JPH04278969A - 空間光変調装置をアライメントする方法及びその装置 - Google Patents
空間光変調装置をアライメントする方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH04278969A JPH04278969A JP2419046A JP41904690A JPH04278969A JP H04278969 A JPH04278969 A JP H04278969A JP 2419046 A JP2419046 A JP 2419046A JP 41904690 A JP41904690 A JP 41904690A JP H04278969 A JPH04278969 A JP H04278969A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- dmd
- image
- exposure
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K15/00—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers
- G06K15/02—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers
- G06K15/12—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers
- G06K15/1238—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers simultaneously exposing more than one point
- G06K15/1242—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers simultaneously exposing more than one point on one main scanning line
- G06K15/1252—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers simultaneously exposing more than one point on one main scanning line using an array of light modulators, e.g. a linear array
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K15/00—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers
- G06K15/02—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers
- G06K15/12—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔０００１〕
〔産業上の利用分野〕本発明は再生装置に関し、より詳
細には自動化された組体体工程において、露光ユニット
の素子をアライニングする方法及び装置に関する。 〔０００２〕 〔従来の技術〕コピー及びプリント市場においてゼログ
ラフィック再生装置はありふれたものとなり、レーザポ
リゴン光変調器を使用して像発生を制御する装置はどこ
でも見受けられる。代表的にこのような装置は２つの明
確な部分、すなわち一連の電気信号から変調光像へと像
が処理される露光部、及び変調像を感光媒体（ホトリセ
プタ）へ送りそこでトナーにより像を現像してその後標
準的方法で紙（もしくはその他の）媒体へ転写する再生
部を有するものと考へられる。ホトリセプタへのトナー
の転写は変調光像により生成される静電潜像に応答して
行われる。 〔０００３〕露光ユニットの光学系もしくは再生ユニッ
トの移動ドラムとの露光ユニットの協調の僅かな誤調整
により印字出力が劣化することがある。従って、露光ユ
ニットの組立ては精密且つ再生可能に行わなければなら
ない。内部及び嵌合する再生ユニットに対して露光ユニ
ットの厳しいアライメントを行う必要があるために、装
置の製作時にいくつかの問題が生じるようになった。こ
れらの問題はユニットごとの一貫性だけでなく、必要な
全てのアライメントを行うのに必要な時間及び技能から
生じる。一度アライメントを行ったら、構造素子は現場
においても、アラインされたままとすることが重要であ
る。 〔０００４〕従って、露光ユニットを廉価とする試みに
は簡単な組立体及び自動繰返し可能なアライメント工程
を組み入れなければならない。後者により露光ユニット
を現場で修理するのに通常の修理技能レベルの人で充分
であることが保証される。 〔０００５〕従って、最初に経済的に組み立てることが
でき現場で簡単に交換することができるゼログラフィッ
ク露光ユニット製造法及び装置に対するニーズがある。 この装置は、移動に対して耐えなければならず、事実出
荷もしくは使用中にずれてしまった場合には再生部に対
して容易に再アライン出来なければならない。 〔０００６〕ゼログラフィック印字装置は従来の光機械
スキャナ装置に固有の製造及び現場交換問題を低減する
ように設計されている。ユニットは露光モジュール内の
光変調素子に対して可変形ミラー装置（ＤＭＤ）技術を
利用している。ＤＭＤは簡単で高信頼度の露光モジュー
ル組立工程を特徴とする。このような特徴の一つは簡単
な電気入力によりアドレスを与えるシリコンチップ上に
モノリシックに集積された可変調素子の線型アレイから
なるＤＭＤのアーキテクチュアから生じる。アレイに沿
ったピクセル素子の相対間隔はチップ製造中に精密に制
御されその後は不変であるため、潜在するミスアライメ
ントの主要源が解消される。印字フィールドの全幅がＤ
ＭＤアレイにより同時にイメージされる。この事実は露
光モジュールの組立て中に工程を促進且つ自動化するの
に利用できる。 〔０００７〕ホトリセプタ上にイメージされたピクセル
の活性アレイは所望の印字フィールド幅よりも実質的に
広くすることとができるためもう一つの利点が実現され
る。モノリシックチップはピクセルの各線アレイの各終
端に付加、冗長、ピクセルを含むように設計される。プ
リンタコントローラはこれを利用してピクセルアレイ像
のどこかにプリントデータを電子的に配置することによ
り、印字媒体に対する印字データのアライメントを行う
。従って、露光モジュールに対するＤＭＤチップの物理
的アライメント及び再生ユニットに対する露光モジュー
ルのアライメントは、製造時にも現場においても、著し
く簡単化され容易に調整される。 〔０００８〕ＤＭＤ光変調器の特徴により、後の調整を
必要とすることなく予め配置された光学要素を露光モジ
ュールに前もって組み立てることが可能になる。次に、
光学系のこの１個の要素の操作により最終アライメント
が行えることを保証するのに充分な自由度でＤＭＤが露
光ユニットへ挿入される。ＤＭＤ装置のこの特徴は組立
ての自動化を助ける。
細には自動化された組体体工程において、露光ユニット
の素子をアライニングする方法及び装置に関する。 〔０００２〕 〔従来の技術〕コピー及びプリント市場においてゼログ
ラフィック再生装置はありふれたものとなり、レーザポ
リゴン光変調器を使用して像発生を制御する装置はどこ
でも見受けられる。代表的にこのような装置は２つの明
確な部分、すなわち一連の電気信号から変調光像へと像
が処理される露光部、及び変調像を感光媒体（ホトリセ
プタ）へ送りそこでトナーにより像を現像してその後標
準的方法で紙（もしくはその他の）媒体へ転写する再生
部を有するものと考へられる。ホトリセプタへのトナー
の転写は変調光像により生成される静電潜像に応答して
行われる。 〔０００３〕露光ユニットの光学系もしくは再生ユニッ
トの移動ドラムとの露光ユニットの協調の僅かな誤調整
により印字出力が劣化することがある。従って、露光ユ
ニットの組立ては精密且つ再生可能に行わなければなら
ない。内部及び嵌合する再生ユニットに対して露光ユニ
ットの厳しいアライメントを行う必要があるために、装
置の製作時にいくつかの問題が生じるようになった。こ
れらの問題はユニットごとの一貫性だけでなく、必要な
全てのアライメントを行うのに必要な時間及び技能から
生じる。一度アライメントを行ったら、構造素子は現場
においても、アラインされたままとすることが重要であ
る。 〔０００４〕従って、露光ユニットを廉価とする試みに
は簡単な組立体及び自動繰返し可能なアライメント工程
を組み入れなければならない。後者により露光ユニット
を現場で修理するのに通常の修理技能レベルの人で充分
であることが保証される。 〔０００５〕従って、最初に経済的に組み立てることが
でき現場で簡単に交換することができるゼログラフィッ
ク露光ユニット製造法及び装置に対するニーズがある。 この装置は、移動に対して耐えなければならず、事実出
荷もしくは使用中にずれてしまった場合には再生部に対
して容易に再アライン出来なければならない。 〔０００６〕ゼログラフィック印字装置は従来の光機械
スキャナ装置に固有の製造及び現場交換問題を低減する
ように設計されている。ユニットは露光モジュール内の
光変調素子に対して可変形ミラー装置（ＤＭＤ）技術を
利用している。ＤＭＤは簡単で高信頼度の露光モジュー
ル組立工程を特徴とする。このような特徴の一つは簡単
な電気入力によりアドレスを与えるシリコンチップ上に
モノリシックに集積された可変調素子の線型アレイから
なるＤＭＤのアーキテクチュアから生じる。アレイに沿
ったピクセル素子の相対間隔はチップ製造中に精密に制
御されその後は不変であるため、潜在するミスアライメ
ントの主要源が解消される。印字フィールドの全幅がＤ
ＭＤアレイにより同時にイメージされる。この事実は露
光モジュールの組立て中に工程を促進且つ自動化するの
に利用できる。 〔０００７〕ホトリセプタ上にイメージされたピクセル
の活性アレイは所望の印字フィールド幅よりも実質的に
広くすることとができるためもう一つの利点が実現され
る。モノリシックチップはピクセルの各線アレイの各終
端に付加、冗長、ピクセルを含むように設計される。プ
リンタコントローラはこれを利用してピクセルアレイ像
のどこかにプリントデータを電子的に配置することによ
り、印字媒体に対する印字データのアライメントを行う
。従って、露光モジュールに対するＤＭＤチップの物理
的アライメント及び再生ユニットに対する露光モジュー
ルのアライメントは、製造時にも現場においても、著し
く簡単化され容易に調整される。 〔０００８〕ＤＭＤ光変調器の特徴により、後の調整を
必要とすることなく予め配置された光学要素を露光モジ
ュールに前もって組み立てることが可能になる。次に、
光学系のこの１個の要素の操作により最終アライメント
が行えることを保証するのに充分な自由度でＤＭＤが露
光ユニットへ挿入される。ＤＭＤ装置のこの特徴は組立
ての自動化を助ける。
〔０００９〕この操作を行うために、カメラ装置を使用
してＤＭＤアレイの像の最適焦点状態をＤＭＤの配置の
関数として決定する。ＤＭＤはアライメント工程中に電
気的に操作され光学的に作動する。ＤＭＤに送られるパ
ターンはアライメントを助けるように設計されれいる。 適切なアライメントが行われると、ＤＭＤは露光モジュ
ールに永久に取り付けられ、電子マニピュレータ組立体
が取り外される。 〔００１０〕本装置によりオペレータはＤＭＤを適切に
可視配置することができる。操作には時間がかかり且つ
６゜の位置調整の相互作用性によりエラーを生じ易いた
め、アライメント工程を自動化するのが好ましい方法で
ある。このような方法を使用してビデオカメラの出力を
捕捉して処理し、コンピュータを使用して相互作用的に
アライメント工程やアルゴリズムに追従する。１組の量
化可能なアライメント基準に合致するかもしくは制御不
能な要因によりアライメントが不能とみなされるまで、
コンピュータはサーボ制御マニピュレータ組立体を駆動
する。 〔００１１〕従って、モジュールごとの高い位置精度と
再生度の達成を保証しながらＤＭＤ装置のアライメント
時間を分から秒へ短縮することが本発明の技術的利点で
ある。さらに、組立体の統計をとって工程制御や方法の
改善分析に使用できる。また、個別の各ユニットの後の
性能特性の追跡に永久記録を利用することができる。 〔００１２〕レーザビームを光学系を介して逆方向にフ
ォーカスし光学系がアライメントされて適切に機能する
ことを保証するのがもう一つの技術的利点である。 〔００１３〕露光モジュール内に含まれる光学素子を予
めアラインして光源から作動印字装置内の再生面を表わ
す位置まで延在する径路を形成し、光変調装置を位置決
めし、予めアラインされた露光モジュール内の光路に沿
って光源からアラインされた光学系を通って再生面を表
わす位置まで光を送り、再生面を表わす位置において少
なくとも１個の感光検出器を再生面に置換し、検出器か
らの出力に従ってユニットに対する光変調装置の回転及
び並進位置を調整するステップを使用して再生露光モジ
ュールユニット内において光変調装置のアライニング法
を確立することがさらにもう一つの技術的利点である。 〔００１４〕 〔実施例〕空間光変調器をさらに良く理解するには、こ
こに参照として組み入れた、１９８６年６月２４日付米
国特許第４，５９６，９９２号、１９８７年５月５日付
米国特許第４，６６２，７４６号、及び１９８８年５月
１日付米国特許第４，７２８，１８５号を参照とする。 前記特許第４，５９６，９９２号にはプリンタ内で可変
形ミラー装置を使用することも検討されている。 〔００１５〕露光ユニット 次に、図１を参照として、例えば、ゼログラフィック再
生装置で使用することができる変調された光像を生成す
るのに使用する露光ユニット１０の分解図を示す。露光
ユニットは低膨張係数材で構成された凾体１１からなり
、照光源１６から発生する熱により構造体内に感知でき
る程の応力誘起動作が生ぜず従って装置の光学系を厳し
い公差で配置するのを保証するようにされている。この
ため、光源１６は主構造体の外側にあり放射状スポーク
１５１により外壁１５から分離されている内壁１５０を
有する二重管道１５に収納されている。内部管道１５０
は熱を吸収しスポーク１５１を介して熱を消散させるリ
ベットアルミニウム製とすることができる外壁１５へ伝
達する、アルミニウム等の、材料で作ることができる。 管道１５０は黒色に陽極酸化して吸光率を高め反射光を
低減させることができる。 〔００１６〕構造体１５は、熱絶縁ボンド材を使用して
、凾体１０に接続されている。ランプ１６を凾体に取り
付ける目的は凾体の移動と無関係にランプ１６のフィラ
メントを内部光路と完全にラインナップさせたままとす
ることである。これは精密にモールドされたランプソケ
ット１６０により保証され、それはランプピン７１０（
第７Ａ図）とランプソケット１６０内に正確に位置決め
することによりランプフィラメントを光径に合せる（第
２図）。タングステンハロゲンランプは市販されている
“計装ランプ”である。これらの精密ランプは予めセラ
ミックベース及びランプピンにアラインされたフィラメ
ントを有し、従って組み立て中に露光ユニット１０に関
して光源１６を調整する必要がない。同時に、（低熱伝
導プラスチックでできた）ヒートシンク１５及び外部ソ
ースマウント３０２により、光源１６は凾体に熱を伝え
て凾体内で熱問題を生じることがない。管道１５を通っ
て底部から頂部へ強制送風を行って管球１６の周りを均
一に冷却する。これにより、管球が不均一冷却によって
白色（不透明）表面となる可能性が少くなり、露光ユニ
ットの寿命が延びる。 〔００１７〕図示するように、水平内部パーティション
、すなわちベース１４、を有する露光ユニット１０は（
第１８図に略示する）ゼログラフィック印字ユニットと
タブ１０１，１０２，１０３により嵌合するように設計
さえており、それにより露光モジュール１０を印字ユニ
ットに対して光学的に有効且つ容易に位置決めする３点
搭載を有効に行うことができる。次に、露光ユニットは
、スプリングスナップ等により、印字ユニットに定着さ
れて機能的に載置される。 〔００１８〕ここで、光学径路及び露光ユニットを通る
光線の伝播径路を理解すると役に立つ。このような伝播
はレンズ１７及び１８を通って可変形ミラー装置（ＤＭ
Ｄ）６０上へフォーカスされる管球１６からの照光から
始まる。この点において、光は変調されていない。図示
するように。ＤＭＤ６０は光を２つの明確な束として反
射させ、それは結像レンズへ行く変調光束と反射される
非変調光束である。結像レンズへ行く光線は下向きにベ
ース１４及びイメージャレンズ４０を通り、そこから一
組のミラーからなる折返し径路を介して露光ユニット底
部カバー１３のベース内にあるファネル構造１２０へ行
く。次に、変調された光ドットパターンからなる光像が
、後に示すように、ゼログラフィックドラム上に衝突し
て露光像を生成し次にそれはゼログラフィック工程によ
り現像されプリントされる。 〔００１９〕次に図１に戻って、照光源１６は、ジェネ
ラルエレクトリック社の片端クォーツラインホトランプ
シリーズ等の、タングステンハロゲン球とすることがで
きる。光源は所要寿命（代表的には２０００オンタイム
）及び印字工程露光条件に適した電力レベルを提供する
ように選定される。管球１６からの光は耐熱球形レンズ
１７により、光をＤＭＤ６０上に指向させるためのレン
ズ１８上にフォーカスされる。レンズ１８は下部平胆面
の縦中心線に位置するモールドされた精密ピボット点上
に載置される。レンズ１８の両端１８０は露光モジュー
ル１０の内壁１０５及び外壁のスロット内に保持される
。これらのスロットによりレンズ１８はその縦軸に沿っ
て膨張することができる。しかしながら、レンズ１８は
（図示せぬ）中心ピン上に載置されるため、焦点距離は
変化せず、従って、光は相変らず均一にＤＭＤ６０上に
指向される。レンズ１７及び１８は一緒になって集光組
立体を構成する。このレンズ群の機能はＤＭＤ６０にお
いて均一な照光を行い、且つイメージャレンズ４０の前
面内に形成されるソースフィラメント１６のフォーカス
された拡大像を与えることである。 〔００２０〕レンズ１８は中央枢支され、モールドプラ
スチック材が露光モジュール１１に較べて熱膨張が大き
いため両端は自由にされる。レンズ１８は複雑な非球面
デザインとされており、従ってレンズ１８の製造コスト
を低減するようにモールドしなければならない。一方、
レンズ１７はパイレクス等の低膨張率材で作ることがで
き、所望により剛搭載することができる。 〔００２１〕図示するように、マウント１０４によりベ
ース１４にほぼ直角に保持される、ＤＭＤ６０は選定ミ
ラー１２に加わる電気信号により作動してこれらのミラ
ー（ピクセル）により変調された光を直接下向きに光軸
へ通し結像レンズ４０によりフォーカスする。非変調ミ
ラーもしくはＤＭＤ６０の非活性面からの光は少くとも
一部光軸の周りに位置する胸部（１９）の作用により散
乱される。 〔００２２〕頂部１２はレンズ１８の頂部を正しい位置
に保持するための（図示せぬ）ディンプルをその内面に
有するように構成されている。別の実施例における頂部
１２にはレンズ１７上に嵌合してレンズ１７を正しい位
置に保持するように設計されたキャノピーを配置するこ
ともできる。また、高温に耐えるボンド剤を使用してこ
れらのレンズの一方もしくは両方を正しい位置に接合す
ることもできる。 〔００２３〕ベース１３は露光モジュール１１の底部に
嵌合し、図示するように、露光モジュールから光リセプ
タへの光像を収容するファネル１２０を含んでいる。フ
ァネル１２０内側のバッフルは反射及び迷走光線を低減
して最終プリント像のコントラストを高く維持するよう
に作用する。 〔００２４〕次に図２に戻って、露光モジュール１０の
平面を示す。ＤＭＤ６０を電気変調信号源に接続し且つ
ランプ１６を電源に接続するケーブルは図示されていな
い。このケーブルは露光ユニット１０内側を通り壁１０
５に最も近い側から出るようにするのが有利である。管
球１６を保持するソケット１６０は信頼度の高い精密な
光学アライメントを行うためにアーム３０２により露光
ユニット１０へ支持され関連される構造体としてモール
ドするのが有利である。ＤＭＤ６０を保持する支持ブラ
ケット１０４は直接パーティション１４としてモールド
することができ、このパーティションは露光ユニット１
０を図２に示す上部ユニット及び図３に示す下部ユニッ
トへ分離する。チャネル１９が上下部間でＤＭＤ６０に
より反射される変調光の光軸上に配置されパーティショ
ン１４中を延在している。鋸歯もしくは蜂胸形が変調光
軸周りに半円形状に形成され、図示するように、ＤＭＤ
６０の非変調ピクセル及び他の構造からの光を偏向且つ
吸収するように作用する。ＤＭＤ６０の変調ミラーから
の反射光を取り出して一組のミラー（図３）により形成
される光路を介してブーツ（図４）の下のゼログラフィ
ックドラム上へフォーカスすることを目的とする結像レ
ンズ４０を保持するようにチャネル１９が構成される。 〔００２５〕突起２９（図３）は蜂胸の（頂部）構造の
半円形チャネルを形成する。次に、図４を参照として、
図２の４−４断面に沿った露光ユニット１０の断面図を
示す。図４は管球１６から出る光がレンズ１７及び１８
を通ってＤＭＤ６０上にフォーカスされる上部における
光線４０１を示す。ＤＭＤ６０により変調された光線４
０２はイメージャレンズ４０を通って露光ユニット１０
の底部のミラー３０上へ到り、そこから像を９０度回転
させてファネルブーツ１２０からエグジットするミラー
３１へ到り、ゼログラフィック印字装置のホトリセプタ
面上へ進む。ブーツ１２０内には散乱光が再生ドラム上
のコントラストを低下させるのを防ぐ一連の段すなわち
光バッフル４１及び露光ユニットをシールするのに使用
する透明カバー４２がある。 〔００２６〕図５Ａは光路４０２の光軸に沿って構成さ
れ且つ一連の蜂胸形の段として構成されたチャネル１９
を示す。選定されないピクセルからの反射光線７０２は
真の光軸からおよそ１０〜１５゜偏向され、胸形の壁の
一つに衝突し減衰して一つの壁からもう一つの壁へはね
返り且つ上向きに露光ユニットの頂部カバーにはね返っ
てさらに減衰する。このようにして、非選定ピクセルか
らの反射光は選定ピクセルからの反射光から有効に分離
され、結像レンズ４０に加えられる光線４０２は変調光
のみを含むようになる。従って、結像レンズ４０を介し
てフォーカスされる時、結像すなわち変調ピクセルから
の反射のみが光線４０２に含まれる。従って、蜂胸１９
は非変調光線７０２の光路内にある一連の光バッフルと
して作用し、且つ非選定光を減衰させるように作用する
。蜂胸１９は光軸に直角な壁を有して光軸周りに半円形
状に構成されている。各壁のベースは（鋸歯）傾斜面に
より先の壁の頂部に接続されている。光軸からはね返る
光を再反射させ、光軸４０２にほぼ直角に指向してイメ
ージャレンズ開口４０において非常に高い除波比を保証
するのはこの傾斜面である。 〔００２７〕図６Ａは光を偏向できるように設計された
一列もしくは数列のピクセル６１だけでなくシリコン内
に組み入れられたアドレス構造部を有し、任意の一つの
ピクセルの電気的選定及び変調（もしくは非変調）に応
じて明（もしくは暗）像が形成されるＤＭＤ６０を示す
。ＤＭＤ６０の方形６２はシリコンアドレス構造を表わ
す。実際上ピクセル当り１９ミクロン平方である個々の
ピクセルは変哲もない中央ミラー構造の中心の下の細線
６１として表わされている。実際のＤＭＤピクセルを包
囲するこの本質的な反射鏡は、ピクセル素子ではなく、
ＤＭＤ上に降下する照光の比較的大きい部分を蜂胸１９
によりさえぎられ減衰される非変調フィラメント像内へ
指向する機能を実施する。包囲面がミラーではなく、（
遠隔アドレス回路のような）構造であれば、背景照光を
ソースフィラメント像内にではなくアイソトピックに再
放射する。それは次にイメージャ４０へ入りホトリセプ
タドラムに形成されたＤＭＤ像のコントラストを低下さ
せる。ＤＭＤ６０はコンピュータや他のソースからの内
部変調及び制御信号を受信する端子６３を有している。 〔００２８〕図６Ｂは図６Ａの線６１からの２，３のピ
クセル６１００の拡大図である。図示するように、ピク
セルはコーナ６１０２，６１０３上に蝶着されており、
それらは水平下に反射される上からの光路を確立する。 もちろん、これは一実施例にすぎず他の実施例も考へら
れる。ピクセルの実際の動作は前記特許で検討されてい
る。ピクセルの移動により変調光のオン状態及びオフ状
態が生成される。 〔００２９〕光変調径路 図７Ａは管球１６から発しレンズ１７，１８を介して集
められＤＭＤ６０のアクティブピクセルエリアを実質的
に照光する光線４０１の略図である。しかしながら、光
源１６からの光の大部分はＤＭＤピクセルのアクティブ
列（６１）周りの鏡面上に降下する。これを光線７０１
で示し、明確にするために図示せぬ、光線４０１，４０
７面上下の光線の大部分も含まれる。蜂胸１９の光反射
機能がなければ、これらの光線はＤＭＤ６０の平胆面（
及び非変調ピクセル）から反射して、点７０３周りの空
間でフォーカスされる。点７０３はこれらの光線が蜂胸
１９の作用により転向されない場合にイメージャレンズ
４０入口開口面内に形成される光源６０のフィラメント
像の中心である。従って、光線７０２は蜂胸１９により
焦点７０３から転向され光線４０２に沿った主光軸にほ
ぼ垂直に伝播される。非変調フィラメントの光エネルギ
は光路４０２に沿ってイメージャレンズ４０上と衝突す
る変調フィラメント像の光よりも数桁大きい。米国特許
第４，７２８，１８５号に開示された暗視野プロジェク
タ装置の高選択度は非変調光が点７０３の真近かに焦点
を結ぶという事実の認識から生じる。従って、集光装置
１７，１８及び光源１６の光軸を適切な方位とすること
により、点７０３はイメージャ４０の入口孔（開口）の
完全に外側とすることができる。 〔００３０〕図１、図２及び図７Ａは、光学列の結合さ
れたＤＭＤ６０及びイメージャ４０アームの光軸の（Ｄ
ＭＤ６０から見て）左側にある集光器の光軸を示す。図
４において、さらに光線４０１に沿った集光器の光学軸
も光線４０２に沿ったイメージャ４０の光軸よりも上に
あることが判る。これら２つのオフセットから、反射の
法則によりＤＭＤ６０（及び任意の非変調ピクセル）の
平胆な鏡面からの反射光により形成されるフィラメント
像はＤＭＤ６０から見て、イメージャ４０の右下方、す
なわち図７Ａの点７０３になければならないことが明白
である。 〔００３１〕単に非変調エネルギをイメージャ開口から
離れるように指向するだけでは、印字に必要な高コント
ラスト比をＤＭＤ像に保証することはできない。非変調
エネルギをイメージャレンズから離れるように偏向させ
少くとも２つの偏向面（第５図）においてその大部分を
吸収する蜂胸１９の効率的作用が露光モジュールの動作
にとって重要である。（反射面のない）特徴のないチャ
ネルにより不要な光を俯角反射機構を介してイメージャ
レンズへ通すことができる。蜂胸１９の設計によりアラ
イメントを必要とせず露光モジュールのコストを殆んど
付加することなく従来の成型プラススチック材で作るこ
とができる非常に高い減光路が提供される。 〔００３２〕この高選択性光学構成の詳細を図７Ｂに示
し、ＤＭＤ６０の斜視図から見た集光器１８とイメージ
ャ４０の光学アームを示している。図７Ｂに示すように
、軸４０３とアラインされた集光装置１６，１７，１８
からの背景光（非変調光）は点７０３（第７Ａ図）にお
いて仮想フィラメント像７０５へ収束される。蜂胸１９
の反射（減衰）作用により実際の露光モジュールには像
７０５は存在しない。しかしながら、ＤＭＤピクセル６
１がそのヒンジ軸ＲＲ′８１２周りを選定方向に回転す
ると、ソースフィラメント７０４の全体像が像位置７０
３から像位置７０６へ並進する。 〔００３３〕もちろん、一つのＤＭＤピクセルの回転に
より生じるフィラメント像７０６は、数百の像に対する
ピクセルエリア比に対応する、フィラメント像の大きな
エリア及び少量の変調エネルギによりきわめて暗い。し
かしながら、イメージャ４０が前面開口に衝突する光束
を収集し、ホトリセプタ面における各ピクセルの像へ再
びフォーカスすると、像は極めて明るくなる。 〔００３４〕従って、ＤＭＤ６０の光エネルギ変調作用
及び空間光変調器（ＳＬＭ）の意義が判る。個別のＤＭ
Ｄピクセルの回転作用により像位置７０３から７０６へ
の少量のエネルギの空間変調が行われる。しかしながら
、ホトリセプタにおいて、イメージャ４０の固定焦点に
より、対応するＤＭＤピクセル像の空間移動はない。 観察される性質は一連の固定スポット（すなわちピクセ
ル）のものであり、そのいずれかが単に明るくなったり
暗くなったりするだけである。それは、例えば、いかだ
の難民が手鏡を使用して頭上の飛行機に合図する状況に
似ている。太陽からの平行光線をパイロットの瞳に偏向
する（向ける）ことにより、網膜には非常に明るい像が
受信される。太陽を光線、鏡をＤＭＤピクセル、イメー
ジャ４０を瞳孔、網膜をホトリセプタとすれば、類似性
