたテロマーがそれらの腐食抑制効果を上げるため
の助剤を必要とせずに、本来の高い腐食抑制性を持つこ
とを見出した。

【０００８】従って、本発明は金属表面に、式Ｉ：

【化
５】 （式中、Ｍは水素原子またはアルカリまたはアルカリ土
類金属イオン、アンモニウムイオンまたは第四級アミン
基を表し；およびｎは１ないし６０、好ましくは４ない
し３０の範囲の平均整数を表す。）で表されるテロマー
化合物を接触させることによって、水系に接触している
金属表面の腐食を抑制する方法を提供する。

【０００９】アルカリ金属カチオンＭは、基本的にはリ
チウム、ナトリウムおよびカリウムイオンであり；アル
カリ土類金属原子は例えばカルシウム、マグネシウム、
バリウムまたはストロンチウムであり；アンモニウムイ
オンは例えばトリメチルアンモニウム、トリエチルアン
モニウム、ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム
、トリス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムおよび
ビス（２−ヒドロキルエチル）−２−（ヒドロキシ−３
−ｐ−ノニルフェノキシプロピル）アンモニウムイオン
を包含する。； そして第四級アミン基は次式：

【化６】 （式中、Ｒａ　、Ｒｂ　、Ｒｃ　およびＲｄ　は同一か
または異なり、おのおのは炭素原子数１ないし６のアル
キル基、特にメチル基またはエチル基を表すか、または
おのおのは２−ヒドロキシエチル基を表すか；またはＲ
ａ　、Ｒｂ　、Ｒｃ　およびＲｄ　の一つがベンジル基
を表し、そしてＲａ　、Ｒｂ　、Ｒｃ　およびＲｄ　の
他の三つは炭素原子数１ないし６のアルキル基、特にメ
チル基またはエチル基を表し；そして

【化７】 はハロゲン化イオン、特に塩素イオンまたは臭素イオン
を表し、あるいは水酸イオンまたは硫酸イオンを表す。 ）を含む第四級アミン基を表す。

【００１０】式Ｉで表される化合物は公知の化合物であ
り、米国特許第２９５７９３１号において、むろん米国
特許第４６４６７０７号においても大まかに述べられて
いる。

【００１１】式Ｉで表される化合物は所望するｎの値に
よる、アクリル酸、またはそれらの炭素原子数１ないし
６のアルキルエステルの適当なモル比を、ジ（炭素原子
数１ないし４のアルキル）ホスフィットまたはジアリー
ルホスフィット、特にジエチルホスフィットの１モルと
反応させることによって製造することができる。

【００１２】この反応はビスアゾイソブチロニトリルの
ような重合開始剤；過酸化ベンゾイル、メチルエチルケ
トンペルオキシド、ジ−第三ブチルペルオキシドおよび
モノ−ブチルヒドロペルオキシドのような有機過酸化物
；または過酸化水素、過ホウ酸ナトリウム、過硫酸ナト
リウムのような酸化剤の存在下で都合良く行うことがで
きる。

【００１３】ジエチルホスフィットとアクリル系モノマ
ー間の反応の完了時に、所望するならば、都合のよい方
法で粗製反応混合物を精製できる。例えば過剰のジエチ
ルホスフィット反応物は反応混合物の蒸留によって取り
除くことができる。さらに、式Ｉで表される化合物中ア
クリル部分のどんなエステル基も例えば酸加水分解によ
ってカルボキシル基に変換してもよい。この酸加水分解
の後、加水分解物を式Ｉの固体材料を調製するため、乾
燥するまで蒸発することができる。

【００１４】式中、酸性水素原子Ｍの幾つかまたは全て
がアルカリ金属−アンモニウムまたは第四級アミンカチ
オンによって置換されている式Ｉで表される化合物の塩
は必要な塩基を含む水性またはアルコール性の溶液をそ
の量が酸性水素の総置換のための化学量的要求量以上、
当量、あるいは以下の量において、混合することによっ
て調製できる。塩基のための溶媒は例えば蒸発のような
方法で除去できる。

【００１５】本発明の方法によって処理される水系の多
くは十分塩基性であるから、水系それ自身は中和するの
に十分であり、そのため式Ｉで表される化合物の酸性型
を加えるとき、それはその場でアルカリ金属型に変換す
る。

【００１６】本発明による方法で使用される式Ｉで表さ
れる化合物、およびその塩の量は、例えば水系の重量に
対し０．１ないし５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１な
いし５００ｐｐｍの範囲をとることができる。

