JPH04276392A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH04276392A
JPH04276392A JP3038383A JP3838391A JPH04276392A JP H04276392 A JPH04276392 A JP H04276392A JP 3038383 A JP3038383 A JP 3038383A JP 3838391 A JP3838391 A JP 3838391A JP H04276392 A JPH04276392 A JP H04276392A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、記憶用トランジスタに
おけるスレッショルド電圧(以下、VTという)のマー
ジンをチェックするテスト手段を有する信頼性の高いE
EPROM(電気的に消去・書込み可能な読出し専用メ
モリ)回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
米国特許第4,901,320号明細書(文献1)等に
記載されるものがあった。
【0003】前記文献1には、EEPROMの誤り訂正
の原理及び手法が記載されている。この文献1に記載さ
れているように、EEPROMメモリセル、即ちフロー
ティングゲート型MOS不揮発生メモリ素子は、本質的
に、消去状態を示す第1の状態と、書込み状態を示す第
2の状態と、この第1及び第2の状態以外の第3の状態
をとる。第3の状態は、一般的に、製造された直後の状
態でまだ消去も書込みも一度も行われていない状態、あ
るいは複数回書込み及び消去を繰り返して寿命になった
状態、何らかの原因によって不良になったメモリセルの
状態のいずれかである。このようなEEPROMメモリ
セルの性質を利用して誤り訂正が可能となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
回路では、メモリセル周辺の回路構成が複雑であり、例
えばメモリ容量が数Kビット程度のEEPROM回路を
集積回路で構成しようとすると、メモリセル周辺回路が
形成面積の大部分を占め、全体として小さくならないと
いう問題があった。また、寿命が長く、故障が非常に少
ないEEPROM回路を実現するために、種々の提案が
なされているが、信頼性を向上させるための回路を付加
することによってメモリセル面積が大きくなるため、形
成面積が小さく、しかも信頼性の高いEEPROM回路
を得ることが困難であった。
【0005】そこで、本願出願人らは、先に特願平2−
258320号明細書(文献2)において、例えば数K
ビット程度のEEPROM回路を小面積で集積化でき、
かつ信頼性の高いEEPROM回路を提案した。
【0006】この文献2のEEPROM回路では、ドレ
インとコントロールゲートがたすき接続されたフローテ
ィングゲート型の第1及び第2の記憶用トランジスタと
、前記第1及び第2の記憶用トランジスタのドレインに
それぞれ接続された第1及び第2のトランジスタと、読
出しモード時にオン状態となって前記第1及び第2の記
憶用トランジスタのソースにそれぞれ一定電位を印加す
る第1及び第2の読出し用トランジスタとで、EEPR
OMメモリセルを構成している。
【0007】このEEPROM回路では、第1,第2の
選択用トランジスタを介して、また第1,第2の読出し
用トランジスタの作用によって1ビットのデータが第1
,第2の記憶用トランジスタに相補的に記憶される。 そして、前記記憶データを第1,第2の選択用トランジ
スタを介して差動で読出すことにより、メモリセルの寿
命の向上が図れると共に、第1及び第2の記憶用トラン
ジスタのいずれか一方の不良状態を他方の記憶用トラン
ジスタで救済可能となるため、不良率の低減化が図れる
。さらに、回路構成が簡単であるため、小面積で集積化
できるという利点も有している。
【0008】ところで、例えば半導体メーカにおいては
、EEPROM回路の個々のメモリセルのVTのマージ
ンをチェックし、正常に書込み及び消去が行われること
を確認した上で出荷することが、不良率を下げ、高信頼