が確立される。 〔００３５〕図７Ｂにおいて、ＤＭＤピクセル回転軸Ｒ
Ｒ′８１２は像の移動線８１０に直角であることが重要
である。反射の法則により、光線は鏡面の回転角の２倍
だけ転向される。従って、ＤＭＤの反射素子のＲＲ′周
りの回転により必ず光束は線８１０に沿って移動する。 集光器組立体１６，１７，１８がＤＭＤに対して他の任
意の角度で配置され非変調フィラメント像７０５が線８
１０の中心に来ない場合には、変調フィラメント像７０
６も点４０４においてイメージャ４０の中心に来ない。 その結果、利用可能なエネルギの全量がイメージャを通
ることはなく、全ホトリセプタ露光効率を達成すること
ができない。また、ＤＭＤ６０に設計された回転角は集
光装置軸４０３のオフセット角に対応させて、ＤＭＤピ
クセル６１を励起すれば像７０６がイメージャ４０の中
心に来るようにすることも黙示されている。前の検討と
同じ理由により、電力スループットも低減される。 〔００３６〕設計により、集光装置光学系１７，１８は
フィラメント７０４を拡大して結果として得られる像７
０６がイメージャ開口４０からあふれるように選定され
る。集光効率は拡大率と共に増大する。フィラメント像
の外縁、特にコーナは、中央領域よりも光学的効率の低
い放射器であり、従ってイメージャ開口内にあるという
ことは重要ではない。最後に、最も効率的な光学系はイ
メージャの全錐角を利用するものである。ホトリセプタ
の最大ピクセル像輝度はフィラメント像がイメージャ開
口４０を完全に満す時に生じる。これらの状況は、集光
器１７，１８拡大率と組合せたソース１６フィラメント
サイズ及び形状（通常方形）、及びイメージャ開口４０
サイズを選定することにより保証される。 〔００３７〕前記したことから、イメージャ開口が大き
い程（例えば高速イメージャレンズもしくは低ｆ数）、
システムの光学効率は良くなるようにみえる。実際には
そうではない。コンパクトな露光モジュールシステムに
対する要望に加えて、高速イメージャレンズのコストは
劇的に増大する。既存のシステムは１２０ｗ電源及びｆ
４．５イメージャを使用して７インチ／秒（４２７−ポ
ン／分）の速度で作動するゼログラフィック工程で露光
を行う。後者は非常にコンパクトで、経済的に作れるレ
ンズである。イメージャレンズ４０開口の限定要因は、
組合せた時に、２つのフィラメント像７０５，７０６の
単なるサイズ及び分離として明白になる光学系の設計上
の配慮により決定される。 〔００３８〕分離を図７Ｂの８１１に示す。分離は前記
特許第４，７２８，１８５号で検討されている暗視野光
学系の術語では“デッドバンド”と呼ばれている。デッ
ドバンドの物理的意味はそれがフィラメント像７０５の
非変調光エネルギのどの部分もイメージャ開口に接近し
ないことを保証するという事実から生じる。２つの像の
相対強度はＤＭＤの相対照光エリアを反映する大きさよ
りも数桁異なることを思い出せば、たとえ像７０５のコ
ーナがイメージャ４０開口内にあってもホトリセプタの
コントラスト比は実質的に減じることは明らかである。 故意に“デッドバンド”を設けることにより、システム
のミスアライメントの公差が幾分許容される。さらに、
多くの動作サイクルにわたって、ＤＭＤピクセルが平胆
な所から１もしくは２度まで、永久“角設定”されれば
、デッドバンドによりイメージャレンズ４０にはエネル
ギが導入されない。最後に、光学系のミスアライメント
により、フィラメント像７０５が正規のサイズよりも大
きくぶれたり歪んだりすると、エネルギはイメージャレ
ンズ４０には入らない。 〔００３９〕従って、デッドバンド概念により、ホトリ
セプタ像に１００：１を越える高性能コントラスト比を
得ながら、システム組立体及び光学公差の許容範囲はか
なり大きなものとなる。 〔００４０〕図５Ａは露光モジュール１０のベース内の
半円型（もしくは全円型）孔周りに同心状に形成された
一連の鋸歯状ステップ４１０，４１１である蜂胸１９を
示す。同心円の形状により光バッフルのモールディング
が容易になる。（“オフ状態”光と呼ばれる）ＤＭＤ６
０からの不要な光は、図５Ｂにおいて、鋸歯プロファイ
ルを形成する一連の同心バッフルの一つの第１の面４１
０に衝突する。“Ａ”と付されたこの第１の衝突は特定
角であり（図示するものはおよそ１３゜）オフ状態光を
鋸歯プロファイルの背面４１１へ強制的に反射させて衝
突“Ｂ”を起させる。この２次面はアンダーカットすな
わち負の勾配を形成し光モジュールの上部屋根内へ強制
的に光を通して衝突“Ｃ”を起す特定角である。全ての
衝突面“Ａ”〜“Ｃ”を黒化することができるため、不
要光は任意の非制御面に当る前に３つの黒化面に衝突し
て殆んど全ての不要光を吸収する。 〔００４１〕再生ユニット 引き続き図８Ａにおいて、レンズ４０からのピクセルド
ット４０２の変調像は、前記したように、ゼログラフィ
ック印字ドラムすなわちドラム８０の表面８１上にフォ
ーカスされる。この投射は表面８１上の線８２内にあり
、ドラム８０の下を図示する方向に通過する印字ストッ
ク８０１上に印字を形成する一列もしくは数列の変調ド
ットパターンを含んでいる。図８Ａには一列のドットし
か示されていないが、実際には（詳記するように）この
ような２列が一時にドラム上に配置される。 〔００４２〕後記するように、ドラム８１にトナーが付
与され変調光がドラムに衝突するスポットに付着する。 次に、このトナーは公知のゼログラフィック工程により
クーポンストック８０１へ転写される。ドラムが回転す
ると、変調光はドラム８１上に一列ごとにドットを密に
配置する。図８Ｂに示すように、この回転により印字工
程が行われる。表面８１上にこれ以上変調ドットパター
ンがない状態でドラムが進行するように図示されている
が、これは工程を判り易くするためにすぎない。事実、
連続印字工程とするために露ユニット１０の制御の元で
連続行のドットパターンが堆積される。 〔００４３〕図１０Ａは何らかのプレプリント情報を含
む黒クーポンストック１０１０を示す。図１０Ｂはゼロ
グラフィックドラム８０の下を通過し且つ、前記したよ
うに、変調光４０２によりドラム表面８１へ転写された
一連のドットにより情報がプリントされた後のストック
クーポン１０１１を示す。前記したように、光線はＤＭ
Ｄ６０（図８Ａ）により変調され、この装置は一列の可
変形ミラーもしくは数列のこのようなミラーを有して形
成することができる。実施例では、２列のミラーを使用
し、従って、ドラム８１上には２列のドットが配置され
ている。実際上、２列の偶奇ビット（ピクセル）は文字
の一列である。奇偶列からのビットはＤＭＤ６０のミラ
ー列間の、物理的距離を表わす一定距離だけ離されてい
る。２列のミラーを使用することによりドットの印字解
像度が高くなり、それは図９Ａ、図９Ｂ及び図９Ｃに示
すようにオフセット列は互いに光学的に重畳するように
できるためである。この重畳はＤＭＤ軸に沿って行われ
、前記高速走査方向に対応する。しかしながら、２列以
上のミラーを使用してドットパターンを生成すれば、一
列装置では必要ないが多列装置では重要な複雑性が付加
される。 〔００４４〕図９Ａに戻って、文字９０１はアウトライ
ン形状の“Ａ”であり、各々が一連の偶奇ビット（ピク
セル）位置ｏ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔ，ｕ，ｖ，ｗを有す
る一連のラスター線に任意に分割されている。従って、
図示するように２本の連続露光線９０２，９０３（偶奇
線）により特定ラスター線が生成される。（図８Ａに示
すドット線を表わす）これらの露光線はＤＭＤ６０のミ
ラーの隙間の物理的特性及び露光モジュールの光学拡大
により定まる一定距離だけ離されていることをお判り願
いたい。この距離は２ドット線に正確に対応する。文字
アウトライン９０１が生成されているドラムは実際上こ
れらのドット配置線に直角に（低速走査方向）移動する
ことを思い出していただきたい。奇偶ビット配置の間隔
はドラム上の各堆積間の遅延時間を変えることにより電
気的に制御することができる。図示する例では、文字ア
ウトライン９０１は頁上を上方に移動する。 〔００４５〕図９Ａに示すように、ＤＭＤ６０は偶奇ピ
クセルに対応する２列９１０，９１１に分割される。第
一の時点において、線ｎのビット位置ｐ，ｒ，ｔ，ｖか
らのデータはＤＭＤ６０に与えられ、列９１１のミラー
ｐ，ｒ，ｔ，ｖにより変調されている。これにより、図
９Ａの右側に示すドットがゼログラフィックプリンタの
ドラム上に生成され、ｐ，ｒ，ｔ，ｖピクセルは奇露光
線９０２に沿って暗くされている。この時点において、
同じ線の残り、すなわちピクセルｑ，ｓ，ｕはＤＭＤ６
０偶数列の遅延レジスタ１へ入れられる。 〔００４６〕図９Ｂには、ｎ＋１線がＤＭＤ６０にロー
ドされて、ピクセルｐ，ｒ，ｔ，ｖが再び励起され、光
線を変調して図９Ｂの右側で奇数露光線に沿って暗い像
ｐ，ｒ，ｔ，ｖを形成する次の時点が示されている。こ
の時点において、遅延レジスタ１にロードされた情報は
遅延レジスタ２へ移され、ｎ＋１線に関する新しい情報
が遅延レジスタ１へロードされる。ドラム８０の回転に
より文字９０１は１ラスター線だけ上方へ進んだことを
お判り願いたい。 〔００４７〕次の時点において、奇露光線９０２は再び
ＤＭＤ６０から変調を行いｎ＋２線に関するピクセルｐ
，ｒ，ｔ，ｖが再びゼログラフィック印字面上に露光さ
れる。しかしながら、この期間において、ｎ線からの偶
ピクセルｑ，ｓ，ｕは遅延レジスタ１，２を通り偶ピク
セルｑ，ｓ，ｕを駆動して偶ピクセル露光線９０３に沿
って光を変調する。これを図９Ｃの右側に示し、ｑ，ｓ
，ｕピクセルは暗くされている。図９Ｃに示すように、
ドラムが偶露光線９０３を回転通過すると、ｎ＋１線上
の全数のピクセルがＤＭＤ６０からの変調光により変調
されている。ＤＭＤ６０上にさらにピクセル線があれば
、ドラムの全露光にはドラムによる同様な回転及びラス
タ線と完全に再インターレースする付加露光線を必要と
する。 〔００４８〕像９０１内の露光ドットの一本のラスタ線
を形成する各ＤＭＤ線のインターレースはまっすぐであ
り、一体的遅延線、レジスタ１，２により印字コントロ
ーラと独立して完全にＤＭＤチップ上で処理されるが、
さらに利点を実現することができる。プリンタ機構によ
りドラム表面速度が変化し、（ラスタポリゴンスキャナ
の場合に必要である）ラスタ線当りの露光時間を一定に
保持すると、バンディングが生じることがある。バンデ
ィングは工程（低速）動作方向に沿った特定周波数にお
ける印字像の圧縮（暗化）もしくは伸長（グレイ化）で
ある。これらの速度変動が、例えば、軸エンコーダ等の
プリンタ内の適切な機構により感知されるシステムでは
、ＤＭＤ光変調器を使用して利用することができるドッ
ト線の可変時間によりプリント外観上の有害な効果はプ
リンタコントローラにより除くことができる。ドラムが
一時的にスピードアップすれば、被露光線は早期にオフ
とされる。従って、ドラム速度と露光時間の積で定まる
露光距離、すなわちラスタ線幅を一定に保つことができ
る。同様に、ドラムが一時的にスピードダウンすれば、
露光線を幾分長く保持して補償する。この感知修正工程
により、水平ラスタの適切な重畳及び線幅を電子的手段
により保証することができる。これはポリゴンシステム
では不可能であり、精密な移動速度制御に費用をかける
ことが唯一のオプションである。低速バンディングはレ
ーザプリンタの主要なプリント品質不足機構である。さ
らに、摩耗すると悪化する。長寿命を必要とするプリン
タでは、機構が老化した時のバンディング修正は重要な
性能上の利点である。 〔００４９〕図９Ａ、図９Ｂ及び図９Ｃに関して説明し
た同じ線に沿って、ピクセルの水平重畳すなわち見当合
せが光学系及びＤＭＤチップデザインにより固定され不
変とされる。従って、ＤＭＤシステムはスポット配置エ
ラー、デフォーカスエラー、及びレーザポリゴンスキャ
ナのもう一つの印字品質劣化機構である高速走査（ラス
タ）方向に沿った露光重畳の非均一性の影響を受けない
。 〔００５０〕前記したように、遅延量はピクセル線間の
間隔に比例しドラムの動作と協調して所与の時点におい
てピクセルが良好な解像度で出力に実線を形成するよう
にされる。ここでも、図示する多線ＤＭＤ６０は光変調
を行うのに使用できる多くの実施例の一つにすぎないこ
とを指摘したい。いくつかの異なる変調装置を使用して
、並べたり積み重ねることにより、ゼログラフィックド
ラム上に多線コンカレント像を投射することができる。 これにより異なる印字明瞭度が得られ、異なる状況下に
おいてカラーグラフィックを与えるのに使用することが
できる。１個もしくはシーケンシャルな装置からの変調
光を使用して各カラーフィールドを非常に精密な見当合
せでイメージしてシングルパスフルカラープリントを生
成することができる。 〔００５１〕印字方式 ゼログラフィック工程を使用した印字方式の一例を図１
１に示し、そえは、とりわけ、自動チケット印字を処理
するように設計されている。図示するように、ビン１１
０４，１１０５，１１０６がアコーディオン折畳（タガ
ー）されたチケットストックを保持している。これらの
ビンは図示するように閉成したり開放して容易にアクセ
スできるように設計することができ、コーナだけがスト
ックを正しい位置に支持且つ保持するように設けられて
いる。機械１１５０の前面には予め印字されたカストマ
チケットを挿入する再検証スロット１１０２、及び機械
１１５０に通され印字されているかもしくは印字システ
ム１１０１により処理されるチケットを保持するビン１
１０３がある。他の装置を機械前面に搭載することがで
き、代表的にこの装置はクレジットカード情報やダイヤ
リング情報を受信するように作動する。これによりカス
トマはチケットエージェンシーを呼び出してチケット情
報を得て旅行チケットを処理することができる。印字シ
ステムは電話通信を処理することができ、これらの機能
に適したさまざまなランプやスイッチを有することがで
きる。 〔００５２〕印字システム１１０１の側面には扉１１５
１，１１５４が取りつけられており（図１３）、その各
々が保守もしくはストック等を印字システムに供給する
ために開放することができる。用紙処理、制御及び印字
機構を引出機構により前面から保守できるように搭載し
た場合の印字システム凾体の実施例を図２０に示す。扉
がある場合でも扉なし引出方式の場合でも、印字システ
ムの内側はスパインもしくは垂直パーティション１１６
０により２つのゾーンに分割されている（図１１）。こ
のパーティションはいくつかの機能を果す。その一つは
タガーストックのバーストにより生じる塵が印字機構に
付かないようにすることである。これは、図１３に示す
ように、印字機構が垂直パーティション１１６０により
開放扉１１５１から見て遠い（右）側に支持されるため
である。近い（左）側では、タガーストックは３つのビ
ン１１０４，１１０５，１１０６の任意の一つ、もしく
は磁気及び１もしくは光学読取器１３８０，１３７０を
介してスロット１１０２から、且つシャトル１２０１を
介してパーティション１１６０に近い側から遠い側へ指
向される。次に、チケットストックは印字システムの背
面１１５３から垂直パーティション１１６０に沿って前
面１１５０に向って移動し、ゼログラフィックユニット
１６０２（図１３）の下を通り且つソータ１５０１を通
り、外部ビン１１０３もしくは内部ビン１５６１，１５
６２内に堆積される。スパインの設計により組立体の精
密な基準面が与えられ且つ２つの平行な用紙径路（磁気
側及びプリンタ側）のアライメントが行われ、シャトル
機構（図２）を介して一方の径路から他方の径路へチケ
ットを通す際の精度が保証される。 〔００５３〕図１２は個別のチケットストック１０１０
をパーティション１１６０の近い側から遠い側へ移動す
るように作動するシャトル１２０１を示す。従って、図
１２に示すように、チケットストック１０１０はシャト
ル１２０１に入り、リーダに向ってまっすぐに移動し、
矢符１２２０で示すように、ホイール１２０３，１２０
４により左から右へシャトルする。ホイール１２０３に
は上向きに停止する平胆面が配置されている。チケット
ストック１０１０が正しい位置に到来すると、ステップ
モータで駆動されるホイール１２０３が回転開始する。 ホイールはチケットストックを把持して左から右へ移動
させる。チケットストックはやはり底部に平胆面を有す
るホイール１２２２の下を通過する。ホイール１２２２
が回転開始すると、チケットストック１０１０はパーテ
ィション１１６０の遠い側に沿ってリーダから離れるよ
うに移動する。従って、パーティション１１６０の唯一
の開口はシャトルが個別のチケットストック１０１０を
通すのに充分な大きさの小窓である。所望により、この
窓は一方側から他方側への塵の移動を防止するように設
計することができる。もちろん、これは物理的バリアも
しくは窓を通ってプリンタ側からチケットストック側へ
移動する空気によって行うことができる。 〔００５４〕タガーストック１０１０，１０１０Ｂ，１
０１０Ｃのビン１１０４，１１０５，１１０６からの実
際の移動を図１４に示し、ここで各ビンはそれぞれコン
トロールホイール１４７１，１４５６，１４５１を介し
てバースタ１７３０へプリンタブルストック材を供給す
ることができる。これらのホイールは前後に移動し、シ
ステムの制御機構に指令されてストックがバースタ１７
２０を通過するようにし、ホイール１４５５，１４５４
に制御されて光学リーダ１４７０を通過するように設計
されている。ホイール１４５５とバースタ１７３０の相
対位置はバースタ１７３０がストックを個別チケットへ
分離する時にストックをリーダ１４７０の下に配置でき
るようにされている。同じタガー材から次のチケットが
来ない場合には、ホイール１４７１（もしくはホイール
１４５６，１４５１）をリザーブしてストックを正しい
位置から移動させて他のビン、例えば、ホイール１４５
６の制御下にあるタガーストック１０１０Ｂからのスト
ックが光学リーダ１４７０の下の位置へ上方に移動でき
るようにする。 〔００５５〕光学リーダ１４７０の位置はチケットスト
ックの先縁に予め配置された情報（バーコード等）がバ
ースタ１７３０がストックをバーストする前であっても
光学リーダ１４７０により読み取りできるようにされて
いる。これは制御の目的で使用できる。次に分離された
ストックはホイール１４８１，１４８２の制御の元で磁
気リーダ１４８０を通過しホイール１４８４，１４８３
の制御下にあるシャトル１２０１へ移動する。外側スロ
ット１１０２からのストックはホイール１４５２の制御
の元でシステムへ入る。このストックは単に制御システ
ムをバックアップし現在ホイール１４５４により制御さ
れている何らかのタガー材をリザーブすることにより、
引き入れてシャトル１２０１に向って移動するチケット
の線とマージすることができる。従って、カストマはチ
ケットをスロット１１０２へ挿入し、チケットは光学リ
ーダ１４７０もしくは磁気リーダ１４８０へ移動するこ
とができる。次に、チケットが読み取られ制御ホイール
１４５４を反転させてスロット１１０２へ戻すかもしく
はシャトル１２０１へ通してパーティションの他方側へ
シャトルさせて印字するかもしくは後記する方法で廃棄
される。 〔００５６〕次に図１６に戻って、チケットがパーティ
ション１１６０の開口を通過すると、パーティションの
一方側ではプリンタの前面からパーティションに沿って
背面へ向う、チケットの方向が反転され、チケットはパ
ーティションの遠い側に沿ってプリンタの前面に向って
移動する。前面に向って移動すると（図１６において右
から左）、チケットは印字モジュール１６０２の下を移
動し前記したようにドラム８０と接触する。システムの
制御に従って、チケットは印字したりブランクのままと
したりすることができる。チケットストックはドラム８
０の下から移動して来ると、フューザ１６０３へ通され
そこではローラ１６５１，１６５０が公知の方法でトナ
ーをストック上へ融着させて印字材が容易に除去されな
いようにする。 〔００５７〕次に、印字されたチケットはフューザ１６
０３を出てソータ１５０１へ通され後記する方法でソー
トされ、チケットは外側ビン１１０３内に堆積されるか
いくつかの内部ビンの一つに堆積されて廃棄されるか、
もしくは蓄積されて後にオペレータにより取り上げられ
る。ところで、自動チケット機の一つの運転方法はカス
トマがスロット１１０２へプレプリントされたチケット
を挿入することである（図１１）。前記したように、チ
ケットは光学リーダ１４７０もしくは磁気リーダ１４８
０を通り、チケット上の情報は電子的に読み取られる。 この読取り、もしくはキーパッドや他の装置を介して中
央コンピュータへ与えられる情報に基いて、ユーザは飛
行計画や他の旅行手配に必要な変更を加えたりもしくは
単に特定の飛行を確認することができる。システムは、
（図示せぬ）中央コンピュータの制御の元で、チケット
に変更を加えないような場合にはユーザにチケットを戻
すことができる。また、チケットはパーティション１１
６０を介してシャトル１２０１（図１１）へ送り次にプ
リンタ１６０２へ送って（所望により）チケット上へ付
加情報をプリントすることができる。次に、チケットは
ソータ１５０１へ通され後記する方法でソートされ、ビ
ン１１０３を介してユーザへ戻されるかもしくは内部廃
棄ビンへ廃棄される。チケットが内部廃棄ビンへ入れら
れるこの後の動作は、カストマに対して新しいチケット
が印字されるかもしくはカストマが払戻しを申し入れて
チケットが自動チケット機により取り上げられるような
場合に行われる。 〔００５８〕図示しないが、自動チケット システム
はケーブルもしくは無線送信によりコンピュータネット
ワークと接続されている。このシステムは、その設計に
より、容易に壁に取りつけてユーザは機械前面にしかア
クセスできず従業員は壁の後から機械を開いて保守を行
ったり、チケットストックを補充したり、廃棄されたチ
ケットや印字されたチケットを取り除くことができる。 後の特徴は遠隔配置され恐らくは航空機や他の旅行サー
ビスに属する中央コンピュータが搭乗券や他の印字物を
含む一連のチケットを夜間に発生する旅行代理店にとっ
て重要である。 〔００５９〕次に、図１５に示すソータ１５０１の動作
説明に戻る。プリンタドラム８０からのチケットは位置
１５０８においてソータ１５０１へ入る。ダイバータ１
５０２の状態に従って、チケットはローラ１５５１を介
してスロット１５０６へ且つローラ１５５１を介してビ
ン１５６２へ移動する。ビン１５６２は印字する際にチ
ケットをしっかり貯蔵するように構成された内部ビンで
ある。ビンは任意サイズに設計することができ、チケッ
トや搭乗券の夜通しの印字を保持してオペレータが朝方
に取り上げられるようにする。ビンはシステムの残りか
ら分離してロックし許可された人だけがチケットを取り
出すことができるようにする。 〔００６０〕ダイバータ１５０２が図示する位置にある
時にプリンタドラム８０から入ってくるチケットは、ビ
ン１５６３ではなく、（点線で示す）下方位置へ移動し
たダイバータ１５０３のビン１５６１へ通すことができ
る。この移動は手元もしくは外部から制御され、コンピ
ュータもしくは手動起動することができる。点線位置へ
移動すると、チケットはホイール１５５１の制御の元で
空間１５６０へ通され、スプリング付勢ラッチ１５０４
の移動により、廃棄ビン１５６１へ通され許可された人
が取り上げる。また、プリンタドラム８０からのチケッ
トはダイバータ１５０２を下向きに点線位置へ移動させ
ることにより外部ビン１１０３へ送ることができる。次
に、チケットはホイール１５０７の制御の元で上方に回
転移動し且つホイール１５５２の下を通ってビン１１０
３に到りスプリング部材１５０４の制御の元で位置決め
され、この部材は制御の目的でビンが満杯となる時を感
知するように配置することができる。 〔００６１〕従って、内部もしくは外部コンピュータ信
号の制御の元で、輸送チケットもしくはいくつかの他の
アイテムの中のいずれかを内部に配置されたストック材
やユーザが外部スロットから供給する材料で印字するこ
とができる。搭乗券は単にチケットストック上の印字を
変えるかもしくは異なる搭乗券に対して異なるビンを使
用することにより印字することができる。これらはカラ
ーコード化したり任意の構成によりプレプリントするこ
とができ、自動チケット機はオペレータが材料をロード
もしくはアンロードすることなく３個以上のビンの中の
一つを選定するようにプログラムすることができる。こ
れらのチケットには前記したようにユーザがスロット１
１０２から入れるチケットや搭乗券を綴込むことができ
る。これにより、ショッピングセンターや遠隔無人位置
に配置される機械はカストマが旅行の予約を行い毎分４
０クーポンの割合いでほとんどその場でチケットや搭乗
券を印字できるようにされる。これらの機械は旅行代理
店や空港ターミナルにさえも配置することができる。 〔００６２〕図１７にバースタ１７２０の切断機構を略
示する。ステップモータ１７０２は１回転当り２００ス
テップ回転してカムアーム１７０３を回転させる。次に
、カムアーム１７０３はバースタ１７２０の範囲内で上
下に移動するカッタ１７０１に接続されている。刃１７
０１は図１７にアップ位置で示されており、（ビューア
に向う）チケットストック１０１０はクーポン間の鑽孔
が刃面１７０１よりも下になるように位置決めされる。 （図示せぬ）バースタ１７２０のベースには刃１７０１
がカムアーム１７０３の制御の元で下向きに移動する時
に鑽孔を通してバーストしてクーポンを分離するような
刻み目がつけられている。スプリング１７０５はクーポ
ングリッパ１７０４を下向きに押圧する。従って、刃１
７０１が下向きに移動すると、グリッパ１７０４は移動
を防止する位置にクーポンストック１０１０を保持しク
ーポンストックの鑽孔と刃１７０１とのアライメントを
助ける。刃１７０１はクーポンストック１０１０を左か
ら鑽孔開始して刃の降下に要する力を低減する。 〔００６３〕露光ユニット及び再生ユニット嵌合構成図
１８に露光ユニット１０とベース１８００との嵌合様式
を示す。いくつかの再生ユニット構成の中の任意の一つ
を使用することができるため、ベース１８００は様式化
された形状で示す再生ユニットを表わす。（図示せぬ）
ベース１８００内のリセプタ位置はユニット１０のベー
スからのファネル１２０と嵌合して、ベース１８００内
に配置された印字機構に衝突する前に変調光をシールす
る。図示するように、ポート１８０１，１８０２は露光
ユニット１０のそれぞれ突起１０１，１０２と嵌合しサ
ポート１８０３はタブ１０３と嵌合して、３点嵌合構成
を提供し２部分間の完全なアライメントを維持する。ユ
ニット１８００もしくはユニット１０に対して（図示せ
ぬ）クリップを配置して他方のユニットへスナップしユ
ニットを互いに正しい位置に維持することができる。 〔００６４〕例えば、（図示せぬ）クリップはユニット
１０の頂面１２に永久連合することができる。これらの
クリップはユニット１０のいずれかの側でベース１３の
下へ下向きに延在することができ、従ってユニット１０
と１８００が嵌合関係にある時は（図示せぬ）クリップ
が（図示せぬ）タブにロックし、２つのユニットを堅固
な関係に維持すべくベース１８００の明細書１０のＸＲ
Ｍユニットの準備を整える。もちろん、タブはより永久
的接続を行うためにネジやボルト等の従来の固着装置と
置換することができる。しかしながら、熟練していない
人が特別な道具を使用することなく定期的に露光ユニッ
トをベース１８００から取り外すような場合にはクリッ
プが有用である。 〔００６５〕ここに開示したような印字システムを航空
路のゲートに配置すれば、機械の能力によりチケットや
搭乗券上に予め配置された情報を電子的に読み取ること
ができ、機械は差し出されたチケットを受け取ってチケ
ット上に確認材をプリントし、チケットをユーザに戻す
か、新しいチケットをプリントするか、チケットを取り
上げるか、もしくはそれらを任意に組合せて行うことが
できる。これにより旅行の手配及び管理に新しいディメ
ンジョンが付加され、旅行産業の全体予約、搭乗及び管
理工程がスピードアップされる。 〔００６６〕アライメント法及び装置 露光モジュール１０、図１、はＤＭＤ６０を除けば予め
組み立てられる。モジュールは凾体１０を３点１８０１
，１８０２，１８０３から定める図１に示すような器具
内に配置される。２つのアライメント基準ピン１３０１
１３０２はＤＭＤ ｙ−軸とほぼ一致している。 図１８に示す凾体１８００は代表例であり、前記したよ
うに（図８Ａの素子８０等の）ホトリセプタ素子もしく
は（図２２のＣＣＤカメラ等の）カメラを収納すること
ができる。ホトリセプタは露光モジュールミラー３１の
下で距離ｄ（図８Ａ）に載置して、前記したように、ド
ラム表面８１上にａ、ｂ点間を延在する幅Ｗの線像８２
の軌跡を生成する。 〔００６７〕前記したように、カメラ２２００（図２２
）等の１個もしくは数個のＣＣＤカメラをホトリセプタ
の替りに配置して露光ユニット内でＤＭＤ６０のアライ
メントを助けることができる。ＣＣＤカメラは露光モジ
ュールのミラー３１から同じ距離に配置したり、所望に
より異なる距離に配置することができる。重要な要因は
