JPH04276059A - 溶射皮膜の改質方法 - Google Patents
溶射皮膜の改質方法Info
- Publication number
- JPH04276059A JPH04276059A JP3119632A JP11963291A JPH04276059A JP H04276059 A JPH04276059 A JP H04276059A JP 3119632 A JP3119632 A JP 3119632A JP 11963291 A JP11963291 A JP 11963291A JP H04276059 A JPH04276059 A JP H04276059A
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- JP
- Japan
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- cermet
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐摩耗・耐腐食性サー
メット溶射皮膜の改良に関するものである。さらに詳し
くいえば、本発明は、サーメット溶射皮膜の表面をレー
ザー照射して、耐摩耗性及び耐腐食性に優れたサーメッ
ト溶射皮膜を効率よく得る改質方法に関するものである
。
メット溶射皮膜の改良に関するものである。さらに詳し
くいえば、本発明は、サーメット溶射皮膜の表面をレー
ザー照射して、耐摩耗性及び耐腐食性に優れたサーメッ
ト溶射皮膜を効率よく得る改質方法に関するものである
。
【０００２】
【従来の技術】従来、金属、非鉄金属、あるいは非金属
から成る基材の耐摩耗性や耐腐食性を改良する目的で、
該基材に適当な材料を溶射して保護皮膜を形成させる方
法が広く行われている。
から成る基材の耐摩耗性や耐腐食性を改良する目的で、
該基材に適当な材料を溶射して保護皮膜を形成させる方
法が広く行われている。
【０００３】ところで、炭化物はそれ自体高硬度と優れ
た耐腐食性を有することから、前記溶射材料としての使
用が試みられているが、単独では高温にさらされると溶
融する前に分解を生じ、溶射皮膜が得られない。したが
って、該溶射材料として、炭化物に金属を混合したもの
が用いられている。
た耐腐食性を有することから、前記溶射材料としての使
用が試みられているが、単独では高温にさらされると溶
融する前に分解を生じ、溶射皮膜が得られない。したが
って、該溶射材料として、炭化物に金属を混合したもの
が用いられている。
【０００４】このサーメット溶射粉末は、通常爆発溶射
法や爆発溶射に類似した高速ガス溶射法などのガスの燃
焼爆発を利用した溶射法などにょって溶射されることが
多い。しかしながら、これらの溶射法はガスの燃焼爆発
を利用していることから、燃焼ガスとしてプロパン、酸
素を用い、しかも大気中で行うために、炭化物と金属は
酸化されて、炭化物を使用するメリットが著しくそこな
われるとともに、金属もバインダーとしての役割が低減
するなどの欠点を有している。
法や爆発溶射に類似した高速ガス溶射法などのガスの燃
焼爆発を利用した溶射法などにょって溶射されることが
多い。しかしながら、これらの溶射法はガスの燃焼爆発
を利用していることから、燃焼ガスとしてプロパン、酸
素を用い、しかも大気中で行うために、炭化物と金属は
酸化されて、炭化物を使用するメリットが著しくそこな
われるとともに、金属もバインダーとしての役割が低減
するなどの欠点を有している。
【０００５】したがって、このような欠点を改良するた
めに、サーメット溶射皮膜をレーザーによって改質する
方法が試みられている。例えば（１）サーメット溶射皮
膜にレーザーを照射して該皮膜を溶融させる方法や（特
開昭６１−１０４０６２号公報、特開昭６２−２５３７
５８号公報）、（２）炭化タングステンとコバルトとを
レーザーを照射することで合金化する方法（特開平２−
３０７０４号公報）などが提案されている。しかしなが
ら、前記（１）の方法においては、皮膜が溶融して、気
孔が減少し、ち密なものになるが、金属が溶融するだけ
であって反応が起こらないため、耐腐食性は該金属以上
