JPH04278220A - 磁気ディスク、浮上型磁気ヘッドおよび磁気記録再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、剛性のディスク基板上
に連続薄膜の磁性層を有する、いわゆるハードタイプの
磁気ディスクと、浮上型磁気ヘッドと、磁気ディスク上
に浮上型磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行なう磁気
記録再生方法とに関する。

【０００２】

【従来の技術】計算機等に用いられる磁気ディスク駆動
装置には、剛性基板上に磁性層を設層したハードタイプ
の磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとが用いられている
。

【０００３】このような磁気ディスク駆動装置において
は従来、塗布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁
気ディスクの大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の
点で有利なことから、スパッタ法等の気相成膜法等によ
り設層される連続薄膜の磁性層を有する薄膜型磁気ディ
スクが用いられるようになっている。

【０００４】薄膜型磁気ディスクとしては、Ａｌ系のデ
ィスク状金属板にＮｉ−Ｐ下地層をめっきにより設層す
るか、あるいはこの金属板表面を酸化してアルマイトを
形成したものを基板とし、この基板上にＣｒ層、Ｃｏ−
Ｎｉ等の強磁性金属薄膜の磁性層、さらにＣ等の保護潤
滑膜をスパッタ法により順次設層して構成されるものが
一般的である。

【０００５】また、浮上型磁気ヘッドは浮力を発生する
スライダを有する磁気ヘッドであり、コアがスライダと
一体化されたコンポジットタイプのもの、あるいはコア
がスライダを兼ねるモノリシックタイプのものが通常用
いられる。

【０００６】さらに、これらの他、高密度記録が可能で
あることから、いわゆる浮上型薄膜磁気ヘッドが注目さ
れている。浮上型薄膜磁気ヘッドは、基体上に磁極層、
ギャップ層、コイル層などを気相成膜法等により形成し
たものである。このような浮上型薄膜磁気ヘッドでは、
基体がスライダとしてはたらく。

【０００７】近年、磁気ディスク駆動装置では、高密度
記録を可能とするために磁気ヘッドを磁気ディスクへ近
づけ、浮上量を極めて小さく設定する方向にある。

【０００８】また、磁気ディスク駆動装置の高速化に対
し、データ転送速度の向上、シーク時間の短縮、回転待
ち時間の短縮が重要視されている。このうち、シーク時
間の短縮に関し、特に磁気ヘッドの低浮上量化が進み、
ディスク最内周での浮上量が０．１５μｍ　以下、さら
に０．１０μｍ　以下、特に０．０５μｍ　以下の場合
には、磁気ヘッドと磁気ディスクの界面における潤滑性
が重要な位置づけとなる。

【０００９】そこで、本発明者らは、磁気ディスクの表
面に保護潤滑膜を形成し、この潤滑膜の潤滑作用により
、安定したシーク特性を得ることを追究した。

【００１０】ところで、保護潤滑膜に関しては、本発明
者らは、特開平２−１９８００１号公報により、化４で
示される化合物の保護潤滑膜を有する磁気ディスクや磁
気ヘッド、さらにはこれらを用いた磁気記録再生方法を
提案している。

【００１１】

【化４】

【００１２】この場合、前記公報には、常温で固体の化
合物の保護潤滑膜の具体例のみが開示されている。

【００１３】しかし、前記公報に記載されている固体の
保護潤滑膜は、比較的低い初期の摩擦係数を有している
が、ディスク表面での動的な自由度がないためか、シー
ク時ないしシーク特性試験においてヘッドクラッシュを
生じやすい。

【００１４】また、固体の保護潤滑膜をスピンコート法
やディップ法で成膜する場合は、膜の化合物が結晶化し
、ディスク表面に大きなムラが生じやすい。また、ＬＢ
（ラングミュア・ブロジェット）法で成膜する場合は、
化４で示され、常温で固体の化合物は、累積したときの
配向性が良くないため、ディスク表面にムラが生じてし
まう。こように前記の化合物の固体の保護潤滑膜は、表
面平滑性が悪いため、低浮上量になると、シーク時にヘ
ッドクラッシュを生じやすい。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、表面
平滑性が良く、均一な保護潤滑膜を有し、初期の摩擦係
数が低く、しかも安定したシーク特性が確保できる磁気
ディスクと、浮上型磁気ヘッドと、前記磁気ディスクや
浮上型磁気ヘッドを用いた磁気記録再生方法とを提供す
ることにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（５）の本発明により達成される。

【００１７】（１）剛性のディスク基板上に連続薄膜の
磁性層を有する磁気ディスクであって、前記磁性層上に
、化５で示され、常温で液体の化合物の保護潤滑膜を有
することを特徴とする磁気ディスク。

【００１８】

【化５】

【００１９】（２）少なくとも浮揚面側に、化６で示さ
れ、常温で液体の化合物の保護潤滑膜を有することを特
徴とする浮上型磁気ヘッド。

【００２０】

【化６】

【００２１】（３）剛性のディスク基板上に連続薄膜の
磁性層を有する磁気ディスクを回転させ、前記磁気ディ
スク上に浮上型磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行な
う磁気記録再生方法であって、前記磁気ディスクの磁性
層上および／または前記浮上型磁気ヘッドの少なくとも
浮揚面側に、化７で示され、常温で液体の化合物の保護
潤滑膜を有することを特徴とする磁気記録再生方法。

【００２２】

【化７】

【００２３】（４）前記磁気ディスクの表面と前記浮上
型磁気ヘッドの表面とが非接触状態で起動、停止を行な
う上記（３）に記載の磁気記録再生方法。

【００２４】（５）前記浮上型磁気ヘッドのディスク最
内周での浮上量が０．１０μｍ　以下である上記（３）
または（４）に記載の磁気記録再生方法。

【００２５】

【作用】

【００２６】本発明の磁気ディスクおよび浮上型磁気ヘ
ッドは、常温で液体の所定の化合物を単独で用いた保護
潤滑膜を有する。このように本発明では、液体の化合物
を用いるため、表面平滑性が良い均一な保護潤滑膜を形
成でき、しかもディスク表面、ヘッド表面において、保
護潤滑膜内に分子内の自由度が存在する。

【００２７】このため、初期の摩擦係数が低く、シーク
ないしシーク特性試験において、磁気ヘッドを安定に動
作させることができ、初期摩擦係数が低いので磁気ヘッ
ドの附着を防止できる。

