JPH04268404A - 変位測定装置及び形状測定装置 - Google Patents

変位測定装置及び形状測定装置

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JPH04268404A
JPH04268404A JP2881291A JP2881291A JPH04268404A JP H04268404 A JPH04268404 A JP H04268404A JP 2881291 A JP2881291 A JP 2881291A JP 2881291 A JP2881291 A JP 2881291A JP H04268404 A JPH04268404 A JP H04268404A
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light
measured
lens
light beam
transmitting
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Kuniyuki Yoshikawa
吉川 邦幸
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Tokai Rika Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、変位測定装置にかかり
、特に、光ビームを被測定面に送光し被測定面からの反
射光を受光することにより被測定面までの距離を測定す
る変位測定装置および被測定面の形状を測定する形状測
定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、非接触にて被測定面の凸凹部
等の変位を測定する三角測量法等を用いた変位測定装置
が知られている(特公昭50−36374号公報、特願
昭56−138204号公報、特願昭57−22508
号公報、特願昭58−52508号公報等)。
【0003】かかる変位測定装置は、図6に示すように
、光源50、コリメートレンズ52および送光レンズ5
4を備えた送光光学系、受光レンズ56および位置検出
センサ58を備えた受光光学系を備えている。この変位
測定装置によれば、光源50の光がコリメートレンズ5
2により集光されて射出される。コリメートレンズ52
から射出された光ビームは送光レンズ54に照射されて
、送光レンズ54の射出光が被測定面60へ照射される
。そして、この被測定面60からの反射光は受光レンズ
56により集光されて、位置検出センサ58へ照射され
る。これにより、この位置検出センサ58上には、被測
定面60に照射された光点の像が照射される。この位置
検出センサ58は像点の位置に応じた電気信号を出力す
る。一方、上記受光光学系の光軸は送光光学系の光軸と
所定の角度θをもって取り付けられている。このため、
被測定面60が送光光学系の光軸方向に変位したときに
は、被測定面60上の光点の位置が、図6に示すように
点P1 から点P2 または点P3 へ変化することに
なり、位置検出センサ58上での像点位置は、図6に示
すように点Q1 から点Q2 または点Q3 へ移動す
る。このように、被測定面上の光点の位置は、受光光学
系の光軸と交差する方向に変化すると、位置検出センサ
58上の像点の位置は受光光学系の光軸と直交する方向
に変化する。
【0004】したがって、被測定面の基準位置からの変
位に応じて位置検出センサ58上に像点の変位となって
表れるので、位置検出センサ58上の像点位置に応じて
出力される信号と予め設定された基準の光点位置の出力
信号とにより偏差量等を求めて、被測定面の変位を求め
ている。
【0005】なお、上記の光ビームを1次元方向に連続
的なスリット状の光で被測定面へ照射することにより、
光切断の方法による表面形状等を測定することも行われ
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
三角測量法による変位測定装置では、図6に示したよう
に送光レンズと受光レンズを用いて送光系と受光系とが
離れて配置されているために、観察角θは大きくなり、
凹部の測定時には、被測定面自体の周囲の壁面により受
光系の光路が遮断され測定できないことがある。この測
定可能深さHは、数1に示すように
【0007】
【数1】
【0008】但し、H  :測定可能深さL  :測定
時に必要な凹部の最大半径または長さθa :送光系と
受光レンズ最外周との成す角度のうち最小の角度 となる。
【0009】ここで、より深い凹部における測定を行う
ためには、送光系および受光系の各々のレンズを小径に
する等、送光系および受光系の位置関係を変更し、送光
系の光軸と受光系の光軸との成す観察角θが小さな角度
になるようにしなければならない。
