JPH04278919A - 液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は絶縁膜を有する液晶表示
素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、時計、コンピューター、ワー
ドプロセッサーなどに使用されている液晶表示素子は、
その基本構造として、透明電極上に配向膜を設けた二枚
の透明電極基板が配向膜を内側にして配置され、その間
に液晶が封入される構造をとっているものが普通である
。このような液晶表示素子の透明電極は、一般に、基板
上にストライプ状または格子状などの表示パターンの形
で形成されており、また配向膜はこの透明電極及び露出
した（表示パターン以外の）基板の全面に塗布または蒸
着により設けられている。この二枚の透明電極基板はそ
れぞれ配向膜を内側にして配置され、その間に液晶を封
入されることにより液晶表示素子が製造される。一般に
、上記配向膜は、液晶をある方向にそろえて配列させる
、すなわち配向させる必要があるため、設けられており
、これにより液晶分子を配向させている。

【０００３】このような液晶表示素子はネマチック液晶
をねじれ構造にしたツイスティドネマチック（ＴＮ）モ
ードによる表示が主流である。ところが、このＴＮ型液
晶表示素子は応答速度が遅く、現状では２０ミリ秒が限
度であるという欠点を有している。これに対して、最近
、高速応答性のある強誘電性液晶が新しいディスプレー
の分野を拓くものとして期待され、研究されている。

【０００４】強誘電性液晶は電界の変化に対して速やか
に応答するだけでなく、加えられる電界に応答して二つ
の光学的安定状態のいずれかをとり、且つ電圧の印加の
ないときはその状態を維持する性質、すなわちメモリー
性（双安定性ともいう）をも有している。従って、強誘
電性液晶を利用した液晶表示素子では、二つの状態間を
切り替えるときだけパルス状の電圧を加えればよいので
、従来のような光学状態を維持するための電源や電子回
路などが不要となり、電力の消費量も従来の液晶表示素
子に比べて低減する。すなわち、強誘電性液晶を利用し
た液晶表示素子は、簡単な構造で、高速応答性を実現し
た液晶表示素子であるといえる。

【０００５】例えば、従来のテレビジョンパネル用の液
晶表示素子（液晶表示パネル）は、二枚の透明基板上に
、透明電極層および配向膜が、それぞれこの順に積層さ
れて透明電極基板二枚を構成し、これら二枚の透明電極
基板はそれぞれの配向膜を向い合せるように配置させ、
その間に強誘電性液晶などの液晶が封入された構成を有
する。

【０００６】上記液晶表示素子においては、強誘電性液
晶の特徴である高速応答性を発揮させるように、透明電
極基板間の距離（セルギャップ）を２μｍ程度と極めて
狭くされている。このため、上記素子の作成過程におい
て、電極間で、放電し易くなる。特に、液晶中に導電性
の不純物や塵埃が混入した場合は、透明電極間でショー
トが発生し、画素に電圧を掛けても電位差が得られず表
示不可となり易い。

【０００７】透明電極基板間の距離の短縮化（ギャップ
を小さくする）との要望に加えて、表示精度を高める要
求を満たすために基板上に形成される帯状の透明電極数
の増加が求められている。このように透明電極数を増加
させると電極間が狭くなり、電極間での放電も発生し易
くなるとの問題がある。

【０００８】一般に、上記透明電極は、基板上に形成さ
れた透明導電膜をフォトレジストを用いて電極パターン
をパターニングして、エッチング液で不要な導電膜を除
去、そして得られた透明電極上のフォトレジストを除去
することにより形成される。このような帯状の透明電極
は両端が角ばった形状を有し、この原因によっても電極
間での放電が発生し易いとされていた。

【０００９】上記問題を解決するために、特開平２−２
７２４２８号公報には、帯状の透明電極の盛り上がった
両端、すなわち角をエッチング液に浸漬することで丸く
することが提案されている。これにより、上下の電極間
の距離の部分的に短い所がなくなり、上記放電を防止す
ることができる。