【００２８】また、磁気ディスクや磁気ヘッドに形成さ
れる保護潤滑膜は、前記のとおり初期の摩擦係数が低い
ため、種々の磁気ディスクや磁気ヘッドに適用しても良
好な保護潤滑効果を発揮する。

【００２９】このため磁気ディスクや磁気ヘッドの選択
の自由度がきわめて広いものとなる。

【００３０】また、本発明の磁気ディスクや磁気ヘッド
は、初期の摩擦係数が低いため、特に浮上型磁気ヘッド
を磁気ディスクと非接触状態で起動、停止する、いわゆ
るダイナミックローディング方式ないしランプローディ
ング方式のハードディスクシステムにおいて高い効果を
発揮する。より詳細には、ダイナミックローディング方
式のハードディスクシステムでは、たとえ磁気ディスク
と磁気ヘッドとが接触したとしても短時間であるため、
起動・停止を１０万回、さらには１００万回行なったと
きの総接触時間は、ＣＳＳの場合に比べてきわめて短か
い。このため、起動・停止を１０万回、さらには１００
万回行なった後でも摩擦係数を初期の低い値のまま保持
できる。しかも表面性が良好なためシーク特性において
磁気ヘッドを安定に動作させることができる。

【００３１】このように、前記磁気ディスクおよび／ま
たは前記浮上型磁気ヘッドを用いた本発明の磁気記録再
生方法、特にダイナミックローディング方式を採用した
本発明の磁気記録再生方法によれば、シーク特性でのヘ
ッドクラッシュを防止でき、磁気ヘッドを安定に動作さ
せることができるため、耐久信頼性が格段と向上する。

【００３２】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００３３】本発明の磁気ディスク１は、図１に示され
るように、剛性のディスク基板１２上に、連続薄膜の磁
性層１３を有する。

【００３４】そして、磁性層１３上に、固体保護層１４
と、保護潤滑膜１５とを、この順で設ける。または、磁
性層１３上に、固体保護層１４を設層せず、保護潤滑膜
１５を設ける。

【００３５】この場合、磁気ディスク１は、図示のよう
にディスク基板１２の両側に磁性層１３を設層した両面
記録型の磁気ディスクであってもよく、ディスク基板１
２の一方の側だけに磁性層１３を設層した片面記録型の
磁気ディスクであってもよい。

【００３６】保護潤滑膜１５に用いる化合物は、化８で
示され、常温で液体の化合物の１種以上、より好ましく
は１種である。

【００３７】

【化８】

【００３８】化８において、Ｒ１　およびＲ２　は、そ
れぞれ、炭素原子数４〜８のアルキル基を表わすが、特
にＣＨ３　（ＣＨ２　）ｎ　−（ｎ＝３〜７）で示され
る直鎖の飽和アルキル基であることが好ましい。

【００３９】また、Ｒ１　とＲ２　とは互いに異なるも
のであってもよく、あるいは同一のものであってもよい
。

【００４０】また、保護潤滑膜１５は、実質的に前記化
８の分岐アルキル脂肪酸のみから形成される。前記化８
で示される化合物以外の化合物を併用して保護潤滑膜を
形成しても本発明の効果は得られない。この場合、実質
的に化８の分岐アルキル脂肪酸のみから形成されるとは
、塗布用溶液の溶媒や微量添加物等を除き、化８で示さ
れる化合物以外を含まない意味である。

【００４１】本発明に用いられる、化８で示され、常温
で液体の化合物の好適例としては、

【化９】 等が挙げられる。

【００４２】これらの化合物は、菌体細胞膜構成成分と
して天然に存在するものがある他、Ｔｅｔｒａｈｙｄｒ
ｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ　４９　４８９９（１９８７）　
や、日本化学会第５７秋季大会１Ｆ４３４、２ＩＩＨ３
５（１９８８）等に従い、容易に合成することができる
。

【００４３】本発明において保護潤滑膜１５の厚さは５
０Ａ以下、特に４〜５０Ａ程度であることが好ましい。 ４Ａ未満では十分な本発明の効果が得られず特に耐久性
が劣り、５０Ａをこえると、かえって摩擦を増加させて
しまい、また吸着が発生し、磁気ヘッドのクラッシュを
起こす場合があり、しかもスペーシングロスのため記録
再生出力が低下してしまう。なお、より好ましい膜厚は
５〜５０Ａであり、さらに好ましい膜厚は５〜４０Ａで
あり、特に好ましい膜厚は１０〜３０Ａである。

【００４４】保護潤滑膜１５の形成方法に特に制限がな
いが、特に塗布法を用いることが好ましい。

【００４５】また、塗布法としては、スピンコート法、
ディップ法、スプレーコート法等を適宜選択すればよい
。

【００４６】塗布溶液の溶媒としては、炭化水素系（キ
シレン、ベンゼン等）、ハロゲン化炭化水素系（クロロ
ホルム等の塩素化物溶剤、フロン等のフッ素化物溶剤等
）、ニトロ化炭化水素系（ニトロベンゼン等）、アルコ
ール類系（エチルアルコール、メチルアルコール、プロ
ピルアルコール等）、ケトン類系（アセトン等）、複素
環化合物系（キノリン等）、アミン類系、エーテル類系
、エステル類系、酸類系などが挙げられる。

【００４７】本発明の磁気ディスク１のディスク基板１
２の材質には特に制限がなく、各種の金属、ガラス、セ
ラミック、樹脂等磁気ディスクの剛性基板として従来用
いられている材質を用いればよいが、研磨が容易で表面
粗さの制御が簡単であることなどから、ガラスを用いる
ことが好ましい。ガラス基板は他のものに比べ固いため
、平坦度が得られやすく高速回転時の偏心、面ぶれがな
く、特に低浮上量用として適している。

【００４８】ガラスとしては、強化ガラス、特に、化学
強化法による表面強化ガラスを用いることが好ましい。 表面強化ガラスについては、特開昭６２−４３８１９号
公報、同６３−１７５２１９号公報に記載されている。 なお、前記公報に記載されている範囲以外でも、強化層
についてはガラス基板の品質改良がすすみ、より薄層化
しても対処出来るようになってきている。