【0010】一方、得られる変位信号のレベルはレンズ
の口径に対する依存度が高く、所定値以上のレンズの口
径にする必要がある。すなわち、送光系および受光系の
レンズ口径を小さくすると、センサ上に照射された像点
の光量が小さくなるため、得られる変位信号のS/N、
分解能および安定性等は悪化してしまう。このように、
上記の変位信号を適正な状態に維持するため、レンズの
口径が決定され、また、レンズを保持するホルダ等の保
持金具等の大きさが決められる。このため、送光系の有
効径および受光系の有効径の大きさは制限され、送光系
の光軸と受光系の光軸との成す観察角θは、小さくする
ことができず、凹部の深さにより、受光できない領域が
発生してしまう、という問題点がある。
【0011】本発明は、上記問題を解決すべく成された
もので、送光軸と受光軸との成す観察角を小さくし、測
定可能領域を増加させて、被測定面までの距離を測定す
る変位測定装置及び被測定面の形状を測定する形状測定
装置の提供を目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1の発明は、変位測定装置において、光ビーム
を照射する光源と、前記光源から照射された光ビームを
被測定面へ送光して照明すると共に被測定面の照明部の
像を結像する単一の集光レンズと、前記集光レンズの結
像側に配設されると共に照射された光ビームの位置に応
じた信号を出力する位置検出手段とを備えている。
【0013】請求項2の発明は、形状測定装置において
、光ビームを照射する光源と、前記光源から照射された
光ビームを被測定面へ送光して照明すると共に被測定面
の照明部の像を結像する単一の集光レンズと、入射され
た光ビームを一方向にのみ発散して光ビームを被測定面
へスリット状の光として照射する発散手段と、前記集光
レンズの結像側に配設されると共に照射された光ビーム
の位置に応じた信号を出力する位置検出手段とを備えて
いる。
【0014】
【作用】請求項1の発明は、光ビームを被測定面へ送光
して照明することと被測定面からの照明部の像を結像す
ることとを単一の集光レンズにより行っている。また、
前記集光レンズの結像側には位置検出手段が配設されて
いる。この位置検出手段は、照射された光ビームの位置
に応じた信号を出力する。
【0015】請求項2の発明は、光ビームを被測定面へ
送光して照明することと被測定面からの照明部の像を結
像することとを単一の集光レンズにより行っている。発
散手段は、入射された光ビームを一方向にのみ発散して
光ビームを被測定面へスリット状の光として照射する。 また、前記集光レンズの結像側には位置検出手段が配設
されている。この位置検出手段は、照射された光ビーム
の位置に応じた信号を出力する。
【0016】このように、被測定面への送光および被測
定面の照明部の結像を単一の集光レンズにより行ってい
るので、送光系と受光系との成す観察角を小さくするこ
とができる。このため、測定可能領域を増加させて、被
測定面の変位、被測定面の形状を測定することができる
【0017】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を詳
細に説明する。
【0018】第1実施例は、本発明を変位測定装置10
を示すものである。図1に示すように、半導体レーザで
構成された光源20は図示しない変位測定装置10の筐
体に取り付けられており、光源20から射出された光ビ
ームはコリメートレンズ22により集光される。コリメ
ートレンズ22の射出側には送受光レンズ24が配設さ
れており、コリメートレンズ22から射出される小径の
光ビームが、送受光レンズ24の周辺部へ照射される。 送受光レンズ24の射出側には被測定面34が設置され
ており、送受光レンズ24から射出される光ビームは、
被測定面34へ照射され被測定面34上に光点Aを形成
する。
【0019】被測定面34上に照射された小径の光点は
、送受光レンズ24により集光される。この送受光レン
ズ24の結像側には、1次元リニヤセンサ28が配設さ
れている。この1次元リニヤセンサ28は、送受光レン
ズ24から予め定められた所定の間隔を隔てた位置に配
置されかつ受光面が、送受光レンズ24の光軸と垂直に
なるように、変位測定装置10の筐体に取り付けられて
おり、像点の位置に応じた電気信号を出力する。また、
1次元リニヤセンサ28は演算回路32に接続されてい
る。
【0020】以下、第1実施例の作用について説明する
。コリメートレンズ22により集光された光ビームは、
送受光レンズ24の中心軸L1からhの間隔を隔てた部
位に入射される。送受光レンズ24から射出された光ビ
ームは、前記中心軸L1とαの角度を成して被測定面3
4に照射され、被測定面34に光点Aが形成される。こ
の光点Aは、送受光レンズ24により集光されて、1次
元リニヤセンサ28上には像点が形成される。 この像点の中心部は前記中心軸L1とSxの間隔を隔て