性を得るために必要なことである。しかし、前記文献1
,2には、このようなテスト方法については何ら記載さ
れていない。この対応策としては、電源電圧や動作温度
を通常の使用条件外まで広げて動作を確認し、間接的に
メモリセルのVTにマージンがあることを確認するか、
あるいは個々のメモリセルに何らかのチェック手段を付
加しておき、外部より、メモリセルのVTを測定できる
ようにしておく等の方法が考えられる。このようなテス
ト手段を例えば前記文献1に適用した場合、回路構成を
複雑化することなくVTのマージンチェックが簡単で、
しかも信頼性の高いEEPROM回路を提供することが
困難であった。
【0009】これに対し、前記文献2のEEPROM回
路では、各メモリセル内の第1及び第2の記憶用トラン
ジスタに特性上のアンバランスがあっても、あるいは一
方が書込み、消去不能であっても、メモリセルとしては
動作するので、前記のVTのマージンチェックを必ずし
も実行しなくてもよい。しかし、製造時の前記不良をV
Tのマージンチェックで取除くことができれば、出荷後
のEEPROM回路の不良率を減少して信頼性をより高
めることができる。
【0010】従って、本発明では、前記文献2の技術を
さらに改良し、第1及び第2の記憶用トランジスタの個
々のVTマージンをチェック可能な構造にすることによ
り、製造時(出荷時)ばかりでなく、ユーザーの使用時
においてもVTマージンチェックが行えるようにするこ
とにより、より信頼性の高いEEPROM回路を経済的
に提供するものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、ドレイン
とコントロールゲートがたすき接続されたフローティン
グゲート型の第1及び第2の記憶用のトランジスタ(以
下、Trという)と、前記第1及び第2の記憶用Trの
ドレインにそれぞれ接続された第1及び第2の選択用T
rとを、有するメモリセルを備えたEEPROM回路に
おいて、次のような手段を講じている。
【0012】即ち、第1及び第2のマージンチェック信
号によりオン、オフ動作して前記第1また第2の記憶用
Trのソースのいずれか一方に一定電圧を印加する第1
及び第2の読出し用Trを設ける。そして、前記一定電
圧が印加される記憶用Trのゲートに前記選択用Trを
介して所定電位を印加し、該記憶用Trの電位を読出し
てそのVTマージンのチェックを行う構成にしている。
【0013】第2の発明は、第1の発明において、前記
第1及び第2の選択用Trのゲートをワード線に、各々
のドレインを相補的な第1及び第2のビット線にそれぞ
れ接続する。そして、第3のマージンチェック信号によ
りオン、オフ動作するたすき接続された一組の負荷用T
rを前記第1及び第2のビット線に接続している。
【0014】
【作用】第1の発明では、第1,第2のマージンチェッ
ク信号により、第1または第2の読出し用Trをオンま
たはオフし、第1または第2の記憶用Trのいずれか一
方の働きを禁止する。そして、動作が禁止されていない
記憶用Trのゲートに、選択用Trを介して所定の電位
を印加した後、該記憶用Trの書込み状態に応じた電位
、あるいは消去状態に応じた電位を読出すことにより、
各記憶用Trの書込みマージ不足、あるいは消去マージ
ン不足のチェックが行える。これにより、製造時ばかり
でなく、使用時にもマージンチェックが容易に行える。
【0015】第2の発明では、第1,第2の記憶用Tr
のVTマージンチェック時に、第3のマージンチェック
信号で、一組の負荷用Trのたすき接続を解除すること
により、第1と第2のビット線相互の影響を受けること
なく、精度のよいマージンチェックが行える。従って、
前記課題を解決できるのである。
【0016】
【実施例】図1は、本発明の一実施例を示すEEPRO
M回路の回路図である。
【0017】このEEPROM回路は、相補的な第1,
第2のビット線BLa,BLb及びワード線WLOに接
続されたメモリセル10と、アドレスADをデコードし
てワード線WLOを選択するワードセレクタ20と、メ
モリセル10に対する書込み電圧及び消去電圧を供給す
る書込み・消去回路50と、データDAi,DAoの入