【００１０】しかしながら、上記方法では上下電極間の
放電がかなり防止できるが、隣接する電極間の放電は殆
ど防止することができない。

【００１１】また、特開昭５４−１４３２４６号公報に
は、上記透明電極上（透明電極と配向膜との間）に放電
防止の目的でＳｉＯ２　、セラミック等からなる絶縁膜
を形成した液晶表示素子が開示されている。このような
絶縁膜の形成は、放電防止については有効であるが、例
えば強誘電性液晶の最大の特徴である前記のメモリー性
（双安定性）が低下するなどの液晶の均一な配向性を阻
害するとの問題がある。

【００１２】従って、透明電極間の放電が起こり難く、
且つ液晶の良好な配向性を阻害することのない液晶表示
素子が望まれる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、透明電極間
における放電の発生が殆どない液晶表示素子を提供する
ことを目的とする。また、本発明は、均一な配向性を有
する液晶表示素子を提供することを目的とする。さらに
、本発明は、透明電極基板の表面が平滑でさらに透明電
極を積層することが可能な液晶表示素子を提供すること
を目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的は、基板上に、
複数の帯状の透明電極が並列状態に配置されてなる透明
電極層、無機化合物からなる絶縁膜および配向膜がこの
順で設けられた二枚の透明電極基板を、それぞれ配向膜
を内側にして配置し、その間に液晶を封入してなる液晶
表示素子において、絶縁膜が、帯状の透明電極の両側の
壁面に形成されていることを特徴とする液晶表示素子（
Ａ）、および基板上に、複数の帯状の透明電極が並列状
態に配置されてなる透明電極層、無機化合物からなる絶
縁層および配向膜がこの順で設けられた二枚の透明電極
基板を、それぞれ配向膜を内側にして配置し、その間に
液晶を封入してなる液晶表示素子において、帯状の透明
電極の両側の壁面部における絶縁膜の膜厚が、帯状の透
明電極上面部の膜厚より厚く且つ帯状の透明電極間部の
膜厚より厚いことを特徴とする液晶表示素子（Ｂ）によ
り達成することができる。

【００１５】本発明の液晶表示素子の好ましい態様は以
下の通りである。

【００１６】１）該絶縁膜の膜厚が、２５〜５００ｎｍ
の範囲にあることを特徴とする上記液晶表示素子（Ａ）
。

【００１７】２）該帯状の透明電極の上面部および帯状
の透明電極間部には、絶縁膜が設けられていないことを
特徴とする上記液晶表示素子（Ａ）。

【００１８】３）該帯状の透明電極の両側の壁面部の絶
縁膜の膜厚が、２５〜５００ｎｍの範囲にあることを特
徴とする上記液晶表示素子（Ｂ）。

【００１９】４）該帯状の透明電極上面部および透明電
極間部の絶縁膜の膜厚が、共に１０〜２００ｎｍの範囲
にあることを特徴とする上記液晶表示素子（Ｂ）。

【００２０】５）該帯状の透明電極の両側の壁面部にお
ける絶縁膜の膜厚と帯状の透明電極上面部の膜厚の比が
、９９：１〜６０：４０の範囲にあることを特徴とする
上記液晶表示素子（Ｂ）。

【００２１】６）該絶縁膜上に、さらに透明電極層およ
び絶縁膜がこの順で設けられていることを特徴とする上
記液晶表示素子（Ａ）および（Ｂ）。

【００２２】７）該絶縁膜が、無機酸化物から形成され
ていることを特徴とする上記液晶表示素子（Ａ）および
（Ｂ）。

【００２３】８）該絶縁膜の材料が、ＳｉＯ２　、Ｓｉ
Ｏ、ＴｉＯ２　、Ａｌ２　Ｏ３　およびＺｒＯ２　のい
ずれかであることを特徴とする上記液晶表示素子（Ａ）
および（Ｂ）。

【００２４】９）該絶縁膜が、無機化合物の蒸着膜の異
方性プラズマエッチングにより形成されていることを特
徴とする上記液晶表示素子（Ａ）および（Ｂ）。

【００２５】

【実施例】添付図面を参照しながら本発明の液晶表示素
子の構成について説明する。

【００２６】図１は、本発明の液晶表示素子（Ａ）の一
例の断面図である。

【００２７】透明基板１１ａ、１１ｂ上に、ブラックマ
トリクス１２ｂ、カラーフィルター（Ｒ（レッド）、Ｇ
（グリーン）、Ｂ（ブルー）からなる）１３ａ、１３ｂ
、帯状の透明電極１４ａが並列に配置された透明電極層
、１４ｂ、絶縁膜１５ｂおよび配向膜１６ａ、１６ｂが
それぞれ、この順に積層され透明電極基板二枚を構成し
ている。上記透明電極基板を二枚、それぞれ配向膜を内
側にして配置し、その間に液晶１７が封入されている。 絶縁膜１５ｂは透明電極１４ｂの両側の壁面に形成され
ている。透明基板１１ａ上に形成されているブラックマ
トリックス（１２ａに当たる）および絶縁膜（１５ａに
当たる）は、上下の透明電極基板が直交するように配置
されているので図示されていない。