ＤＭＤの光学系のアライメントは永久３点載置ピンに対
して行われることであり、従って一度アラインされると
露光ユニットは光学系をさらにアライメントすることな
くリセプタからリセプタへ転送することができる。実際
の挿入工程の検討を開始する前に、関心のある３つの回
転軸と３のの並進軸があることを理解願いたい。これら
は図７Ａに示されており、ここでＸはプラットフォーム
１４と直角な上下軸である。Ｙ軸はＤＭＤアレイの長軸
（縦）に平行である。Ｚ軸は光路４０２に沿っている。 次の３軸は最初の３軸に対して回転方位とされている、
すなわちＸ軸周りにプサイ（ψ）、Ｙ軸周りにファイ（
φ）、Ｚ軸周りにシータ（θ）とされている。 〔００６８〕図１２は、図示するように、コンピュータ
により駆動されてジョー２１１１に保持されたＤＭＤを
６軸の周りに順次位置決めする挿入装置を示す。装置２
１００は３つの主軸に対する保持されたＤＭＤの回転運
動の中心が３軸の正確な交差点の周りとなるように設計
されている。この特徴により順次軸位置決めが可能とな
る。アライメント工程は装置２１００のジョー２１１１
へＤＭＤ６０を予備挿入し、図１に示すサポート１０４
に対して適切な最終位置へ下げることで開始される。図
２２のＤＭＤパターン発生器２２０４からのケーブル２
２２０を介してＤＭＤ６０との電気的接触がなされる。 〔００６９〕ピクセルの予備中心セットが励起され、こ
れらにより偏向された光は光路４０２（図７Ａ）に沿っ
て図２２に示すように配置されたカメラ２２００へ到す
る。ビューイングモニタ２２１０，２２０７上に予備像
が現われ、オペレータは“ジョイスティック”２２０５
オーバライドシステムを使用してラフなアライメントを
行う（図２５のボックス２５０１，２５０２）。このア
ライメントは励起されたピクセルをビューイングスクリ
ーンの中心に持って来るのに充分である。次に、自動ア
ライメント工程が開始され図２５に示すアルゴリズムに
従ってコンピュータ２２０３の制御の元で進行する。 〔００７０〕並進の平行座標、ｘ，ｙ，ｚ，はＤＭＤ面
内にありピクセルアレイ上に中心を有する。Ｚ−軸は“
焦点”軸及びＤＭＤイメージレンズ系の光軸に対応する
。Ｘ軸はチップの垂直並進（ピクセルアレイの方向を横
切する）に対応し、Ｙ軸はピクセルアレイの長ディメン
ジョンに沿った横方向運動に対応する。回転角θ、φ、
ψは各軸ｚ、ｙ、ｘ周りの回転に対応する。これらの回
転は、便宜上、航空機の姿勢に関連ずけられ、ｚ軸に沿
って観察するパイロットに対応する“ロール”、“ピッ
チ”及び“ヨウ”と呼ばれる。 〔００７１〕前記したように、アライメントはアレイ中
心の選定ピクセルを励起し、ｘ及びｙ移動を調整してこ
の像をイメージャレンズの光軸上に位置決めして開始さ
れる、図２５のボックス２５０１，２５０２。これが達
成されない場合には、手順は中断される。一つのカメラ
視野内の特定位置に像を位置決めしてこれが達成される
。一つのカメラが直接所望の像位置の中心に来るまで、
カメラステージはＤＭＤ像に沿って横方向に並進する。 次に、光軸ｚ周りにＤＭＤを回転させることにより、“
ロール”が修正される、ボックス２５０３。ロール角ミ
スアライメントはカメラのＤＭＤ像内の“スキュー”角
として現れる、図２３。プリントされた出力において、
これはプリントメディアの縁に直角ではない実際の使用
像に対応する。システムは、励起された全ピクセルから
なる中心像を再びフォーカスする。フォーカスはビデオ
フレームグラバ２２０２システムにより捕捉されるピク
セル像サイズに対して計算を行って達成される。 ビデオデータは２５６の強度レベルまで記憶される。ピ
クセル像の一次元スライスを示す図２４の基準に従って
サイズ及びセントロイド計算が行われる。実際上、フレ
ームグラバーは（ＤＭＤチップのｘ及びｙ方位に対応す
る）振幅の２次元表示を含んでいる。セントロイドを比
較して計算して（光分布の質量中心を有効に）フレーム
グラバメモリマップで表わされる視野内の所望“位置”
と比較するのは簡単なことである。同様に、閾値振幅変
数を選定し、その閾値より上のどれだけ多くのＣＣＤ（
電荷結合装置）ビデオイメージャのピクセルがあるかを
計算することにより、スポットのサイズ、もしくは焦点
を計算することができる。ｚ軸サーボを励起して所望の
スポットサイズが得られる。また、ピーク振幅、隣接ピ
クセル間の振幅及び他の基準を使用してフォーカス状態
を決定することができる。 〔００７２〕次に、システムはピクセル振幅が最大とな
るまで“ピッチ角”φを調整する、ボックス２５０２。 この動作によりソースフィラメント像はイメージャレン
ズ開口の中心に来て、像に最大パワーが転送される状態
となる。最終シリーズのボックス２５０６，２５０７は
“ヨー角”、すなわちエンドツーエンド焦点調整を行っ
たｘ軸周りのＤＭＤの回転、の調整を繰り返す。また、
ヨー角によりフィラメント像はイメージャの中心に来て
最大光学スループット及びコントラスト比を保証する。 しかしながら、回転のｘ軸がチップ中心線にあるため、
動作の固有のｘ軸成分により終端は急速にデフォーカス
する。従って、ヨーとフォーカスの繰返し調整が行われ
る、ボックス２５０９。この調整によりアレイ上のピク
セル像強度の均一性、ボックス２５２０、もしくはバラ
ンスも制御される。全ての基準が満されると、アライメ
ントが完了する。連続試行、ボックス２５０８、後に基
準が満されなければプログラムは中断されオペレータが
介入して故障機構を評価する。 〔００７３〕６軸マニピュレータはできるだけ多くの自
由度を分離、すなわち直交化するように設計されている
。ｘ軸周りの回転によりＤＭＤの両端がデフォーカスす
るため、ψとｚだけが結合されたままとされる。コンピ
ュータシステムは左から右への像測定、及びこれら２つ
のパラメータの同時調整を高速で実施するのに重要であ
る。従って、コンピュータの制御の元で精密且つ高速な
手順でＤＭＤを正しい位置へ“フライング”することに
より本システムは複雑な光学系の最終アライメントを行
うことができる。 〔００７４〕ＤＭＤが最終アラインされると、粘着性も
しくは他のボンディングによりブラケット１０４（図１
）に対してＤＭＤ６０がしっかり位置決めされる。この
時、ジョー２１１１が開いて装置２１００は露光モジュ
ール１０から引っ込められる。 〔００７５〕トナーモニターシステム トナーモニター制御システムを図１９に示し、２つの部
分すなわちホスト部とプリンタ部からなっている。ホス
トはＰＣを含む任意の（図示せぬ）制御システムとする
ことができる。制御システムはプリンタの内部にあって
も外部にあってもよい。システムは像の再生に必要なト
ナー品質を表わす番号を予め（ホストにより）計算する
。この番号にはプリンタ内の像が記憶され、プリンタ内
に残るトナー（トナーリザーブ）のより正確な測定を維
持するのに使用される。この例では、トナーリザーブは
オペレータからのコマンドによりトナーリロードで初期
化され後記するように更新される。 〔００７６〕記憶された像の印字を行わない動作に対し
ていかに残留トナーの品質の維持が実用的であるかを示
すためにラスタグラフィック及びレクタングルが検討さ
れる。これらの印字動作の速度は通信もしくは像発生ア
ルゴリズムにより制限され、ホストによるトナー消費計
算を実施する際の利得が低下することがある。このよう
な場合には、トナー消費計算はプリンタで行うことがで
きる。 〔００７７〕ホスト部 トナーモニターシステムのホスト部はプリンタにより記
憶（もしくはプリント）される全ての像に対して適切な
トナー消費測定値を発生することからなっている。アル
ゴリズムは像発生アルゴリズムの一部もしくは予め発生
された像に作用する手順として実施することができる。 後者は説明の複雑さを減らすためと考へられる。 〔００７８〕図１９に示すアルゴリズムはメモリ内のビ
ットマップ像で開始され、各ドットが消費するトナーを
計算し、像内の各ドットのトナー消費を加算する。アル
ゴリズムは（やはり２次元アレイである）ビットマップ
像上に２次元アレイ定数を移動させて作動する。定数ア
レイとビットマップ内の対応位置との積の和がビットマ
ップ像アレイ内の各素子に対して計算される。（通常中
心である）定数アレイ内の基準点は現在積の和が計算さ
れる像アレイ内の位置とされる。各素子に対する積の“
和”を互に加算して像トナー消費計算を完了する。 〔００７９〕＊ドット（ｒ，ｃ）は１もしくは０の値を
有する１ビット変数のアレイであり、ｒは行番号、ｃは
列番号、Ｒは像内の行番号、Ｃはビットマップ像内の列
番号であり、（１〜Ｒ、１〜Ｃ）の範囲外サブスクリプ
ト番号を有するアレイ素子は０に初期化され、実際のア
レイサイズは（Ｒ＋２ｎ）×（Ｃ＋２ｎ）となる。 〔００８０〕＊アレイドット（ｒ，ｃ）はバイト当り８
素子のパックドフォーマットで記憶することができる。 次に、フロー図に現れる“ドット（ｒ，ｃ）＝０？”が
機能呼出しを使用して実施される。 ＊ｎは現在ドットからトナー消費にインパクトを与える
最遠ドットまでの距離である。 ＊ｔｃ（ｉ，ｊ）はトナー消費にインパクトを与えるド
ットの重み付け係数アレイであり、ここでｉ及びｊは−
ｎから＋ｎの範囲であり、ｔｃ（０．０）は分離ドット
により消費されるトナーであり、これらの定数は使用す
る印字技術に対して経験的に決定される。 〔００８１〕プリンタ部 ビットマップ像印字コマンド、 〈ＰＲＩＮＴ−ＢＩＴ−ＩＭＡＧＥ−ＥＳＣＡＰＥ−Ｓ
ＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈ｂｉｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｉｄ〉〈ｉｍａｇｅ−
ｐｏｓｉｔｉｏｎ〉 に対して、次の形式のビットマップ像記憶フォーマット
が考へられる。 ｂｉｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅｂｉ
ｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｗｉｄｔｈｂｉｔ−ｍａｐ−
ｉｍａｇｅ−ｈｅｉｇｈｔｂｅｇｉｎ ｄａｔａ ： ： ｅｎｄ ｄａｔａ。 〔００８２〕この像はホストによる生成の後プリンタ内
で、恐らくダウンロードにより、設置され代表的にｂｉ
ｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅは、前記
したように、像発生後プリンタ内に設置される前にホス
トが発生する。プリンタは印字ビットマップ像コマンド
、 〈ＰＲＩＮＴ−ＢＩＴ−ＭＡＰＰＥＤ−ＩＭＡＧＥ−Ｅ
ＳＣＡＰＥ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈ｂｉｔ−ｍａｐｐｅｄ−ｉｍａｇｅ−ｉｄ〉〈ｂｉｔ
−ｍａｐｐｅｄ−ｉｍａｇｅ−ｒｏｗ−ｌｏｃａｔｉｏ
ｎ〉 〈ｂｉｔ−ｍａｐｐｅｄ−ｉｍａｇｅ−ｃｏｌｕｍｎ−
ｌｏｃａｔｉｏｎ〉 を受信すると、像を発生する他に次の計算を行う。 ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅｒｖｅ〈−ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅ
ｒｖｅ−ｂｉｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｔｏｎｅｒ−ｕ
ｓｅ。 含まれるコマンド、プリンタへのデータ流のプリンタブ
ル文字、もしくは明確なコマンドにより文字を印字する
ことができる。 〈ＰＲＩＮＴ−ＵＮＰＲＩＮＴＡＢＬＥ−ＣＨＡＲＡＣ
ＴＥＲ−ＥＳＣＡＰＥ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ〉ｕｎｐｒｉ
ｎｔａｂｌｅ−ｃｈａｒａｃｔｅｒ〔００８３〕いずれ
の場合にも、プリンタはフロントと呼ばれる記憶された
文字像ビットマップコレクションからの像を使用して文
字を印字する。文字セル記憶フォーマット、 ｃｈａｒａｃｔｅｒ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅｃｈａｒａｃ
ｔｅｒ−ｃｅｌｌ−ｗｉｄｔｈｃｈａｒａｃｔｅｒ−ｃ
ｅｌｌ−ｈｅｉｇｈｔｆｉｒｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ 、 、 、 ｌａｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ はトナーリザーブを更新するのに使用する文字トナーを
含んでいる。 ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅｒｖｅ〈−ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅ
ｒｖｅ−ｃｈａｒａｃｔｅｒ ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅ。 フロントはホストにより生成されプリンタ内に設置すな
わちダウンロードされる。像発生後プリンタへ設置すな
わちダウンロードする前に、ホストはｃｈａｒａｃｔｅ
ｒ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅを発生する。ｃｈａｒａｃｔｅ
ｒ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅを発生するアルゴリズムの実施
例の説明のホスト部を参照されたい。 〔００８４〕ラスタグラフィックを収容するために、残
留トナーに直接作用するホストから付加コマンドが送ら
れる。ラスタグラフィックはドット行を印字する一連の
コマンドからなっている。 〈ＲＡＳＴＥＲ−ＧＲＡＰＨＩＣＳ−ＥＳＣＡＰＥ−Ｓ
ＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｏｆ−ｂｙｔｅｓ−ｏｆ−ｄａｔａ〉ｆｉｒｓｔ
−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ‥‥ｌａｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔ
ｅ 〈ＲＡＳＴＥＲ−ＧＲＡＰＨＩＣＳ−ＥＳＣＡＰＥ−Ｓ
ＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｏｆ−ｂｙｔｅｓ−ｏｆ−ｄａｔａ〉ｆｉｒｓｔ
−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ‥‥ｌａｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔ
ｅ 、 、 、 〈ＲＡＳＴＥＲ−ＧＲＡＰＨＩＣＳ−ＥＳＣＡＰＥ−Ｓ
ＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｏｆ−ｂｙｔｅ−ｏｆ−ｄａｔａ〉ｆｉｒｓｔ−
ｄａｔａ−ｂｙｔｅ…ｌａｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ これらのコマンドには残留トナー品質を更新するコマン
ドが続く。 〈ＴＯＮＥＲ−ＬＥＶＥＬ−ＵＰＤＡＴＥ−ＥＳＣＡＰ
Ｅ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｏｆ−ｓｕｂｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−ｔｏｎｅｒ
−ｌｅｖｅｌ〉 このコマンドを受信すると、プリンタは次の動作を行う
。 ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅｒｖｅ〈−ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅ
ｒｖｅ− ＃−ｔｏ−ｓｕｂｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−ｔｏｎｅｒ−
ｌｅｖｅｌ 〔００８５〕＃−ｔｏ−ｓｕｂｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−
ｔｏｎｅｒ−ｌｅｖｅｌはラスターグラフィックスコマ
ンドの先行シーケンスにより発生する像に基いてホスト
が計算する。矩形コマンドを収容するために、同じ方法
が用いられる。プリント矩形コマンド、〈ＰＲＩＮＴ−
ＲＥＣＴＡＮＧＬＥ−ＥＳＣＡＰＥ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ
〉 〈ｒｅｃｔａｎｇｌｅ−ｗｉｄｔｈ〉 〈ｒｅｃｔａｎｇｌｅ−ｈｅｉｇｈｔ〉〈ｆｉｌｌ−ｐ
ａｒａｍｅｔｅｒ−１〉 〈ｆｉｌｌ−ｐａｒａｍｅ
ｔｅｒ２〉… 〈ｆｉｌｌ ｐａｒａｍｅｔｅｒ ｎ〉に続いて、
ホストからトナーレベル更新コマンドが送られる。 〈ＴＯＮＥＲ−ＬＥＶＥＬ−ＵＰＤＡＴＥ−ＥＳＣＡＰ
Ｅ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｔｏ−ｓｕｂｓｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−ｔｏｎｅ
ｒ−ｌｅｖｅｌ〉 これにより、プリンタ内で次の動作が開始される。 ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅｒｖｅ〈−ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅ
ｒｖｅ− ＃−ｔｏ−ｓｕｂｓｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−ｔｏｎｅｒ
−ｌｅｖｅｌ 〔００８６〕これらの計算に基いて、トナーレベルを常
に知ることができる。計算値が実際と異なる場合は問題
が示される。次に、これらの計算を使用してオペレータ
にトナー利用可能を知らせる。トナーの使用量は印字頁
数ではなく使用するグラフィックの種類に依存するため
、非常に精密な予警告を与えることができる。 〔００８７〕ゼログラフィック印字モジュールの交換可
能素子チケット印字環境におけるシステム条件に合致さ
せるには、ＡＴＢシステム用紙径路、シャーシフォーム
要因、及び寿命及びサービス条件とコンパチブルなモジ
ュラーゼログラフィックプリントエンジンを設計する必
要があった。このプリンタシステムは容易にシャーシも
しくはレシーバモジュールへ挿入され、次に航空券及び
搭乗券プリンタ（ＡＴＢ）中央スパインから取り外すこ
とができる４つのモジュラー要素からなっている。プリ
ンタはトナーベース、光学露光、ゼログラフィック工程
を使用して結像システム周りに設計されている。いくつ
かのパラメータが設計工程の要因となる。信頼度及び寿
命を考慮すれば、迅速且つ容易に交換できるいくつかの
素子を有する強化設計を必要とする。この中の３素子は
ゼログラフィック工程を構成する消耗要素を形成する。 プリントヘッド、露光モジュールは第４の交換可能要素
である。レシーバモジュール、すなわちゼログラフィッ
クプリントモジュール（ＸＰＭ）はプリントエンジンの
第５の交換可能要素を形成する。ジャム間の平均クーポ
ン数（ＭＣＢＪ）を最小限とするために、システムは短
いまっすぐなクーポン径路に設計する必要がある。ジャ
ムが発生すると、フューザユニットの加熱面及びオペレ
ータの安全を考慮して速かに容易にクリアしなければな
らない。消耗要素はユーザが保守可能なデスクトップレ
ーザプリンタ産業における代表的頁カウントよりも実質
的に大きい交換間の特定クーポンカウント合致するよう
に実装しなければならない。ＸＰＭ自体は代表的デスク
トップレーザプリンタの５〜１０倍の寿命条件を有して
いる。フューザ組立体及びプリントヘッド組立体はユー
ザが交換可能なユニットではない。 〔００８８〕通常ユーザ交換可能な消耗品に付随するペ
ナルティは印字の頁当りコストが高いことである。これ
は一般的なデスクトッププリンタ環境では簡便なために
受け入れられ、その結果生じる高印字品質及びコストは
保守呼出しが少くなるために帳消しにされる。ダウンタ
イムも数時間から数分に短縮される。これらの特徴は全
てＡＴＢ市場では非常に望ましいものであるが、熱、イ
オン堆積及びインパクトマトリクス印字技術の競争圧力
により消耗品の高コストは望ましくない。消耗品モジュ
ールコストを低減するために、新しい設計標準に合致し
なければならない。特に、消耗品コストの５０％以上に
達するトナー現像剤ユニットは４．５％カバレッジファ
クタでおよそ５０，０００クーポンを印字するのに充分
なトナー容量を持たなければならない。この点において
、デスクトップレーザプリンタのトナーを収容する代表
的な交換可能カートリッジは２０分の１のおよそ２５０
０プリントに指定されている（７分の１であればクーポ
ンのエリアファクタをＡサイズ頁とすることができる）
。 〔００８９〕同様に、（ＯＰＣと略称される）代表的に
有機性の２層設計ホトリセプタの寿命は、材料及び製造
コストが低いために、比較的短い。これは主として（例
えば、用紙、トナー及びクリーナ機構等の）工程の接触
部品の摩耗、ＯＰＣ基板を構成する比較的柔い有機ポリ
マー材、及び工程の帯電及び露光部の性能劣化効果によ
る。事実、帯電及び較写コロナワイヤにより生じるオゾ
ンはＯＰＣ劣化の主因である。タイトでコンパクトなデ
スクトップレーザ設計では、残留オゾンによりＯＰＣの
寿命が実質的に短縮される。このため、ＯＰＣの寿命は
３，０００頁程度となることもあり、代表的には２０，
０００以下である。ＡＴＢプリンタは毎月４０，０００
クーポンまでの大量環境で作動するように設計されてい
る。明らかに、ユーザは毎日もしくは一日おきに消耗品
を交換したりピーク印字期間中にいつも消耗品の寿命を
越えて運転することはできない。消耗品ユニットの寿命
を延ばし消耗品の頁当りコストを低下する要求（例えば
、多くの印字クーポンに対して使い捨て要素を償却する
）によりＡＴＢ消耗品コストのゴールに達した。これは
代表的な産業上の経験を大きく上廻り、従来消耗ユニッ
トと考へられなかった要素をユーザが交換可能としてい
る。ＤＭＤ印字ヘッド自体については、その低コスト及
びＸＰＭユニットとの簡単なアライメントによってのみ
可能である。
してＤＭＤアレイの像の最適焦点状態をＤＭＤの配置の
関数として決定する。ＤＭＤはアライメント工程中に電
気的に操作され光学的に作動する。ＤＭＤに送られるパ
ターンはアライメントを助けるように設計されれいる。 適切なアライメントが行われると、ＤＭＤは露光モジュ
ールに永久に取り付けられ、電子マニピュレータ組立体
が取り外される。 〔００１０〕本装置によりオペレータはＤＭＤを適切に
可視配置することができる。操作には時間がかかり且つ
６゜の位置調整の相互作用性によりエラーを生じ易いた
め、アライメント工程を自動化するのが好ましい方法で
ある。このような方法を使用してビデオカメラの出力を
捕捉して処理し、コンピュータを使用して相互作用的に
アライメント工程やアルゴリズムに追従する。１組の量
化可能なアライメント基準に合致するかもしくは制御不
能な要因によりアライメントが不能とみなされるまで、
コンピュータはサーボ制御マニピュレータ組立体を駆動
する。 〔００１１〕従って、モジュールごとの高い位置精度と
再生度の達成を保証しながらＤＭＤ装置のアライメント
時間を分から秒へ短縮することが本発明の技術的利点で
ある。さらに、組立体の統計をとって工程制御や方法の
改善分析に使用できる。また、個別の各ユニットの後の
性能特性の追跡に永久記録を利用することができる。 〔００１２〕レーザビームを光学系を介して逆方向にフ
ォーカスし光学系がアライメントされて適切に機能する
ことを保証するのがもう一つの技術的利点である。 〔００１３〕露光モジュール内に含まれる光学素子を予
めアラインして光源から作動印字装置内の再生面を表わ
す位置まで延在する径路を形成し、光変調装置を位置決
めし、予めアラインされた露光モジュール内の光路に沿
って光源からアラインされた光学系を通って再生面を表
わす位置まで光を送り、再生面を表わす位置において少
なくとも１個の感光検出器を再生面に置換し、検出器か
らの出力に従ってユニットに対する光変調装置の回転及
び並進位置を調整するステップを使用して再生露光モジ
ュールユニット内において光変調装置のアライニング法
を確立することがさらにもう一つの技術的利点である。 〔００１４〕 〔実施例〕空間光変調器をさらに良く理解するには、こ
こに参照として組み入れた、１９８６年６月２４日付米
国特許第４，５９６，９９２号、１９８７年５月５日付
米国特許第４，６６２，７４６号、及び１９８８年５月
１日付米国特許第４，７２８，１８５号を参照とする。 前記特許第４，５９６，９９２号にはプリンタ内で可変
形ミラー装置を使用することも検討されている。 〔００１５〕露光ユニット 次に、図１を参照として、例えば、ゼログラフィック再
生装置で使用することができる変調された光像を生成す
るのに使用する露光ユニット１０の分解図を示す。露光
ユニットは低膨張係数材で構成された凾体１１からなり
、照光源１６から発生する熱により構造体内に感知でき
る程の応力誘起動作が生ぜず従って装置の光学系を厳し
い公差で配置するのを保証するようにされている。この
ため、光源１６は主構造体の外側にあり放射状スポーク
１５１により外壁１５から分離されている内壁１５０を
有する二重管道１５に収納されている。内部管道１５０
は熱を吸収しスポーク１５１を介して熱を消散させるリ
ベットアルミニウム製とすることができる外壁１５へ伝
達する、アルミニウム等の、材料で作ることができる。 管道１５０は黒色に陽極酸化して吸光率を高め反射光を
低減させることができる。 〔００１６〕構造体１５は、熱絶縁ボンド材を使用して
、凾体１０に接続されている。ランプ１６を凾体に取り
付ける目的は凾体の移動と無関係にランプ１６のフィラ
メントを内部光路と完全にラインナップさせたままとす
ることである。これは精密にモールドされたランプソケ
ット１６０により保証され、それはランプピン７１０（
第７Ａ図）とランプソケット１６０内に正確に位置決め
することによりランプフィラメントを光径に合せる（第
２図）。タングステンハロゲンランプは市販されている
“計装ランプ”である。これらの精密ランプは予めセラ
ミックベース及びランプピンにアラインされたフィラメ
ントを有し、従って組み立て中に露光ユニット１０に関
して光源１６を調整する必要がない。同時に、（低熱伝
導プラスチックでできた）ヒートシンク１５及び外部ソ
ースマウント３０２により、光源１６は凾体に熱を伝え
て凾体内で熱問題を生じることがない。管道１５を通っ
て底部から頂部へ強制送風を行って管球１６の周りを均
一に冷却する。これにより、管球が不均一冷却によって
白色（不透明）表面となる可能性が少くなり、露光ユニ
ットの寿命が延びる。 〔００１７〕図示するように、水平内部パーティション
、すなわちベース１４、を有する露光ユニット１０は（
第１８図に略示する）ゼログラフィック印字ユニットと
タブ１０１，１０２，１０３により嵌合するように設計
さえており、それにより露光モジュール１０を印字ユニ
ットに対して光学的に有効且つ容易に位置決めする３点
搭載を有効に行うことができる。次に、露光ユニットは
、スプリングスナップ等により、印字ユニットに定着さ
れて機能的に載置される。 〔００１８〕ここで、光学径路及び露光ユニットを通る
光線の伝播径路を理解すると役に立つ。このような伝播
はレンズ１７及び１８を通って可変形ミラー装置（ＤＭ
Ｄ）６０上へフォーカスされる管球１６からの照光から
始まる。この点において、光は変調されていない。図示
するように。ＤＭＤ６０は光を２つの明確な束として反
射させ、それは結像レンズへ行く変調光束と反射される
非変調光束である。結像レンズへ行く光線は下向きにベ
ース１４及びイメージャレンズ４０を通り、そこから一
組のミラーからなる折返し径路を介して露光ユニット底
部カバー１３のベース内にあるファネル構造１２０へ行
く。次に、変調された光ドットパターンからなる光像が
、後に示すように、ゼログラフィックドラム上に衝突し
て露光像を生成し次にそれはゼログラフィック工程によ
り現像されプリントされる。 〔００１９〕次に図１に戻って、照光源１６は、ジェネ
ラルエレクトリック社の片端クォーツラインホトランプ
シリーズ等の、タングステンハロゲン球とすることがで
きる。光源は所要寿命（代表的には２０００オンタイム
）及び印字工程露光条件に適した電力レベルを提供する
ように選定される。管球１６からの光は耐熱球形レンズ
１７により、光をＤＭＤ６０上に指向させるためのレン
ズ１８上にフォーカスされる。レンズ１８は下部平胆面
の縦中心線に位置するモールドされた精密ピボット点上
に載置される。レンズ１８の両端１８０は露光モジュー
ル１０の内壁１０５及び外壁のスロット内に保持される
。これらのスロットによりレンズ１８はその縦軸に沿っ
て膨張することができる。しかしながら、レンズ１８は
（図示せぬ）中心ピン上に載置されるため、焦点距離は
変化せず、従って、光は相変らず均一にＤＭＤ６０上に