の性能にはならないし、また（２）の方法においては、
皮膜全体を合金化すると変形が大きくなって基材から剥
離しやすくなり、この剥離が生じないようにするために
は、炭化タングステンとコバルトとの配合比率をかなり
変えて傾斜皮膜にする必要があり、その結果、工程が煩
雑となる上、金属のままなので、耐腐食性が十分ではな
いなどの欠点がある。
めに、サーメット溶射皮膜をレーザーによって改質する
方法が試みられている。例えば（１）サーメット溶射皮
膜にレーザーを照射して該皮膜を溶融させる方法や（特
開昭６１−１０４０６２号公報、特開昭６２−２５３７
５８号公報）、（２）炭化タングステンとコバルトとを
レーザーを照射することで合金化する方法（特開平２−
３０７０４号公報）などが提案されている。しかしなが
ら、前記（１）の方法においては、皮膜が溶融して、気
孔が減少し、ち密なものになるが、金属が溶融するだけ
であって反応が起こらないため、耐腐食性は該金属以上
の性能にはならないし、また（２）の方法においては、
皮膜全体を合金化すると変形が大きくなって基材から剥
離しやすくなり、この剥離が生じないようにするために
は、炭化タングステンとコバルトとの配合比率をかなり
変えて傾斜皮膜にする必要があり、その結果、工程が煩
雑となる上、金属のままなので、耐腐食性が十分ではな
いなどの欠点がある。
【０００６】他方、チタン膜にカーボンを塗布し、レー
ザーを照射して炭化チタンに変えることも試みられてい
る。しかしながら、この方法においては、チタン膜は金
属であるので、サーメット膜に比べてレーザー吸収係数
が低いため、レーザー出力を高くしないと反応が起こら
ず、したがって、クラックの発生がサーメット膜に比べ
て起こりやすいという欠点がある。
ザーを照射して炭化チタンに変えることも試みられてい
る。しかしながら、この方法においては、チタン膜は金
属であるので、サーメット膜に比べてレーザー吸収係数
が低いため、レーザー出力を高くしないと反応が起こら
ず、したがって、クラックの発生がサーメット膜に比べ
て起こりやすいという欠点がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、サーメット溶射皮膜の耐熱衝撃性及び基
材との高密着性をそこなうことなく、その表面を改質し
て、さらに優れた耐摩耗性及び耐腐食性を有するサーメ
ット溶射皮膜を提供することを目的としてなされたもの
である。
事情のもとで、サーメット溶射皮膜の耐熱衝撃性及び基
材との高密着性をそこなうことなく、その表面を改質し
て、さらに優れた耐摩耗性及び耐腐食性を有するサーメ
ット溶射皮膜を提供することを目的としてなされたもの
である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために、鋭意研究を重ねた結果、サーメット
溶射皮膜に炭素源の存在下、レーザー照射を行うことに
より、皮膜の内面においては金属がバインダーとしての
働きを失うことなく、熱応力の緩和作用や基材との高い
密着性を維持するとともに、表層部においては溶融ち密
化し、かつ炭化物は再度炭化されて結晶性の高いものと
なる上、金属は一部カーボンと反応して炭化物を形成す
るため、耐摩耗性及び耐腐食性がさらに優れたものにな
ることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
を達成するために、鋭意研究を重ねた結果、サーメット
溶射皮膜に炭素源の存在下、レーザー照射を行うことに
より、皮膜の内面においては金属がバインダーとしての
働きを失うことなく、熱応力の緩和作用や基材との高い
密着性を維持するとともに、表層部においては溶融ち密
化し、かつ炭化物は再度炭化されて結晶性の高いものと
なる上、金属は一部カーボンと反応して炭化物を形成す
るため、耐摩耗性及び耐腐食性がさらに優れたものにな
ることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成す
るに至った。
【０００９】すなわち、本発明は、基材表面に炭化物と
金属とから成るサーメット溶射皮膜を形成させたのち、