【００２８】上記図１は、カラー表示用液晶表示素子の
断面図の一例であるのでブラックマトリクスおよびカラ
ーフィルターを表示したが、カラー表示用でなければ勿
論必要としない。

【００２９】本発明の特徴的要件である絶縁膜１５ｂは
、帯状の透明電極１４ｂの両側の壁面にのみ形成されて
いる。透明電極上面および透明電極間のカラーフィルタ
ー上には、絶縁膜は全くまたは実質的に存在していない
。

【００３０】図２は、図１の液晶表示素子（Ａ）の絶縁
膜近傍を示す部分拡大断面図である。

【００３１】帯状の透明電極１４ｂの両側壁面に、絶縁
膜１５ｂが形成されている。絶縁膜の膜厚は、透明電極
の側壁面からの垂直距離Ｔであり、Ｔは２５〜５００ｎ
ｍの範囲にあることが好ましく、特に５０〜２００ｎｍ
の範囲にあることが好ましい。このように透明電極１４
ｂの両側の壁面に絶縁膜１５ｂが形成され、透明電極の
角の部分が絶縁膜で覆われているので隣接する透明電極
間での放電は殆ど発生しない。また、上下の透明電極間
での放電も両側の壁面に絶縁膜の存在により起こり難い
。さらに、絶縁膜の形成により表面がかなり平滑化され
ていることから、この上に設けられる配向膜１６ｂも平
滑となり、液晶の配向状態が均一となり易い。

【００３２】図３は、本発明の液晶表示素子（Ｂ）の一
例の断面図である。

【００３３】透明基板３１ａ、３１ｂ上に、ブラックマ
トリックス３２ｂ、カラーフィルター３３ａ、３３ｂ、
帯状の透明電極３４ａ、３４ｂが並列に配置された透明
電極層、絶縁膜３５ａ、３５ｂおよび配向膜３６ａ、３
６ｂがそれぞれ、この順に積層され透明電極基板二枚を
構成している。上記透明電極基板を二枚、それぞれ配向
膜を内側にして配置し、その間に液晶３７が封入されて
いる。透明基板３１ａ上に形成されているブラックマト
リクス（３２ａに当たる）は、上下の透明電極基板が直
交するように配置されているので図示されていない。

【００３４】上記図３は、カラー表示用液晶表示素子の
断面図の一例であるのでブラックマトリックスおよびカ
ラーフィルターを表示したが、カラー表示用でなかれば
勿論必要としない。

【００３５】本発明の特徴的要件である絶縁膜３５ｂは
、透明電極３４ｂの両側の壁面部には厚い膜厚で形成さ
れ、透明電極３４ｂの上面部および透明電極３４ｂ間の
カラーフィルター上には両側の壁面部より薄い膜厚で設
けられいる。

【００３６】図４は、図３の液晶表示素子（Ｂ）の絶縁
膜近傍を示す部分拡大断面図である。

【００３７】帯状の透明電極３４ｂ上の全面に、絶縁膜
３５ｂが形成された状態が示されている。絶縁膜３５ｂ
は、透明電極３４ｂの両側の壁面部には厚い膜厚で形成
され、透明電極３４ｂの上面部および透明電極３４ｂ間
のカラーフィルター上には両側の壁面部より薄い膜厚で
形成されている。透明電極の両側の壁面部の絶縁膜の膜
厚は、壁面からの垂直距離Ｔ３であり、Ｔ３は２５〜５
００ｎｍの範囲にあることが好ましく、特に５０〜２０
０ｎｍの範囲にあることが好ましい。透明電極上面部の
絶縁膜の膜厚および透明電極間のカラーフィルター（基
板）上の絶縁膜の膜厚が、１０〜２００ｎｍの範囲にあ
ることが好ましい。透明電極上面部の絶縁膜の膜厚と透
明電極間のカラーフィルター（基板）上の絶縁膜の膜厚
とは、実質的に同一である。また透明電極の両側の壁面
の絶縁膜の膜厚と帯状の透明電極間の基板表面の膜厚の
比が、９９：１〜６０：４０の範囲にあることが好まし
く、さらに９９：１〜６０：４０の範囲にあることが好
ましい。