た位置に成る。
【0021】ここで、本実施例の1次元リニヤセンサ2
8が送受光レンズ24の結像位置に設置された場合の結
像関係について、図5を参照して説明する。射出角度α
および入射高さhと光ビームが輝く位置との関係は、数
2に示すように、
【0022】
【数2】
【0023】但し、h  :送受光レンズ24の中心軸
からの光ビームの入射高さ X  :送受光レンズ24の中心軸からの被測定面の光
点位置までのX軸方向の距離 α  :送受光レンズ24の中心軸と送受光レンズ24
から被測定面へ射出される光ビーム光軸との成す角度と
表せる。また、結像倍率(横倍率)mは、ニュートンの
公式を用ると数3に示すように、
【0024】
【数3】
【0025】但し、m  :結像倍率(横倍率)f  
:送受光レンズ24の焦点距離 Sx :被測定面の光点のX軸方向の像高Z  :送受
光レンズ24から被測定面の光点位置までの距離 b  :送受光レンズ24から被測定面の像点位置まで
の距離 となる。
【0026】このため、結像位置に1次元リニヤセンサ
28が配設され、得られる電気信号によりSx の距離
が検出されると、上記数2および数3により、以下の数
4に示すように被測定面までの距離Zが、求められる。
【0027】
【数4】
【0028】同様に、上記数2および数3を用いること
により送受光レンズ24の中心軸からの被測定面の光点
位置までのX軸方向の距離Xが求められる。
【0029】上記の距離Xおよび距離Zは、被測定面の
光点が結像される結像位置に1次元リニヤセンサ28を
配設した場合について説明したが、ここで、1次元リニ
ヤセンサ28が配設された検出面Kを固定して被測定面
の光点が光軸方向に変位した場合について説明する。
【0030】被測定面の光点位置が、図8に示すように
、結像点が検出面K上にある光点位置A1 より光軸方
向へ送受光レンズ24から離れた光点位置A2 、A3
 へ変位した場合には、光点位置A2 、A3 の像は
検出面Kから離れた位置K2 、K3 に結像される。 このとき、結像点K1 、K2 、K3 は、測定範囲
が余り大きくなければ、ほぼ直線上に位置する。
【0031】したがって、1次元リニアセンサにあおり
をつけることにより光点位置が変化して結像位置が変化
した場合でも、常にセンサ上に結像させることができる
。したがって、測定位置が変化しても、数4によりSX
 はセンサ上の位置より求めることができるために、距
離を計算できる。
【0032】
【数5】
【0033】
【数6】
【0034】これにより、本実施例の変位測定装置10
では、数5および数6を用いて、1次元リニヤセンサ2
8の出力より、基準位置からの変位量から被測定面まで
の距離Zが算出される。
【0035】以上説明したように、1つのレンズ系にて
送受光が共に行われるので、送受光系の相互干渉等の影
響を受けることなく、送光軸または受光軸の成す観察角
αを小さくすることができる。このため、凹部の深さ測
定等の場合には、被測定面までの入射角度を小さな角度
にできるため、被測定面自身による光軸の遮断領域部分
を少なくなることにより、測定可能領域が増加して、被
測定面までのより深い距離を測定することができる。
【0036】上記第1実施例は、被測定面までの距離を
測定するものであるが、以下に述べる第2実施例は本発
明を断面形状測定装置12に適用したものである。この
第2実施例では、第1実施例の光点を被測定面に照射し
たのに対して、ロッドレンズ26により、光ビームをス
リット状に形成して被測定面へ照射したものである。ま
た、第2実施例は、第1実施例と略同様の構成であるの
で、同一部分には略号を付して詳細な説明は省略する。
【0037】図2に示すように、半導体レーザで構成さ
れた光源20は図示しない断面形状測定装置12の筐体
に取り付けられており、光源20から射出される光ビー
ムはコリメートレンズ22により集光される。コリメー
トレンズ22の射出側には送受光レンズ24が配設され
ており、コリメートレンズ22から射出された小径の光
ビームは、送受光レンズ24に照射される。送受光レン
ズ24の射出側には円柱形状のロッドレンズ26が配設
されており、入射される光ビームをスリット状に発散し
て射出する。また、このロッドレンズ26は、発散方向
がX軸およびZ軸方向と直交するY軸方向になるように
取り付けられている。ロッドレンズ26の射出側には被
測定面34が設置されており、ロッドレンズ26から射
出されるスリット状の光ビームは、被測定面34へ照射
される。すなわち、図3に示されるように、光ビームは
ロッドレンズ26から被測定面34に向かって扇型に照
射される。
【0038】したがって、被測定面34にはスリット状
に発散されたスリット光線が照射され、Y軸方向にスリ
ット状に発散された光線と被測定面34との交点が輝く