出力及び読出しデータの検知・増幅を行うデータ入出力
・センス回路80とを、備えている。
【0018】このようなメモリセル10、書込み・消去
回路50、及びデータ入出力・センス回路80を横方向
に複数列配列し、メモリセル10及びワードセレクタ2
0を縦方向に複数列配列することにより、任意のビット
数、例えば数Kビットのメモリセルアレイが構成される
【0019】メモリセル10は、フローティングゲート
型の第1及び第2の記憶用Tr11,12と、第2,第
1のマージンチェック信号MCK2,MCK1によりオ
ン、オフ動作するNチャネル型FETからなる第1及び
第2の読出し用Tr13,14と、ワード線WLOの電
位によりオン、オフ動作するNチャネル型FETからな
る第1及び第2の選択用Tr15,16とを備えている
【0020】記憶用Tr11,12は、そのドレイン及
びコントロールゲートが相互にたすき接続され、その各
ソースが読出し用Tr13,14を介してグランド電位
にそれぞれ接続されている。さらに、記憶用Tr11,
12の各ドレインは、選択用Tr15,16のソース・
ドレインを介してビット線BLa,BLbにそれぞれ接
続されている。
【0021】ワードセレクタ20は、アドレスADをデ
コードするアドレスデコーダ30と、そのアドレスデコ
ーダ出力によりワード線WLOに対する高電圧の印加及
びその放電を行う高電圧スイッチ回路40とで、構成さ
れている。
【0022】アドレスデコーダ30は、アドレスADを
デコードする多入力NANDゲート31、及びその出力
を反転するインバータ32より構成されている。高電圧
スイッチ回路40は、アドレスデコーダ30の出力によ
り活性化され、高電圧VPPの印加により、クロックパ
ルスCK1に基づきワード線WLOを駆動する回路であ
る。
【0023】この高電圧スイッチ回路40は、Nチャネ
ル型FETからなるTr41,44,46、零スレッシ
ョルドFETからなるTr42、キャパシタ43、及び
2入力NANDゲート45より構成されている。零スレ
ッショルドFETは、VTを0V付近(0±0.4V程
度)に制御したものであり、このFETを用いることに
より、電圧損失の少ない効率的な昇圧が可能となる。な
お、Tr44のゲートには、読出し信号SAが印加され
ている。
【0024】書込み・消去回路50は、入力データに応
じた“1”または“0”とクロックパルスCK2との論
理をとる二つの2入力NANDゲート51,52と、ビ
ット線BLa,BLbに直列接続され読出し時“1”と
なる読出し信号SAによりオンするNチャネル型FET
からなる二つの転送用Tr53,54と、NANDゲー
ト51,52の出力によりオン、オフ制御される二つの
昇圧回路60,70とで、構成されている。
【0025】一方の昇圧回路60は、NANDゲート5
1の出力により活性化してビット線BLaに高電圧VP
Pを印加する回路であり、Nチャネル型FETからなる
Tr61,64と、零スレッショルドFETからなるT
r62と、キャパシタ63とで、構成されている。他方
の昇圧回路70は、NANDゲート52の出力により活
性化してビット線BLbに高電圧VPPを印加する回路
であり、一方の昇圧回路60と同様に、Nチャネル型F
ETからなるTr71,74と、零スレッショルドFE
TからなるTr72と、キャパシタ73とで、構成され
ている。
【0026】データ入出力・センス回路80は、書込み
データDAiと消去チェック信号ERCKまたは読出し
モード信号RDMとの論理をとる二つのデータ入力用2
入力NORゲート81,82と、ビット線電位の差動増
幅及び電流/電圧変換を行うPチャネル型FETからな
るたすき接続の負荷用Tr83,84と、第3のマージ
ンチェック信号MCK3によりオフ状態となるPチャネ
ル型FETからなるTr85,87と、第3のマージン
チェック信号MCK3によりオンするNチャネル型FE
TからなるTr86,88と、読出し回路90とで、構
成されている。読出し回路90は、負荷用Tr83,8
4の出力電圧の論理をとる二つの2入力ANDゲート9
1,92と、該ANDゲート91,92の出力の不一致
時に“1”のアラーム信号ARを出力する2入力NOR