該溶射皮膜に炭素源の存在下レーザー照射することを特
徴とする溶射皮膜の改質方法を提供するものである。
金属とから成るサーメット溶射皮膜を形成させたのち、
該溶射皮膜に炭素源の存在下レーザー照射することを特
徴とする溶射皮膜の改質方法を提供するものである。
【００１０】本発明方法において用いられる基材につい
ては特に制限はなく、従来サーメット溶射皮膜の形成に
慣用されているもの、例えば鉄、銅、ステンレスなどの
金属から成るものや、ＹＳＺ、アルミナ、炭化ケイ素、
チタニヤなどのセラミックス焼結体から成るものなどの
中から任意のものを選択して用いることができる。また
、その形状についても特に制限はなく、例えば平板状の
ものや、シリンダー外面、ローラーなどの円柱状のもの
など、いずれのものであってもよい。
ては特に制限はなく、従来サーメット溶射皮膜の形成に
慣用されているもの、例えば鉄、銅、ステンレスなどの
金属から成るものや、ＹＳＺ、アルミナ、炭化ケイ素、
チタニヤなどのセラミックス焼結体から成るものなどの
中から任意のものを選択して用いることができる。また
、その形状についても特に制限はなく、例えば平板状の
ものや、シリンダー外面、ローラーなどの円柱状のもの
など、いずれのものであってもよい。
【００１１】本発明においては、これらの基材の表面に
、まずサーメット溶射皮膜を形成させる。このサーメッ
ト溶射皮膜の形成には、炭化物と金属との混合物や複合
物から成る溶射粉末が用いられ、その組合せとしては、
例えばＷＣ−Ｃｏ、ＷＣ−Ｎｉ、ＷＣ−Ｃｒ、ＷＣ−Ｃ
ｒＮｉ、ＷＣ−Ｔｉ、Ｃｒ３Ｃ２−ＣｒＮｉ、Ｃｒ３Ｃ
２−Ｃｒ、Ｃｒ３Ｃ２−Ｎｉ、Ｃｒ３Ｃ２−Ｃｏ、Ｃｒ
３Ｃ２−Ｔｉ、Ｃｒ３Ｃ２−Ａｌ、ＳｉＣ−Ｎｉ、Ｓｉ
Ｃ−Ｃｏ、ＳｉＣ−ＣｒＮｉ、ＳｉＣ−Ｔｉ、ＭｏＣ−
Ｎｉ、ＭｏＣ−Ｃｏ、ＭｏＣ−ＣｒＮｉ、ＭｏＣ−Ｔｉ
などが挙げられる。
、まずサーメット溶射皮膜を形成させる。このサーメッ
ト溶射皮膜の形成には、炭化物と金属との混合物や複合
物から成る溶射粉末が用いられ、その組合せとしては、
例えばＷＣ−Ｃｏ、ＷＣ−Ｎｉ、ＷＣ−Ｃｒ、ＷＣ−Ｃ
ｒＮｉ、ＷＣ−Ｔｉ、Ｃｒ３Ｃ２−ＣｒＮｉ、Ｃｒ３Ｃ
２−Ｃｒ、Ｃｒ３Ｃ２−Ｎｉ、Ｃｒ３Ｃ２−Ｃｏ、Ｃｒ
３Ｃ２−Ｔｉ、Ｃｒ３Ｃ２−Ａｌ、ＳｉＣ−Ｎｉ、Ｓｉ
Ｃ−Ｃｏ、ＳｉＣ−ＣｒＮｉ、ＳｉＣ−Ｔｉ、ＭｏＣ−
Ｎｉ、ＭｏＣ−Ｃｏ、ＭｏＣ−ＣｒＮｉ、ＭｏＣ−Ｔｉ
などが挙げられる。
【００１２】これらのサーメット溶射粉末を用いて、基
材表面にサーメット溶射皮膜を形成させる方法としては
ガス溶射法と電気溶射法とがあり、前者のガス溶射法と
してはフレーム溶射法や爆発溶射法などが、電気溶射法
としてはアーク溶射法やプラズマ溶射法などがあるが、
これらの中で爆発溶射法とプラズマ溶射法、特に爆発溶
射法などのガスの燃焼爆発を利用した溶射法が好適であ
る。
材表面にサーメット溶射皮膜を形成させる方法としては
ガス溶射法と電気溶射法とがあり、前者のガス溶射法と
してはフレーム溶射法や爆発溶射法などが、電気溶射法
としてはアーク溶射法やプラズマ溶射法などがあるが、
これらの中で爆発溶射法とプラズマ溶射法、特に爆発溶
射法などのガスの燃焼爆発を利用した溶射法が好適であ
る。
【００１３】これらの溶射法によって基材表面に形成さ
れるサーメット溶射皮膜の厚さは、通常２５〜５００μ
ｍの範囲で選ばれる。
れるサーメット溶射皮膜の厚さは、通常２５〜５００μ
ｍの範囲で選ばれる。
【００１４】本発明方法においては、このようにして基
材表面に形成されたサーメット溶射皮膜に、炭素源の存
在下レーザーを照射して、該皮膜の表面を改質すること
が必要である。該レーザーとしては、通常波長１０．６
μｍのＣＯ２レーザーが用いられ、またレーザー照射は
、例えば（１）炭素源を溶射皮膜に塗布したのち、大気
圧下でレーザー照射する、（２）炭素源を溶射皮膜に塗
布したのち、減圧下でレーザー照射する、（３）炭素源
を溶射皮膜に塗布したのち、メタンガスやプロパンガス
などの炭素源になるガス雰囲気下でレーザー照射する、
（４）溶射皮膜にメタンガスやプロパンガスなどの炭素
源になるガス雰囲気下レーザー照射する、などの方法に