【００４９】ディスク基板１２の表面粗さには、特に制
限がないが、浮上量を０．１０μｍ以下にする場合、完
成した磁気ディスク１の表面粗さＲｍａｘが３００Ａ以
下の所望の値となるように設定することが好ましい。こ
の場合、例えば、ディスク基板１２の表面粗さＲｍａｘ
　は、２００Ａ以下、より好ましくは１００Ａ以下に設
定することが好ましい。また、後述するダイナミックロ
ーディング方式を採用する場合には、Ｒｍａｘ　は小さ
い程好ましいが、現実的なＲｍａｘ　の下限は１０Ａ程
度である。なお、Ｒｍａｘ　は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１
に従い測定すればよい。

【００５０】このような表面粗さは、例えば、特開昭６
２−４３８１９号公報、同６３−１７５２１９号公報に
記載されているようなメカノケミカルポリッシング、従
来のガラス研磨などにより得ることができる。

【００５１】ディスク基板１２は、ディスク状とし、そ
の寸法は、目的や用途等に応じて適宜選択すればよいが
、通常、外径２５〜３００ｍｍ程度、厚さ０．３〜５ｍ
ｍ程度である。

【００５２】ディスク基板１２上には、連続薄膜の磁性
層１３が設層される。この場合、磁性層１３は、面内記
録用であっても、垂直記録用であってもよく、さらには
、材質が金属であっても酸化物であってもよく、目的等
に応じて適宜選択される。

【００５３】面内記録用の磁性層１３としては、無配向
または膜面と平行な方向に磁化容易軸を有する、強磁性
金属薄膜、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜等、好ましく
はディスク周方向に磁化容易軸を有する強磁性金属薄膜
、酸化鉄を主成分とする磁性薄膜等を用いる。

【００５４】強磁性金属薄膜としては、例えば、Ｆｅ、
ＣｏおよびＮｉから選ばれる１種以上を含有する連続薄
膜、特にＣｏ系の連続薄膜が好ましい。組成の具体例と
しては、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金、Ｃｏ
−Ｖ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｐ合金、Ｃｏ−
Ｃｕ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｚｎ−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ
合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｚｒ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｍｎ−Ｒｅ−Ｐ合金等が挙げられる。なお、これ
ら合金には、必要に応じ、Ｏ、Ｎ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｎ、
Ａｒ、Ｂ、Ｃ等の他の元素が含有されていてもよい。

【００５５】磁性層１３の膜厚は、磁気特性、電磁変換
特性等を考慮して、２００〜１０００Ａ、特に２００〜
８００Ａが好ましい。

【００５６】酸化鉄を主成分とする磁性薄膜の磁性層の
場合、膜厚は、生産性磁気特性等を考慮して、５００〜
３０００Ａ程度が好ましい。磁性層１３中には必要に応
じてＣｏ、Ｔｉ、Ｃｕ等を添加してもよく、また成膜雰
囲気中に含まれるＡｒ等が含有されていてもよい。酸化
鉄を主成分とする磁性層は、特開昭６２−４３８１９号
公報等に記載されている。

【００５７】また、ディスク基板１２と、磁性層１３と
の間には、必要に応じて、非磁性中間層が設けられる。 非磁性中間層を設けることにより、磁性層１３のエピタ
キシャル成長を良好に行なうことができ、磁気特性が向
上する場合があり、また、基板の密着性も向上するため
、より好ましいディスクが実現する。

【００５８】非磁性中間層は、例えば、Ｃｒ、Ｍｏおよ
びＷから選ばれる１種以上を含有する連続薄膜にて構成
すればよい。この場合、用いる金属は単体でも合金でも
よい。

【００５９】非磁性中間層の膜厚は、２００〜３０００
Ａが好ましい。

【００６０】なお、必要に応じて設けられる非磁性中間
層とディスク基板１２との間や、磁性層１３とディスク
基板１２との間には、各種下地層を設けてもよい。

【００６１】下地層は、Ａｌ系のディスク基板を用いる
場合、Ａｌ基板の表面性が悪いため、例えば、Ｎｉ−Ｐ
めっき膜等を形成し、表面研磨を行なって平面を平滑化
するために設けられる。

【００６２】次に垂直記録用の磁性層１３としては、膜
面と垂直方向に磁化容易軸を有する垂直磁化膜を用いる
。

【００６３】垂直磁化膜としては、強磁性金属薄膜が好
ましく、例えば、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉから選ばれる１
種以上を含有する連続薄膜、特にＣｏ系の連続薄膜が好
ましい。

【００６４】この場合、Ｃｏ系合金としては、Ｃｏ−Ｃ
ｒ系合金が好ましい。そして、Ｃｏ−Ｃｒ系合金として
は、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｍｎ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｍｎ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−
Ｔａ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｓｉ−Ａｌ合金等が好ましい。

【００６５】なお、Ｃｏ−Ｃｒ系合金中のＣｒ含有率は
、１６〜２３ａｔ％　程度であることが好ましい。

【００６６】また、Ｃｏ−Ｃｒ系合金の他、Ｃｏ−Ｖ系
合金も好ましく用いることができる。

【００６７】なお、これら合金には、必要に応じ、Ｏ、
Ｎ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｎ、Ａｒ等が含有されていてもよい
。

【００６８】垂直磁化膜の垂直方向保磁力は４００　Ｏ
ｅ　以上であることが好ましい。なお、垂直方向保磁力
の上限は特にないが、通常１５００　Ｏｅ程度まで容易
に製造することができる。

【００６９】垂直磁化膜の厚さは磁気特性、電磁変換特
性等を考慮して２００〜２０００Ａであることが好まし
い。

【００７０】このように垂直磁化膜の磁性層１３を形成
する場合、再生出力の向上のため、磁性層１３下に、軟
磁性膜を設けることが好ましい。

【００７１】軟磁性膜の構成材質としては、Ｎｉ−Ｆｅ
系合金が好ましい。

【００７２】Ｎｉ−Ｆｅ系合金としては、Ｎｉ−Ｆｅ合
金（パーマロイ）、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｍｏ合金、Ｎｉ−Ｆｅ
−Ｃｒ合金、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｎｂ合金、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｍｎ
−Ｃｕ合金、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｍｏ−Ｎｂ合金、Ｎｉ−Ｆｅ
−Ｍｏ−Ｃｕ合金、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金等を好
ましく用いることができる。

【００７３】また、Ｎｉ−Ｆｅ系合金の他、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｖ系合金も好ましく用いることができる。

【００７４】なお、これら合金には、必要に応じ、Ｔｉ
、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｃ、Ｏ、Ｎ、Ａｒ、
Ｃａ、Ｃｒ等が含有されていてもよい。