ゲート93と、該ANDゲート91,92の出力により
セットまたはリセットされて読出しデータDAoを出力
するフリップフロップ(以下、FFという)94とで、
構成されている。
【0027】このデータ入出力・センス回路80では、
第3のマージンチェック信号MCK3によってTr85
,87をオフし、Tr86,88をオンすることにより
、負荷用Tr83,84のたすき接続を解除できる構成
となっている。
【0028】図2は図1の書込み・消去及び読出し動作
のタイミング図、図3は図1の書込みマージンチェック
動作のタイミング図、及び図4は図1の消去マージンチ
ェック動作のタイミング図であり、これらの図を参照し
つつ、(1)書込み・消去動作、(2)読出し動作、(
3)マージンチェック動作について説明する。
【0029】(1)書込み・消去動作 図2に示すように、先ず、クロックパルスCK1をワー
ドセレクタ20のNANDゲート45に供給すると、例
えばアドレスデコーダ30の出力により選択された高電
圧スイッチ回路40のみが活性化し、ワード線WLOに
高電圧VPPが印加される。すると、メモリセル10,
…内の選択用Tr15,16がオンし、該メモリセル1
0,…が選択状態となる。
【0030】次に、クロックパルスMCK2を書込み・
消去回路50内のNANDゲート51,52に供給する
と、該NANDゲート51,52の作用により、データ
入力用NORゲート81,82の出力に対応して二つの
昇圧回路60,70のいずれか一方が活性化し、ビット
線BLaまたはBLbを高電圧VPPレベルにチャージ
アップすると共に、Tr64または74により、ビット
線BLb,BLaを0Vにする。そのため、選択された
記憶用Tr11,12は、書込みデータDAiに従って
、Tr11のVTが低くなると共にTr12のVTが高
くなる方向、つまりデータの書込みが行われるか、ある
いはTr11のVTが高くなると共にTr12のVTが
低くなる方向、つまりデータの消去が行われることにな
る。
【0031】この書込み・消去動作では、書込みと消去
が同一ワード線WLO,…上において各ビット同時に行
われるので、従来のような書込み後に消去を行うものに
比べ、書込み・消去時間を1/2に短縮できる。
【0032】(2)読出し動作 データを読出す場合、図2に示すように、第1,第2,
第3のマージンチェック信号MCK1,MCK2,MC
K3を“1”にすると共に、読出し信号SAを“1”に
する。すると、メモリセル10内の読出し用Tr13,
14がオンし、記憶用Tr11,12のソースが0Vに
なる。これにより、Tr11,12の記憶内容、つまり
該Tr11,12のVTに対応した電流が、選択用Tr
15,16を通してビット線BLa,BLbに流れる。
【0033】同時に、読出し信号SAによって書込み・
消去回路50内の転送用Tr53,54がオンするので
、ビット線BLa,BLbに流れる電流が、負荷用Tr
83,84により、電圧の形で差動増幅される。すると
、ANDゲート91,92の入力端子には、記憶用Tr
11,12のVTの差に応じた電位差が入力される。 そのため、ビット線BLbの電位に対してビット線BL
aの電位の方が高ければ“1”、低ければ“0”のデー
タDAoを、FF94から読出すことができる。ワード
線WLO,…の選択が終了すると、ワードセレクタ20
,…内のTr46により、該ワード線WLO,…がほぼ
0Vに放電される。
【0034】この読出し動作では、第1及び第2の記憶
用Tr11,12に記憶されたVTの差に対応した電流
を、負荷用Tr83,84で電位差に変換して“1”,
“0”の形で読出す。そのため、劣化により、第1,第
2の記憶用Tr11,12のVTの差が小さくなっても
、相当回数、データを正しく読出すことができ、それに
よってメモリセル10,…の寿命が大幅に改善される。
【0035】しかも、EEPROM回路の使用中におい
て、メモリセル10,…内の片方の記憶用Tr11また
は12が不良になっても、他方の記憶Tr12または1
1のVTが正常であれば、データの読出しを正しく行う
ことができる。そのため、不良率が改善される。さらに
、メモリセル10及びその周辺回路の回路構成が簡単で