よって行われるが、これらの中で（３）の方法が特に好
適である。
材表面に形成されたサーメット溶射皮膜に、炭素源の存
在下レーザーを照射して、該皮膜の表面を改質すること
が必要である。該レーザーとしては、通常波長１０．６
μｍのＣＯ２レーザーが用いられ、またレーザー照射は
、例えば（１）炭素源を溶射皮膜に塗布したのち、大気
圧下でレーザー照射する、（２）炭素源を溶射皮膜に塗
布したのち、減圧下でレーザー照射する、（３）炭素源
を溶射皮膜に塗布したのち、メタンガスやプロパンガス
などの炭素源になるガス雰囲気下でレーザー照射する、
（４）溶射皮膜にメタンガスやプロパンガスなどの炭素
源になるガス雰囲気下レーザー照射する、などの方法に
よって行われるが、これらの中で（３）の方法が特に好
適である。
【００１５】溶射皮膜に炭素源を塗布すると、炭素欠損
の溶射皮膜中の炭化物が再度炭化されるとともに、バイ
ンダーとしての金属の一部が炭化されるため、より効果
が大きい。
の溶射皮膜中の炭化物が再度炭化されるとともに、バイ
ンダーとしての金属の一部が炭化されるため、より効果
が大きい。
【００１６】前記炭素源としては、例えばカーボンブラ
ック、アセチレンブラック、石油コークス、活性炭など
の固形物、アスファルトや潤滑油などの液状物、さらに
はシリコーン系、エポキシ系、アクリル系、フェノール
系、フロン系、パラフィン系などの有機系樹脂などが挙
げられる。
ック、アセチレンブラック、石油コークス、活性炭など
の固形物、アスファルトや潤滑油などの液状物、さらに
はシリコーン系、エポキシ系、アクリル系、フェノール
系、フロン系、パラフィン系などの有機系樹脂などが挙
げられる。
【００１７】固形状の炭素源を用いる場合は、アセトン
やトルエンなどの溶媒に分散させて塗布すると皮膜の炭
化が効果的に起こり、また、粒子の形状が細かいほど皮
膜中によく含浸するため炭化物の形成に有利である。
やトルエンなどの溶媒に分散させて塗布すると皮膜の炭
化が効果的に起こり、また、粒子の形状が細かいほど皮
膜中によく含浸するため炭化物の形成に有利である。
【００１８】また、溶射皮膜に前記炭素源を塗布してレ
ーザー照射すると該レーザーの吸収率が高くなるという
効果もある。レーザーは１００Ｗ以上の出力で照射する
ことが好ましく、出力が低い場合は溶射膜の溶融が起こ
らず、ち密化や炭化反応が進行しないおそれがある。
ーザー照射すると該レーザーの吸収率が高くなるという
効果もある。レーザーは１００Ｗ以上の出力で照射する
ことが好ましく、出力が低い場合は溶射膜の溶融が起こ
らず、ち密化や炭化反応が進行しないおそれがある。
【００１９】このように、サーメット溶射皮膜に炭素源
の存在下レーザー照射することにより、該皮膜の表面が
溶融ち密化する上、表層の酸化が防止されるとともに、
酸化した炭化物は再度炭化され、かつバインダーの金属
の一部が炭化されるために、該サーメット溶射皮膜は耐
摩耗性及び耐腐食性の優れたものとなる。しかも、該皮
膜の内面においては、金属のバインダーとしての働きを
失わずに、熱応力の緩和作用や基材との高い密着性を保
持している。
の存在下レーザー照射することにより、該皮膜の表面が
溶融ち密化する上、表層の酸化が防止されるとともに、
酸化した炭化物は再度炭化され、かつバインダーの金属
の一部が炭化されるために、該サーメット溶射皮膜は耐
摩耗性及び耐腐食性の優れたものとなる。しかも、該皮
膜の内面においては、金属のバインダーとしての働きを
失わずに、熱応力の緩和作用や基材との高い密着性を保
持している。
【００２０】
【発明の効果】本発明によると、サーメット溶射皮膜に
炭素源の存在下レーザー照射することにより、該皮膜の
表面が改質され、より優れた耐摩耗性及び耐腐食性を有
するサーメット溶射皮膜が容易に得られる。本発明方法
により得られたサーメット溶射皮膜を有する材料は、耐
摩耗性及び耐腐食性に優れた材料として、鉄鋼分野、石
油化学分野、製紙（ロールなど）、自動車分野などにお
いて好適に用いられる。
炭素源の存在下レーザー照射することにより、該皮膜の
表面が改質され、より優れた耐摩耗性及び耐腐食性を有
するサーメット溶射皮膜が容易に得られる。本発明方法