、すなわち、被測定面34の形状に応じた形状に照明さ
れる。送受光レンズ24の結像側には、2次元CCDセ
ンサ30が配設されている。被測定面34に照射された
スリット状に発散されたスリット光線は、送受光レンズ
24により集光され、2次元CCDセンサ30に照射さ
れる。この2次元CCDセンサ30は、送受光レンズ2
4から予め定められた所定の間隔を隔てた位置に配設さ
れかつ、測定軸のX軸方向が、被測定面34上に照射さ
れる光点方向と平行になりかつ測定軸のY軸方向が、ロ
ッドレンズ26により光ビームをスリット状に発散させ
て射出するY軸方向と平行になるように、断面形状測定
装置12の筐体に取り付けられている。また、この2次
元CCDセンサ30は、2次元にCCD素子が配列され
ており、2次元CCDセンサ30上に照射された光ビー
ムの位置および形状に応じた電気信号を出力する。なお
、2次元CCDセンサ30は演算回路32に接続されて
いる。
【0039】例えば、送受光レンズ24の中心軸L2と
X軸方向にx、Y軸方向にyの間隔を隔てた位置B点で
輝く光は、送受光レンズ24により集光され、2次元C
CDセンサ30に照射される。2次元CCDセンサ30
上に照射される光ビームは、図4に示すように、例えば
、前記中心軸L2とX軸方向にSx 、Y軸方向にSy
 の間隔を隔てた位置に照射される。そこで、2次元C
CDセンサ30では、2次元の光ビームの位置に応じた
電気信号に変換され、演算回路32に入力される。この
2次元CCDセンサ30よりの電気信号に応じて被測定
面の形状が測定される。
【0040】以下、第2実施例の作用について説明する
。コリメートレンズ22により集光された光ビームは、
前記中心軸L2からhの間隔を隔てた部位に入射される
。送受光レンズ24から射出された光ビームは、前記中
心軸L1とαの角度を成しており、ロッドレンズ26を
介してスリット状に発散されて被測定面34方向に照射
され、被測定面34にスリット状の光線が形成される。 この光線は送受光レンズ24により集光されて、2次元
CCDセンサ30上に照射される。例えば、被測定面上
のB点は、図4に示すように2次元CCDセンサ30上
では、前記中心軸L2からX軸方向にSx の間隔を隔
てると共にY軸方向にSy の間隔を隔てた位置に成る
【0041】第2実施例では、第1実施例において図5
を参照して説明した結像関係より、位置検出素子として
2次元CCDセンサ30を用いているので、2次元の出
力が可能である。したがって、上記第1実施例と同様に
、数2および数3を用いて距離Yを求めることができる
【0042】従って、被測定面の結像位置が2次元CC
Dセンサ30から外れた場合の補正量を考慮にいれ、以
下の数7が得られる。なお、送受光レンズ24の中心軸
からの被測定面の光点位置までのX軸方向の距離X、送
受光レンズ24から被測定面の光点位置までの距離Zは
、第1実施例と同様に上記の数5および数6を用いる。
【0043】
【数7】
【0044】但し、Sy :被測定面の光点のX軸方向
の像高これにより、第2実施例の断面形状測定装置12
では、2次元CCDセンサ30の出力Sxから、数5を
用いて、演算回路32により被測定面34までの距離Z
が算出される。また、2次元CCDセンサ30の出力S
yから、数6および数7を用いて、演算回路32により
被測定面34の、前記中心軸L2からの距離が合わせて
算出され、被測定面34の測定点Bの位置および距離(
X、Y、Zの値)が求められる。このため、2次元CC
Dセンサ30の検出面全てに渡り、対応する被測定面3
4の測定点の位置および距離を求めることにより被測定
面34の段差等の形状を求めることができる。
【0045】以上のように、第2実施例では、1つのレ
ンズ系にて送受光が共に行われ、送受光系の相互干渉の
影響を受けることなく、被測定面までの入射角度を小さ
な角度にでき、凹部の深さ測定等の形状測定を行うこと
ができるので、測定可能領域が大きくとれ、被測定面ま
でのより深い距離や段差等の存在する形状を測定するこ
とができる。
【0046】なお、第2実施例ではロッドレンズを利用
してスリット状の光を得る例について説明したが、スリ
ット状の光を得る素子としてシリンドリカルレンズ、シ
リンドリカルミラー等を用いることもでき、回転多面鏡
等の光ビームをスキャンすることによりスリット状の光
を得ることもできる。
【0047】また、第2実施例ではロッドレンズを送受
光レンズの射出側に配置した場合について説明したが、
送受光レンズの入射側に用いてもよく、また、光源側に
スリット等を設けてスリット像を被測定面に照射するよ
うにしてもよい。
【0048】なお、第2実施例では位置検出器として2
次元CCDセンサを用いた場合について説明したが、位
置検出器として2次元CCDセンサに限定されるもので
はなく、撮像管を用いたテレビジョンシステムによる位