【００７５】軟磁性膜の面内方向の保磁力は、６〜２０
　Ｏｅ　であることが好ましい。また、軟磁性膜の膜厚
は１０００〜５０００Ａであることが好ましい。

【００７６】なお、軟磁性膜と基板１２との間には、各
種下地層を設けてもよい。下地層は、例えばＣｒ、Ｔｉ
、Ｗ、Ｎｉ−Ｆｅ系合金あるいはＮｉ−Ｐめっき膜等か
ら構成すればよい。

【００７７】前記の磁性層１３、非磁性中間層および軟
磁性膜の成膜は、それぞれ、公知の気相成膜法等、特に
スパッタリングにて行なえばよい。

【００７８】本発明の磁気ディスク１では、例えばＣＳ
Ｓ（コンタクト・スタ−ト・ストップ）方式を採用する
場合、磁性層１３上に、厚さ３００Ａ以下、特に１００
〜２００Ａの固体保護層１４を設層することが好ましい
。

【００７９】そして、特に後述するダイナミックロ−デ
ィング方式を採用する場合、磁性層１３上に、固体保護
層１４を厚さ３００Ａ以下、特に８０Ａ以下、さらには
５０Ａ以下、とりわけ２０Ａ以下に設層するか、または
全く設層しないことが好ましい。

【００８０】固体保護層１４は、従来、固体保護層とし
て公知のＳｉ、Ａｌ、ＯおよびＮを含むいわゆるサイア
ロン、酸化物、窒化物、炭化物、炭素、ケイ化物等や、
これらの混合物など、各種無機保護膜で構成すればよい
。

【００８１】固体保護層１４を設けることにより、磁性
層１３への傷の発生を有効に防止でき、磁気ディスク１
の耐久性がより一層向上するが、本発明では、ディスク
の表面粗さＲｍａｘ　を所定値に規制し、後述するダイ
ナミックローディング方式を採用して、記録再生を行な
うことによって、固体保護層１４を薄層化してもまたは
固体保護層１４を設層しなくても十分な傷防止能が得ら
れ、しかも薄層化または設層しないことによりスペーシ
ングロスが低下し、記録再生出力が格段と向上する。

【００８２】なお、固体保護層１４の設層には、スパッ
タリング等の各種気相成膜法を用いればよい。

【００８３】磁性層１３上、固体保護層１４を設層する
場合は、固体保護層１４上には、前記のとおり化８で示
される所定の保護潤滑膜１５が設けられる。

【００８４】本発明では、特にダイナミックローディン
グ方式を採用する場合、磁気ディスク１の磁性層１３側
の表面粗さには特に制限がないが、浮上量を０．１０μ
ｍ　以下とする場合、表面粗さＲｍａｘ　を３００Ａ以
下、より好ましくは２００Ａ以下、特に好ましくは１０
０Ａ以下とすることが好ましい。

【００８５】磁気ヘッドのディスク最内周での浮上量を
小さく、特に０．１０μｍ　以下に規制する場合、後述
するダイナミックローディングにより浮上型磁気ヘッド
を浮上させる際、磁気ヘッドが磁気ディスク１の表面に
衝突したり、接触したりするので、磁性層１３側のＲｍ
ａｘ　が前記範囲を超えると、磁性層１３に傷が発生し
、ディスクの耐久性が低下する。しかもアクセス時間が
長くなる。

【００８６】また、ダイナミックローディングでは、Ｃ
ＳＳの場合のような磁気ヘッドと磁気ディスクとの吸着
の問題がないため、磁性層１３側のＲｍａｘ　は小さい
程好ましい。このためＲｍａｘ　の下限には特に制限が
ないが、現実的なＲｍａｘ　の下限は１０Ａ程度である
。

【００８７】次に、本発明の浮上型磁気ヘッドについて
説明する。

【００８８】本発明の浮上型磁気ヘッドは、浮揚面上な
いし浮揚面側に前述した保護潤滑膜を有する。この場合
、面内記録用の磁気ヘッドであっても垂直記録用の磁気
ヘッドであってもよい。

【００８９】また、本発明の浮上型磁気ヘッドは、公知
のコンポジット型の浮上型磁気ヘッド、モノリシック型
の浮上型磁気ヘッド等でもよいが、特に浮上型薄膜磁気
ヘッドの場合に、極めて高い効果を示す。

【００９０】図２に、本発明の浮上型磁気ヘッドの好適
実施例である面内記録用の薄膜型の浮上型磁気ヘッドの
１例を示す。

【００９１】図２に示される浮上型磁気ヘッド２は、基
体２１上に、絶縁層２２、下部磁極層２５、ギャップ層
２７、絶縁層２３、コイル層２８、絶縁層２４、上部磁
極層２６および保護層２９を順次有する。そして、少な
くともフロント面側（図中左側）、すなわち浮揚面側に
、前述した保護潤滑膜２０を有する。保護潤滑膜２０の
膜厚は前記と同様所定の範囲内であることが好ましい。

【００９２】コイル層２７の材質には特に制限はなく、
通常用いられるＡｌ、Ｃｕ等の金属を用いればよい。

【００９３】コイルの巻回パターンや巻回密度について
も制限はなく、公知のものを適宜選択使用すればよい。 例えば巻回パターンについては図示のスパイラル型の他
、積層型、ジグザグ型等いずれであってもよい。

【００９４】また、コイル層２７の形成にはスパッタ法
等の各種気相成膜法を用いればよい。

【００９５】基体２１すなわちスライダは、Ａｌ２　Ｏ
３　−ＴｉＣを主成分とするセラミックス等の各種セラ
ミックス、非磁性フェライト等公知の基体材料で構成す
ればよい。

【００９６】下部および上部磁極層２５、２６の材料と
しては、従来公知のものはいずれも使用可能であり、例
えばパーマロイ、センダスト、Ｃｏ系非晶質磁性合金等
を用いることができる。

【００９７】磁極は通常、図示のように下部磁極層２５
および上部磁極層２６として設けられ、下部磁極層２５
および上部磁極層２６の間にはギャップ層２７が形成さ
れる。

【００９８】ギャップ層２７は、Ａｌ２　Ｏ３　、Ｓｉ
Ｏ２　等公知の材料であってよい。

【００９９】これら磁極層２５、２６およびギャップ層
２７のパターン、膜厚等は公知のいずれのものであって
もよい。

【０１００】さらに、図示例ではコイル層２８は、いわ
ゆるスパイラル型として、スパイラル状に下部および上
部磁極層２５、２６間に配設されており、コイル層２８
と下部および上部磁極層２５、２６間には絶縁層２３、
２４が設層されている。