指向される。レンズ１７及び１８は一緒になって集光組
立体を構成する。このレンズ群の機能はＤＭＤ６０にお
いて均一な照光を行い、且つイメージャレンズ４０の前
面内に形成されるソースフィラメント１６のフォーカス
された拡大像を与えることである。 〔００２０〕レンズ１８は中央枢支され、モールドプラ
スチック材が露光モジュール１１に較べて熱膨張が大き
いため両端は自由にされる。レンズ１８は複雑な非球面
デザインとされており、従ってレンズ１８の製造コスト
を低減するようにモールドしなければならない。一方、
レンズ１７はパイレクス等の低膨張率材で作ることがで
き、所望により剛搭載することができる。 〔００２１〕図示するように、マウント１０４によりベ
ース１４にほぼ直角に保持される、ＤＭＤ６０は選定ミ
ラー１２に加わる電気信号により作動してこれらのミラ
ー（ピクセル）により変調された光を直接下向きに光軸
へ通し結像レンズ４０によりフォーカスする。非変調ミ
ラーもしくはＤＭＤ６０の非活性面からの光は少くとも
一部光軸の周りに位置する胸部（１９）の作用により散
乱される。 〔００２２〕頂部１２はレンズ１８の頂部を正しい位置
に保持するための（図示せぬ）ディンプルをその内面に
有するように構成されている。別の実施例における頂部
１２にはレンズ１７上に嵌合してレンズ１７を正しい位
置に保持するように設計されたキャノピーを配置するこ
ともできる。また、高温に耐えるボンド剤を使用してこ
れらのレンズの一方もしくは両方を正しい位置に接合す
ることもできる。 〔００２３〕ベース１３は露光モジュール１１の底部に
嵌合し、図示するように、露光モジュールから光リセプ
タへの光像を収容するファネル１２０を含んでいる。フ
ァネル１２０内側のバッフルは反射及び迷走光線を低減
して最終プリント像のコントラストを高く維持するよう
に作用する。 〔００２４〕次に図２に戻って、露光モジュール１０の
平面を示す。ＤＭＤ６０を電気変調信号源に接続し且つ
ランプ１６を電源に接続するケーブルは図示されていな
い。このケーブルは露光ユニット１０内側を通り壁１０
５に最も近い側から出るようにするのが有利である。管
球１６を保持するソケット１６０は信頼度の高い精密な
光学アライメントを行うためにアーム３０２により露光
ユニット１０へ支持され関連される構造体としてモール
ドするのが有利である。ＤＭＤ６０を保持する支持ブラ
ケット１０４は直接パーティション１４としてモールド
することができ、このパーティションは露光ユニット１
０を図２に示す上部ユニット及び図３に示す下部ユニッ
トへ分離する。チャネル１９が上下部間でＤＭＤ６０に
より反射される変調光の光軸上に配置されパーティショ
ン１４中を延在している。鋸歯もしくは蜂胸形が変調光
軸周りに半円形状に形成され、図示するように、ＤＭＤ
６０の非変調ピクセル及び他の構造からの光を偏向且つ
吸収するように作用する。ＤＭＤ６０の変調ミラーから
の反射光を取り出して一組のミラー（図３）により形成
される光路を介してブーツ（図４）の下のゼログラフィ
ックドラム上へフォーカスすることを目的とする結像レ
ンズ４０を保持するようにチャネル１９が構成される。 〔００２５〕突起２９（図３）は蜂胸の（頂部）構造の
半円形チャネルを形成する。次に、図４を参照として、
図２の４−４断面に沿った露光ユニット１０の断面図を
示す。図４は管球１６から出る光がレンズ１７及び１８
を通ってＤＭＤ６０上にフォーカスされる上部における
光線４０１を示す。ＤＭＤ６０により変調された光線４
０２はイメージャレンズ４０を通って露光ユニット１０
の底部のミラー３０上へ到り、そこから像を９０度回転
させてファネルブーツ１２０からエグジットするミラー
３１へ到り、ゼログラフィック印字装置のホトリセプタ
面上へ進む。ブーツ１２０内には散乱光が再生ドラム上
のコントラストを低下させるのを防ぐ一連の段すなわち
光バッフル４１及び露光ユニットをシールするのに使用
する透明カバー４２がある。 〔００２６〕図５Ａは光路４０２の光軸に沿って構成さ
れ且つ一連の蜂胸形の段として構成されたチャネル１９
を示す。選定されないピクセルからの反射光線７０２は
真の光軸からおよそ１０〜１５゜偏向され、胸形の壁の
一つに衝突し減衰して一つの壁からもう一つの壁へはね
返り且つ上向きに露光ユニットの頂部カバーにはね返っ
てさらに減衰する。このようにして、非選定ピクセルか
らの反射光は選定ピクセルからの反射光から有効に分離
され、結像レンズ４０に加えられる光線４０２は変調光
のみを含むようになる。従って、結像レンズ４０を介し
てフォーカスされる時、結像すなわち変調ピクセルから
の反射のみが光線４０２に含まれる。従って、蜂胸１９
は非変調光線７０２の光路内にある一連の光バッフルと
して作用し、且つ非選定光を減衰させるように作用する
。蜂胸１９は光軸に直角な壁を有して光軸周りに半円形
状に構成されている。各壁のベースは（鋸歯）傾斜面に
より先の壁の頂部に接続されている。光軸からはね返る
光を再反射させ、光軸４０２にほぼ直角に指向してイメ
ージャレンズ開口４０において非常に高い除波比を保証
するのはこの傾斜面である。 〔００２７〕図６Ａは光を偏向できるように設計された
一列もしくは数列のピクセル６１だけでなくシリコン内
に組み入れられたアドレス構造部を有し、任意の一つの
ピクセルの電気的選定及び変調（もしくは非変調）に応
じて明（もしくは暗）像が形成されるＤＭＤ６０を示す
。ＤＭＤ６０の方形６２はシリコンアドレス構造を表わ
す。実際上ピクセル当り１９ミクロン平方である個々の
ピクセルは変哲もない中央ミラー構造の中心の下の細線
６１として表わされている。実際のＤＭＤピクセルを包
囲するこの本質的な反射鏡は、ピクセル素子ではなく、
ＤＭＤ上に降下する照光の比較的大きい部分を蜂胸１９
によりさえぎられ減衰される非変調フィラメント像内へ
指向する機能を実施する。包囲面がミラーではなく、（
遠隔アドレス回路のような）構造であれば、背景照光を
ソースフィラメント像内にではなくアイソトピックに再
放射する。それは次にイメージャ４０へ入りホトリセプ
タドラムに形成されたＤＭＤ像のコントラストを低下さ
せる。ＤＭＤ６０はコンピュータや他のソースからの内
部変調及び制御信号を受信する端子６３を有している。 〔００２８〕図６Ｂは図６Ａの線６１からの２，３のピ
クセル６１００の拡大図である。図示するように、ピク
セルはコーナ６１０２，６１０３上に蝶着されており、
それらは水平下に反射される上からの光路を確立する。 もちろん、これは一実施例にすぎず他の実施例も考へら
れる。ピクセルの実際の動作は前記特許で検討されてい
る。ピクセルの移動により変調光のオン状態及びオフ状
態が生成される。 〔００２９〕光変調径路 図７Ａは管球１６から発しレンズ１７，１８を介して集
められＤＭＤ６０のアクティブピクセルエリアを実質的
に照光する光線４０１の略図である。しかしながら、光
源１６からの光の大部分はＤＭＤピクセルのアクティブ
列（６１）周りの鏡面上に降下する。これを光線７０１
で示し、明確にするために図示せぬ、光線４０１，４０
７面上下の光線の大部分も含まれる。蜂胸１９の光反射
機能がなければ、これらの光線はＤＭＤ６０の平胆面（
及び非変調ピクセル）から反射して、点７０３周りの空
間でフォーカスされる。点７０３はこれらの光線が蜂胸
１９の作用により転向されない場合にイメージャレンズ
４０入口開口面内に形成される光源６０のフィラメント
像の中心である。従って、光線７０２は蜂胸１９により
焦点７０３から転向され光線４０２に沿った主光軸にほ
ぼ垂直に伝播される。非変調フィラメントの光エネルギ
は光路４０２に沿ってイメージャレンズ４０上と衝突す
る変調フィラメント像の光よりも数桁大きい。米国特許
第４，７２８，１８５号に開示された暗視野プロジェク
タ装置の高選択度は非変調光が点７０３の真近かに焦点
を結ぶという事実の認識から生じる。従って、集光装置
１７，１８及び光源１６の光軸を適切な方位とすること
により、点７０３はイメージャ４０の入口孔（開口）の
完全に外側とすることができる。 〔００３０〕図１、図２及び図７Ａは、光学列の結合さ
れたＤＭＤ６０及びイメージャ４０アームの光軸の（Ｄ
ＭＤ６０から見て）左側にある集光器の光軸を示す。図
４において、さらに光線４０１に沿った集光器の光学軸
も光線４０２に沿ったイメージャ４０の光軸よりも上に
あることが判る。これら２つのオフセットから、反射の
法則によりＤＭＤ６０（及び任意の非変調ピクセル）の
平胆な鏡面からの反射光により形成されるフィラメント
像はＤＭＤ６０から見て、イメージャ４０の右下方、す
なわち図７Ａの点７０３になければならないことが明白
である。 〔００３１〕単に非変調エネルギをイメージャ開口から
離れるように指向するだけでは、印字に必要な高コント
ラスト比をＤＭＤ像に保証することはできない。非変調
エネルギをイメージャレンズから離れるように偏向させ
少くとも２つの偏向面（第５図）においてその大部分を
吸収する蜂胸１９の効率的作用が露光モジュールの動作
にとって重要である。（反射面のない）特徴のないチャ
ネルにより不要な光を俯角反射機構を介してイメージャ
レンズへ通すことができる。蜂胸１９の設計によりアラ
イメントを必要とせず露光モジュールのコストを殆んど
付加することなく従来の成型プラススチック材で作るこ
とができる非常に高い減光路が提供される。 〔００３２〕この高選択性光学構成の詳細を図７Ｂに示
し、ＤＭＤ６０の斜視図から見た集光器１８とイメージ
ャ４０の光学アームを示している。図７Ｂに示すように
、軸４０３とアラインされた集光装置１６，１７，１８
からの背景光（非変調光）は点７０３（第７Ａ図）にお
いて仮想フィラメント像７０５へ収束される。蜂胸１９
の反射（減衰）作用により実際の露光モジュールには像
７０５は存在しない。しかしながら、ＤＭＤピクセル６
１がそのヒンジ軸ＲＲ′８１２周りを選定方向に回転す
ると、ソースフィラメント７０４の全体像が像位置７０
３から像位置７０６へ並進する。 〔００３３〕もちろん、一つのＤＭＤピクセルの回転に
より生じるフィラメント像７０６は、数百の像に対する
ピクセルエリア比に対応する、フィラメント像の大きな
エリア及び少量の変調エネルギによりきわめて暗い。し
かしながら、イメージャ４０が前面開口に衝突する光束
を収集し、ホトリセプタ面における各ピクセルの像へ再
びフォーカスすると、像は極めて明るくなる。 〔００３４〕従って、ＤＭＤ６０の光エネルギ変調作用
及び空間光変調器（ＳＬＭ）の意義が判る。個別のＤＭ
Ｄピクセルの回転作用により像位置７０３から７０６へ
の少量のエネルギの空間変調が行われる。しかしながら
、ホトリセプタにおいて、イメージャ４０の固定焦点に
より、対応するＤＭＤピクセル像の空間移動はない。 観察される性質は一連の固定スポット（すなわちピクセ
ル）のものであり、そのいずれかが単に明るくなったり
暗くなったりするだけである。それは、例えば、いかだ
の難民が手鏡を使用して頭上の飛行機に合図する状況に
似ている。太陽からの平行光線をパイロットの瞳に偏向
する（向ける）ことにより、網膜には非常に明るい像が
受信される。太陽を光線、鏡をＤＭＤピクセル、イメー
ジャ４０を瞳孔、網膜をホトリセプタとすれば、類似性
が確立される。 〔００３５〕図７Ｂにおいて、ＤＭＤピクセル回転軸Ｒ
Ｒ′８１２は像の移動線８１０に直角であることが重要
である。反射の法則により、光線は鏡面の回転角の２倍
だけ転向される。従って、ＤＭＤの反射素子のＲＲ′周
りの回転により必ず光束は線８１０に沿って移動する。 集光器組立体１６，１７，１８がＤＭＤに対して他の任
意の角度で配置され非変調フィラメント像７０５が線８
１０の中心に来ない場合には、変調フィラメント像７０
６も点４０４においてイメージャ４０の中心に来ない。 その結果、利用可能なエネルギの全量がイメージャを通
ることはなく、全ホトリセプタ露光効率を達成すること
ができない。また、ＤＭＤ６０に設計された回転角は集
光装置軸４０３のオフセット角に対応させて、ＤＭＤピ
クセル６１を励起すれば像７０６がイメージャ４０の中
心に来るようにすることも黙示されている。前の検討と
同じ理由により、電力スループットも低減される。 〔００３６〕設計により、集光装置光学系１７，１８は
フィラメント７０４を拡大して結果として得られる像７
０６がイメージャ開口４０からあふれるように選定され
る。集光効率は拡大率と共に増大する。フィラメント像
の外縁、特にコーナは、中央領域よりも光学的効率の低
い放射器であり、従ってイメージャ開口内にあるという
ことは重要ではない。最後に、最も効率的な光学系はイ
メージャの全錐角を利用するものである。ホトリセプタ
の最大ピクセル像輝度はフィラメント像がイメージャ開
口４０を完全に満す時に生じる。これらの状況は、集光
器１７，１８拡大率と組合せたソース１６フィラメント
サイズ及び形状（通常方形）、及びイメージャ開口４０
サイズを選定することにより保証される。 〔００３７〕前記したことから、イメージャ開口が大き
い程（例えば高速イメージャレンズもしくは低ｆ数）、
システムの光学効率は良くなるようにみえる。実際には
そうではない。コンパクトな露光モジュールシステムに
対する要望に加えて、高速イメージャレンズのコストは
劇的に増大する。既存のシステムは１２０ｗ電源及びｆ
４．５イメージャを使用して７インチ／秒（４２７−ポ
ン／分）の速度で作動するゼログラフィック工程で露光
を行う。後者は非常にコンパクトで、経済的に作れるレ
ンズである。イメージャレンズ４０開口の限定要因は、
組合せた時に、２つのフィラメント像７０５，７０６の
単なるサイズ及び分離として明白になる光学系の設計上
の配慮により決定される。 〔００３８〕分離を図７Ｂの８１１に示す。分離は前記
特許第４，７２８，１８５号で検討されている暗視野光
学系の術語では“デッドバンド”と呼ばれている。デッ
ドバンドの物理的意味はそれがフィラメント像７０５の
非変調光エネルギのどの部分もイメージャ開口に接近し
ないことを保証するという事実から生じる。２つの像の
相対強度はＤＭＤの相対照光エリアを反映する大きさよ
りも数桁異なることを思い出せば、たとえ像７０５のコ
ーナがイメージャ４０開口内にあってもホトリセプタの
コントラスト比は実質的に減じることは明らかである。 故意に“デッドバンド”を設けることにより、システム
のミスアライメントの公差が幾分許容される。さらに、
多くの動作サイクルにわたって、ＤＭＤピクセルが平胆
な所から１もしくは２度まで、永久“角設定”されれば
、デッドバンドによりイメージャレンズ４０にはエネル
ギが導入されない。最後に、光学系のミスアライメント
により、フィラメント像７０５が正規のサイズよりも大
きくぶれたり歪んだりすると、エネルギはイメージャレ
ンズ４０には入らない。 〔００３９〕従って、デッドバンド概念により、ホトリ
セプタ像に１００：１を越える高性能コントラスト比を
得ながら、システム組立体及び光学公差の許容範囲はか
なり大きなものとなる。 〔００４０〕図５Ａは露光モジュール１０のベース内の
半円型（もしくは全円型）孔周りに同心状に形成された
一連の鋸歯状ステップ４１０，４１１である蜂胸１９を
示す。同心円の形状により光バッフルのモールディング
が容易になる。（“オフ状態”光と呼ばれる）ＤＭＤ６
０からの不要な光は、図５Ｂにおいて、鋸歯プロファイ
ルを形成する一連の同心バッフルの一つの第１の面４１
０に衝突する。“Ａ”と付されたこの第１の衝突は特定
角であり（図示するものはおよそ１３゜）オフ状態光を
鋸歯プロファイルの背面４１１へ強制的に反射させて衝
突“Ｂ”を起させる。この２次面はアンダーカットすな
わち負の勾配を形成し光モジュールの上部屋根内へ強制
的に光を通して衝突“Ｃ”を起す特定角である。全ての
衝突面“Ａ”〜“Ｃ”を黒化することができるため、不
要光は任意の非制御面に当る前に３つの黒化面に衝突し
て殆んど全ての不要光を吸収する。 〔００４１〕再生ユニット 引き続き図８Ａにおいて、レンズ４０からのピクセルド
ット４０２の変調像は、前記したように、ゼログラフィ
ック印字ドラムすなわちドラム８０の表面８１上にフォ
ーカスされる。この投射は表面８１上の線８２内にあり
、ドラム８０の下を図示する方向に通過する印字ストッ
ク８０１上に印字を形成する一列もしくは数列の変調ド
ットパターンを含んでいる。図８Ａには一列のドットし
か示されていないが、実際には（詳記するように）この
ような２列が一時にドラム上に配置される。 〔００４２〕後記するように、ドラム８１にトナーが付
与され変調光がドラムに衝突するスポットに付着する。 次に、このトナーは公知のゼログラフィック工程により
クーポンストック８０１へ転写される。ドラムが回転す
ると、変調光はドラム８１上に一列ごとにドットを密に
配置する。図８Ｂに示すように、この回転により印字工
程が行われる。表面８１上にこれ以上変調ドットパター
ンがない状態でドラムが進行するように図示されている
が、これは工程を判り易くするためにすぎない。事実、
連続印字工程とするために露ユニット１０の制御の元で
連続行のドットパターンが堆積される。 〔００４３〕図１０Ａは何らかのプレプリント情報を含
む黒クーポンストック１０１０を示す。図１０Ｂはゼロ
グラフィックドラム８０の下を通過し且つ、前記したよ
うに、変調光４０２によりドラム表面８１へ転写された
一連のドットにより情報がプリントされた後のストック
クーポン１０１１を示す。前記したように、光線はＤＭ
Ｄ６０（図８Ａ）により変調され、この装置は一列の可
変形ミラーもしくは数列のこのようなミラーを有して形
成することができる。実施例では、２列のミラーを使用
し、従って、ドラム８１上には２列のドットが配置され
ている。実際上、２列の偶奇ビット（ピクセル）は文字
の一列である。奇偶列からのビットはＤＭＤ６０のミラ
ー列間の、物理的距離を表わす一定距離だけ離されてい
る。２列のミラーを使用することによりドットの印字解
像度が高くなり、それは図９Ａ、図９Ｂ及び図９Ｃに示
すようにオフセット列は互いに光学的に重畳するように
できるためである。この重畳はＤＭＤ軸に沿って行われ
、前記高速走査方向に対応する。しかしながら、２列以
上のミラーを使用してドットパターンを生成すれば、一
列装置では必要ないが多列装置では重要な複雑性が付加
される。 〔００４４〕図９Ａに戻って、文字９０１はアウトライ
ン形状の“Ａ”であり、各々が一連の偶奇ビット（ピク
セル）位置ｏ，ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔ，ｕ，ｖ，ｗを有す
る一連のラスター線に任意に分割されている。従って、
図示するように２本の連続露光線９０２，９０３（偶奇
線）により特定ラスター線が生成される。（図８Ａに示
すドット線を表わす）これらの露光線はＤＭＤ６０のミ
ラーの隙間の物理的特性及び露光モジュールの光学拡大
により定まる一定距離だけ離されていることをお判り願
いたい。この距離は２ドット線に正確に対応する。文字
アウトライン９０１が生成されているドラムは実際上こ
れらのドット配置線に直角に（低速走査方向）移動する
ことを思い出していただきたい。奇偶ビット配置の間隔
はドラム上の各堆積間の遅延時間を変えることにより電
気的に制御することができる。図示する例では、文字ア
ウトライン９０１は頁上を上方に移動する。 〔００４５〕図９Ａに示すように、ＤＭＤ６０は偶奇ピ
クセルに対応する２列９１０，９１１に分割される。第
一の時点において、線ｎのビット位置ｐ，ｒ，ｔ，ｖか
らのデータはＤＭＤ６０に与えられ、列９１１のミラー
ｐ，ｒ，ｔ，ｖにより変調されている。これにより、図
９Ａの右側に示すドットがゼログラフィックプリンタの
ドラム上に生成され、ｐ，ｒ，ｔ，ｖピクセルは奇露光
線９０２に沿って暗くされている。この時点において、
同じ線の残り、すなわちピクセルｑ，ｓ，ｕはＤＭＤ６
０偶数列の遅延レジスタ１へ入れられる。 〔００４６〕図９Ｂには、ｎ＋１線がＤＭＤ６０にロー
ドされて、ピクセルｐ，ｒ，ｔ，ｖが再び励起され、光
線を変調して図９Ｂの右側で奇数露光線に沿って暗い像
ｐ，ｒ，ｔ，ｖを形成する次の時点が示されている。こ
の時点において、遅延レジスタ１にロードされた情報は
遅延レジスタ２へ移され、ｎ＋１線に関する新しい情報
が遅延レジスタ１へロードされる。ドラム８０の回転に
より文字９０１は１ラスター線だけ上方へ進んだことを
お判り願いたい。 〔００４７〕次の時点において、奇露光線９０２は再び
ＤＭＤ６０から変調を行いｎ＋２線に関するピクセルｐ
，ｒ，ｔ，ｖが再びゼログラフィック印字面上に露光さ
れる。しかしながら、この期間において、ｎ線からの偶
ピクセルｑ，ｓ，ｕは遅延レジスタ１，２を通り偶ピク
セルｑ，ｓ，ｕを駆動して偶ピクセル露光線９０３に沿
って光を変調する。これを図９Ｃの右側に示し、ｑ，ｓ
，ｕピクセルは暗くされている。図９Ｃに示すように、
ドラムが偶露光線９０３を回転通過すると、ｎ＋１線上
の全数のピクセルがＤＭＤ６０からの変調光により変調
されている。ＤＭＤ６０上にさらにピクセル線があれば
、ドラムの全露光にはドラムによる同様な回転及びラス
タ線と完全に再インターレースする付加露光線を必要と
する。 〔００４８〕像９０１内の露光ドットの一本のラスタ線
を形成する各ＤＭＤ線のインターレースはまっすぐであ
り、一体的遅延線、レジスタ１，２により印字コントロ
ーラと独立して完全にＤＭＤチップ上で処理されるが、
さらに利点を実現することができる。プリンタ機構によ
りドラム表面速度が変化し、（ラスタポリゴンスキャナ
の場合に必要である）ラスタ線当りの露光時間を一定に
保持すると、バンディングが生じることがある。バンデ
ィングは工程（低速）動作方向に沿った特定周波数にお
ける印字像の圧縮（暗化）もしくは伸長（グレイ化）で
ある。これらの速度変動が、例えば、軸エンコーダ等の
プリンタ内の適切な機構により感知されるシステムでは
、ＤＭＤ光変調器を使用して利用することができるドッ
ト線の可変時間によりプリント外観上の有害な効果はプ
リンタコントローラにより除くことができる。ドラムが
一時的にスピードアップすれば、被露光線は早期にオフ
とされる。従って、ドラム速度と露光時間の積で定まる
露光距離、すなわちラスタ線幅を一定に保つことができ
る。同様に、ドラムが一時的にスピードダウンすれば、
露光線を幾分長く保持して補償する。この感知修正工程
により、水平ラスタの適切な重畳及び線幅を電子的手段
により保証することができる。これはポリゴンシステム
では不可能であり、精密な移動速度制御に費用をかける
ことが唯一のオプションである。低速バンディングはレ
ーザプリンタの主要なプリント品質不足機構である。さ
らに、摩耗すると悪化する。長寿命を必要とするプリン
タでは、機構が老化した時のバンディング修正は重要な
性能上の利点である。 〔００４９〕図９Ａ、図９Ｂ及び図９Ｃに関して説明し
た同じ線に沿って、ピクセルの水平重畳すなわち見当合
せが光学系及びＤＭＤチップデザインにより固定され不
変とされる。従って、ＤＭＤシステムはスポット配置エ
ラー、デフォーカスエラー、及びレーザポリゴンスキャ
ナのもう一つの印字品質劣化機構である高速走査（ラス
タ）方向に沿った露光重畳の非均一性の影響を受けない
。 〔００５０〕前記したように、遅延量はピクセル線間の
間隔に比例しドラムの動作と協調して所与の時点におい
てピクセルが良好な解像度で出力に実線を形成するよう
にされる。ここでも、図示する多線ＤＭＤ６０は光変調
を行うのに使用できる多くの実施例の一つにすぎないこ
とを指摘したい。いくつかの異なる変調装置を使用して
、並べたり積み重ねることにより、ゼログラフィックド
ラム上に多線コンカレント像を投射することができる。 これにより異なる印字明瞭度が得られ、異なる状況下に
おいてカラーグラフィックを与えるのに使用することが
できる。１個もしくはシーケンシャルな装置からの変調
光を使用して各カラーフィールドを非常に精密な見当合
せでイメージしてシングルパスフルカラープリントを生
成することができる。 〔００５１〕印字方式 ゼログラフィック工程を使用した印字方式の一例を図１
１に示し、そえは、とりわけ、自動チケット印字を処理
するように設計されている。図示するように、ビン１１
０４，１１０５，１１０６がアコーディオン折畳（タガ
ー）されたチケットストックを保持している。これらの
ビンは図示するように閉成したり開放して容易にアクセ
スできるように設計することができ、コーナだけがスト
ックを正しい位置に支持且つ保持するように設けられて
いる。機械１１５０の前面には予め印字されたカストマ
チケットを挿入する再検証スロット１１０２、及び機械
１１５０に通され印字されているかもしくは印字システ
ム１１０１により処理されるチケットを保持するビン１
１０３がある。他の装置を機械前面に搭載することがで
き、代表的にこの装置はクレジットカード情報やダイヤ
リング情報を受信するように作動する。これによりカス
トマはチケットエージェンシーを呼び出してチケット情
報を得て旅行チケットを処理することができる。印字シ
ステムは電話通信を処理することができ、これらの機能
に適したさまざまなランプやスイッチを有することがで
きる。 〔００５２〕印字システム１１０１の側面には扉１１５
１，１１５４が取りつけられており（図１３）、その各
々が保守もしくはストック等を印字システムに供給する
ために開放することができる。用紙処理、制御及び印字
機構を引出機構により前面から保守できるように搭載し
た場合の印字システム凾体の実施例を図２０に示す。扉
がある場合でも扉なし引出方式の場合でも、印字システ
ムの内側はスパインもしくは垂直パーティション１１６
０により２つのゾーンに分割されている（図１１）。こ
のパーティションはいくつかの機能を果す。その一つは
タガーストックのバーストにより生じる塵が印字機構に
付かないようにすることである。これは、図１３に示す
ように、印字機構が垂直パーティション１１６０により
開放扉１１５１から見て遠い（右）側に支持されるため
である。近い（左）側では、タガーストックは３つのビ
ン１１０４，１１０５，１１０６の任意の一つ、もしく
は磁気及び１もしくは光学読取器１３８０，１３７０を
介してスロット１１０２から、且つシャトル１２０１を
介してパーティション１１６０に近い側から遠い側へ指
向される。次に、チケットストックは印字システムの背
面１１５３から垂直パーティション１１６０に沿って前
面１１５０に向って移動し、ゼログラフィックユニット
１６０２（図１３）の下を通り且つソータ１５０１を通
り、外部ビン１１０３もしくは内部ビン１５６１，１５
６２内に堆積される。スパインの設計により組立体の精
密な基準面が与えられ且つ２つの平行な用紙径路（磁気
側及びプリンタ側）のアライメントが行われ、シャトル
機構（図２）を介して一方の径路から他方の径路へチケ
ットを通す際の精度が保証される。 〔００５３〕図１２は個別のチケットストック１０１０
をパーティション１１６０の近い側から遠い側へ移動す
るように作動するシャトル１２０１を示す。従って、図
１２に示すように、チケットストック１０１０はシャト
ル１２０１に入り、リーダに向ってまっすぐに移動し、
矢符１２２０で示すように、ホイール１２０３，１２０
４により左から右へシャトルする。ホイール１２０３に
は上向きに停止する平胆面が配置されている。チケット
ストック１０１０が正しい位置に到来すると、ステップ
モータで駆動されるホイール１２０３が回転開始する。 ホイールはチケットストックを把持して左から右へ移動
させる。チケットストックはやはり底部に平胆面を有す
るホイール１２２２の下を通過する。ホイール１２２２
が回転開始すると、チケットストック１０１０はパーテ
ィション１１６０の遠い側に沿ってリーダから離れるよ
うに移動する。従って、パーティション１１６０の唯一
の開口はシャトルが個別のチケットストック１０１０を
通すのに充分な大きさの小窓である。所望により、この
窓は一方側から他方側への塵の移動を防止するように設
計することができる。もちろん、これは物理的バリアも
しくは窓を通ってプリンタ側からチケットストック側へ
移動する空気によって行うことができる。 〔００５４〕タガーストック１０１０，１０１０Ｂ，１
０１０Ｃのビン１１０４，１１０５，１１０６からの実
際の移動を図１４に示し、ここで各ビンはそれぞれコン
トロールホイール１４７１，１４５６，１４５１を介し
てバースタ１７３０へプリンタブルストック材を供給す
ることができる。これらのホイールは前後に移動し、シ
ステムの制御機構に指令されてストックがバースタ１７
２０を通過するようにし、ホイール１４５５，１４５４
に制御されて光学リーダ１４７０を通過するように設計
されている。ホイール１４５５とバースタ１７３０の相
対位置はバースタ１７３０がストックを個別チケットへ
分離する時にストックをリーダ１４７０の下に配置でき
るようにされている。同じタガー材から次のチケットが
来ない場合には、ホイール１４７１（もしくはホイール
１４５６，１４５１）をリザーブしてストックを正しい
位置から移動させて他のビン、例えば、ホイール１４５
６の制御下にあるタガーストック１０１０Ｂからのスト
ックが光学リーダ１４７０の下の位置へ上方に移動でき