【００１７】本発明の方法による処理される水系は総合
的なまたは部分的な水媒体であってよい。

【００１８】本発明に関わる処理を効果的に行える水系
は例えば、冷却水系、蒸気発生系、海水蒸発器、逆浸透
装置、ビン洗浄装置、製紙装置、砂糖蒸発装置、土壌灌
漑系、水圧調理装置、ガス洗浄系、閉鎖循環加熱系、水
ベースの冷凍系、深井戸水系、水性機械加工液体製剤（
例えば穿孔、磨砕、リーマー通し、ブローチ削り、延伸
、旋削、切削、ソーイング（ｓａｗｉｎｇ）　、粉砕お
よびネジきり操作における、または非切削成型、スピン
ニング（ｓｐｉｎｎｉｎｇ）、延伸もしくは圧延操作に
おける使用のための）　、水性精錬系、水性グリコール
凍結防止系、水／グリコール水硬性液体；および水ベー
スのポリマー表面コーティング系を包含する。

【００１９】本発明の方法において式Ｉで表される化合
物は、水処理において単独でまたは有益な公知の他の材
料と一緒に使用できる。

【００２０】例えば冷却水系、蒸気発生系、海水蒸発器
系、水圧調理装置および閉鎖循環加熱系等の完全に水性
である系の処理においては、例えば他の水処理添加剤と
して１またはそれ以上の腐食抑制剤；金属不活性剤；他
のスケール抑制剤／分散剤；限界剤；沈澱剤；酸素捕捉
剤；金属イオン封鎖剤；消泡剤および殺生物剤を含有す
る。

【００２１】使用され得る腐食抑制剤は水溶性亜鉛塩類
；リン酸塩類；ポリリン酸塩類；ホスホン酸類またはそ
れらの塩類、例えばヒドロキシエチルジホスホン酸（Ｈ
ＥＤＰ）、ニトリロトリスメチレンホスホン酸、メチル
アミノジメチレンホスホノカルボン酸類（例えば、独国
特許ＤＥ−ＯＳ２６３２７７４号に示されているそれら
の物質。）、ヒドロキシホスホノ酢酸、２−ホスホノブ
タン−１，２，４−トリカルボン酸および英国特許ＧＢ
−ＰＳ１５７２４０６号に示されているそれらの物質；
硝酸塩類、例えば硝酸ナトリウム；亜硝酸塩類、例えば
亜硝酸ナトリウム；タングステン酸塩類およびモリブデ
ン酸塩類、例えばタングステン酸またはモリブデン酸ナ
トリウム；ケイ酸類、例えばケイ酸ナトリウム；Ｎ−ア
シルサルコシン類；Ｎ−アシルイミノ二酢酸類；エタノ
ールアミン類；脂肪族アミン類；およびポリカルボン酸
類、例えばポリマレイン酸およびポリアクリル酸（およ
びそれらのそれぞれのアルカリ金属塩）、例えばスルホ
ン化スチレンとの無水マレイン酸コポリマー類、例えば
ヒドロキシアルキル化アクリル酸とのアクリル酸のコポ
リマー類およびポリマレイン酸およびポリアクリル酸の
置換された誘導体類ならびにそれらのコポリマー類を含
有する。

【００２２】金属不活性剤、特に銅に対するものとして
はベンゾトリアゾール、ビス−ベンゾトリアゾールまた
は銅不活性化のベンゾトリアゾールまたはトルトリアゾ
ール誘導体類、またはそれらのマンニッヒ塩基誘導体類
、あるいはメルカプトベンゾトリアゾールが含まれる。

【００２３】スケール抑制／分散剤は重合化したアクリ
ル酸（またはその塩類）、ホスフィノ−ポリカルボン酸
類（例えば英国特許ＰＳ１４５８２３５号に記載されて
いるそれらの物質）、ヨーロッパ特許ＰＳ０１５０８０
６号に示されているコテロマー類、加水分解されたポリ
アクリロニトリル、重合化したメタクリル酸およびその
塩類、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミドとアク
リルおよびメタクリル酸類のコポリマー類、リグニンス
ルホン酸およびその塩類、タンニンナフタレンスルホン
酸／ホルムアルデヒド縮合生成物、デンプンおよびその
誘導体類、セルロース、アクリル酸／低級アルキルヒド
ロキシ−アクリレートコポリマー類（例えば米国特許Ｐ
Ｓ−４０２９５７７号に記載されているそれらの物質）
、スチレン／無水マレイン酸コポリマー類およびスルホ
ン化スチレンホモポリマー類（例えば米国特許ＰＳ−４
３７４７３３号に記載されているそれらの物質）、およ
びこれらの組み合せを含有している。