により得られたサーメット溶射皮膜を有する材料は、耐
摩耗性及び耐腐食性に優れた材料として、鉄鋼分野、石
油化学分野、製紙（ロールなど）、自動車分野などにお
いて好適に用いられる。
【００２１】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。なお、皮膜の性能は次のようにして
評価した。
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。なお、皮膜の性能は次のようにして
評価した。
【００２２】（１）耐摩耗性
エチレンコークスを摩耗材として、空気流速３０ｍ／ｓ
ｅｃの速度で基材に吹き付けるブラストエロージョンテ
ストを行った。摩耗面積４ｃｍ２、角度３０°、距離２
０ｍｍの条件で、エチレンコークス１ｋｇを吹き付けた
際の摩耗減量で評価した。
ｅｃの速度で基材に吹き付けるブラストエロージョンテ
ストを行った。摩耗面積４ｃｍ２、角度３０°、距離２
０ｍｍの条件で、エチレンコークス１ｋｇを吹き付けた
際の摩耗減量で評価した。
【００２３】（２）表面硬度
皮膜の表面を１０〜２０μｍほど研摩したのち、マイク
ロビッカース硬度計を用い、３０ｇの荷重で測定した。
ロビッカース硬度計を用い、３０ｇの荷重で測定した。
【００２４】（３）耐腐食性
硫酸、塩酸及び硝酸のそれぞれ１０重量％混酸に、皮膜
９ｃｍ２だけ露出させたテストピースを９０℃で３時間
浸せき後、腐食減量を測定した。この結果を１時間、１
ｃｍ２に換算して腐食度を求めた。
９ｃｍ２だけ露出させたテストピースを９０℃で３時間
浸せき後、腐食減量を測定した。この結果を１時間、１
ｃｍ２に換算して腐食度を求めた。
【００２５】実施例１
Ｃｒ３Ｃ２−ＣｒＮｉの溶射粉末をメテコ社製のＤ−ガ
ンを用いて、ＳＳ４１に膜厚１５０〜２００μｍ程度に
溶射施工したのち、この皮膜にシリコーン系樹脂を塗布
し、乾燥した。
ンを用いて、ＳＳ４１に膜厚１５０〜２００μｍ程度に
溶射施工したのち、この皮膜にシリコーン系樹脂を塗布
し、乾燥した。
【００２６】次に、シリコーン系樹脂が塗布された溶射
皮膜を有するＳＳ４１を真空チャンバー中に設置後、１
０−３Ｔｏｒｒ以下になるまで脱気したのち、アルゴン
を１０ｌ／ｍｉｎ流し、５０Ｔｏｒｒにした。次いで、
メタンガスを０．５ｋｇ／ｃｍ２の強さで吹き付け、出
力４００Ｗ、焦点から基材までの距離１００ｍｍ、レー
ザー断面の直径８ｍｍの条件で、皮膜にレーザーを照射
した。
皮膜を有するＳＳ４１を真空チャンバー中に設置後、１
０−３Ｔｏｒｒ以下になるまで脱気したのち、アルゴン
を１０ｌ／ｍｉｎ流し、５０Ｔｏｒｒにした。次いで、
メタンガスを０．５ｋｇ／ｃｍ２の強さで吹き付け、出
力４００Ｗ、焦点から基材までの距離１００ｍｍ、レー
ザー断面の直径８ｍｍの条件で、皮膜にレーザーを照射
した。
【００２７】このようにしてレーザー処理された皮膜の
性能を調べたところ、摩耗量５．０ｍｇ、表面硬度１２
００、腐食度１．７ｍｇ／ｃｍ２・ｈｒであった。
性能を調べたところ、摩耗量５．０ｍｇ、表面硬度１２
００、腐食度１．７ｍｇ／ｃｍ２・ｈｒであった。
【００２８】比較例１
Ｃｒ３Ｃ２−ＣｒＮｉの溶射粉末をメテコ社製のＤ−ガ
ンを用いて、ＳＳ４１に膜厚１５０〜２００μｍ程度溶
射施工したのち、この皮膜を無処理のまま大気中で、出
力４００Ｗ、焦点から基材までの距離１００ｍｍ、レー
ザー断面の直径８ｍｍの条件でレーザー照射した。
ンを用いて、ＳＳ４１に膜厚１５０〜２００μｍ程度溶
射施工したのち、この皮膜を無処理のまま大気中で、出
力４００Ｗ、焦点から基材までの距離１００ｍｍ、レー
ザー断面の直径８ｍｍの条件でレーザー照射した。
【００２９】このようにしてレーザー処理された皮膜の
性能を評価したところ、摩耗量２２．５ｍｇ、表面硬度
１０００、腐食度１５．５ｍｇ／ｃｍ２・ｈｒであった
。
性能を評価したところ、摩耗量２２．５ｍｇ、表面硬度
１０００、腐食度１５．５ｍｇ／ｃｍ２・ｈｒであった
。
【００３０】比較例２
Ｃｒ３Ｃ２−ＣｒＮｉの溶射粉末をメテコ社製のＤ−ガ
ンを用いて、ＳＳ４１に膜厚１５０〜２００μｍ程度溶