るようにする。 〔００５５〕光学リーダ１４７０の位置はチケットスト
ックの先縁に予め配置された情報（バーコード等）がバ
ースタ１７３０がストックをバーストする前であっても
光学リーダ１４７０により読み取りできるようにされて
いる。これは制御の目的で使用できる。次に分離された
ストックはホイール１４８１，１４８２の制御の元で磁
気リーダ１４８０を通過しホイール１４８４，１４８３
の制御下にあるシャトル１２０１へ移動する。外側スロ
ット１１０２からのストックはホイール１４５２の制御
の元でシステムへ入る。このストックは単に制御システ
ムをバックアップし現在ホイール１４５４により制御さ
れている何らかのタガー材をリザーブすることにより、
引き入れてシャトル１２０１に向って移動するチケット
の線とマージすることができる。従って、カストマはチ
ケットをスロット１１０２へ挿入し、チケットは光学リ
ーダ１４７０もしくは磁気リーダ１４８０へ移動するこ
とができる。次に、チケットが読み取られ制御ホイール
１４５４を反転させてスロット１１０２へ戻すかもしく
はシャトル１２０１へ通してパーティションの他方側へ
シャトルさせて印字するかもしくは後記する方法で廃棄
される。 〔００５６〕次に図１６に戻って、チケットがパーティ
ション１１６０の開口を通過すると、パーティションの
一方側ではプリンタの前面からパーティションに沿って
背面へ向う、チケットの方向が反転され、チケットはパ
ーティションの遠い側に沿ってプリンタの前面に向って
移動する。前面に向って移動すると（図１６において右
から左）、チケットは印字モジュール１６０２の下を移
動し前記したようにドラム８０と接触する。システムの
制御に従って、チケットは印字したりブランクのままと
したりすることができる。チケットストックはドラム８
０の下から移動して来ると、フューザ１６０３へ通され
そこではローラ１６５１，１６５０が公知の方法でトナ
ーをストック上へ融着させて印字材が容易に除去されな
いようにする。 〔００５７〕次に、印字されたチケットはフューザ１６
０３を出てソータ１５０１へ通され後記する方法でソー
トされ、チケットは外側ビン１１０３内に堆積されるか
いくつかの内部ビンの一つに堆積されて廃棄されるか、
もしくは蓄積されて後にオペレータにより取り上げられ
る。ところで、自動チケット機の一つの運転方法はカス
トマがスロット１１０２へプレプリントされたチケット
を挿入することである（図１１）。前記したように、チ
ケットは光学リーダ１４７０もしくは磁気リーダ１４８
０を通り、チケット上の情報は電子的に読み取られる。 この読取り、もしくはキーパッドや他の装置を介して中
央コンピュータへ与えられる情報に基いて、ユーザは飛
行計画や他の旅行手配に必要な変更を加えたりもしくは
単に特定の飛行を確認することができる。システムは、
（図示せぬ）中央コンピュータの制御の元で、チケット
に変更を加えないような場合にはユーザにチケットを戻
すことができる。また、チケットはパーティション１１
６０を介してシャトル１２０１（図１１）へ送り次にプ
リンタ１６０２へ送って（所望により）チケット上へ付
加情報をプリントすることができる。次に、チケットは
ソータ１５０１へ通され後記する方法でソートされ、ビ
ン１１０３を介してユーザへ戻されるかもしくは内部廃
棄ビンへ廃棄される。チケットが内部廃棄ビンへ入れら
れるこの後の動作は、カストマに対して新しいチケット
が印字されるかもしくはカストマが払戻しを申し入れて
チケットが自動チケット機により取り上げられるような
場合に行われる。 〔００５８〕図示しないが、自動チケット システム
はケーブルもしくは無線送信によりコンピュータネット
ワークと接続されている。このシステムは、その設計に
より、容易に壁に取りつけてユーザは機械前面にしかア
クセスできず従業員は壁の後から機械を開いて保守を行
ったり、チケットストックを補充したり、廃棄されたチ
ケットや印字されたチケットを取り除くことができる。 後の特徴は遠隔配置され恐らくは航空機や他の旅行サー
ビスに属する中央コンピュータが搭乗券や他の印字物を
含む一連のチケットを夜間に発生する旅行代理店にとっ
て重要である。 〔００５９〕次に、図１５に示すソータ１５０１の動作
説明に戻る。プリンタドラム８０からのチケットは位置
１５０８においてソータ１５０１へ入る。ダイバータ１
５０２の状態に従って、チケットはローラ１５５１を介
してスロット１５０６へ且つローラ１５５１を介してビ
ン１５６２へ移動する。ビン１５６２は印字する際にチ
ケットをしっかり貯蔵するように構成された内部ビンで
ある。ビンは任意サイズに設計することができ、チケッ
トや搭乗券の夜通しの印字を保持してオペレータが朝方
に取り上げられるようにする。ビンはシステムの残りか
ら分離してロックし許可された人だけがチケットを取り
出すことができるようにする。 〔００６０〕ダイバータ１５０２が図示する位置にある
時にプリンタドラム８０から入ってくるチケットは、ビ
ン１５６３ではなく、（点線で示す）下方位置へ移動し
たダイバータ１５０３のビン１５６１へ通すことができ
る。この移動は手元もしくは外部から制御され、コンピ
ュータもしくは手動起動することができる。点線位置へ
移動すると、チケットはホイール１５５１の制御の元で
空間１５６０へ通され、スプリング付勢ラッチ１５０４
の移動により、廃棄ビン１５６１へ通され許可された人
が取り上げる。また、プリンタドラム８０からのチケッ
トはダイバータ１５０２を下向きに点線位置へ移動させ
ることにより外部ビン１１０３へ送ることができる。次
に、チケットはホイール１５０７の制御の元で上方に回
転移動し且つホイール１５５２の下を通ってビン１１０
３に到りスプリング部材１５０４の制御の元で位置決め
され、この部材は制御の目的でビンが満杯となる時を感
知するように配置することができる。 〔００６１〕従って、内部もしくは外部コンピュータ信
号の制御の元で、輸送チケットもしくはいくつかの他の
アイテムの中のいずれかを内部に配置されたストック材
やユーザが外部スロットから供給する材料で印字するこ
とができる。搭乗券は単にチケットストック上の印字を
変えるかもしくは異なる搭乗券に対して異なるビンを使
用することにより印字することができる。これらはカラ
ーコード化したり任意の構成によりプレプリントするこ
とができ、自動チケット機はオペレータが材料をロード
もしくはアンロードすることなく３個以上のビンの中の
一つを選定するようにプログラムすることができる。こ
れらのチケットには前記したようにユーザがスロット１
１０２から入れるチケットや搭乗券を綴込むことができ
る。これにより、ショッピングセンターや遠隔無人位置
に配置される機械はカストマが旅行の予約を行い毎分４
０クーポンの割合いでほとんどその場でチケットや搭乗
券を印字できるようにされる。これらの機械は旅行代理
店や空港ターミナルにさえも配置することができる。 〔００６２〕図１７にバースタ１７２０の切断機構を略
示する。ステップモータ１７０２は１回転当り２００ス
テップ回転してカムアーム１７０３を回転させる。次に
、カムアーム１７０３はバースタ１７２０の範囲内で上
下に移動するカッタ１７０１に接続されている。刃１７
０１は図１７にアップ位置で示されており、（ビューア
に向う）チケットストック１０１０はクーポン間の鑽孔
が刃面１７０１よりも下になるように位置決めされる。 （図示せぬ）バースタ１７２０のベースには刃１７０１
がカムアーム１７０３の制御の元で下向きに移動する時
に鑽孔を通してバーストしてクーポンを分離するような
刻み目がつけられている。スプリング１７０５はクーポ
ングリッパ１７０４を下向きに押圧する。従って、刃１
７０１が下向きに移動すると、グリッパ１７０４は移動
を防止する位置にクーポンストック１０１０を保持しク
ーポンストックの鑽孔と刃１７０１とのアライメントを
助ける。刃１７０１はクーポンストック１０１０を左か
ら鑽孔開始して刃の降下に要する力を低減する。 〔００６３〕露光ユニット及び再生ユニット嵌合構成図
１８に露光ユニット１０とベース１８００との嵌合様式
を示す。いくつかの再生ユニット構成の中の任意の一つ
を使用することができるため、ベース１８００は様式化
された形状で示す再生ユニットを表わす。（図示せぬ）
ベース１８００内のリセプタ位置はユニット１０のベー
スからのファネル１２０と嵌合して、ベース１８００内
に配置された印字機構に衝突する前に変調光をシールす
る。図示するように、ポート１８０１，１８０２は露光
ユニット１０のそれぞれ突起１０１，１０２と嵌合しサ
ポート１８０３はタブ１０３と嵌合して、３点嵌合構成
を提供し２部分間の完全なアライメントを維持する。ユ
ニット１８００もしくはユニット１０に対して（図示せ
ぬ）クリップを配置して他方のユニットへスナップしユ
ニットを互いに正しい位置に維持することができる。 〔００６４〕例えば、（図示せぬ）クリップはユニット
１０の頂面１２に永久連合することができる。これらの
クリップはユニット１０のいずれかの側でベース１３の
下へ下向きに延在することができ、従ってユニット１０
と１８００が嵌合関係にある時は（図示せぬ）クリップ
が（図示せぬ）タブにロックし、２つのユニットを堅固
な関係に維持すべくベース１８００の明細書１０のＸＲ
Ｍユニットの準備を整える。もちろん、タブはより永久
的接続を行うためにネジやボルト等の従来の固着装置と
置換することができる。しかしながら、熟練していない
人が特別な道具を使用することなく定期的に露光ユニッ
トをベース１８００から取り外すような場合にはクリッ
プが有用である。 〔００６５〕ここに開示したような印字システムを航空
路のゲートに配置すれば、機械の能力によりチケットや
搭乗券上に予め配置された情報を電子的に読み取ること
ができ、機械は差し出されたチケットを受け取ってチケ
ット上に確認材をプリントし、チケットをユーザに戻す
か、新しいチケットをプリントするか、チケットを取り
上げるか、もしくはそれらを任意に組合せて行うことが
できる。これにより旅行の手配及び管理に新しいディメ
ンジョンが付加され、旅行産業の全体予約、搭乗及び管
理工程がスピードアップされる。 〔００６６〕アライメント法及び装置 露光モジュール１０、図１、はＤＭＤ６０を除けば予め
組み立てられる。モジュールは凾体１０を３点１８０１
，１８０２，１８０３から定める図１に示すような器具
内に配置される。２つのアライメント基準ピン１３０１
１３０２はＤＭＤ ｙ−軸とほぼ一致している。 図１８に示す凾体１８００は代表例であり、前記したよ
うに（図８Ａの素子８０等の）ホトリセプタ素子もしく
は（図２２のＣＣＤカメラ等の）カメラを収納すること
ができる。ホトリセプタは露光モジュールミラー３１の
下で距離ｄ（図８Ａ）に載置して、前記したように、ド
ラム表面８１上にａ、ｂ点間を延在する幅Ｗの線像８２
の軌跡を生成する。 〔００６７〕前記したように、カメラ２２００（図２２
）等の１個もしくは数個のＣＣＤカメラをホトリセプタ
の替りに配置して露光ユニット内でＤＭＤ６０のアライ
メントを助けることができる。ＣＣＤカメラは露光モジ
ュールのミラー３１から同じ距離に配置したり、所望に
より異なる距離に配置することができる。重要な要因は
ＤＭＤの光学系のアライメントは永久３点載置ピンに対
して行われることであり、従って一度アラインされると
露光ユニットは光学系をさらにアライメントすることな
くリセプタからリセプタへ転送することができる。実際
の挿入工程の検討を開始する前に、関心のある３つの回
転軸と３のの並進軸があることを理解願いたい。これら
は図７Ａに示されており、ここでＸはプラットフォーム
１４と直角な上下軸である。Ｙ軸はＤＭＤアレイの長軸
（縦）に平行である。Ｚ軸は光路４０２に沿っている。 次の３軸は最初の３軸に対して回転方位とされている、
すなわちＸ軸周りにプサイ（ψ）、Ｙ軸周りにファイ（
φ）、Ｚ軸周りにシータ（θ）とされている。 〔００６８〕図１２は、図示するように、コンピュータ
により駆動されてジョー２１１１に保持されたＤＭＤを
６軸の周りに順次位置決めする挿入装置を示す。装置２
１００は３つの主軸に対する保持されたＤＭＤの回転運
動の中心が３軸の正確な交差点の周りとなるように設計
されている。この特徴により順次軸位置決めが可能とな
る。アライメント工程は装置２１００のジョー２１１１
へＤＭＤ６０を予備挿入し、図１に示すサポート１０４
に対して適切な最終位置へ下げることで開始される。図
２２のＤＭＤパターン発生器２２０４からのケーブル２
２２０を介してＤＭＤ６０との電気的接触がなされる。 〔００６９〕ピクセルの予備中心セットが励起され、こ
れらにより偏向された光は光路４０２（図７Ａ）に沿っ
て図２２に示すように配置されたカメラ２２００へ到す
る。ビューイングモニタ２２１０，２２０７上に予備像
が現われ、オペレータは“ジョイスティック”２２０５
オーバライドシステムを使用してラフなアライメントを
行う（図２５のボックス２５０１，２５０２）。このア
ライメントは励起されたピクセルをビューイングスクリ
ーンの中心に持って来るのに充分である。次に、自動ア
ライメント工程が開始され図２５に示すアルゴリズムに
従ってコンピュータ２２０３の制御の元で進行する。 〔００７０〕並進の平行座標、ｘ，ｙ，ｚ，はＤＭＤ面
内にありピクセルアレイ上に中心を有する。Ｚ−軸は“
焦点”軸及びＤＭＤイメージレンズ系の光軸に対応する
。Ｘ軸はチップの垂直並進（ピクセルアレイの方向を横
切する）に対応し、Ｙ軸はピクセルアレイの長ディメン
ジョンに沿った横方向運動に対応する。回転角θ、φ、
ψは各軸ｚ、ｙ、ｘ周りの回転に対応する。これらの回
転は、便宜上、航空機の姿勢に関連ずけられ、ｚ軸に沿
って観察するパイロットに対応する“ロール”、“ピッ
チ”及び“ヨウ”と呼ばれる。 〔００７１〕前記したように、アライメントはアレイ中
心の選定ピクセルを励起し、ｘ及びｙ移動を調整してこ
の像をイメージャレンズの光軸上に位置決めして開始さ
れる、図２５のボックス２５０１，２５０２。これが達
成されない場合には、手順は中断される。一つのカメラ
視野内の特定位置に像を位置決めしてこれが達成される
。一つのカメラが直接所望の像位置の中心に来るまで、
カメラステージはＤＭＤ像に沿って横方向に並進する。 次に、光軸ｚ周りにＤＭＤを回転させることにより、“
ロール”が修正される、ボックス２５０３。ロール角ミ
スアライメントはカメラのＤＭＤ像内の“スキュー”角
として現れる、図２３。プリントされた出力において、
これはプリントメディアの縁に直角ではない実際の使用
像に対応する。システムは、励起された全ピクセルから
なる中心像を再びフォーカスする。フォーカスはビデオ
フレームグラバ２２０２システムにより捕捉されるピク
セル像サイズに対して計算を行って達成される。 ビデオデータは２５６の強度レベルまで記憶される。ピ
クセル像の一次元スライスを示す図２４の基準に従って
サイズ及びセントロイド計算が行われる。実際上、フレ
ームグラバーは（ＤＭＤチップのｘ及びｙ方位に対応す
る）振幅の２次元表示を含んでいる。セントロイドを比
較して計算して（光分布の質量中心を有効に）フレーム
グラバメモリマップで表わされる視野内の所望“位置”
と比較するのは簡単なことである。同様に、閾値振幅変
数を選定し、その閾値より上のどれだけ多くのＣＣＤ（
電荷結合装置）ビデオイメージャのピクセルがあるかを
計算することにより、スポットのサイズ、もしくは焦点
を計算することができる。ｚ軸サーボを励起して所望の
スポットサイズが得られる。また、ピーク振幅、隣接ピ
クセル間の振幅及び他の基準を使用してフォーカス状態
を決定することができる。 〔００７２〕次に、システムはピクセル振幅が最大とな
るまで“ピッチ角”φを調整する、ボックス２５０２。 この動作によりソースフィラメント像はイメージャレン
ズ開口の中心に来て、像に最大パワーが転送される状態
となる。最終シリーズのボックス２５０６，２５０７は
“ヨー角”、すなわちエンドツーエンド焦点調整を行っ
たｘ軸周りのＤＭＤの回転、の調整を繰り返す。また、
ヨー角によりフィラメント像はイメージャの中心に来て
最大光学スループット及びコントラスト比を保証する。 しかしながら、回転のｘ軸がチップ中心線にあるため、
動作の固有のｘ軸成分により終端は急速にデフォーカス
する。従って、ヨーとフォーカスの繰返し調整が行われ
る、ボックス２５０９。この調整によりアレイ上のピク
セル像強度の均一性、ボックス２５２０、もしくはバラ
ンスも制御される。全ての基準が満されると、アライメ
ントが完了する。連続試行、ボックス２５０８、後に基
準が満されなければプログラムは中断されオペレータが
介入して故障機構を評価する。 〔００７３〕６軸マニピュレータはできるだけ多くの自
由度を分離、すなわち直交化するように設計されている
。ｘ軸周りの回転によりＤＭＤの両端がデフォーカスす
るため、ψとｚだけが結合されたままとされる。コンピ
ュータシステムは左から右への像測定、及びこれら２つ
のパラメータの同時調整を高速で実施するのに重要であ
る。従って、コンピュータの制御の元で精密且つ高速な
手順でＤＭＤを正しい位置へ“フライング”することに
より本システムは複雑な光学系の最終アライメントを行
うことができる。 〔００７４〕ＤＭＤが最終アラインされると、粘着性も
しくは他のボンディングによりブラケット１０４（図１
）に対してＤＭＤ６０がしっかり位置決めされる。この
時、ジョー２１１１が開いて装置２１００は露光モジュ
ール１０から引っ込められる。 〔００７５〕トナーモニターシステム トナーモニター制御システムを図１９に示し、２つの部
分すなわちホスト部とプリンタ部からなっている。ホス
トはＰＣを含む任意の（図示せぬ）制御システムとする
ことができる。制御システムはプリンタの内部にあって
も外部にあってもよい。システムは像の再生に必要なト
ナー品質を表わす番号を予め（ホストにより）計算する
。この番号にはプリンタ内の像が記憶され、プリンタ内
に残るトナー（トナーリザーブ）のより正確な測定を維
持するのに使用される。この例では、トナーリザーブは
オペレータからのコマンドによりトナーリロードで初期
化され後記するように更新される。 〔００７６〕記憶された像の印字を行わない動作に対し
ていかに残留トナーの品質の維持が実用的であるかを示
すためにラスタグラフィック及びレクタングルが検討さ
れる。これらの印字動作の速度は通信もしくは像発生ア
ルゴリズムにより制限され、ホストによるトナー消費計
算を実施する際の利得が低下することがある。このよう
な場合には、トナー消費計算はプリンタで行うことがで
きる。 〔００７７〕ホスト部 トナーモニターシステムのホスト部はプリンタにより記
憶（もしくはプリント）される全ての像に対して適切な
トナー消費測定値を発生することからなっている。アル
ゴリズムは像発生アルゴリズムの一部もしくは予め発生
された像に作用する手順として実施することができる。 後者は説明の複雑さを減らすためと考へられる。 〔００７８〕図１９に示すアルゴリズムはメモリ内のビ
ットマップ像で開始され、各ドットが消費するトナーを
計算し、像内の各ドットのトナー消費を加算する。アル
ゴリズムは（やはり２次元アレイである）ビットマップ
像上に２次元アレイ定数を移動させて作動する。定数ア
レイとビットマップ内の対応位置との積の和がビットマ
ップ像アレイ内の各素子に対して計算される。（通常中
心である）定数アレイ内の基準点は現在積の和が計算さ
れる像アレイ内の位置とされる。各素子に対する積の“
和”を互に加算して像トナー消費計算を完了する。 〔００７９〕＊ドット（ｒ，ｃ）は１もしくは０の値を
有する１ビット変数のアレイであり、ｒは行番号、ｃは
列番号、Ｒは像内の行番号、Ｃはビットマップ像内の列
番号であり、（１〜Ｒ、１〜Ｃ）の範囲外サブスクリプ
ト番号を有するアレイ素子は０に初期化され、実際のア
レイサイズは（Ｒ＋２ｎ）×（Ｃ＋２ｎ）となる。 〔００８０〕＊アレイドット（ｒ，ｃ）はバイト当り８
素子のパックドフォーマットで記憶することができる。 次に、フロー図に現れる“ドット（ｒ，ｃ）＝０？”が
機能呼出しを使用して実施される。 ＊ｎは現在ドットからトナー消費にインパクトを与える
最遠ドットまでの距離である。 ＊ｔｃ（ｉ，ｊ）はトナー消費にインパクトを与えるド
ットの重み付け係数アレイであり、ここでｉ及びｊは−
ｎから＋ｎの範囲であり、ｔｃ（０．０）は分離ドット
により消費されるトナーであり、これらの定数は使用す
る印字技術に対して経験的に決定される。 〔００８１〕プリンタ部 ビットマップ像印字コマンド、 〈ＰＲＩＮＴ−ＢＩＴ−ＩＭＡＧＥ−ＥＳＣＡＰＥ−Ｓ
ＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈ｂｉｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｉｄ〉〈ｉｍａｇｅ−
ｐｏｓｉｔｉｏｎ〉 に対して、次の形式のビットマップ像記憶フォーマット
が考へられる。 ｂｉｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅｂｉ
ｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｗｉｄｔｈｂｉｔ−ｍａｐ−
ｉｍａｇｅ−ｈｅｉｇｈｔｂｅｇｉｎ ｄａｔａ ： ： ｅｎｄ ｄａｔａ。 〔００８２〕この像はホストによる生成の後プリンタ内
で、恐らくダウンロードにより、設置され代表的にｂｉ
ｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅは、前記
したように、像発生後プリンタ内に設置される前にホス
トが発生する。プリンタは印字ビットマップ像コマンド
、 〈ＰＲＩＮＴ−ＢＩＴ−ＭＡＰＰＥＤ−ＩＭＡＧＥ−Ｅ
ＳＣＡＰＥ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈ｂｉｔ−ｍａｐｐｅｄ−ｉｍａｇｅ−ｉｄ〉〈ｂｉｔ
−ｍａｐｐｅｄ−ｉｍａｇｅ−ｒｏｗ−ｌｏｃａｔｉｏ
ｎ〉 〈ｂｉｔ−ｍａｐｐｅｄ−ｉｍａｇｅ−ｃｏｌｕｍｎ−
ｌｏｃａｔｉｏｎ〉 を受信すると、像を発生する他に次の計算を行う。 ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅｒｖｅ〈−ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅ
ｒｖｅ−ｂｉｔ−ｍａｐ−ｉｍａｇｅ−ｔｏｎｅｒ−ｕ
ｓｅ。 含まれるコマンド、プリンタへのデータ流のプリンタブ
ル文字、もしくは明確なコマンドにより文字を印字する
ことができる。 〈ＰＲＩＮＴ−ＵＮＰＲＩＮＴＡＢＬＥ−ＣＨＡＲＡＣ
ＴＥＲ−ＥＳＣＡＰＥ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ〉ｕｎｐｒｉ
ｎｔａｂｌｅ−ｃｈａｒａｃｔｅｒ〔００８３〕いずれ
の場合にも、プリンタはフロントと呼ばれる記憶された
文字像ビットマップコレクションからの像を使用して文
字を印字する。文字セル記憶フォーマット、 ｃｈａｒａｃｔｅｒ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅｃｈａｒａｃ
ｔｅｒ−ｃｅｌｌ−ｗｉｄｔｈｃｈａｒａｃｔｅｒ−ｃ
ｅｌｌ−ｈｅｉｇｈｔｆｉｒｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ 、 、 、 ｌａｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ はトナーリザーブを更新するのに使用する文字トナーを
含んでいる。 ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅｒｖｅ〈−ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅ
ｒｖｅ−ｃｈａｒａｃｔｅｒ ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅ。 フロントはホストにより生成されプリンタ内に設置すな
わちダウンロードされる。像発生後プリンタへ設置すな
わちダウンロードする前に、ホストはｃｈａｒａｃｔｅ
ｒ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅを発生する。ｃｈａｒａｃｔｅ
ｒ−ｔｏｎｅｒ−ｕｓｅを発生するアルゴリズムの実施
例の説明のホスト部を参照されたい。 〔００８４〕ラスタグラフィックを収容するために、残
留トナーに直接作用するホストから付加コマンドが送ら
れる。ラスタグラフィックはドット行を印字する一連の
コマンドからなっている。 〈ＲＡＳＴＥＲ−ＧＲＡＰＨＩＣＳ−ＥＳＣＡＰＥ−Ｓ
ＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｏｆ−ｂｙｔｅｓ−ｏｆ−ｄａｔａ〉ｆｉｒｓｔ
−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ‥‥ｌａｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔ
ｅ 〈ＲＡＳＴＥＲ−ＧＲＡＰＨＩＣＳ−ＥＳＣＡＰＥ−Ｓ
ＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｏｆ−ｂｙｔｅｓ−ｏｆ−ｄａｔａ〉ｆｉｒｓｔ
−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ‥‥ｌａｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔ
ｅ 、 、 、 〈ＲＡＳＴＥＲ−ＧＲＡＰＨＩＣＳ−ＥＳＣＡＰＥ−Ｓ
ＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｏｆ−ｂｙｔｅ−ｏｆ−ｄａｔａ〉ｆｉｒｓｔ−
ｄａｔａ−ｂｙｔｅ…ｌａｓｔ−ｄａｔａ−ｂｙｔｅ これらのコマンドには残留トナー品質を更新するコマン
ドが続く。 〈ＴＯＮＥＲ−ＬＥＶＥＬ−ＵＰＤＡＴＥ−ＥＳＣＡＰ
Ｅ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｏｆ−ｓｕｂｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−ｔｏｎｅｒ
−ｌｅｖｅｌ〉 このコマンドを受信すると、プリンタは次の動作を行う
。 ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅｒｖｅ〈−ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅ
ｒｖｅ− ＃−ｔｏ−ｓｕｂｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−ｔｏｎｅｒ−
ｌｅｖｅｌ 〔００８５〕＃−ｔｏ−ｓｕｂｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−
ｔｏｎｅｒ−ｌｅｖｅｌはラスターグラフィックスコマ
ンドの先行シーケンスにより発生する像に基いてホスト
が計算する。矩形コマンドを収容するために、同じ方法
が用いられる。プリント矩形コマンド、〈ＰＲＩＮＴ−
ＲＥＣＴＡＮＧＬＥ−ＥＳＣＡＰＥ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ
〉 〈ｒｅｃｔａｎｇｌｅ−ｗｉｄｔｈ〉 〈ｒｅｃｔａｎｇｌｅ−ｈｅｉｇｈｔ〉〈ｆｉｌｌ−ｐ
ａｒａｍｅｔｅｒ−１〉 〈ｆｉｌｌ−ｐａｒａｍｅ
ｔｅｒ２〉… 〈ｆｉｌｌ ｐａｒａｍｅｔｅｒ ｎ〉に続いて、
ホストからトナーレベル更新コマンドが送られる。 〈ＴＯＮＥＲ−ＬＥＶＥＬ−ＵＰＤＡＴＥ−ＥＳＣＡＰ
Ｅ−ＳＥＱＵＥＮＣＥ〉 〈＃−ｔｏ−ｓｕｂｓｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−ｔｏｎｅ
ｒ−ｌｅｖｅｌ〉 これにより、プリンタ内で次の動作が開始される。 ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅｒｖｅ〈−ｔｏｎｅｒ−ｒｅｓｅ
ｒｖｅ− ＃−ｔｏ−ｓｕｂｓｔｒａｃｔ−ｆｒｏｍ−ｔｏｎｅｒ
−ｌｅｖｅｌ 〔００８６〕これらの計算に基いて、トナーレベルを常
に知ることができる。計算値が実際と異なる場合は問題
が示される。次に、これらの計算を使用してオペレータ
にトナー利用可能を知らせる。トナーの使用量は印字頁
数ではなく使用するグラフィックの種類に依存するため
、非常に精密な予警告を与えることができる。 〔００８７〕ゼログラフィック印字モジュールの交換可
能素子チケット印字環境におけるシステム条件に合致さ
せるには、ＡＴＢシステム用紙径路、シャーシフォーム
要因、及び寿命及びサービス条件とコンパチブルなモジ
ュラーゼログラフィックプリントエンジンを設計する必
要があった。このプリンタシステムは容易にシャーシも
しくはレシーバモジュールへ挿入され、次に航空券及び
搭乗券プリンタ（ＡＴＢ）中央スパインから取り外すこ