【００２４】特記すべき限界剤は２−ホスホノブタン−
１，２，４−トリ−カルボン酸、ＨＥＤＰ、加水分解さ
れたポリマレイン酸無水物およびその塩類、アルキルホ
スホン酸類、ヒドロキシホスホノ酢酸、１−アミノ−ア
ルキル−１，１−ジホスホン酸類およびその塩類、およ
びアルカリ金属ポリリン酸類を含んでいる。

【００２５】ホスホノカルボン酸類のようなある添加剤
化合物はスケール抑制剤ならびに腐食抑制剤の両方とし
て働くことが上記一覧から明らかであろう。

【００２６】使用され得る沈澱剤助剤はアルカリ金属オ
ルトリン酸塩類または炭酸塩であり；酸素捕捉剤はアル
カリ金属亜硫酸塩類およびヒドラジン類を含有する；金
属イオン封鎖剤はニトリロトリ酢酸およびその塩類であ
り；消泡剤はポリジメチルシロキサン、ジステアリルセ
バカミド、ジステアリルアジパミドのようなシリコン類
およびカプリルアルコールのような脂肪族アルコールに
付加したエチレンオキシドおよび／またはプロピレンオ
キシド縮合物およびそのエチレンオキシド縮合物から誘
導された生成物である。使用され得る殺生物剤は例えば
アミン類、第四級アンモニウム化合物類、ｍ−クロロフ
ェノール類、スルホン類のような含硫黄化合物、メチレ
ンビスチオシアネート類およびカーバメート類、イソチ
アゾリン類、臭素化プロピオンアミド類、トリアジン類
、ホスホニウム化合物類、塩素および塩素放出剤、臭素
および臭素放出剤およびトリブチル錫オキシドのような
有機金属化合物である。

【００２７】本発明により処理される系が水性機械加工
液体製剤のような完全な水系でない場合、それはたとえ
ば水希釈性の切削のまたは粉砕の溶液であってよい。

【００２８】本発明の水性機械加工液体製剤はたとえば
金属加工用製剤であってよい。「金属加工」により我々
は「リーマー通し、ブローチ削り、延伸、スピンニング
（ｓｐｉｎｎｉｎｇ）　、切削、粉砕、穿孔、磨砕、旋
削、ソーイング（ｓａｗｉｎｇ）　、非切削成型または
圧延」を意味する。 式Ｉで表される腐食を抑制する化合物が取り込まれてよ
い水希釈性の切削のまたは粉砕の溶液の例は以下のもの
を含有する： ａ）１対５０ないし１対１００の希釈度で使用される、
１つないしそれ以上の腐食阻害剤、および所望により１
つまたはそれ以上の磨耗防止剤の水性原液、これは通常
粉砕溶液として使用される； ｂ）殺生物剤、腐食阻害剤および磨耗防止剤を含むポリ
グリコール、これは切削操作には１対２０ないし１対４
０の希釈で使用され、粉砕には１対６０ないし１対８０
で使用される； ｃ）ｂ）に類似した半合成切削溶液であるがさらに加え
て水希釈生成物を半透明にするための界面活性剤と１０
ないし２５％油分を含有する； ｄ）例えば乳化剤、腐食抑制剤、極圧／磨耗防止剤、殺
生物剤、消泡剤、カップリング剤等を含む乳化性の鉱物
油原液で；通常水で１対１０ないし１対５０に薄めて乳
白色の乳濁液にするもの； ｅ）ｄ）に類似ているがより少ない油分とより多い乳化
剤を含む製品、これは１対５０ないし１対１００の範囲
で希釈して、切削または粉砕操作用の半透明の乳濁液と
なる。

【００２９】亜硝酸ナトリウムおよびトリエタノールア
ミンの混合物は金属加工における腐食阻害剤として使用
されてきたが、例えばＮ−ニトロソアミンの形成の危険
性による毒性の問題のために、および幾つかの国での流
出に関する法上の規制のために、亜硝酸ナトリウムの使
用に代わる方法が模索されてきた。

【００３０】水系成分が、水性機械加工液体製剤である
部分的に水性の系に対しては、式Ｉで表される化合物は
単独で、または例えば公知の他の腐食抑制剤および／ま
たは極圧添加剤のような他の添加剤との混合物として使
用可能である。