【０１０１】また下部磁極層２５と基体２１間には絶縁
層２２が設層されている。

【０１０２】絶縁層の材料としては従来公知のものはい
ずれも使用可能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法
により行なうときには、ＳｉＯ２　、ガラス、Ａｌ２　
Ｏ３　等を用いることができる。

【０１０３】また、上部磁極２６上には保護層２９が設
層されている。保護層の材料としては従来公知のものは
いずれも使用可能であり、例えばＡｌ２　Ｏ３　等を用
いることができる。また、これらに各種樹脂コート層等
を積層してもよい。

【０１０４】このような薄膜型の浮上型磁気ヘッド２の
製造工程は、通常、薄膜作成とパターン形成とから構成
される。

【０１０５】上記各層を構成する薄膜の作製には、上記
したように、従来公知の気相成膜法、例えば真空蒸着法
、スパッタ法、あるいはメッキ法等を用いればよい。

【０１０６】浮上型磁気ヘッド２の各層のパターン形成
は、従来公知の選択エッチングあるいは選択デポジショ
ンにより行なうことができる。エッチングとしてはウェ
ットエッチングやドライエッチングを用いることができ
る。

【０１０７】浮上型磁気ヘッド２のスライダのディスク
対向面の全投影面積は、２ｍｍ２　以下、より好ましく
は１．５ｍｍ２　以下、特に好ましくは１．０ｍｍ２　
以下が好ましい。面積が前記範囲をこえると、磁気ディ
スクの衝撃が増大し、媒体表面にスジ傷が入る傾向にあ
る。この他、小型化するので、基板材ウエハより、多数
個のヘッドが得られ、コストが低減でき、またドライブ
に組込んだとき、従来のヘッドより、最内周や最外周部
にシリンダを増設でき、ディスク面あたりの容量を増大
することができる。

【０１０８】低浮上領域、特に浮上量０．１μｍ　以下
において、このような寸法の浮上型磁気ヘッド２を用い
ることにより、前記のように、浮上型磁気ヘッド２が、
例えば表面粗さＲｍａｘ　が３００Ａ以下の磁気ディス
ク１と接触ないし衝突した際のディスクの磁性層の受け
る衝撃等を減少させることができ、例えば強磁性金属薄
膜の磁性層の弱さをカバーでき、高耐久信頼性を有する
磁気記録再生装置が新技術として実現する。

【０１０９】また、垂直記録用の浮上型磁気ヘッドの場
合も例えば従来公知の磁気ヘッドの何れでもよいが、薄
膜型の浮上型磁気ヘッド、特に軟磁性材料からなるリタ
ーンパス部を有し、主磁極およびコイルが薄膜で構成さ
れている薄膜型の主磁極励磁型単磁極ヘッドの場合に極
めて高い効果を示す。

【０１１０】図３に、このような垂直記録用の浮上型磁
気ヘッドの好適例の部分断面図を示す。

【０１１１】図３において、浮上型磁気ヘッド３は、基
体３１上に、絶縁層３５で被覆された第１磁性層３２、
第２磁性層３３およびコイル層３４を有し、第１磁性層
３２および第２磁性層３３が主磁極を構成している。絶
縁層３５上には、接着剤層３７により磁性体３９が接着
され、リターンパス部を構成している。そして、少なく
ともフロント両側（図中左側）、すなわち浮揚面側に、
前述した保護潤滑膜３０を有する。

【０１１２】基体３１すなわちスライダの材質や面積等
の諸条件は、前記の面内記録用の浮上型磁気ヘッドと同
様とすればよい。

【０１１３】第１磁性層３２および第２磁性層３３の材
料としては、従来公知のものはいずれも使用可能であり
、例えばパーマロイ、センダスト、Ｃｏ系非晶質磁性合
金等を用いることができる。

【０１１４】コイル層３４の材質に特に制限はなく、通
常用いられるＡｌ、Ｃｕ等の金属を用いればよい。

【０１１５】コイル層３４の巻回パターンや巻回密度に
ついても制限はなく、公知のものを適宜選択使用すれば
よい。例えば巻回パターンについては図示のスパイラル
型の他、積層型、ジグザグ型等いずれであってもよい。

【０１１６】絶縁層３５の材料としては従来公知のもの
はいずれも使用可能であり、例えば、絶縁層３５の形成
をスパッタ法により行なうときには、ＳｉＯ２　、ガラ
ス、Ａｌ２　Ｏ３　等を用いることができるが、耐摩耗
性を向上させるために、ビッカース硬度８００ｋｇｆ／
ｍｍ２以上のＡｌ２　Ｏ３　を用いることが好ましい。

【０１１７】磁性体３９は、図示のように、磁気ディス
ク１側の端面をフロント面より後退させることが好まし
い。このように構成することにより、ドロップインエラ
ーが防止でき、また、接着剤層３７がにじみ出たり、接
着剤層３７にゴミが付着した場合でも、フロント面への
悪影響がなく、走行性やヘッドタッチを悪化させること
がない。

【０１１８】なお、接着剤層３７は必ずしも設ける必要
はなく、磁性体３９と絶縁層３５とを機械的な手段によ
り結合してもよい。

【０１１９】磁性体３９を構成する軟磁性材料には、Ｍ
ｎ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト、パー
マロイ等を用いればよい。

【０１２０】このような垂直記録用の薄膜型の浮上型磁
気ヘッド３の製造は、前記の面内記録用の浮上型磁気ヘ
ッドと同様に行なえばよい。

【０１２１】本発明の浮上型磁気ヘッドは、図４に示さ
れるように、ヘッド支持部４、例えばアーム等の従来公
知のアセンブリー等と組み合わせて、例えばＣＳＳ方式
、ダイナミックローディング方式等のハードディスクシ
ステムとして使用される。

【０１２２】本発明の磁気記録再生方法では、前述した
本発明の磁気ディスクおよび／または本発明の浮上型磁
気ヘッド、より好ましくは本発明の磁気ディスク、特に
好ましくは本発明の磁気ディスクおよび本発明の浮上型
磁気ヘッドを用いる。そして、磁気ディスクを回転させ
、この磁気ディスク上に浮上型磁気ヘッドを浮上させて
記録再生を行なう。