置検出方法を用いてセンサ上で2次元の位置を出力する
ことのできる素子を利用してもよい。
【0049】なお、上記第1実施例および第2実施例で
は送光光学系および受光光学系が固定されかつ位置検出
器も固定されて測定を行う場合について説明したが、送
光光学系および受光光学系の少なくとも1つの光学系の
測定字句との角度を変更することにより、観察角度を変
更するようにしてもよく、また、位置検出器を移動させ
てもよい。
【0050】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、段
差等の存在する測定面の測定であっても、送光系と受光
系との成す観察角を小さくすることにより、測定可能領
域を大きくとることができ、測定面自身による送光系ま
たは受光系の光遮断領域を少なくできる、という優れた
効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例にかかる変位測定装置の光
学系の周辺を示す概略図である。
【図2】本発明の第2実施例にかかる形状測定装置の光
学系の周辺の正面を示す概略図である。
【図3】本発明の第2実施例にかかる形状測定装置の光
学系の周辺の側面を示す概略図である。
【図4】形状測定装置の位置検出器(受光面)上におけ
る光ビームの照射状態を示す線図である。
【図5】結像光学系における被測定面と位置検出器との
関係を示す線図である。
【図6】従来の三角測量法による距離測定装置の光学系
の周辺を示す概略図である。
【図7】結像光学系において被測定面が光軸方向に変位
した場合の検出面に照射される光ビームのスポット径を
示す線図である。
【図8】被測定面と検出面および結像面との関係を示す
線図である。
【符号の説明】
10    変位測定装置 12    断面形状測定装置 20    光源 22    コリメートレンズ 24    送受光レンズ 26    ロッドレンズ 28    1次元リニヤセンサ 30    2次元CCDセンサ 32    演算回路 34    被測定面

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  光ビームを照射する光源と、前記光源
    から照射された光ビームを被測定面へ送光して照明する
    と共に被測定面の照明部の像を結像する単一の集光レン
    ズと、前記集光レンズの結像側に配設されると共に照射
    された光ビームの位置に応じた信号を出力する位置検出
    手段と、を備えた変位測定装置。
  2. 【請求項2】  光ビームを照射する光源と、前記光源
    から照射された光ビームを被測定面へ送光して照明する
    と共に被測定面の照明部の像を結像する単一の集光レン
    ズと、入射された光ビームを一方向にのみ発散して光ビ
    ームを被測定面へスリット状の光として照射する発散手
    段と、前記集光レンズの結像側に配設されると共に照射
    された光ビームの位置に応じた信号を出力する位置検出
    手段と、を備えた形状測定装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08227922A (ja) * 1995-02-21 1996-09-03 Nec Kyushu Ltd 半導体装置の評価装置
JP2009222418A (ja) * 2008-03-13 2009-10-01 Aisin Seiki Co Ltd 凹凸表面検査装置
JP5736622B1 (ja) * 2014-05-01 2015-06-17 機械設計中畑株式会社 検出装置およびこの装置を具えたマニプレータの動作制御

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08227922A (ja) * 1995-02-21 1996-09-03 Nec Kyushu Ltd 半導体装置の評価装置
JP2009222418A (ja) * 2008-03-13 2009-10-01 Aisin Seiki Co Ltd 凹凸表面検査装置
JP5736622B1 (ja) * 2014-05-01 2015-06-17 機械設計中畑株式会社 検出装置およびこの装置を具えたマニプレータの動作制御
CN105043246A (zh) * 2014-05-01 2015-11-11 机械设计中畑株式会社 探测设备、探测方法和操纵器
US9482754B2 (en) 2014-05-01 2016-11-01 Kikai Sekkei Nakahata Kabushiki Kaisha Detection apparatus, detection method and manipulator

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