射施工した。
ンを用いて、ＳＳ４１に膜厚１５０〜２００μｍ程度溶
射施工した。
【００３１】この皮膜の性能を評価したところ、摩耗量
２４．０ｍｇ、表面硬度９５０、腐食度４．０ｍｇ／ｃ
ｍ２・ｈｒであった。
２４．０ｍｇ、表面硬度９５０、腐食度４．０ｍｇ／ｃ
ｍ２・ｈｒであった。
Claims (1)
- 【請求項１】 基材表面に炭化物と金属とから成るサ
ーメット溶射皮膜を形成させたのち、該溶射皮膜に炭素
源の存在下レーザー照射することを特徴とする溶射皮膜
の改質方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3119632A JPH04276059A (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 溶射皮膜の改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3119632A JPH04276059A (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 溶射皮膜の改質方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04276059A true JPH04276059A (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=14766255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3119632A Pending JPH04276059A (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | 溶射皮膜の改質方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04276059A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007108548A1 (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Tocalo Co., Ltd. | 半導体加工装置用セラミック被覆部材の製造方法 |
| JP2007247042A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Tokyo Electron Ltd | 半導体加工装置用セラミック被覆部材 |
| JP2008266724A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射被膜の表面処理方法及び表面処理された溶射被膜 |
| US7648782B2 (en) | 2006-03-20 | 2010-01-19 | Tokyo Electron Limited | Ceramic coating member for semiconductor processing apparatus |
| US7767268B2 (en) | 2005-09-08 | 2010-08-03 | Tocalo Co., Ltd. | Spray-coated member having an excellent resistance to plasma erosion and method of producing the same |
| US7850864B2 (en) | 2006-03-20 | 2010-12-14 | Tokyo Electron Limited | Plasma treating apparatus and plasma treating method |
| JP2012067364A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Tocalo Co Ltd | 耐食性と耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材および高エネルギー照射処理する溶射皮膜のひび割れ防止方法 |