【００３８】このように、液晶表示素子（Ｂ）は、帯状
の透明電極３４ｂの両側の壁部に絶縁膜３５が形成され
且つ透明電極上および透明電極間の基板表面にも薄い膜
厚で絶縁膜が形成されているので、隣接する透明電極間
での放電は殆ど発生しないだけでなく、上下基板間の放
電も、たとえ透明電極基板間のギャップが小さい場合さ
え殆ど発生することはない。また、絶縁膜の形成により
表面がかなり平滑化されていることから、この上に設け
られる配向膜も平滑となり、液晶の配向状態が均一とな
り易い。また、この平滑化された絶縁膜上に、更に透明
電極および絶縁膜を形成しても下層が平滑なため透明電
極を均一に配列させることができるので電極本数の増加
が可能となり、高画質のディスプレーにも利用すること
ができる。

【００３９】本発明の液晶表示素子は、図１〜図４に示
したものだけでなく、スペーサーを使用したり、偏光板
を設けたりといった通常の液晶表示素子について行なわ
れる態様が、すべて可能である。特に、両配向膜間の間
隙（すなわち液晶層の層厚）を確保するためにスペーサ
ーが使用されることは好ましい。スペーサーとしては、
ガラスファイバー、ガラス・ビーズ、プラスチック・ビ
ーズ、アルミナやシリカなどの金属酸化物粒子が用いら
れる。スペーサーの粒径は、用いられる液晶、配向膜材
料、セルギャップの設定、スペーサーとして用いる粒子
などによって異なるが、１．２μｍから６μｍが一般的
である。

【００４０】本発明の液晶表示素子に用いられる透明基
板、ブラックマトリクス、カラーフィルター、透明電極
、絶縁膜、配向膜、液晶などは、すべて従来から液晶表
示素子に用いられている公知のものが利用できる。

【００４１】次に、本発明の液晶表示素子を製造する例
を順を追って以下に述べる。透明基板の材料としては、
平滑性の良好なフロートガラスなどガラスの他、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等
のポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリエーテルイミド、アセチルセルロース
、ポリアミノ酸エステル、芳香族ポリアミド等の耐熱樹
脂、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタ
クリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリエチレン
、ポリプロピレン等のビニル系ポリマー、ポリフッ化ビ
ニリデン等の含フッ素樹脂及びそれらの変性体等から形
成されたプラスチックフィルムを挙げることができる。

【００４２】透明基板上に設けられる透明電極の材料と
しては、酸化インジウム（Ｉｎ２　Ｏ３　）、酸化スズ
（ＳｎＯ２）およびＩＴＯ（インジウム・スズ・オキサ
イド）等を挙げることができる。透明電極は、基板上に
ストライブ状に形成される。

【００４３】上記透明電極上に設けられる本発明の絶縁
膜の材料としては、例えばＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＴｉＯ２
　、Ａｌ２　Ｏ３　、ＺｒＯ２　、ＣｅＯ２　、臭化セ
リウム、酸化タングステン、弗化マグネシウム、弗化カ
ルシウム、窒化シリコン、などの無機化合物を挙げるこ
とができる。これらの中で無機酸化物が好ましく、特に
ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＴｉＯ２　、Ａｌ２　Ｏ３　および
ＺｒＯ２　が好ましい。上記化合物は単独で用いても良
いし、二種以上組み合せて用いても良い。

【００４４】本発明の絶縁膜の形成方法を図５を参照し
ながら詳しく説明する。

【００４５】図５の（ａ）は、透明基板５１上に、ブラ
ックマトリクス５２、カラーフィルター５３および帯状
の透明電極５４が、この順に積層され透明電極基板の断
面図を示している。