【０１２３】ディスク回転数は１０００〜６０００ｒｐ
ｍ　程度、面内記録の場合は特に２０００〜４０００ｒ
ｐｍ　程度、垂直記録の場合は特に１０００〜４０００
ｒｐｍ　程度が好ましい。

【０１２４】また、ディスク最内周での浮上量（磁気デ
ィスクの表面と浮上型磁気ヘッドの浮揚面との距離）は
、高密度記録等の点から、０．１０μｍ　以下、より好
ましくは０．０８μｍ　以下、さらに好ましくは０．０
５μｍ以下が好ましい。本発明の磁気ディスクや浮上型
磁気ヘッドを使用することにより、前記浮上量であって
も表面性が良好なため良好なシーク特性が得られ、ヘッ
ドクラッシュを防止できる。

【０１２５】浮上量の調整は、浮上型磁気ヘッドのスラ
イダの媒体対向面積、ブレンディングやチャンファーや
クラウンや磁気ヘッドへの荷重を変えることなどによっ
て行なう。

【０１２６】次に、浮上型磁気ヘッドと、磁気ディスク
の表面とが、非接触状態で起動、停止を行ない、回転し
ている磁気ディスク上に浮上型磁気ヘッド、特に薄膜型
の浮上型磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行なう、い
わゆるダイナミックローディング方式について、図４〜
図８に磁気記録再生装置の好適例を示し、以下図示例に
従って説明する。

【０１２７】図４および図５に示される磁気記録再生装
置は、ダイナミックローディング方式の１つであるリフ
ター駆動の場合の好適実施例であり、磁気ディスク１と
、浮上型磁気ヘッド２と、浮上型磁気ヘッド２の位置を
制御するためのヘッド位置制御手段であるリフター６１
およびリフター駆動装置６５とを有する。そして、磁気
ディスク１は、図示しないモータに連結しているスピン
ドル５に固定される。また、ヘッド支持部４にとりつけ
られた浮上型磁気ヘッド２は、リフター６１およびリフ
ター駆動装置６５により制御される。

【０１２８】停止中は、リフター６１の支持によって、
浮上型磁気ヘッド２はディスク面から引き上げられてお
り、起動時には、磁気ディスク１が回転し、所望の回転
数に達したとき、リフター駆動装置６５によってヘッド
２を支持しているリフター６１を所望のシリンダ位置ま
で図５矢印ａ方向に機械的に移動した後、リフター６１
の支持が解除される。このとき、浮上型磁気ヘッド２は
下降して、好ましくは０．１０μｍ　以下の低浮上量領
域になるように回転中の磁気ディスク１上に浮上し、所
望のシリンダ位置にて記録、再生が行なわれる。

【０１２９】この場合、リフター６１の支持が解除され
てヘッド２が下降し、安定浮上する過程においては、浮
上量はサブミクロン台にて制御されるため、ヘッド２は
、ディスク１と瞬時衝撃ないし接触し、その後安定浮上
する。

【０１３０】停止時は、前記と逆であり、リフター６１
によりヘッド２を持ち上げた状態でディスク１の回転を
停止する。

【０１３１】なお、浮上型磁気ヘッド２の接近速度の磁
気ディスク１主面と垂直方向の速度成分は、５ｍｍ／秒
以下が好ましい。

【０１３２】図６〜図８には、ダイナミックローディン
グ方式と同様、ないしそれに属する方式であるランプ方
式の磁気記録再生装置の好適実施例が示される。

【０１３３】図６および図８に示されるように、停止中
は、磁気ヘッド２は、ヘッド位置制御手段としてのラン
プロ−ド台６３上に載置されている。

【０１３４】図７は、図６中のＡ−Ａ線での断面図であ
り、図示されるようにランプロード台６３には傾斜が付
けられている。

【０１３５】起動時には、磁気ディスク１が回転すると
、磁気ヘッド２は、ランプロード台６３の傾斜に沿って
移動し、回転中の磁気ディスク１上に浮上する。停止時
には、起動時と同様、磁気ヘッド２は、浮上中にソフト
コントロール制御により、ディスク１の外周側へ移動さ
れた後、ランプロード台６３の傾斜面を昇りランプロー
ド台６３上に載置固定される。

【０１３６】なお、磁気記録再生装置のダイナミックロ
ーディングないしランプローディングの機構には特に制
限がなく、前記のほか、従来公知の何れのものであって
もよい。

【０１３７】ダイナミックローディング方式を採用する
ことによって、初期の摩擦係数が低い本発明の特徴を最
大限に発揮させることができるため、より一層優れたシ
ステムが実現する。

【０１３８】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。

【０１３９】実施例１ 〈磁気ディスクサンプルの作製〉外径６５ｍｍ、厚さ０
．６３５ｍｍのディスク状のアルミノケイ酸ガラス基板
を研磨し、さらに化学強化処理を施した。化学強化処理
は、４５０℃の溶融硝酸カリウムに１０時間浸漬するこ
とにより行なった。

【０１４０】次いで、このガラス基板表面をメカノケミ
カルポリッシングにより平滑化した。メカノケミカルポ
リッシングには、コロイダルシリカを含む研磨液を用い
た。

【０１４１】研磨後の表面粗さ（Ｒｍａｘ　）は２０Ａ
であった。

【０１４２】ガラス基板を洗浄後、ガラス基板上に、非
磁性中間層、磁性層、固体保護層および保護潤滑膜を順
次形成し、磁気ディスクを得た。

【０１４３】非磁性中間層はＣｒ薄膜であり、Ａｒ雰囲
気中でＣｒをターゲットとしてスパッタ法により１００
０Ａ厚に形成した。

【０１４４】磁性層はＣｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金薄膜であり
、Ａｒ雰囲気中でＣｏ−２０％（Ｎｉ−Ｐｔ）合金をタ
ーゲットとしてスパッタ法により５００Ａ厚に形成した
。

【０１４５】固体保護層はカーボン薄膜であり、スパッ
タ法により１００Ａまたは２００Ａに形成した。

【０１４６】保護潤滑膜を構成する化合物ならびに保護
潤滑膜の成膜方法および膜厚を、表１に示す。

【０１４７】なお、保護潤滑膜をＬＢ法により成膜した
場合は、ＬＢ膜の累積数を併記した。また、膜厚の測定
は、ＥＳＣＡにより行なった。

【０１４８】また、表１に示す保護潤滑膜成膜方法の詳
細は、下記の通りである。 （ＬＢ法）表１に示す化合物の１０−４モル／ｌクロロ
ホルム溶液を調製し、展開溶液とした。