| US8231986B2 (en) | 2005-08-22 | 2012-07-31 | Tocalo Co., Ltd. | Spray coating member having excellent injury resistance and so on and method for producing the same |
-
1991
- 1991-02-28 JP JP3119632A patent/JPH04276059A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8231986B2 (en) | 2005-08-22 | 2012-07-31 | Tocalo Co., Ltd. | Spray coating member having excellent injury resistance and so on and method for producing the same |
| US7767268B2 (en) | 2005-09-08 | 2010-08-03 | Tocalo Co., Ltd. | Spray-coated member having an excellent resistance to plasma erosion and method of producing the same |
| US8053058B2 (en) | 2005-09-08 | 2011-11-08 | Tocalo Co., Ltd. | Spray-coated member having an excellent resistance to plasma erosion and method of producing the same |
| WO2007108548A1 (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Tocalo Co., Ltd. | 半導体加工装置用セラミック被覆部材の製造方法 |
| JP2007247042A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Tokyo Electron Ltd | 半導体加工装置用セラミック被覆部材 |
| JP2007247043A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Tocalo Co Ltd | 半導体加工装置用セラミック被覆部材の製造方法 |
| WO2007108546A1 (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Tokyo Electron Limited | 半導体加工装置用セラミック被覆部材 |
| US7648782B2 (en) | 2006-03-20 | 2010-01-19 | Tokyo Electron Limited | Ceramic coating member for semiconductor processing apparatus |
| US7850864B2 (en) | 2006-03-20 | 2010-12-14 | Tokyo Electron Limited | Plasma treating apparatus and plasma treating method |
| JP2008266724A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 溶射被膜の表面処理方法及び表面処理された溶射被膜 |
| JP2012067364A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Tocalo Co Ltd | 耐食性と耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材および高エネルギー照射処理する溶射皮膜のひび割れ防止方法 |
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