【００４６】上記透明電極基板の上に上記絶縁膜材料で
ある無機化合物をスパッタリング等を行なうことにより
無機蒸着膜（エッチング処理前の絶縁膜）を形成する。

【００４７】すなわち、上記無機蒸着膜の形成には、従
来の無機化合物の成膜方法である、抵抗加熱による真空
蒸着法、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱による真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を
利用することができる。無機蒸着膜の膜厚は、一般に２
５〜５００ｎｍの範囲であり、５０〜２００ｎｍの範囲
が好ましい。

【００４８】図５の（ｂ）は、上記のようにして（ａ）
の透明電極基板上に無機蒸着膜５５が形成された状態を
示している。すなわち、無機蒸着膜は真空蒸着法やスパ
ッタリング法により形成されているので、透明電極の上
面部、側壁部および透明電極間部の、いずれもほぼ同じ
膜厚で形成されている。従って、放電防止に有効な透明
電極の側壁面には、無機蒸着膜が厚い膜厚で形成されて
いるが、他の部分にも厚く形成されている。このため、
放電防止効果を得ることができるが液晶の均一な配向の
形成を阻害する。

【００４９】本発明では、透明電極の両側壁面に主に上
記無機蒸着膜を形成して、これを絶縁膜としている。本
発明の絶縁膜は、上記無機蒸着膜５５の上面をさらに、
異方性プラズマエッチングにより除去することによって
形成される。

【００５０】プラズマエッチングには、一般に円筒型装
置を用いる方法と平行平板型装置を用いる方法とがあり
、異方性プラズマエッチングは平行平板型装置を用いて
行なわれる。平行平板型装置は、片方にコンデンサを介
して高周波電圧（一般に１３．５６ＭＨｚ）を印加し、
他方を接地した平行平板電極構造を持つ装置である。平
行平板型装置では、高周波電圧を印加した絶縁された電
極あるいは被エッチング物表面（無機蒸着膜表面）にプ
ラズマ中の電子が蓄積し負電位に自己バイアスされる。 通常装置内の反応ガス圧力は１０−３〜１０−２Ｔｏｒ
ｒにて行なわれる。この蓄積電子のためにこれらの表面
にイオンシースが生ずる（これは電子の易動度がイオン
に比べて極めて大きいからである）。このバイアス電圧
（陰極降下電圧）は５００Ｖ〜１ｋＶ程度になる。この
電圧によって加速されたイオンが、電極上の被エッチン
グ物表面（無機蒸着膜表面）のエッチングを行なうため
、方向性を持ついわゆる異方性エッチングを行なうこと
ができる。異方性プラズマエッチングについては『半導
体プラズマプロセス技術』（産業図書発行、２１８〜２
２１頁）に記載されている。

【００５１】上記無機蒸着膜５５の異方性プラズマエッ
チングは、例えば上記平行平板型装置を用いて、高周波
電圧１３．５６ＭＨｚを印加し、反応ガス（例、ＣＨＦ
３　、Ｃ２　Ｆ６　、ＣＦ４　、所望によりさらにＯ２
　を加える）の圧力１０−３Ｔｏｒｒにて、１〜１５分
間行なうことにより、図５の（ｃ−Ａ）で示される絶縁
膜を形成することができる。

【００５２】上記無機蒸着膜５５を上記のような異方性
プラズマエッチングを行なうことにより、得られる本発
明の絶縁膜を図５の（ｃ−Ａ）に示す。

【００５３】図５の（ｃ−Ａ）は、透明基板５１上に、
ブラックマトリクス５２、カラーフィルター５３および
帯状の透明電極５４が、この順に積層されｔａ透明電極
基板の上に絶縁膜５５ａが形成された、本発明の液晶表
示素子（Ａ）の一例を示す断面図である。

【００５４】また、上記無機蒸着膜５５について、上記
平行平板型装置を用いて、高周波電圧１３．５６ＭＨｚ
を印加し、反応ガス（例、ＣＨＦ３　、Ｃ２　Ｆ６　、
ＣＦ４　、所望によりさらにＯ２　を加える）の圧力１
０−３Ｔｏｒｒにて、０．５〜１５分間異方性プラズマ
エッチングは行なうことにより図５の（ｃ−Ｂ）の絶縁
膜が形成される。