とができる４つのモジュラー要素からなっている。プリ
ンタはトナーベース、光学露光、ゼログラフィック工程
を使用して結像システム周りに設計されている。いくつ
かのパラメータが設計工程の要因となる。信頼度及び寿
命を考慮すれば、迅速且つ容易に交換できるいくつかの
素子を有する強化設計を必要とする。この中の３素子は
ゼログラフィック工程を構成する消耗要素を形成する。 プリントヘッド、露光モジュールは第４の交換可能要素
である。レシーバモジュール、すなわちゼログラフィッ
クプリントモジュール（ＸＰＭ）はプリントエンジンの
第５の交換可能要素を形成する。ジャム間の平均クーポ
ン数（ＭＣＢＪ）を最小限とするために、システムは短
いまっすぐなクーポン径路に設計する必要がある。ジャ
ムが発生すると、フューザユニットの加熱面及びオペレ
ータの安全を考慮して速かに容易にクリアしなければな
らない。消耗要素はユーザが保守可能なデスクトップレ
ーザプリンタ産業における代表的頁カウントよりも実質
的に大きい交換間の特定クーポンカウント合致するよう
に実装しなければならない。ＸＰＭ自体は代表的デスク
トップレーザプリンタの５〜１０倍の寿命条件を有して
いる。フューザ組立体及びプリントヘッド組立体はユー
ザが交換可能なユニットではない。 〔００８８〕通常ユーザ交換可能な消耗品に付随するペ
ナルティは印字の頁当りコストが高いことである。これ
は一般的なデスクトッププリンタ環境では簡便なために
受け入れられ、その結果生じる高印字品質及びコストは
保守呼出しが少くなるために帳消しにされる。ダウンタ
イムも数時間から数分に短縮される。これらの特徴は全
てＡＴＢ市場では非常に望ましいものであるが、熱、イ
オン堆積及びインパクトマトリクス印字技術の競争圧力
により消耗品の高コストは望ましくない。消耗品モジュ
ールコストを低減するために、新しい設計標準に合致し
なければならない。特に、消耗品コストの５０％以上に
達するトナー現像剤ユニットは４．５％カバレッジファ
クタでおよそ５０，０００クーポンを印字するのに充分
なトナー容量を持たなければならない。この点において
、デスクトップレーザプリンタのトナーを収容する代表
的な交換可能カートリッジは２０分の１のおよそ２５０
０プリントに指定されている（７分の１であればクーポ
ンのエリアファクタをＡサイズ頁とすることができる）
。 〔００８９〕同様に、（ＯＰＣと略称される）代表的に
有機性の２層設計ホトリセプタの寿命は、材料及び製造
コストが低いために、比較的短い。これは主として（例
えば、用紙、トナー及びクリーナ機構等の）工程の接触
部品の摩耗、ＯＰＣ基板を構成する比較的柔い有機ポリ
マー材、及び工程の帯電及び露光部の性能劣化効果によ
る。事実、帯電及び較写コロナワイヤにより生じるオゾ
ンはＯＰＣ劣化の主因である。タイトでコンパクトなデ
スクトップレーザ設計では、残留オゾンによりＯＰＣの
寿命が実質的に短縮される。このため、ＯＰＣの寿命は
３，０００頁程度となることもあり、代表的には２０，
０００以下である。ＡＴＢプリンタは毎月４０，０００
クーポンまでの大量環境で作動するように設計されてい
る。明らかに、ユーザは毎日もしくは一日おきに消耗品
を交換したりピーク印字期間中にいつも消耗品の寿命を
越えて運転することはできない。消耗品ユニットの寿命
を延ばし消耗品の頁当りコストを低下する要求（例えば
、多くの印字クーポンに対して使い捨て要素を償却する
）によりＡＴＢ消耗品コストのゴールに達した。これは
代表的な産業上の経験を大きく上廻り、従来消耗ユニッ
トと考へられなかった要素をユーザが交換可能としてい
る。ＤＭＤ印字ヘッド自体については、その低コスト及
びＸＰＭユニットとの簡単なアライメントによってのみ
可能である。
〔００９０〕４０，０００クーポン／月のピークシステ
ムデマンドゴールにより、消耗要素は１月よりも長い交
換頻度に設計されさらに互いの偶数倍の交換サイクルを
有するように設計され、プリンタ停止サイクル数を最少
限としアップ時間を最大限としている。Ａ表に消耗ユニ
ット予期寿命を示し、交換サイクルは“モジュロ”５０
，０００クーポンである事実を示してある。従って、交
換頻度はフューザユニットの２個のＯＰＣカートリッジ
に対して４個の現像剤ユニットとなる。ＸＰＭ及び（表
記しない）印字ヘッドは２百万クーポン定格とされてい
る。 〔００９１〕 フューザユニットを交換できるもう一つの利点はＡＴＢ
プリンタシステム全体を単にフューザユニットを切り替
えることにより容易に１１０Ｖ動作及び２２０Ｖ動作に
適応できることである。これにより、製造計画及び棚卸
し問題が簡単化される。 〔００９２〕ゼログラフィック工程モジュールの説明図
２６は残り全ての消耗ユニットの受容器として機能し、
各ユニットの位置決め、給電及び精密な相対アライメン
トを行うＸＰＭモジュールを示す。ＸＰＭはＡＴＢ中央
載置壁内部の２６１２側の（図示せぬ）歯付ベルト及び
伝動ギア２６１６及び精密モータ２６０８を介して回転
工程モジュール（フューザ、ＯＰＣ、現像剤及びクーポ
ン移送ローラ）へ給電し同期化させる。ＸＰＭの内壁に
は帯電コロナ（図２７）の高圧電源及びＯＰＣドラム８
０直下でクーポン径路（１２０１〜１５０１）の下に配
置された（図示せぬ）転写コロナも収納されている。精
密基準ノッチ２６０４は交差レール２６０５上のモール
ドフィーチャ１０２及びタブ１０３を介してＤＭＤモジ
ュール１０を位置決めする。ＯＰＣカートリッジ１６０
２はＸＰＭ側板２６１２及び嵌合ホイール２６０７を介
して給電される。フューザシールド２６１５は図示せぬ
フューザ１６０３加熱ランプ２６３８を絶縁するが、フ
ューザ加熱ローラ１６５０の内側に配置されている（図
１６）。 〔００９３〕クーポン径路１２０１〜１５０１は現像剤
ユニット１６０１の下、カートリッジ１６０２内のＯＰ
Ｃドラム８０と接触しながらその下を通り、フューザ加
熱ローラ１６５０とフューザ加圧ローラ１６５１間を通
る。フューザ加圧ローラ１６５１はドロップダウン機構
２６３４によりクランプされ、クリップ２６０３の解除
時にドロップダウンする下部トレイ２６１４内にある（
図示せぬ）スプリング付勢ピン器具によりクランプされ
、保守のためＡＴＢシャーシを引き出す時に径路全体を
オペレータへ露呈する（図２０）。さらに図１６におい
て、トレイ２６１４が落下して用紙径路をクリアする時
にローラ１６５１及び１６５３はローラ１６５０及び１
６５２から分離される。図２６に示すように、トレイ２
６１４は側板２６１２に沿ってＸＰＭ２６００に蝶着さ
れている。開口２６０２がフューザユニット１６０３を
受け入れ、案内レール２６３７を介して、ＸＰＭ用紙径
路に対して位置決めし、位置決めピン２６０９はフュー
ザ１６０３内の孔２６３２と嵌合する。ラッチスプリン
グ２６３１により確実な係合がなされる。取外し／挿入
は熱絶縁ハンドル２６３３により助けられる。ラッチ２
６３６はフューザクリーナローラ（図示せず）を収容し
たメタルブラケット２６３５を解除する。 〔００９４〕トレイ２６１４を下げてフューザ１６０３
を取り外す。熱シールド２６３０がさらにユーザを熱ロ
ーラ１６５０との接触から絶縁する。次に図２７に戻っ
て、開口２６０１はモールドされたレール２７０１を介
してＸＰＭと嵌合するＯＰＣカートリッジ１６０２、案
内２６０６と嵌合する他の器具、駆動コグ２６０７、及
びＸＰＭ側板２６１３上の位置決めピン２６１１を受容
するように設計されている。ラッチ２６１０は現像剤ユ
ニット１６０１を取り外す前にＯＰＣカートリッジ１６
０２を取り外すことを防止する。同様に、ＯＰＣ１６０
２は落下するまでトレイ２６１４により保持される。従
って、もろいＯＰＣドラム面８０は現像剤ユニット１６
０１磁気ブラシ２８０２及びＯＰＣ近辺でそれに平行な
他の要素による摩耗に対して保護される。現像剤ユニッ
ト１６０１をＸＰＭ２６００から取り外すまでラッチ２
６１０を作動させることはできない。フリップダウンタ
ブ２７０５によりＯＰＣを取り外すためのグリップが提
供される。 〔００９５〕ＯＰＣカートリッジ１６０２はさらに取り
外し可能な帯電コロナ２７０２、クリーナブレード２７
０７及びクリーナオーガ（図示せず）、廃棄トナー出口
ポート２７０６、オゾンフィルタ２７０３、ドラム８０
、露光アクセススロット２７０４、及び嵌合スライド面
２７０１を備えている。図２８に示すように、現像剤ユ
ニット１６０１はＡＴＢを包囲体（図２０）から引き出
す時にモールド案内レール２８０３及びハンドル２８０
４を介して頂部から落下するように設計されている。 最も頻繁に交換される消耗ユニットであるため、頂部ア
クセスとしてオペレータの便宜を計り挿入を容易にする
。頂部からは容易に可視アライメントを行うことができ
照明も良好である。磁気ブラシ２８０２が現像剤を保持
し次にそれには静電帯電トナー粒子が塗布される。ドク
ターブレード２８０５が磁気ブラシを調整する。磁気ブ
ラシ及び現像剤ユニット１６０１の他の内部ローラ２８
０６を回転させる電力はＸＰＭ側板２６１２上の電力ト
レーン内のギアを介してＯＰＣと同期して供給される。 大容量トナー槽２８０１（図１６に切り離して示す）に
より５０，０００クーポン寿命が可能となる。プリント
フィールドが狭いため、広いＡサイズ現像剤ユニットの
場合よりもトナー分布の問題は少い。トナー槽２８０１
内部にワイパーバー２８０７が設けられておりトナー供
給を有効に分布して完全に利用することができる。 〔００９６〕結論 本システムを航空券に関して説明してきたが、このよう
な印字構成はあらゆる種類の印字、特に異なる印字スト
ックが必要な場合に使用できることをお判り願いたい。 印字ストックの幅が重要であり、外部から供給される信
号に従って出力を異なる位置へソートする機械の能力は
旅行産業及びある種の印字材を安全なビンに維持したり
使用（再確認）もしくは再発行後に取り上げることが重
要な任意他の目的に利用できる。 〔００９７〕また、図示する印字システムは特定タイプ
のゼログラフィック工程に関して使用されたが、任意タ
イプのゼログラフィック工程もしくは他の印字機構を挿
入することもできる。前記概念はインクジェットプリン
タや熱転写プリンタシステムと一緒に使用することがで
きる。このような環境では、トナーはインクもしくは他
の消耗品と置換される。露光ユニット内で可変形ミラー
を使用した印字装置を多種の再生装置で使用することも
でき、印字システムのためだけに使用する必要はない。 〔００９８〕同業者であれば、特許請求の範囲及び精神
から逸脱することなく、さまざまな異なる応用及び目的
に開示したシステム及び方法を使用できることと思う。 例えば、ゼログラフィック工程に対して光を変調するも
のとして示したＤＭＤは任意の目的で光や任意他種のエ
ネルギ信号を変調するのに使用することができる。さら
に、例えば、ピクセルは他種のエネルギを反射すること
ができここで検討した製造技術はさまざまな他種のアラ
イメント問題に使用することができ信号減衰構成はさま
ざまな他種の信号及び波形に使用することができる。
ムデマンドゴールにより、消耗要素は１月よりも長い交
換頻度に設計されさらに互いの偶数倍の交換サイクルを
有するように設計され、プリンタ停止サイクル数を最少
限としアップ時間を最大限としている。Ａ表に消耗ユニ
ット予期寿命を示し、交換サイクルは“モジュロ”５０
，０００クーポンである事実を示してある。従って、交
換頻度はフューザユニットの２個のＯＰＣカートリッジ
に対して４個の現像剤ユニットとなる。ＸＰＭ及び（表
記しない）印字ヘッドは２百万クーポン定格とされてい
る。 〔００９１〕 フューザユニットを交換できるもう一つの利点はＡＴＢ
プリンタシステム全体を単にフューザユニットを切り替
えることにより容易に１１０Ｖ動作及び２２０Ｖ動作に
適応できることである。これにより、製造計画及び棚卸
し問題が簡単化される。 〔００９２〕ゼログラフィック工程モジュールの説明図
２６は残り全ての消耗ユニットの受容器として機能し、
各ユニットの位置決め、給電及び精密な相対アライメン
トを行うＸＰＭモジュールを示す。ＸＰＭはＡＴＢ中央
載置壁内部の２６１２側の（図示せぬ）歯付ベルト及び
伝動ギア２６１６及び精密モータ２６０８を介して回転
工程モジュール（フューザ、ＯＰＣ、現像剤及びクーポ
ン移送ローラ）へ給電し同期化させる。ＸＰＭの内壁に
は帯電コロナ（図２７）の高圧電源及びＯＰＣドラム８
０直下でクーポン径路（１２０１〜１５０１）の下に配
置された（図示せぬ）転写コロナも収納されている。精
密基準ノッチ２６０４は交差レール２６０５上のモール
ドフィーチャ１０２及びタブ１０３を介してＤＭＤモジ
ュール１０を位置決めする。ＯＰＣカートリッジ１６０
２はＸＰＭ側板２６１２及び嵌合ホイール２６０７を介
して給電される。フューザシールド２６１５は図示せぬ
フューザ１６０３加熱ランプ２６３８を絶縁するが、フ
ューザ加熱ローラ１６５０の内側に配置されている（図
１６）。 〔００９３〕クーポン径路１２０１〜１５０１は現像剤
ユニット１６０１の下、カートリッジ１６０２内のＯＰ
Ｃドラム８０と接触しながらその下を通り、フューザ加
熱ローラ１６５０とフューザ加圧ローラ１６５１間を通
る。フューザ加圧ローラ１６５１はドロップダウン機構
２６３４によりクランプされ、クリップ２６０３の解除
時にドロップダウンする下部トレイ２６１４内にある（
図示せぬ）スプリング付勢ピン器具によりクランプされ
、保守のためＡＴＢシャーシを引き出す時に径路全体を
オペレータへ露呈する（図２０）。さらに図１６におい
て、トレイ２６１４が落下して用紙径路をクリアする時
にローラ１６５１及び１６５３はローラ１６５０及び１
６５２から分離される。図２６に示すように、トレイ２
６１４は側板２６１２に沿ってＸＰＭ２６００に蝶着さ
れている。開口２６０２がフューザユニット１６０３を
受け入れ、案内レール２６３７を介して、ＸＰＭ用紙径
路に対して位置決めし、位置決めピン２６０９はフュー
ザ１６０３内の孔２６３２と嵌合する。ラッチスプリン
グ２６３１により確実な係合がなされる。取外し／挿入
は熱絶縁ハンドル２６３３により助けられる。ラッチ２
６３６はフューザクリーナローラ（図示せず）を収容し
たメタルブラケット２６３５を解除する。 〔００９４〕トレイ２６１４を下げてフューザ１６０３
を取り外す。熱シールド２６３０がさらにユーザを熱ロ
ーラ１６５０との接触から絶縁する。次に図２７に戻っ
て、開口２６０１はモールドされたレール２７０１を介
してＸＰＭと嵌合するＯＰＣカートリッジ１６０２、案
内２６０６と嵌合する他の器具、駆動コグ２６０７、及
びＸＰＭ側板２６１３上の位置決めピン２６１１を受容
するように設計されている。ラッチ２６１０は現像剤ユ
ニット１６０１を取り外す前にＯＰＣカートリッジ１６
０２を取り外すことを防止する。同様に、ＯＰＣ１６０
２は落下するまでトレイ２６１４により保持される。従
って、もろいＯＰＣドラム面８０は現像剤ユニット１６
０１磁気ブラシ２８０２及びＯＰＣ近辺でそれに平行な
他の要素による摩耗に対して保護される。現像剤ユニッ
ト１６０１をＸＰＭ２６００から取り外すまでラッチ２
６１０を作動させることはできない。フリップダウンタ
ブ２７０５によりＯＰＣを取り外すためのグリップが提
供される。 〔００９５〕ＯＰＣカートリッジ１６０２はさらに取り
外し可能な帯電コロナ２７０２、クリーナブレード２７
０７及びクリーナオーガ（図示せず）、廃棄トナー出口
ポート２７０６、オゾンフィルタ２７０３、ドラム８０
、露光アクセススロット２７０４、及び嵌合スライド面
２７０１を備えている。図２８に示すように、現像剤ユ
ニット１６０１はＡＴＢを包囲体（図２０）から引き出
す時にモールド案内レール２８０３及びハンドル２８０
４を介して頂部から落下するように設計されている。 最も頻繁に交換される消耗ユニットであるため、頂部ア
クセスとしてオペレータの便宜を計り挿入を容易にする
。頂部からは容易に可視アライメントを行うことができ
照明も良好である。磁気ブラシ２８０２が現像剤を保持
し次にそれには静電帯電トナー粒子が塗布される。ドク
ターブレード２８０５が磁気ブラシを調整する。磁気ブ
ラシ及び現像剤ユニット１６０１の他の内部ローラ２８
０６を回転させる電力はＸＰＭ側板２６１２上の電力ト
レーン内のギアを介してＯＰＣと同期して供給される。 大容量トナー槽２８０１（図１６に切り離して示す）に
より５０，０００クーポン寿命が可能となる。プリント
フィールドが狭いため、広いＡサイズ現像剤ユニットの
場合よりもトナー分布の問題は少い。トナー槽２８０１
内部にワイパーバー２８０７が設けられておりトナー供
給を有効に分布して完全に利用することができる。 〔００９６〕結論 本システムを航空券に関して説明してきたが、このよう
な印字構成はあらゆる種類の印字、特に異なる印字スト
ックが必要な場合に使用できることをお判り願いたい。 印字ストックの幅が重要であり、外部から供給される信
号に従って出力を異なる位置へソートする機械の能力は
旅行産業及びある種の印字材を安全なビンに維持したり
使用（再確認）もしくは再発行後に取り上げることが重
要な任意他の目的に利用できる。 〔００９７〕また、図示する印字システムは特定タイプ
のゼログラフィック工程に関して使用されたが、任意タ
イプのゼログラフィック工程もしくは他の印字機構を挿
入することもできる。前記概念はインクジェットプリン
タや熱転写プリンタシステムと一緒に使用することがで
きる。このような環境では、トナーはインクもしくは他
の消耗品と置換される。露光ユニット内で可変形ミラー
を使用した印字装置を多種の再生装置で使用することも
でき、印字システムのためだけに使用する必要はない。 〔００９８〕同業者であれば、特許請求の範囲及び精神
から逸脱することなく、さまざまな異なる応用及び目的
に開示したシステム及び方法を使用できることと思う。 例えば、ゼログラフィック工程に対して光を変調するも
のとして示したＤＭＤは任意の目的で光や任意他種のエ
ネルギ信号を変調するのに使用することができる。さら
に、例えば、ピクセルは他種のエネルギを反射すること
ができここで検討した製造技術はさまざまな他種のアラ
イメント問題に使用することができ信号減衰構成はさま
ざまな他種の信号及び波形に使用することができる。
〔００９９〕以上の説明に関して更に以下の項を開示す
る。 〔０１００〕（１）、再生露光モジュール内の光変調装
置のアライニング法において、該方法は、前記露光モジ
ュール内に含まれる光学素子を予めアラインして光源か
ら作動印字装置内の再生面を表わす位置まで延在する径
路を形成し、前記径路に沿って前記予めアラインされた
露光ユニット内に光変調装置を配置し、前記光源から前
記アラインされた光学系を通って前記再生面を表わす位
置へ光を送り、前記再生面を表わす位置において前記再
生面に対して少くとも１個の感光検出器を置換し、前記
検出器からの出力に従って前記ユニットに対する前記光
変調装置の回転及び並進位置を調整する、ステップから
なる、光変調装置アライニング法。 〔０１０１〕（２）、第（１）項記載の方法において、
前記光変調装置は複数のアドレス可能素子を含み、前記
送光ステップは前記光変調素子のいくつかを同期的にア
ドレスして前記検出器が変調光信号を受信するようにす
るステップを含む、光変調装置アライニング法。 〔０１０２〕（３）、第（１）項記載の方法において、
前記送光ステップは考慮するアライメント工程のステッ
プに応じて前記変調装置のある素子を励起する、ステッ
プからなる、光変調器アライニング法。 〔０１０３〕（４）、第（２）項記載の方法において、
前記調整ステップは回転／並進の６軸で行われる、光変
調器アライニング法。 〔０１０４〕（５）、第（４）項記載の方法において、
前記６回転軸ステップは、最初にＸ及びＹ軸を調整し、
ここにＸ軸は前記変調装置が載置されるベースに直角で
ありＹは前記変調装置の縦の長さに沿っており、次にロ
ール角θを調整し、ここにθはＺ軸周りの回転角であり
前記Ｚ軸は前記光路に沿っており、次にピッチ角εを調
整し、ここにεは前記Ｙ軸周りの回転角であり、次に前
記Ｙ軸に沿った前記変調装置の外側端素子をチェックし
、次にＹ軸角ψを調整し、ここにψは前記Ｘ軸周りの回
転角であり、次に前記Ｚ軸に沿ったフォーカスを調整す
る、ことを含む、光変調器アライニング法。 〔０１０５〕（６）、第（５）項記載の方法において、
前記送光ステップは、アライメント工程のステップに応
じて前記変調装置のある素子を励起する、ステップから
なる、光変調器アライニング法。 〔０１０６〕（７）、第（４）項記載の方法において、
さらに外部から加えられる信号の制御の元で、前記軸に
対して前記変調素子を位置決めする装置を具備する、光
変調器アライニング法。 〔０１０７〕（８）、第（７）項記載の方法において、
前記外部信号は前記検出器出力から発生する、光変調器
アライニング法。 〔０１０８〕（９）、第（１）項記載の方法において、
前記検出器出力はコンピュータ内のアルゴリズムに加え
られて前記位置決め装置のその後の制御を行う、光変調
器アライニング法。 〔０１０９〕（１０）、第（９）項記載の方法において
、前記アルゴリズムは、前記素子の中の励起された素子
からある位置における相対エネルギレベルを決定し、前
記決定されたエネルギレベルを所定のエネルギレベルと
比較する、ステップからなる、光変調器アライニング法
。 〔０１１０〕（１１）、第（２）項記載の方法において
、前記調整ステップは前記光変調器を前記露光モジュー
ルへ永久固着するステップを含む、光変調器アライニン
グ法。 〔０１１１〕（１２）、第（１）項記載の方法において
、前記調整ステップは前記ユニットから分離された多軸
制御装置により前記光変調装置を保持して前記変調装置
が前記ユニットに対して自由に動けるようにすることを
含み、且つ、一つもしくはいくつかの所定のアルゴリズ
ムに従ってコントローラを介して前記検出器信号から前
記制御装置の移動を制御する、光変調器アライニング法
。 〔０１１２〕（１３）、第（１）項記載の方法において
、前記リセプタは前記光路に沿った前記変調装置からの
全ての光を選択的に眺める電子カメラである、光変調器
アライニング法。 〔０１１３〕（１４）、第（１）項記載の方法において
、前記光変調装置は配列された複数個のアドレス可能素
子を含み、前記リセプタは前記列のいずれかの終端にフ
ォーカスされた一対の電子カメラである、光変調器アラ
イニング法。 〔０１１４〕（１５）、第（１）項記載の方法において
、前記アライニングステップはコリメート光線を、前記
光路を通って前記再生面を表わす位置から前記光源へ送
り、表面から反射させて前記光変調素子の理想位置及び
アクションをシミュレートする付加ステップを含む、光
変調器アライニング法。 〔０１１５〕（１６）、ゼログラフィック再生露光モジ
ュールユニット内で光変調装置をアライニングする装置
において、該装置は、光源から作動装置内の再生面を表
わす位置まで延在する線に光学系をアライニングするア
ライニング機構、前記アラインされた光学系内に光変調
器を位置決めする位置決め回路、前記光源から前記アラ
インされた光学系を通って前記再生面を表わす位置へ光
を送る送光回路、前記再生面を表わす位置において前記
ドラムに置換するようにされた感光リセプタ、前記リセ
プタからの出力に従って前記ユニットに対する前記光変
調装置の相対位置を精密に調整する調整回路、を具備す
る、光変調器アライニング装置。 〔０１１６〕（１７）、第（１６）項記載の装置におい
て、前記光変調装置は複数個のアドレス可能素子を含み
、且つ、前記変調素子のいくつかを周期的にアドレスし
て前記リセプタが変調光信号を受信するようにする回路
、を含む、光変調器アライニング装置。 〔０１１７〕（１８）、第（１６）項記載の装置におい
て、さらに前記装置が前記ユニットに対して自由に移動
できるように前記光変調装置を前記ユニットから離して
保持する多軸サーボ装置を具備し、前記サーボは前記リ
セプタ信号により制御される、光変調器アライニング装
置。 〔０１１８〕（１９）、第（１８）項記載の装置におい
て、さらに、前記リセプタ信号を受信し、前記信号を繰
り返し処理して前記アライメントに達するまで前記サー
ボを制御する回路を具備する、光変調器アライニング装
置。 〔０１１９〕（２０）、第（１６）項記載の装置におい
て、前記リセプタは電子カメラである、光変調器アライ
ニング装置。 〔０１２０〕（２１）、第（１６）項記載の装置におい
て、前記光変調装置は配列された複数個のアドレス可能
素子を含み、且つ、前記リセプタは前記列のいずれかの
終端にフォーカスされた一対の電子カメラである、光変
調器アライニング装置。 〔０１２１〕（２２）、第（１６）項記載の装置におい
て、前記アライニング機構は前記光路を通って前記再生
面を表わす位置から前記光源へコリメート光線を送る光
学系を含む、光変調器アライニング装置。 〔０１２２〕（２３）、再生装置の露光ユニット内に光
変調装置を位置決めするコンピュータ装置において、前
記露光ユニットは光源と、ミラーを含む光路と、前記変
調装置が変調する光をフォーカスする前記光路内の結像
レンズを有し、該コンピュータ装置は、前記光路に対し
て前記光変調装置を保持且つ位置決めする位置決め装置
と、前記位置決めされた変調器を制御して前記光路に沿
って選定された変調光出力を発生し、前記変調された光
を前記非変調光源から反射させる回路と、前記変調光信
号に応答して複数の回転及び並進軸で前記位置決め装置
を駆動するコンピュータ、を具備する、光変調装置位置
決めコンピュータ装置。 〔０１２３〕（２４）、第（２３）項記載の装置におい
て、前記装置はさらに前記変調光が前記光軸に追従する
場合に前記変調装置からの変調光がゼログラフィック工
程の再生面上に降下する面に対応する位置に配置された
光リセプタを含み、且つ、前記位置決め装置を制御する
ために前記光リセプタから前記コンピュータへ信号を送
る回路、を含む、光変調装置位置決めコンピュータ装置
。 〔０１２４〕（２５）、第（２４）項記載の装置におい
て、前記位置決め装置は少くとも６つの回転／並進軸に
沿って前記変調装置を移動させる、光変調装置位置決め
コンピュータ装置。 〔０１２５〕（２６）、第（２５）項記載の装置におい
て、前記コンピュータ装置は装置の制御の元で前記６軸
に沿って前記位置決め装置を駆動し、該装置は、Ｘ軸が
前記変調装置を載置するベースに直角でＹは前記変調装
置の縦方向に沿った軸である、Ｘ及びＹ軸調整回路と、
θはＺ軸周りの回転角であり前記Ｚ軸は前記光路に沿っ
ている、ロール角θ調整回路と、εは前記Ｙ軸周りの回
転角である、ピッチ角ε調整回路と、前記Ｙ軸に沿った
前記変調装置の外側終端素子をチェックする回路と、ψ
は前記Ｘ軸周りの回転角である、Ｙ軸角ψ調整回路と、
次に前記Ｚ軸に沿ったフォーカスを調整する回路、を具
備する、光変調 装置位置決めコンピュータ装置。 〔０１２６〕（２７）、第（２６）項記載の装置におい
て、前記選定された光変調出力は、操作されるアライメ
ント工程内の軸に応じて前記変調装置のある素子を励起
する回路を含む、光変調 装置位置決めコンピュータ
装置。 〔０１２７〕（２８）、第（２６）項記載の装置におい
て、前記位置決め制御回路は、前記素子の中の励起され
た素子からある位置における相対エネルギレベルを決定
する回路と、前記決定されたエネルギレベルを所定のエ
ネルギレベルと比較する回路、を含む、光変調装置位置
決めコンピュータ装置。 〔０１２８〕（２９）、ゼログラフィック再生装置の光
変調ユニット内で光路アライメントをチェックする方法
において、該方法は、前記変調ユニット内の光源に対応
する位置に光リセプタを位置決めし、前記変調光が前記
光路を追従する場合に前記変調ユニットからの変調光が
ゼログラフィック工程の再生面上に降下する面に対応す
る位置に光源を位置決めし、前記変調ユニット内の変調
素子が配置される位置に対応する位置に反射面を挿入し
て前記光源からの光が前記光軸に沿って通過して前記光
路が適切にアラインされている表示として前記位置決め
された光リセプタ衝突するようにする、ステップからな
る、光路アライメントチェック法。 〔０１２９〕（３０）、第（２９）項記載の方法におい
て、さらに、前記反射面に光変調ユニットを置換し、前
記光リセプタ及び前記光源を反転させる、ステップから
なる、光路アライメントチェック法。
る。 〔０１００〕（１）、再生露光モジュール内の光変調装
置のアライニング法において、該方法は、前記露光モジ
ュール内に含まれる光学素子を予めアラインして光源か
ら作動印字装置内の再生面を表わす位置まで延在する径
路を形成し、前記径路に沿って前記予めアラインされた
露光ユニット内に光変調装置を配置し、前記光源から前
記アラインされた光学系を通って前記再生面を表わす位
置へ光を送り、前記再生面を表わす位置において前記再
生面に対して少くとも１個の感光検出器を置換し、前記
検出器からの出力に従って前記ユニットに対する前記光
変調装置の回転及び並進位置を調整する、ステップから
なる、光変調装置アライニング法。 〔０１０１〕（２）、第（１）項記載の方法において、
前記光変調装置は複数のアドレス可能素子を含み、前記
送光ステップは前記光変調素子のいくつかを同期的にア