【００３１】他の式Ｉで表される化合物に加えてこれら
の水系に使用してもよい腐食抑制剤の例は以下の群を含
有する：

【００３２】ａ）有機酸、それらのエステルまたはアン
モニウム、アミン、アルカノールアミンおよび金属塩で
あり、それらは例えば安息香酸、ｐ−第三ブチル安息香
酸、セバシン酸二ナトリウム、トリエタノールアミンラ
ウレート、イソ−ノナン酸、（ｐ−トルエンスルホンア
ミドカプロン酸）のトリエタノールアミン塩、Ｎ−ラウ
ロイルサルコシン酸ナトリウムまたはノニルフェノキシ
酢酸； ｂ）次に挙げる型の窒素含有物：アルカノールアミド脂
肪酸類；１−ヒドロキシエチル−２−オレイル−イミダ
ゾリンのようなイミダゾリン類；オキサゾリン類；トリ
アゾール類、例えばベンゾトリアゾール、トリエタノー
ルアミン；脂肪アミン類；無機物塩類、例えば硝酸ナト
リウム； ｃ）次に挙げる型のリン含有物：アミンリン酸塩類、ホ
スホン酸類または無機物塩類、例えば二水素化リン酸ナ
トリウムまたはリン酸亜鉛； ｄ）次に挙げるような含硫黄化合物：石油スルホン酸ナ
トリウム、カルシウムまたはバリウム、または複素環式
化合物、例えばメルカプトベンゾチアゾールナトリウム
類。

【００３３】窒素含有物、特にトリエタノールアミンが
好ましい。

【００３４】本発明の系に存在してよい極圧添加物の例
は、硫黄および／またはリンおよび／またはハロゲン原
子を含む物で、例えば、硫化マッコウ鯨油、硫化脂肪、
トリトリイルリン酸、塩素化パラフィンまたはエトキシ
化リン酸エステルを含有する。

【００３５】本発明による処理される水系中にトリエタ
ノールアミンが存在するときは、式Ｉで表される化合物
に対するトリエタノールアミンの比は２対１ないし１対
２０のような量で存在するのが好ましい。

【００３６】本発明の方法により処理される部分的に水
性の水系は表面−コーティング組成物例えば金属性基材
をプライマー（ｐｒｉｍｅｒ）乳濁液ペイントおよび水
性粉末塗料であってもよい。

【００３７】水性表面−コーティング組成物は例えばス
チレン−アクリル系コポリマー乳濁液ペイント、樹脂、
ラテックスまたは他の水ベースのポリマー表面−コーテ
ィング系のようなペイントであってよい。

【００３８】亜硝酸ナトリウムおよび安息香酸ナトリウ
ムは水ベースのプライマー塗装のフラッシュ（ｆｌａｓ
ｈ）　錆を抑制するために使用されてきたが、関連する
毒性の問題および使用される高いイオン濃度での乳濁液
の安定性の問題のため、工業界では亜硝酸ナトリウムお
よび安息香酸ナトリウムを使用しない方向に進んでいる
。

【００３９】本発明によって処理される水性表面ーコー
ティング組成物においては式Ｉで表される化合物は単独
で、または他の添加剤、例えば公知の腐食阻害剤、殺生
物剤、乳化剤および／または顔料の混合物として使用し
てよい。

【００４０】使用できる他の腐食阻害剤はたとえば前に
示されたａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）の部類である。

【００４１】式Ｉで表される化合物に加えてこれらの水
系で使用できる殺生物剤の例は以下に示すものを含有す
る：フェノール類およびアルキル化およびハロゲン化フ
ェノール類、例えばペンタクロロフェノール、ｏ−フェ
ニルフェノール、ｏ−フェノキシフェノールおよび塩素
化ｏ−フェノキシフェノール、およびサリシルアニリド
類、ジアミン類、トリアジン類および例えば有機水銀化
合物ならびに有機錫化合物のような有機金属化合物であ
る。