【００５５】図５の（ｃ−Ｂ）は、透明基板５１上に、
ブラックマトリクス５２、カラーフィルター５３および
帯状の透明電極５４が並列に配置された透明電極層が、
この順に積層された透明電極基板の上に絶縁膜５５ａが
形成された、本発明の液晶表示素子（Ｂ）の一例を示す
断面図である。

【００５６】このように、上記無機蒸着膜５５に異方性
プラズマエッチング処理を行なうことにより、無機蒸着
膜の垂直方向にのみエッチングされる。エッチングが進
むと、図５の（ｃ−Ｂ）の状態、すなわち透明電極の両
側壁面の絶縁膜がかなり厚い層厚で、帯状の透明電極上
面および透明電極間のカラーフィルター（基板）表面で
も絶縁膜はある程度の層厚を有している。そして、さら
にエッチングが進むことにより図５の（ｃ−Ａ）の状態
、すなわち透明電極の両側の壁面のみ絶縁膜が残った状
態となる。

【００５７】上記絶縁膜形成後、その上に配向膜が設け
られる。配向膜としては、例えば、ポリイミド、ポリビ
ニルアルコール、ポリアミド（ナイロン）などの高分子
膜、有機シラン化合物によって形成される膜をラビング
処理したもの、真空蒸着によって形成されるＳｉＯ２　
、ＳｉＯ、ＴｉＯ２　などの薄膜を挙げることができる
。

【００５８】上記高分子等の有機配向膜の形成は、まず
配向膜形成用塗布液を、たとえば、ポリイミドおよびそ
の前駆体であるポリアミック酸、ポリアミド、ポリビニ
ルアルコール、ポリイミドアミドなど従来より配向膜材
料として公知の高分子材料をＮ−メチル−２−ピロリド
ン、ジオキサン、ＴＨＦ、グリコール誘導体など適当な
溶媒に溶かした溶液を調製する。この塗布液には、前記
成分以外にも基板との接着を増したり、あるいは塗布液
の粘度を調整する目的などで、副成分として他の高分子
重合体や有機金属などが添加されていてもよい。

【００５９】上記配向膜形成用塗布液を、透明基板上に
常法によって設けられた本発明の絶縁膜上または透明電
極上に、スピンコーターなどによって塗布、乾燥、熱処
理することによって有機塗布膜を形成することができる
。

【００６０】絶縁膜上または透明電極基板上に設けられ
た塗布膜は、加熱処理がされた後、ナイロン、ポリエス
テル、ポリアクリロニトリルのような合成繊維、綿、羊
毛のような天然繊維などでラビング処理される。これに
より配向膜が形成される。上記配向膜の材料は、塗布の
場合は前記有機高分子を、蒸着の場合は前記無機化合物
をが使用される。また、配向膜の膜厚は、用いる液晶お
よび配向膜の種類により異なるが、一般に２０〜５００
ｎｍであり、好ましくは３０〜１００ｎｍである。

【００６１】また、本発明に用いられる液晶は従来より
知られているものが使用できる。強誘電性を有する液晶
としては、具体的にはカイラルスメクティクＣ相（Ｓｍ
Ｃ＊　）、Ｈ相（ＳｍＨ＊　）、Ｉ相（ＳｍＩ＊　）、
Ｊ相（ＳｍＪ＊　）、Ｋ相（ＳｍＫ＊　）、Ｇ相（Ｓｍ
Ｇ＊　）またはＦ相（ＳｍＦ＊　）を有する液晶である
。これらは、たとえば、『高速液晶技術』（シーエムシ
ー発行）ｐ．　１２７〜１６１　に記載されている。

【００６２】また、具体的な液晶組成物としては、チッ
ソ（株）製のＣＳ−１０１８、ＣＳ−１０２３、ＣＳ−
１０２５、ＣＳ−１０２６、ロディック（株）製のＤＯ
Ｆ０００４、ＤＯＦ０００６、ＤＯＦ０００８、メルク
社製のＺＬＩ−４２３７−０００、ＺＬＩ−４２３７−
１００、ＺＬＩ−４６５４−１００などを挙げることが
できるが、これに限定されるものではない。これらの液
晶の中には液晶に溶解する二色性染料、減粘剤等を添加
しても何ら支障はない。