【０１４９】まず、水相中に被処理基板（磁気ディスク
）を浸漬した後、展開溶液を水相表面に均一に落し、単
分子膜を展開した。

【０１５０】次に、表面圧が所定圧となるまで界面を圧
縮し、被処理基板を一定の速度でほぼ垂直に上昇させて
被処理基板上に単分子膜を移し取り、さらに被処理基板
の下降および上昇を繰り返して単分子膜を累積し、保護
潤滑膜とした。

【０１５１】（塗布法）表１に示す化合物の０．１ｗｔ
％　イソプロピルアルコール溶液を塗布溶液とし、ディ
ップ法により塗布した。

【０１５２】得られた磁気ディスクの表面粗さＲｍａｘ
　は８０Ａであった。

【０１５３】

【表１】

【０１５４】〈浮上型磁気ヘッドサンプルの作製〉Ａｌ
２　Ｏ３−ＴｉＣ基体上に薄膜磁気ヘッド素子を形成し
た後、磁気ヘッド形状に加工し、支持バネ（ジンバル）
に取りつけ、図２に示されるような空気ベアリング型の
浮上型磁気ヘッドを得た。スライダのディスク対向面の
全投影面積は、１．４ｍｍ２　とした。

【０１５５】また、この場合も前記磁気ディスクサンプ
ルと同様にして、下記表２に示される保護潤滑膜を、少
なくとも浮揚面（フロント面）に成膜した。

【０１５６】

【表２】

【０１５７】得られた磁気ディスクと、浮上型磁気ヘッ
ドとを表３に示すように組み合わせて、下記の評価を行
なった。なお、ディスク最内周での浮上量は０．０８μ
ｍ　とした。

【０１５８】（１）初期摩擦係数 １ｒｐｍ　回転時の動摩擦係数を求めた。

【０１５９】（２）シーク特性 磁気ディスクを３６００ｒｐｍ　で回転させ、シーク試
験を１０万回繰り返し行なった。 評価基準 〇：ヘッドクラッシュなし ×：ヘッドクラッシュ発生

【０１６０】なお、ヘッドクラッシュが生じた場合、ヘ
ッドクラッシュ時のシーク試験回数を併記した。

【０１６１】また、１０万回シ−ク試験後のヘッド附着
の発生を確認した。ただし、１０万回未満でヘッドクラ
ッシュした場合には、ヘッドクラッシュ時に確認した。 評価基準 〇　　：　　ヘッド附着なし ×　　：　　ヘッド附着あり

【０１６２】結果は表３に示されるとおりである。

【０１６３】

【表３】

【０１６４】表３に示される結果から本発明の効果が明
らかである。

【０１６５】なお、ディスクサンプルＮｏ．　１および
Ｎｏ．　５の表面性は良好であった。これに対し、Ｎｏ
．　２およびＮｏ．　６は初期摩擦係数は低いが、本保
護潤滑膜材料はＬＢ法での累積比が悪いために配性が良
くなく、膜に表面ムラを生じた。摩擦的には低い良好な
特性を有するが、シーク特性では表面性のムラが問題と
なりヘッドクラッシュとなった。

【０１６６】また、ディスクサンプルＮｏ．　１やＮｏ
．　５とヘッドサンプルＮｏ．　１とをそれぞれ組み合
せて前記と同様の評価を行なったところ前記本発明と同
等の結果が得られた。

【０１６７】実施例２ 実施例１の組み合せＮｏ．　１において、磁気ディスク
の表面粗さＲｍａｘ　、カ−ボン保護層の膜厚、磁気ヘ
ッドのスライダ面積、浮上量をそれぞれ表４に示される
ようにかえ、ダイナミックロ−ディング方式を採用し、
組み合せＮｏ．　７〜１４を得た。そして、Ｎｏ．　１
と同様、（１）初期摩擦係数および（２）シ−ク特性の
評価を行なったところ同等の結果が得られた。次いで、
ディスクの回転数３３００ｒｐｍ　にて、下記の評価を
行なった。

【０１６８】（３）耐久性 ２０℃、６０％ＲＨにてダイナミックロ−ディングによ
り、磁気ヘッドの起動、停止を１０万回繰り返し行なっ
て、耐久信頼性試験を行ない、磁気ディスクの磁性層に
傷が発生する程度を調べ、１〜５（数が大きい程良好）
の５段階で評価した。この場合、１０万回でヘッドクラ
ッシュが発生しないときは「ＯＫ」と記載する。 評価基準 ５・・・　傷ごく微小 ４・・・　傷微小 ３・・・　傷小 ２・・・　傷中 １・・・　傷大

【０１６９】なお、１は使用不能であり、２以上は使用
可能である。

【０１７０】（４）ＡＥ出力 起動、停止を１０万回繰り返し行なった後、ア−コステ
ィック・エミッション（ＡＥ）センサにて、ダイナミッ
クロ−ディングにより、磁気ヘッドをディスク上に浮上
させる際の磁気ヘッドと、磁気ディスクとの衝突音を検
出し１〜５（数が大きい程良好）の５段階で評価した。 評価基準 ５・・・　衝突音微小 ４・・・　衝突音小 ３・・・　衝突音小〜中 ２・・・　衝突音中 １・・・　衝突音大

【０１７１】なお、１は使用不能、２はやや問題がある
が使用可能であり、３以上は使用可能である。

【０１７２】（５）Ｄ７０ 再生出力が７０％になる記録密度Ｄ７０を求め、組み合
せＮｏ．９において、カ−ボン保護層の膜厚を２００Ａ
としたときのＤ７０を１００としたときの相対値（％）
を算出した。

【０１７３】結果は表４に示されるとおりである。

【０１７４】

【表４】

【０１７５】また、組み合せＮｏ．　７〜９、１０およ
び１４において、磁気ディスクにカ−ボン保護層を設層
しないほかは同様にして、前記の評価を行なったところ
、耐久性については５万回パス時までは前記と同等であ
り、Ｄ７０が向上した。

【０１７６】実施例３ 実施例１および２において、非磁性中間層および磁性層
のかわりに下記の軟磁性膜および垂直磁化膜の磁性層を
形成したほかは同様にして垂直記録用の磁気ディスクサ
ンプルを作製した。