【００４２】式Ｉで表される化合物に加えてこれら水系
に使用できる顔料の例は、二酸化チタン、亜鉛黄、酸化
鉄およびフタロシアニンのような有機顔料である。

【００４３】

【実施例】下記の実施例で本発明をさらに説明する。実
施例Ａ、Ｂ、Ｃ、ＤおよびＥは本発明の方法で使用する
ための式Ｉで表される化合物の製造方法に関する。

【００４４】実施例Ａ ジエチルホスフィット１３８ｇに、アクリル酸エチル１
００ｇおよびジ−第三ブチルペルオキシド１５ｇを別々
に、１４０℃で４時間にわたって滴下して添加する。添
加の完了後、この温度を更に２時間保つ。未反応のジエ
チルホスフィットを減圧下の蒸留によって除去し、残留
物を１８％　（ｗ／ｗ）　塩酸４００ｇ中に懸濁し、混
合物を還流条件のもとで４８時間加熱する。得られた液
体は減圧下で蒸発乾固され、６８ｇの生成物が得られる
（アクリル酸ベースで理論収量の９４％）。得られた生
成物はＭｎ　＝６４４およびＭｗ　＝９４１を持ち、そ
れらの値はＭｗ　／Ｍｎ　＝１．４６を与える。生成物
の微量分析は整数の平均値ｎ＝４に相当する８．１５％
のＰの値を与える。

【００４５】実施例Ｂ 実施例Ａに述べた手順に従って、ジエチルホスフィット
５５．２ｇにアクリル酸エチル１６０ｇおよびジ−第三
ブチルペルオキシド１５ｇを別々に滴下して添加し、Ｍ
ｎ　＝６６９、Ｍｗ　＝１０１９の値を持ち、それはＭ
ｗ　／Ｍｎ　比１．５２を与える、生成物１２４ｇ（ア
クリル酸ベースで理論収量の１０８％）が得られる。生
成物の微量分析は整数の平均値ｎ＝８に相当する４．７
％のＰの値を与える。

【００４６】実施例Ｃ 実施例Ａに述べた手順に従って、ジエチルホスフィット
１５．５ｇにアクリル酸エチル８８．９ｇおよびジ−第
三ブチルペルオキシド７．３ｇを別々に滴下して添加し
、Ｍｎ　＝７３２、Ｍｗ　＝２２２４の値をもち、それ
はＭｗ　／Ｍｎ　比３．０４を与える、生成物６５ｇ（
アクリル酸ベースで理論収量の１０３％）が得られる。 生成物の微量分析は整数の平均値ｎ＝１２に相当する３
．１５％のＰの値を与える。

【００４７】実施例Ｄ 実施例Ａに述べた手順に従って、ジエチルホスフィット
１０．６ｇにアクリル酸エチル９２．３ｇおよびジ−第
三ブチルペルオキシド７．２ｇを別々に滴下して添加し
、Ｍｎ　＝７９０、Ｍｗ　＝２８３７の値をもち、それ
はＭｗ　／Ｍｎ　比３．５９を与える生成物７１ｇ（ア
クリル酸ベースで理論収量の１０７％）が得られる。生
成物の微量分析は整数の平均値ｎ＝２０に相当する２．
１％のＰの値を与える。

【００４８】実施例Ｅ 実施例Ａに述べた手順に従って、ジメチルホスフィット
５５ｇにアクリル酸メチル４３ｇおよびジ−第三ブチル
ペルオキシド７．５ｇを別々に滴下して添加し、Ｍｎ　
＝７０５、Ｍｗ　＝１１０２の値をもち、それはＭｗ　
／Ｍｎ　比１．５６を与える生成物４０ｇ（アクリル酸
ベースで理論収量の１１１％）が得られる。生成物の微
量分析は整数の平均値ｎ＝５に相当する７．１％のＰの
値を与える。