ドレスして前記検出器が変調光信号を受信するようにす
るステップを含む、光変調装置アライニング法。 〔０１０２〕（３）、第（１）項記載の方法において、
前記送光ステップは考慮するアライメント工程のステッ
プに応じて前記変調装置のある素子を励起する、ステッ
プからなる、光変調器アライニング法。 〔０１０３〕（４）、第（２）項記載の方法において、
前記調整ステップは回転／並進の６軸で行われる、光変
調器アライニング法。 〔０１０４〕（５）、第（４）項記載の方法において、
前記６回転軸ステップは、最初にＸ及びＹ軸を調整し、
ここにＸ軸は前記変調装置が載置されるベースに直角で
ありＹは前記変調装置の縦の長さに沿っており、次にロ
ール角θを調整し、ここにθはＺ軸周りの回転角であり
前記Ｚ軸は前記光路に沿っており、次にピッチ角εを調
整し、ここにεは前記Ｙ軸周りの回転角であり、次に前
記Ｙ軸に沿った前記変調装置の外側端素子をチェックし
、次にＹ軸角ψを調整し、ここにψは前記Ｘ軸周りの回
転角であり、次に前記Ｚ軸に沿ったフォーカスを調整す
る、ことを含む、光変調器アライニング法。 〔０１０５〕（６）、第（５）項記載の方法において、
前記送光ステップは、アライメント工程のステップに応
じて前記変調装置のある素子を励起する、ステップから
なる、光変調器アライニング法。 〔０１０６〕（７）、第（４）項記載の方法において、
さらに外部から加えられる信号の制御の元で、前記軸に
対して前記変調素子を位置決めする装置を具備する、光
変調器アライニング法。 〔０１０７〕（８）、第（７）項記載の方法において、
前記外部信号は前記検出器出力から発生する、光変調器
アライニング法。 〔０１０８〕（９）、第（１）項記載の方法において、
前記検出器出力はコンピュータ内のアルゴリズムに加え
られて前記位置決め装置のその後の制御を行う、光変調
器アライニング法。 〔０１０９〕（１０）、第（９）項記載の方法において
、前記アルゴリズムは、前記素子の中の励起された素子
からある位置における相対エネルギレベルを決定し、前
記決定されたエネルギレベルを所定のエネルギレベルと
比較する、ステップからなる、光変調器アライニング法
。 〔０１１０〕（１１）、第（２）項記載の方法において
、前記調整ステップは前記光変調器を前記露光モジュー
ルへ永久固着するステップを含む、光変調器アライニン
グ法。 〔０１１１〕（１２）、第（１）項記載の方法において
、前記調整ステップは前記ユニットから分離された多軸
制御装置により前記光変調装置を保持して前記変調装置
が前記ユニットに対して自由に動けるようにすることを
含み、且つ、一つもしくはいくつかの所定のアルゴリズ
ムに従ってコントローラを介して前記検出器信号から前
記制御装置の移動を制御する、光変調器アライニング法
。 〔０１１２〕（１３）、第（１）項記載の方法において
、前記リセプタは前記光路に沿った前記変調装置からの
全ての光を選択的に眺める電子カメラである、光変調器
アライニング法。 〔０１１３〕（１４）、第（１）項記載の方法において
、前記光変調装置は配列された複数個のアドレス可能素
子を含み、前記リセプタは前記列のいずれかの終端にフ
ォーカスされた一対の電子カメラである、光変調器アラ
イニング法。 〔０１１４〕（１５）、第（１）項記載の方法において
、前記アライニングステップはコリメート光線を、前記
光路を通って前記再生面を表わす位置から前記光源へ送
り、表面から反射させて前記光変調素子の理想位置及び
アクションをシミュレートする付加ステップを含む、光
変調器アライニング法。 〔０１１５〕（１６）、ゼログラフィック再生露光モジ
ュールユニット内で光変調装置をアライニングする装置
において、該装置は、光源から作動装置内の再生面を表
わす位置まで延在する線に光学系をアライニングするア
ライニング機構、前記アラインされた光学系内に光変調
器を位置決めする位置決め回路、前記光源から前記アラ
インされた光学系を通って前記再生面を表わす位置へ光
を送る送光回路、前記再生面を表わす位置において前記
ドラムに置換するようにされた感光リセプタ、前記リセ
プタからの出力に従って前記ユニットに対する前記光変
調装置の相対位置を精密に調整する調整回路、を具備す
る、光変調器アライニング装置。 〔０１１６〕（１７）、第（１６）項記載の装置におい
て、前記光変調装置は複数個のアドレス可能素子を含み
、且つ、前記変調素子のいくつかを周期的にアドレスし
て前記リセプタが変調光信号を受信するようにする回路
、を含む、光変調器アライニング装置。 〔０１１７〕（１８）、第（１６）項記載の装置におい
て、さらに前記装置が前記ユニットに対して自由に移動
できるように前記光変調装置を前記ユニットから離して
保持する多軸サーボ装置を具備し、前記サーボは前記リ
セプタ信号により制御される、光変調器アライニング装
置。 〔０１１８〕（１９）、第（１８）項記載の装置におい
て、さらに、前記リセプタ信号を受信し、前記信号を繰
り返し処理して前記アライメントに達するまで前記サー
ボを制御する回路を具備する、光変調器アライニング装
置。 〔０１１９〕（２０）、第（１６）項記載の装置におい
て、前記リセプタは電子カメラである、光変調器アライ
ニング装置。 〔０１２０〕（２１）、第（１６）項記載の装置におい
て、前記光変調装置は配列された複数個のアドレス可能
素子を含み、且つ、前記リセプタは前記列のいずれかの
終端にフォーカスされた一対の電子カメラである、光変
調器アライニング装置。 〔０１２１〕（２２）、第（１６）項記載の装置におい
て、前記アライニング機構は前記光路を通って前記再生
面を表わす位置から前記光源へコリメート光線を送る光
学系を含む、光変調器アライニング装置。 〔０１２２〕（２３）、再生装置の露光ユニット内に光
変調装置を位置決めするコンピュータ装置において、前
記露光ユニットは光源と、ミラーを含む光路と、前記変
調装置が変調する光をフォーカスする前記光路内の結像
レンズを有し、該コンピュータ装置は、前記光路に対し
て前記光変調装置を保持且つ位置決めする位置決め装置
と、前記位置決めされた変調器を制御して前記光路に沿
って選定された変調光出力を発生し、前記変調された光
を前記非変調光源から反射させる回路と、前記変調光信
号に応答して複数の回転及び並進軸で前記位置決め装置
を駆動するコンピュータ、を具備する、光変調装置位置
決めコンピュータ装置。 〔０１２３〕（２４）、第（２３）項記載の装置におい
て、前記装置はさらに前記変調光が前記光軸に追従する
場合に前記変調装置からの変調光がゼログラフィック工
程の再生面上に降下する面に対応する位置に配置された
光リセプタを含み、且つ、前記位置決め装置を制御する
ために前記光リセプタから前記コンピュータへ信号を送
る回路、を含む、光変調装置位置決めコンピュータ装置
。 〔０１２４〕（２５）、第（２４）項記載の装置におい
て、前記位置決め装置は少くとも６つの回転／並進軸に
沿って前記変調装置を移動させる、光変調装置位置決め
コンピュータ装置。 〔０１２５〕（２６）、第（２５）項記載の装置におい
て、前記コンピュータ装置は装置の制御の元で前記６軸
に沿って前記位置決め装置を駆動し、該装置は、Ｘ軸が
前記変調装置を載置するベースに直角でＹは前記変調装
置の縦方向に沿った軸である、Ｘ及びＹ軸調整回路と、
θはＺ軸周りの回転角であり前記Ｚ軸は前記光路に沿っ
ている、ロール角θ調整回路と、εは前記Ｙ軸周りの回
転角である、ピッチ角ε調整回路と、前記Ｙ軸に沿った
前記変調装置の外側終端素子をチェックする回路と、ψ
は前記Ｘ軸周りの回転角である、Ｙ軸角ψ調整回路と、
次に前記Ｚ軸に沿ったフォーカスを調整する回路、を具
備する、光変調 装置位置決めコンピュータ装置。 〔０１２６〕（２７）、第（２６）項記載の装置におい
て、前記選定された光変調出力は、操作されるアライメ
ント工程内の軸に応じて前記変調装置のある素子を励起
する回路を含む、光変調 装置位置決めコンピュータ
装置。 〔０１２７〕（２８）、第（２６）項記載の装置におい
て、前記位置決め制御回路は、前記素子の中の励起され
た素子からある位置における相対エネルギレベルを決定
する回路と、前記決定されたエネルギレベルを所定のエ
ネルギレベルと比較する回路、を含む、光変調装置位置
決めコンピュータ装置。 〔０１２８〕（２９）、ゼログラフィック再生装置の光
変調ユニット内で光路アライメントをチェックする方法
において、該方法は、前記変調ユニット内の光源に対応
する位置に光リセプタを位置決めし、前記変調光が前記
光路を追従する場合に前記変調ユニットからの変調光が
ゼログラフィック工程の再生面上に降下する面に対応す
る位置に光源を位置決めし、前記変調ユニット内の変調
素子が配置される位置に対応する位置に反射面を挿入し
て前記光源からの光が前記光軸に沿って通過して前記光
路が適切にアラインされている表示として前記位置決め
された光リセプタ衝突するようにする、ステップからな
る、光路アライメントチェック法。 〔０１２９〕（３０）、第（２９）項記載の方法におい
て、さらに、前記反射面に光変調ユニットを置換し、前
記光リセプタ及び前記光源を反転させる、ステップから
なる、光路アライメントチェック法。
【図１】印字装置の露光ユニットの分解斜視図、
【図２
】露光ユニットの平面図、
】露光ユニットの平面図、
【図３】露光ユニットの底面図、
【図４】第２図の４−４線に沿った露光ユニットの右側
面図、
面図、
【図５】第２図の４−４線に沿った露光ユニットの蜂胸
部を示す図、
部を示す図、
【図６】露光ユニットに使用する可変形ミラー装置（Ｄ
ＭＤ）の斜視図、
ＭＤ）の斜視図、
【図７】露光ユニットの光路を示す略図、
【図８】光路
とゼログラフィック印字ドラムの相互作用を示す図、
とゼログラフィック印字ドラムの相互作用を示す図、
【図９】２列ＤＭＤの偶奇ピクセルの順次印字の詳細を
示す図、
示す図、
【図１０】クーポン印字ストック及びその上の印字の例
を示す図、
を示す図、
【図１１】左側扉を開いた印字装置の斜視図、
【図１２
】印字装置の一方側から他方側へクーポンを移動させる
シャトル機構の詳細図、
】印字装置の一方側から他方側へクーポンを移動させる
シャトル機構の詳細図、
【図１３】右側扉を開いた印字装置の斜視図、
【図１４
】マルチプルストック供給機構の詳細図、
】マルチプルストック供給機構の詳細図、
【図１５】印
字装置の出力制御に使用するソート機構の詳細図、
字装置の出力制御に使用するソート機構の詳細図、
【図１６】ゼログラフィック印字ドラムモジュール、ト
ナー／現像剤モジュール、露光モジュール及びフューザ
モジュールの詳細図、
ナー／現像剤モジュール、露光モジュール及びフューザ
モジュールの詳細図、
【図１７】バースタ機構の詳細図、
【図１８】露光及び再生ユニット間の結合を示す図、
【
図１９】トナー監視装置の動作フロー図、
図１９】トナー監視装置の動作フロー図、
【図２０】プ
リンタ凾体の実施例、
リンタ凾体の実施例、
【図２１】モジュール内のＤＭＤ位置決め装置、
【図２
２】製造工程における位置決め装置の制御装置及び制御
手順を示す図、
２】製造工程における位置決め装置の制御装置及び制御
手順を示す図、
【図２３】製造工程における位置決め装置の制御装置及
び制御手順を示す図。
び制御手順を示す図。
【図２４】製造工程における位置決め装置の制御装置及
び制御手順を示す図。
び制御手順を示す図。
【図２５】製造工程における位置決め装置の制御装置及
び制御手順を示す図。
び制御手順を示す図。
【図２６】交換可能なフューザユニットを示す図、
【図
２７】交換可能なホトリセプタカートリッジを示す図。
２７】交換可能なホトリセプタカートリッジを示す図。
【図２８】交換可能な現像剤ユニットを示す図。
【図２９】交換可能な露光ユニットを示す図。
【符号の設明】１ 遅延レジスタ２
遅延レジスタ １０ 露光ユニット １１ 凾体（露光モジュール）１２
頂部 １３ ベース １４ ベース（パーティション）１５
外壁（二重管道）１６
照光源（ランプ）１７ レンズ １８ レンズ １９ 蜂胸（チャネル）２９
突起 ３０ ミラー ３１ ミラー ４０ イメージレンズ ４１ 光バッフル ６０ 可変形ミラー装置（ＤＭＤ）６１
ＤＭＤピクセル ８０ ドラム ８１ ドラム表面 ８２ 線像 １０１ タブ １０２ タブ １０３ タブ １０４ マウント １０５ 内壁 １２０ ファネルブーツ １５０ 内壁（内部管道） １５１ スポーク １６０ ランプソケット １８０ レンズ終端 ３０２ ソースマウント ４０１ 光線 ４０２ 光線 ４０３ 集光装置軸 ４０４ 点 ４０７ 光線 ４１０ 鋸歯状ステップ ４１１ 鋸歯状ステップ ７０１ 光線 ７０２ 光線 ７０３ 像中心 ７０４ ソースフィラメント７０５
フィラメント像 ７０６ フィラメント像 ７１０ ランプピン ８０１ 印字ストック ８１０ 移動線 ８１１ 分離 ８１２ 回転軸 ９０１ 文字 ９０２ 露光線 ９０３ 露光線 ９１０ 列 ９１１ 列 １０１０ クーポンストック １０１０Ｂ クーポンストック １０１０Ｃ クーポンストック １０１１ ストッククーポン １１０１ 印字システム １１０２ スロット １１０３ ビン １１０４ ビン １１０５ ビン １１０６ ビン １１５０ 前面 １１５１ 扉 １１５３ 背面 １１５４ 扉 １１６０ パーティション １２０１ シャトル １２０３ ホイール １２０４ ホイール １２２０ 矢符 １２２２ ホイール １３０１ 基準ピン １３０２ 基準ピン １３７０ 光学リーダ １３８０ 光学リーダ １４５１ ホイール １４５２ ホイール １４５４ ホイール １４５５ ホイール １４５６ ホイール １４７０ 光学リーダ １４７１ ホイール １４８０ 磁気リーダ １４８１ ホイール １４８２ ホイール １４８３ ホイール １４８４ ホイール １５０１ ソータ １５０２ ダイバータ １５０３ ダイバータ １５０４ ラッチ １５０６ スロット １５０７ ホイール １５０８ 位置 １５５１ ホイール １５５２ ホイール １５６０ 空間 １５６１ ビン １５６２ ビン １５６３ ビン １６０１ 現像剤ユニット １６０２ ゼログラフィックユニット１６０３
フューザ １６５０ ローラ １６５１ ローラ １６５２ ローラ １６５３ ローラ １７０１ カッタ １７０２ ステップモータ １７０３ カムアーム １７０４ クーポングリッパ １７０５ スプリング １７２０ バースタ １７３０ バースタ １８００ ベース １８０１ ポート １８０２ ポート １８０３ サポート ２１００ 挿入装置 ２１１１ ジョー ２２００ カメラ ２２０２ ビデオフレームグラバ２２０３
コンピュータ ２２０４ パターン発生器 ２２０５ オーバライドシステム２２０７
ビューイングモニタ ２２１０ ビューイングモニタ ２２２０ ケーブル ２６００ ＸＰＭ ２６３４ ドロップダウン機構 ２６３５ ブラケット ２６３６ ラッチ ２６３７ レール ２６３８ 加熱ランプ
遅延レジスタ １０ 露光ユニット １１ 凾体（露光モジュール）１２
頂部 １３ ベース １４ ベース（パーティション）１５
外壁（二重管道）１６
照光源（ランプ）１７ レンズ １８ レンズ １９ 蜂胸（チャネル）２９
突起 ３０ ミラー ３１ ミラー ４０ イメージレンズ ４１ 光バッフル ６０ 可変形ミラー装置（ＤＭＤ）６１
ＤＭＤピクセル ８０ ドラム ８１ ドラム表面 ８２ 線像 １０１ タブ １０２ タブ １０３ タブ １０４ マウント １０５ 内壁 １２０ ファネルブーツ １５０ 内壁（内部管道） １５１ スポーク １６０ ランプソケット １８０ レンズ終端 ３０２ ソースマウント ４０１ 光線 ４０２ 光線 ４０３ 集光装置軸 ４０４ 点 ４０７ 光線 ４１０ 鋸歯状ステップ ４１１ 鋸歯状ステップ ７０１ 光線 ７０２ 光線 ７０３ 像中心 ７０４ ソースフィラメント７０５
フィラメント像 ７０６ フィラメント像 ７１０ ランプピン ８０１ 印字ストック ８１０ 移動線 ８１１ 分離 ８１２ 回転軸 ９０１ 文字 ９０２ 露光線 ９０３ 露光線 ９１０ 列 ９１１ 列 １０１０ クーポンストック １０１０Ｂ クーポンストック １０１０Ｃ クーポンストック １０１１ ストッククーポン １１０１ 印字システム １１０２ スロット １１０３ ビン １１０４ ビン １１０５ ビン １１０６ ビン １１５０ 前面 １１５１ 扉 １１５３ 背面 １１５４ 扉 １１６０ パーティション １２０１ シャトル １２０３ ホイール １２０４ ホイール １２２０ 矢符 １２２２ ホイール １３０１ 基準ピン １３０２ 基準ピン １３７０ 光学リーダ １３８０ 光学リーダ １４５１ ホイール １４５２ ホイール １４５４ ホイール １４５５ ホイール １４５６ ホイール １４７０ 光学リーダ １４７１ ホイール １４８０ 磁気リーダ １４８１ ホイール １４８２ ホイール １４８３ ホイール １４８４ ホイール １５０１ ソータ １５０２ ダイバータ １５０３ ダイバータ １５０４ ラッチ １５０６ スロット １５０７ ホイール １５０８ 位置 １５５１ ホイール １５５２ ホイール １５６０ 空間 １５６１ ビン １５６２ ビン １５６３ ビン １６０１ 現像剤ユニット １６０２ ゼログラフィックユニット１６０３
フューザ １６５０ ローラ １６５１ ローラ １６５２ ローラ １６５３ ローラ １７０１ カッタ １７０２ ステップモータ １７０３ カムアーム １７０４ クーポングリッパ １７０５ スプリング １７２０ バースタ １７３０ バースタ １８００ ベース １８０１ ポート １８０２ ポート １８０３ サポート ２１００ 挿入装置 ２１１１ ジョー ２２００ カメラ ２２０２ ビデオフレームグラバ２２０３
コンピュータ ２２０４ パターン発生器 ２２０５ オーバライドシステム２２０７
ビューイングモニタ ２２１０ ビューイングモニタ ２２２０ ケーブル ２６００ ＸＰＭ ２６３４ ドロップダウン機構 ２６３５ ブラケット ２６３６ ラッチ ２６３７ レール ２６３８ 加熱ランプ
Claims (2)
- 〔請求項１〕 再生露光モジュール内の光変調装置の
アライニング法において、該方法は、前記露光モジュー
ル内に含まれる光学素子を予めアラインして光源から作
動印字装置内の再生面を表わす位置まで延在する径路を
形成し、前記径路に沿って前記予めアラインされた露光
ユニット内に光変調器を配置し、前記光源から前記アラ
インされた光学系を通って前記再生面を表わす位置へ光
を送り、前記再生面を表わす位置において前記再生面に
対して少くとも１個の感光検出器を置換し、前記検出器
からの出力に従って前記ユニットに対する前記光変調装
器の回転及び並進位置を調整する、ステップからなる、
光変調装置アライニング法。 - 〔請求項２〕 ゼログラフィック再生露光モジュール
ユニット内で光変調装置をアライニングする装置におい
て、該装置は、光源から作動装置内の再生面を表わす位
置まで延在す線に光学系をアライニングするアライニン
グ機構、前記アラインされた光学系内に光変調器を位置
決めする位置決め回路、前記光源から前記アラインされ
た光学系を通って前記再生面を表わす位置へ光を送る送
光回路、前記再生面を表わす位置において前記ドラムに
置換するようにされた感光リセプタ、前記リセプタから
の出力に従って前記ユニットに対する前記光変調装置の
相対位置を精密に調整する調整回路、を具備する、光変
調器アライニング装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US454657 | 1989-12-21 | ||
| US07/454,657 US5105369A (en) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | Printing system exposure module alignment method and apparatus of manufacture |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04278969A true JPH04278969A (ja) | 1992-10-05 |
| JP3129746B2 JP3129746B2 (ja) | 2001-01-31 |
Family
ID=23805533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02419046A Expired - Fee Related JP3129746B2 (ja) | 1989-12-21 | 1990-12-21 | 空間光変調装置をアライメントする方法及びその装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5105369A (ja) |
| EP (1) | EP0433981B1 (ja) |
| JP (1) | JP3129746B2 (ja) |
| DE (1) | DE69031727T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013045109A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Palo Alto Research Center Inc | 空間光変調器および反射屈折アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム |
| JP2013050716A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-14 | Palo Alto Research Center Inc | アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム |
Families Citing this family (93)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6219015B1 (en) | 1992-04-28 | 2001-04-17 | The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images |
| US5325116A (en) * | 1992-09-18 | 1994-06-28 | Texas Instruments Incorporated | Device for writing to and reading from optical storage media |
| US5510824A (en) * | 1993-07-26 | 1996-04-23 | Texas Instruments, Inc. | Spatial light modulator array |
| US5521748A (en) * | 1994-06-16 | 1996-05-28 | Eastman Kodak Company | Light modulator with a laser or laser array for exposing image data |
| US5648730A (en) * | 1994-11-30 | 1997-07-15 | Texas Instruments Incorporated | Large integrated circuit with modular probe structures |
| US5687130A (en) * | 1994-11-30 | 1997-11-11 | Texas Instruments Incorporated | Memory cell with single bit line read back |
| US5610624A (en) * | 1994-11-30 | 1997-03-11 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator with reduced possibility of an on state defect |
| US5579449A (en) * | 1994-12-21 | 1996-11-26 | Pitney Bowes Inc. | Method for downloading and printing bitmapped graphics |
| US5844588A (en) * | 1995-01-11 | 1998-12-01 | Texas Instruments Incorporated | DMD modulated continuous wave light source for xerographic printer |
| US6107979A (en) * | 1995-01-17 | 2000-08-22 | Texas Instruments Incorporated | Monolithic programmable format pixel array |
| US5504614A (en) * | 1995-01-31 | 1996-04-02 | Texas Instruments Incorporated | Method for fabricating a DMD spatial light modulator with a hardened hinge |
| US5671083A (en) * | 1995-02-02 | 1997-09-23 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator with buried passive charge storage cell array |
| US5682174A (en) * | 1995-02-16 | 1997-10-28 | Texas Instruments Incorporated | Memory cell array for digital spatial light modulator |
| US5670977A (en) * | 1995-02-16 | 1997-09-23 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator having single bit-line dual-latch memory cells |
| US5670976A (en) * | 1995-02-28 | 1997-09-23 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator having redundant memory cells |
| US5706061A (en) * | 1995-03-31 | 1998-01-06 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light image display system with synchronized and modulated light source |
| US5719695A (en) * | 1995-03-31 | 1998-02-17 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator with superstructure light shield |
| US5535047A (en) * | 1995-04-18 | 1996-07-09 | Texas Instruments Incorporated | Active yoke hidden hinge digital micromirror device |
| US5629794A (en) * | 1995-05-31 | 1997-05-13 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator having an analog beam for steering light |
| JPH08330266A (ja) * | 1995-05-31 | 1996-12-13 | Texas Instr Inc <Ti> | 半導体装置等の表面を浄化し、処理する方法 |
| US5841579A (en) | 1995-06-07 | 1998-11-24 | Silicon Light Machines | Flat diffraction grating light valve |
| US6002452A (en) * | 1995-06-08 | 1999-12-14 | Texas Instruments Incorporated | Sequential color display system with spoke synchronous frame rate conversion |
| US5668062A (en) * | 1995-08-23 | 1997-09-16 | Texas Instruments Incorporated | Method for processing semiconductor wafer with reduced particle contamination during saw |