【０１７７】〈軟磁性膜〉２％Ｏ２　を含む２×１０−
１ＰａのＡｒ雰囲気中にてＤＣマグネトロンスパッタ法
により８０ａｔ％　Ｎｉ−Ｆｅ合金を厚さ２０００Ａに
成膜して形成した。軟磁性膜の面内方向の保磁力は、９
　Ｏｅ　であった。

【０１７８】〈垂直磁化膜〉ＤＣマグネトロンスパッタ
法により２０ａｔ％　Ｃｒ−Ｃｏ合金を厚さ１５００Ａ
に成膜して形成した。成膜時の雰囲気は、軟磁性膜形成
の際と同様とした。垂直磁化膜の垂直方向の保磁力は、
７２０　Ｏｅ　であった。

【０１７９】また、実施例１および２と同様にして、垂
直記録用の浮上型磁気ヘッドとして、図３に示されるよ
うな薄膜型の主磁極励磁型単磁極ヘッドサンプルを作製
した。

【０１８０】そして、得られた磁気ディスクと、浮上型
磁気ヘッドとを組み合わせて、実施例１および２と同様
の評価を行なったところ、同等の結果が得られた。

【０１８１】実施例４ 〈磁気ディスクの作製〉Ｆｅタ−ゲット表面の酸化膜を
除去した。次いで、Ｏ２　ガスを導入して反応性スパッ
タを行ない、実施例１と同一のディスク基板上にＦｅ３
Ｏ４　膜を成膜した。なお、Ｏ２　ガスは、基板に吹き
つけるように導入した。

【０１８２】Ｆｅ３Ｏ４　膜形成後、空気中で熱処理を
行ない、γ−Ｆｅ２Ｏ３　磁性層とした。なお、磁性層
の厚さは、１５００Ａとした。

【０１８３】次いで、実施例１と同様にして、保護潤滑
膜を形成し、表５に示される磁気ディスクサンプルを作
製した。

【０１８４】得られた磁気ディスクの表面粗さＲｍａｘ
　は、９０Ａであった。

【０１８５】

【表５】

【０１８６】得られた磁気ディスクと、表２に示される
浮上型磁気ヘッドとを表６に示すように組み合わせて、
実施例１と同様の評価を行なった。

【０１８７】

【表６】

【０１８８】表６に示される結果から本発明の効果が明
らかである。

【０１８９】また、組み合せＮｏ．　１５において、磁
気ディスクの表面粗さＲｍａｘ　を１５０Ａとして組み
合せＮｏ．　１６を作製した。

【０１９０】そして、表４に示される組み合せＮｏ．　
８およびＮｏ．　１６に対し、シ−ク試験を３０万回繰
り返し行なったところ、Ｎｏ．　８は３０万回でヘッド
クラッシュが発生したのに対し、Ｎｏ．　１６はヘッド
クラッシュが発生しなかった。このように、γ−Ｆｅ２
Ｏ３　磁性層は硬い膜であるため、Ｎｏ．　１６の分岐
アルキル脂肪酸保護潤滑膜（液体）と、γ−Ｆｅ２Ｏ３
　磁性層との組み合せにおいて、本発明のシ−ク特性で
の利点がより一層生かされることが判る。

【０１９１】

【発明の効果】本発明の磁気ディスクおよび浮上型磁気
ヘッドには、所定の保護潤滑膜が形成されているため、
膜面の初期の摩擦係数が低く、良好な摩擦特性を有する
。

【０１９２】このため、本発明の磁気記録再生方法によ
れば、安定したシ−クを行なうことができ、ヘッドクラ
ッシュを防止でき、信頼性が向上する。

【０１９３】そして、特にダイナミックローディング方
式ないしランプローディング方式では、磁気ディスクと
磁気ヘッドとの接触時間を短縮できるため、摩擦係数を
初期の低い値のまま保持できる。このため、ハードディ
スクシステムの耐久信頼性が格段と向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ディスクの１例が示される部分断
面図である。

【図２】本発明の面内記録用の浮上型磁気ヘッドの１例
が示される部分断面図である。

【図３】本発明の垂直記録用の浮上型磁気ヘッドの１例
が示される部分断面図である。

【図４】本発明の磁気記録再生方法を説明するための磁
気記録再生装置が示される部分正面図である。

【図５】図４に示される磁気記録再生装置の部分平面図
である。

【図６】本発明の磁気記録再生方法を説明するための磁
気記録再生装置が示される部分正面図である。

【図７】図６中のＡ−Ａ線での断面図である。

【図８】図６に示される磁気記録再生装置の部分平面図
である。

【符号の説明】

１　　磁気ディスク １２　　ディスク基板 １３　　磁性層 １４　　固体保護層 １５　　保護潤滑膜 ２、３　　浮上型磁気ヘッド ２０、３０　　保護潤滑膜 ２１、３１　　基体 ２２、２３、２４、３５　　絶縁層 ２５　　下部磁極層 ２６　　上部磁極層 ２７　　ギャップ層 ２８、３４　　コイル層 ２９　　保護層 ３２　　第１磁性層 ３３　　第２磁性層 ３７　　接着剤層 ３９　　磁性体 ４　　ヘッド支持部 ５　　スピンドル ６１　　リフター ６３　　ランプロード台 ６５　　リフター駆動装置

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　剛性のディスク基板上に連続薄膜の磁
   性層を有する磁気ディスクであって、前記磁性層上に、
   化１で示され、常温で液体の化合物の保護潤滑膜を有す
   ることを特徴とする磁気ディスク。 【化１】
2. 【請求項２】　　少なくとも浮揚面側に、化２で示され
   、常温で液体の化合物の保護潤滑膜を有することを特徴
   とする浮上型磁気ヘッド。 【化２】
3. 【請求項３】　　剛性のディスク基板上に連続薄膜の磁
   性層を有する磁気ディスクを回転させ、前記磁気ディス
   ク上に浮上型磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行なう
   磁気記録再生方法であって、前記磁気ディスクの磁性層
   上および／または前記浮上型磁気ヘッドの少なくとも浮
   揚面側に、化３で示され、常温で液体の化合物の保護潤
   滑膜を有することを特徴とする磁気記録再生方法。 【化３】
4. 【請求項４】　　前記磁気ディスクの表面と前記浮上型
   磁気ヘッドの表面とが非接触状態で起動、停止を行なう
   請求項３に記載の磁気記録再生方法。
5. 【請求項５】　　前記浮上型磁気ヘッドのディスク最内
   周での浮上量が０．１０μｍ　以下である請求項３また
   は４に記載の磁気記録再生方法。