【００６３】上記のようにして製造した、透明基板、透
明電極、絶縁膜および配向膜からなる透明電極基板を少
なくとも一方に持つ一対の透明電極基板を配向膜が内側
になるようにして、間隙をあけて相対させ、セルとする
。この間隙の大きさ、すなわちセル・ギャップは０．５
μｍ〜６μｍ程度が一般的である。次ぎに、このセル内
に強誘電性液晶などの液晶を注入、封止した後に徐冷す
る。

【００６４】以上のようにして、本発明の液晶表示素子
を製造することができる。もちろん、本発明の液晶表示
素子は、使用目的に応じて偏光板、反射板、位相差板な
ど、従来の液晶表示素子に設けられる構成を設けること
ができる。

【００６５】

【発明の効果】本発明の液晶表示素子は、帯状の透明電
極の両側の壁面に、無機化合物からなる絶縁膜が形成さ
れ、そして透明電極上および透明電極間の基板表面には
絶縁膜は形成されないか、あるいは形成されいても両側
の壁面よりもはるかに薄い膜厚で形成されている。帯状
の透明電極の両側の壁面に絶縁膜が形成され、透明電極
の角の部分が絶縁膜で覆われているので、隣接する透明
電極間での放電は殆ど発生しない。また、上下の透明電
極間での放電も両側の壁面に絶縁膜の存在によりは起こ
り難い。さらに、絶縁膜の形成により表面がかなり平滑
化されていることから、この上に設けられる配向膜も平
滑となり、液晶の配向状態が均一となり易い。また透明
電極の両側の壁面に絶縁膜が形成され且つ透明電極上お
よび透明電極間の基板表面にも薄い膜厚で絶縁膜が形成
された場合、上記と同様、隣接する透明電極間での放電
は殆ど発生しないだけでなく、透明電極基板間のギャッ
プが小さくしても上下基板間の放電が殆ど発生すること
はない。さらに、上記と同様絶縁膜の形成により表面が
かなり平滑化されていることから、この上に設けられる
配向膜も平滑となり、液晶の配向状態が均一となり易い
。また、この平滑化された絶縁膜上には、更に透明電極
および絶縁膜を形成しても下層が平滑なため透明電極も
均一に配列させることができるので、高画質のディスプ
レーに対応するための電極本数の増加が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の液晶表示素子（Ａ）の構成例
を模式的に示す断面図である。

【図２】図２は、図１の液晶表示素子（Ａ）の部分拡大
断面図である。

【図３】図３は、本発明の液晶表示素子（Ｂ）の構成例
を模式的に示す断面図である。

【図４】図４は、図１の液晶表示素子（Ｂ）の部分拡大
断面図である。

【図５】図５は、本発明の液晶表示素子の製造方法を説
明するための断面図である。

【符号の説明】

１１ａ、１１ｂ、３１ａ、３１ｂ、５１：透明基板１２
ｂ、３２ａ、３２ｂ、５２：ブラックマトリクス１３ａ
、１３ｂ、３３ａ、３３ｂ、５３：カラーフィルター １４ａ、１４ｂ、３４ａ、３４ｂ、５４：帯状の透明電
極 １５ｂ、３３ｂ、５５ａ、５５ｂ：絶縁膜１６ａ、１６
ｂ、３６ａ、３６ｂ：配向膜１７、３７：液晶 ５５：無機蒸着膜

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　基板上に、複数の帯状の透明電極が並
   列状態に配置されてなる透明電極層、無機化合物からな
   る絶縁膜および配向膜がこの順で設けられた二枚の透明
   電極基板を、それぞれ配向膜を内側にして配置し、その
   間に液晶を封入してなる液晶表示素子において、絶縁膜
   が、帯状の透明電極の両側の壁面に形成されていること
   を特徴とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】　　基板上に、複数の帯状の透明電極が並
   列状態に配置されてなる透明電極層、無機化合物からな
   る絶縁膜および配向膜がこの順で設けられた二枚の透明
   電極基板を、それぞれ配向膜を内側にして配置し、その
   間に液晶を封入してなる液晶表示素子において、帯状の
   透明電極の両側の壁面部における絶縁膜の膜厚が、帯状
   の透明電極上面部の膜厚より厚く且つ帯状の透明電極間
   部の膜厚より厚いことを特徴とする液晶表示素子。