あるため、小さな形成面積で、数Kビット程度まで、経
済的に集積化できる。 (3)マージンチェック動作 (3)(a)  書込みマージンチェック動作図3に示
すように、チェックすべきワードアドレスADをワード
セレクタ20内のNANDゲート31に与え、インバー
タ32及びTr44を介して例えばワード線WLOを“
1”にする。次に、書込みデータDAiとして“0”を
データ入出力・センス回路80内のNORゲート81に
与える。同時に、第1のマージンチェック信号MCK1
を“0”、第2のマージンチエック信号MCK2を“1
”とする。すると、読出し用Tr14がオフになり、記
憶用Tr12の動作が禁止され、記憶用Tr11のみが
動作状態となる。一方、書込み・消去回路50内のTr
74,72及びメモリセル10内の選択用Tr16がオ
ンし、記憶用Tr11のゲートにほぼ0Vが印加される
。これにより、記憶用Tr11の書込みの深さに応じた
電位が選択用Tr15を介してビット線BLaに読出さ
れる。
【0036】読出し信号SAを“1”、第3のマージン
チェック信号MCK3を“1”とし、転送用Tr53、
データ入出力・センス回路80内のANDゲート91,
92及びNORゲート93を通してビット線BLa上の
電位を出力することができる。つまり、記憶用Tr11
が正常であればオン状態であり、ビット線BLa,BL
b共に“0”となるので、NORゲート93から出力さ
れるアラーム信号ARが“0”となる。仮に、記憶用T
r11が書込みマージン不足であれば、ビット線BLa
が“0”とならずに“1”となるので、アラーム信号A
Rが“1”となる。
【0037】(3)(b)消去マージンチェック動作消
去マージンチェックを行うには、図4に示すように、“
1”の消去チェック信号ERCKをデータ入出力・セン
ス回路80内のデータ入力用NORゲート81,82に
与え、昇圧回路60,70内のTr74,64,72,
62をオフにする。すると、負荷用Tr84、転送用T
r54及び選択用Tr16を通して、記憶用Tr11の
ゲートには、ほぼ電源電位VDDが印加される。これに
より、選択用Tr15を介してビット線BLaに、該記
憶用Tr11の消去の状態に応じた電位が読出される。
【0038】ビット線BLaに読出された電位は、転送
用Tr53、読出し回路90内のANDゲート91,9
2、及びNORゲート93を介してアラーム信号ARと
して読出すことができる。つまり、記憶用Tr11が正
常であればオフ状態であり、ビット線BLa,BLb共
に“1”となるので、アラーム信号ARが“0”となる
。仮に、記憶用Tr11が消去マージン不足であれば、
ビット線BLaが“1”とならずに“0”となるので、
アラーム信号ARが“1”となる。
【0039】(3)(c)マージンチェックの利点等前
記(3)(a),(b)において、記憶用Tr12の書
込みマージンチェック及び消去マージンチェックは、第
1のマージンチェック信号MCK1を“1”、第2のマ
ージンチェック信号MCK2を“0”として、前記と同
様の操作を行うことで実現できる。
【0040】以上のマージンチェックの操作、つまりマ
ージンチェック信号MCK1,MCK2,MCK3及び
読出し信号SA等の印加手順は、マイクロコンピュータ
等によって簡単に行え、該マイクロコンピュータの操作
手順プログラム等を実行することにより、記憶用Tr1
1,12のVTマージンを容易にチェックできる。その
ため、製造時(出荷時)においては、マージンチェック
によって不良率を改善でき、EEPROM回路の信頼性
をより向上できる。しかも、ユーザー等の使用時にも、
マージンチェックが簡単に行えるので、アラーム信号A
Rによってメモリセル10の劣化や故障を検知できる。
【0041】第3のマージンチェック信号MCK3は、
負荷用Tr83,84のたすき接続を解除するために用
いている。これにより、ビット線BLaとBLbの相互
の影響を受けることなく、マージンチェックを精度よく
行える。
【0042】なお、本発明は上記実施例に限定されず、
種々の変形が可能である。例えば、メモリセル10,…
内のTr13〜16をPチャネル型FET等で構成した
り、あるいはワードセレクタ20、書込み・消去回路5