【００４９】実施例１ないし４ 実施例Ａ、Ｂ、ＣおよびＥの生成物の腐食抑制作用を以
下に示す標準腐食性水を使用した循環クーポン試験（Ｒ
ｏｔａｔｉｎｇ　Ｃｏｕｐｏｎ　Ｔｅｓｔ）　で評価す
る。以下の表中、ＰＨは永久硬度（ｐｅｒｍａｎｅｎｔ
　ｈａｒｄｎｅｓｓ）、ＰＡは永久アルカリ度（ｐｅｒ
ｍａｎｅｎｔ　ａｌｋａｌｉｎｉｔｙ）、ＴＡは一時的
アルカリ度（ｔｅｍｐｏｒａｒｙ　ａｌｋａｌｉｎｉｔ
ｙ）、そしてＴＨは総硬度（ｔｏｔａｌ　ｈａｒｄｎｅ
ｓｓ）を示す。 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　１５０Ｃａ　　　　　　　　　　　　　　３
００Ｃａ　　　　　　　　　　ＰＨ　　　　　　　　　
　　　　　　　　　８．５　　　　　　　　　　　　　
　　　　　８．３　　　　　　　　　　　　　　　　　
　ＰＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　ＴＡ　　　　　　
　　　　　　　　　　　　３５０　　　　　　　　　　
　　　　　　　　３００　　　　　　　　　　　　　　
　　　　ＴＨ　　　　　　　　　　　　　　　　　　２
２５　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５０　　
　　　　　　　　　　　　　　　　Ｃａ２＋　（ｐｐｍ
）　　　　　　　　　　１５０　　　　　　　　　　　
　　　　　　　３００　　　　　　　　　　　　　　　
　　　Ｍｇ２＋　　（ｐｐｍ）　　　　　　　　　　　
７５　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５０　　
　　　　　　　　　　　　　　　　Ｃｌ−　　　（ｐｐ
ｍ）　　　　　　　　　２００　　　　　　　　　　　
　　　　　　　２１８　　　　　　　　　　　　　　　
　　　ＳＯ４　２−　　（ｐｐｍ）　　　　　　　２０
０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３８　　
　　　　　　試験水の１つの１リットル溜め中に、２個
の予め洗浄したおよび予め秤量した軟鋼クーポンを６１
ｃｍ／秒のクーポン速度で循環させる。試験は４８時間
にわたり酸素添加された水中４０℃で、試験に対し適当
な腐食抑制剤３０ｐｐｍを使用して行われる。クーポン
を取り出し、軽石不在下で洗浄し、ヘキサミン１重量％
で抑制された塩酸に１分間浸し、そしてすすぎ、乾燥し
、再秤量する。ある量の減少は起こる。盲験すなわちい
ずれの試験腐食防止剤も不在の条件下における軟鋼クー
ポンの浸漬を各々の試験の系列ごとに行った。腐食率は
減量ｍｇ／平方デシメータ／日（ｍ．ｄ．ｄ．）で計算
される。結果を以下の表にまとめる。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　水系に接触している金属表面の腐食を
   抑制する方法であって、金属表面に次式Ｉ：【化１】 （式中、Ｍは水素原子またはアルカリまたはアルカリ土
   類金属イオン、アンモニウムイオンまたは第四級アミン
   基を表し；およびｎは１ないし６０の範囲の平均整数を
   表す。）で表されるテロマー化合物を接触させることを
   包含する方法。
2. 【請求項２】　　式中、ｎが４ないし３０の範囲の平均
   整数を表す、請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】　　使用される式Ｉで表されるテロマーま
   たはその塩の量が水系の重量に基づいて０．１ないし５
   ０，０００ｐｐｍの範囲にある請求項１または２に記載
   の方法。
4. 【請求項４】　　使用される式Ｉで表されるテロマーま
   たはその塩の量が水系の重量に基づいて１ないし５００
   ｐｐｍの範囲にある請求項３に記載の方法。
5. 【請求項５】　　水系が冷却水系、蒸気発生系、海水蒸
   発器、逆浸透装置、ビン洗浄装置、製紙装置、砂糖蒸発
   装置、土壌灌漑系、水圧調理装置、ガス洗浄系、閉鎖循
   環加熱系、水ベースの冷凍系、深井戸系（ｄｏｗｎ−ｗ
   ｅｌｌ　ｓｙｓｔｅｍ）、または水性機械加工液体製剤
   （ａｑｕａｏｕｓ　ｍａｃｈｉｎｉｎｇ　ｆｌｕｉｄ　
   ｆｏｍｕｌａｔｉｏｎ）、水性精錬系、水性グリコール
   凍結防止系、水／グリコール水硬性液体または水ベース
   のポリマー表面コーティング系である、請求項１ないし
   ４のいずれか１項に記載の方法。
6. 【請求項６】　　式Ｉで表される化合物が１種またはそ
   れ以上の他の腐食抑制剤；金属不活性剤；スケール抑制
   剤／分散剤；限界剤（ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ　ａｇｅｎｔ
   ）；沈澱剤；酸素捕捉剤；金属イオン封鎖剤；消泡剤；
   および殺生物剤と一緒に使用される請求項１ないし５の
   いずれか１項に記載の方法。
7. 【請求項７】　　水系が水性機械加工液体製剤である請
   求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。
8. 【請求項８】　　水性機械加工液体製剤が水希釈性の切
   削のまたは粉砕の溶液である請求項７に記載の方法。
9. 【請求項９】　　式Ｉで表される化合物が単独または他
   の腐食抑制剤および／または極圧添加剤の混合物として
   使用される請求項７または８に記載の方法。