0、及びデータ入出力・センス回路80を他のトランジ
スタ等を用いて図1以外の回路構成に変形してもよい。
【0043】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1の発明
によれば、第1,第2のマージンチェック信号によりオ
ン、オフ動作する第1,第2の読出し用Trにより、第
1の記憶用TrのVTマージンチェックを行う時には、
第2の記憶用Trの動作を禁止し、第2の記憶用Trの
VTマージンチェックを行う時には、第1の記憶用Tr
の動作を禁止し、該第1,第2の記憶用Trの書込みマ
ージンチェック及び消去マージンチェックを行えるよう
にしている。そのため、第1及び第2の記憶用Trの各
VTのマージンを簡単かつ適確にチェックでき、それに
よって製造時(出荷時)の不良率を改善でき、EEPR
OM回路の信頼性をより向上させることができる。しか
も、使用時においてもVTのマージンチェックが行える
ので、メモリセルの劣化や故障を検知できる。
【0044】第2の発明によれば、第3のマージンチェ
ック信号により負荷用Trのたすき接続を解除できるの
で、第1と第2のビット線相互の影響を受けることなく
、第1と第2の記憶用TrのVTマージンチェックを精
度よく行うことができる。しかも、第1の発明の効果に
加えて、メモリセル及びその周辺回路の回路構成が簡単
になるため、比較的小さな面積で、数Kビット程度まで
、経済的に集積化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示すEEPROM回路の回路
図である。
【図2】図1の書込み・消去及び読出し動作のタイミン
グ図である。
【図3】図1の書込みマージンチェック動作のタイミン
グ図である。
【図4】図1の消去マージンチェック動作のタイミング
図である。
【符号の説明】
10            メモリセル11,12 
     第1,第2の記憶用Tr13,14    
  第1,第2の読出し用Tr15,16      
第1,第2の選択用Tr20            
ワードセレクタ30            アドレス
デコーダ40            高電圧スイッチ
回路50            書込み・消去回路6
0,70      昇圧回路 80            データ入出力・センス回
路83,84      負荷用Tr 90            読出し回路BLa,BL
b  ビット線 WLO          ワード線

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  ドレインとコントロールゲートがたす
    き接続されたフローティングゲート型の第1及び第2の
    記憶用トランジスタと、前記第1及び第2の記憶用トラ
    ンジスタのドレインにそれぞれ接続された第1及び第2
    の選択用トランジスタとを、有するメモリセルを備えた
    EEPROM回路において、第1及び第2のマージンチ
    ェック信号によりオン、オフ動作して前記第1または第
    2の記憶用トランジスタのソースのいずれか一方に一定
    電位を印加する第1及び第2の読出し用トランジスタを
    設け、前記一定電位が印加される記憶用トランジスタの
    ゲートに前記選択用トランジスタを介して所定電位を印
    加し、該記憶用トランジスタの電位を読出してそのスレ
    ッショルド電圧マージンのチェックを行う構成にした、
    ことを特徴とするEEPROM回路。
  2. 【請求項2】  請求項1記載のEEPROM回路にお
    いて、前記第1及び第2の選択用トランジスタのゲート
    をワード線に、各々のドレインを相補的な第1及び第2
    のビット線にそれぞれ接続し、第3のマージンチェック
    信号によりオン、オフ動作するたすき接続された一組の
    負荷用トランジスタを前記第1及び第2のビット線に接
    続した、ことを特徴とするEEPROM回路。
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