| US5872046A (en) * | 1996-04-10 | 1999-02-16 | Texas Instruments Incorporated | Method of cleaning wafer after partial saw |
| US5815641A (en) * | 1996-06-27 | 1998-09-29 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator with improved peak white performance |
| EP0817157A3 (en) | 1996-06-28 | 1998-08-12 | Texas Instruments Incorporated | Improvements in or relating to image display system |
| US6312134B1 (en) * | 1996-07-25 | 2001-11-06 | Anvik Corporation | Seamless, maskless lithography system using spatial light modulator |
| EP0914626A4 (en) * | 1996-07-25 | 2002-02-20 | Anvik Corp | EDGE AND MASK LASER LITHOGRAPHY SYSTEM WITH SPATIAL LIGHT MODULATOR |
| US5771116A (en) * | 1996-10-21 | 1998-06-23 | Texas Instruments Incorporated | Multiple bias level reset waveform for enhanced DMD control |
| US5953153A (en) * | 1996-10-29 | 1999-09-14 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator with improved light shield |
| US5982553A (en) | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
| US5817569A (en) * | 1997-05-08 | 1998-10-06 | Texas Instruments Incorporated | Method of reducing wafer particles after partial saw |
| US6088102A (en) | 1997-10-31 | 2000-07-11 | Silicon Light Machines | Display apparatus including grating light-valve array and interferometric optical system |
| US5970597A (en) * | 1998-05-13 | 1999-10-26 | Eastman Kodak Company | Precision assembly technique using alignment fixture and the resulting assembly |
| US6271808B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-08-07 | Silicon Light Machines | Stereo head mounted display using a single display device |
| US6130770A (en) | 1998-06-23 | 2000-10-10 | Silicon Light Machines | Electron gun activated grating light valve |
| US6101036A (en) | 1998-06-23 | 2000-08-08 | Silicon Light Machines | Embossed diffraction grating alone and in combination with changeable image display |
| US6215579B1 (en) | 1998-06-24 | 2001-04-10 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image |
| US6303986B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-16 | Silicon Light Machines | Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die |
| US6872984B1 (en) | 1998-07-29 | 2005-03-29 | Silicon Light Machines Corporation | Method of sealing a hermetic lid to a semiconductor die at an angle |
| US6476986B2 (en) | 1999-12-28 | 2002-11-05 | Texas Instruments Incorporated | Six-axis attachment apparatus and method for spatial light modulators |
| US6956878B1 (en) | 2000-02-07 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging |
| US7177081B2 (en) | 2001-03-08 | 2007-02-13 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast grating light valve type device |
| US6865346B1 (en) | 2001-06-05 | 2005-03-08 | Silicon Light Machines Corporation | Fiber optic transceiver |
| US6747781B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-06-08 | Silicon Light Machines, Inc. | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle |
| US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
| US6829092B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Blazed grating light valve |
| US6930364B2 (en) | 2001-09-13 | 2005-08-16 | Silicon Light Machines Corporation | Microelectronic mechanical system and methods |
| US6956995B1 (en) | 2001-11-09 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Optical communication arrangement |
| US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
| US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
| US6728023B1 (en) | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
| US7054515B1 (en) | 2002-05-30 | 2006-05-30 | Silicon Light Machines Corporation | Diffractive light modulator-based dynamic equalizer with integrated spectral monitor |
| US6822797B1 (en) | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
| US6829258B1 (en) | 2002-06-26 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Rapidly tunable external cavity laser |
| US6908201B2 (en) | 2002-06-28 | 2005-06-21 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-support structures |
| US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
| US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
| US7057795B2 (en) | 2002-08-20 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-structures with individually addressable ribbon pairs |
| US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
| US6928207B1 (en) | 2002-12-12 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Apparatus for selectively blocking WDM channels |
| US7057819B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast tilting ribbon blazed grating |
| US6987600B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-01-17 | Silicon Light Machines Corporation | Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer |
| US6934070B1 (en) | 2002-12-18 | 2005-08-23 | Silicon Light Machines Corporation | Chirped optical MEM device |
| US6927891B1 (en) | 2002-12-23 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Tilt-able grating plane for improved crosstalk in 1×N blaze switches |
| FR2849519B1 (fr) * | 2002-12-31 | 2005-03-11 | Automatic Systems | Porte automatisee pour permettre ou interdire l'acces a un espace ou un vehicule de transport, en particulier a une salle d'embarquement ou a un avion |
| US7068372B1 (en) | 2003-01-28 | 2006-06-27 | Silicon Light Machines Corporation | MEMS interferometer-based reconfigurable optical add-and-drop multiplexor |
| US7286764B1 (en) | 2003-02-03 | 2007-10-23 | Silicon Light Machines Corporation | Reconfigurable modulator-based optical add-and-drop multiplexer |
| US6947613B1 (en) | 2003-02-11 | 2005-09-20 | Silicon Light Machines Corporation | Wavelength selective switch and equalizer |
| US6922272B1 (en) | 2003-02-14 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for leveling thermal stress variations in multi-layer MEMS devices |
| US6922273B1 (en) | 2003-02-28 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | PDL mitigation structure for diffractive MEMS and gratings |
| US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
| US7027202B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-04-11 | Silicon Light Machines Corp | Silicon substrate as a light modulator sacrificial layer |
| US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
| US7391973B1 (en) | 2003-02-28 | 2008-06-24 | Silicon Light Machines Corporation | Two-stage gain equalizer |
| US7042611B1 (en) | 2003-03-03 | 2006-05-09 | Silicon Light Machines Corporation | Pre-deflected bias ribbons |
| US7095546B2 (en) * | 2003-04-24 | 2006-08-22 | Metconnex Canada Inc. | Micro-electro-mechanical-system two dimensional mirror with articulated suspension structures for high fill factor arrays |
| US7295726B1 (en) | 2003-12-02 | 2007-11-13 | Adriatic Research Institute | Gimbal-less micro-electro-mechanical-system tip-tilt and tip-tilt-piston actuators and a method for forming the same |
| US7428353B1 (en) | 2003-12-02 | 2008-09-23 | Adriatic Research Institute | MEMS device control with filtered voltage signal shaping |
| US7432629B2 (en) * | 2005-02-16 | 2008-10-07 | Jds Uniphase Corporation | Articulated MEMs structures |
| US20070091183A1 (en) * | 2005-10-21 | 2007-04-26 | Ge Inspection Technologies, Lp | Method and apparatus for adapting the operation of a remote viewing device to correct optical misalignment |
| US7924441B1 (en) | 2008-08-08 | 2011-04-12 | Mirrorcle Technologies, Inc. | Fast and high-precision 3D tracking and position measurement with MEMS micromirrors |
| US8610986B2 (en) * | 2009-04-06 | 2013-12-17 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Mirror arrays for maskless photolithography and image display |
| US8767270B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-07-01 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging apparatus with image data scrolling for improved resolution contrast and exposure extent |
| US8472104B2 (en) | 2011-08-24 | 2013-06-25 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system using spatial light modulator anamorphic projection optics |
| US8670172B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-03-11 | Palo Alto Research Center Incorporated | Variable length imaging method using electronically registered and stitched single-pass imaging |
| US9030515B2 (en) | 2011-08-24 | 2015-05-12 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging method using spatial light modulator and anamorphic projection optics |
| US9630424B2 (en) | 2011-08-24 | 2017-04-25 | Palo Alto Research Center Incorporated | VCSEL-based variable image optical line generator |
| US8502853B2 (en) | 2011-08-24 | 2013-08-06 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging method with image data scrolling for improved resolution contrast and exposure extent |
| US8477403B2 (en) | 2011-08-24 | 2013-07-02 | Palo Alto Research Center Incorporated | Variable length imaging apparatus using electronically registered and stitched single-pass imaging systems |
| US8405913B2 (en) * | 2011-08-24 | 2013-03-26 | Palo Alto Research Center Incorporated | Anamorphic projection optical system |
| US8791972B2 (en) | 2012-02-13 | 2014-07-29 | Xerox Corporation | Reflex-type digital offset printing system with serially arranged single-pass, single-color imaging systems |
| US9354379B2 (en) | 2014-09-29 | 2016-05-31 | Palo Alto Research Center Incorporated | Light guide based optical system for laser line generator |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5212577A (en) * | 1975-07-21 | 1977-01-31 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Automatic location device |
| US4230902A (en) * | 1978-05-30 | 1980-10-28 | Xerox Corporation | Modular laser printing system |
| US4308544A (en) * | 1979-11-05 | 1981-12-29 | Xerox Corporation | Electronic alignment of laser beam utilized in a laser scanning system |
| US4471448A (en) * | 1981-09-08 | 1984-09-11 | Hughes Aircraft Company | Method and apparatus for aligning an optical system |
| US4471447A (en) * | 1981-09-08 | 1984-09-11 | Hughes Aircraft Company | Method for aligning an optical system utilizing focal plane image intensity data |
| DE3211867A1 (de) * | 1982-03-31 | 1983-06-01 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Verfahren und vorrichtung zum justieren und montieren von optischen bauteilen in optischen geraeten |
| US4777506A (en) * | 1984-06-09 | 1988-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Camera having an assembling adjusting device |
| US4596992A (en) * | 1984-08-31 | 1986-06-24 | Texas Instruments Incorporated | Linear spatial light modulator and printer |
| US4662746A (en) * | 1985-10-30 | 1987-05-05 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
| US4728185A (en) * | 1985-07-03 | 1988-03-01 | Texas Instruments Incorporated | Imaging system |
| JP2661015B2 (ja) * | 1986-06-11 | 1997-10-08 | 株式会社ニコン | 位置合わせ方法 |
-
1989
- 1989-12-21 US US07/454,657 patent/US5105369A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-12-18 DE DE69031727T patent/DE69031727T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-18 EP EP90124585A patent/EP0433981B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-12-21 JP JP02419046A patent/JP3129746B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013045109A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Palo Alto Research Center Inc | 空間光変調器および反射屈折アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム |
| JP2013050716A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-14 | Palo Alto Research Center Inc | アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5105369A (en) | 1992-04-14 |
| JP3129746B2 (ja) | 2001-01-31 |
| DE69031727D1 (de) | 1998-01-02 |
| EP0433981A2 (en) | 1991-06-26 |
| EP0433981B1 (en) | 1997-11-19 |
| EP0433981A3 (en) | 1992-07-01 |
| DE69031727T2 (de) | 1998-05-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3129746B2 (ja) | 空間光変調装置をアライメントする方法及びその装置 | |
| JP3181928B2 (ja) | 空間光変調素子のアレイを用いた印字装置及び印字法 | |
| JP2909226B2 (ja) | 露光ユニット及び構成法 | |
| US5142303A (en) | Printing system exposure module optic structure and method of operation | |
| US5101236A (en) | Light energy control system and method of operation | |
| US5237340A (en) | Replaceable elements for xerographic printing process and method of operation | |
| US7999838B2 (en) | Line head, image forming apparatus incorporating the same, and method of adjusting position of the same | |
| JP3042634B2 (ja) | 印字素子及び露光ユニット作動法 | |
| US4351005A (en) | Recording apparatus | |
| WO1983002507A1 (en) | Unitary, modular, demountable optical system for laser diode printing/copying apparatus | |
| CA2018931C (en) | Multiple laser beam scanning optics | |
| US4743927A (en) | Printing apparatus | |
| JP2866748B2 (ja) | 印字装置及び印字方法 | |
| JPH04278973A (ja) | トナーレベル決定システム及びトナー制御方法 | |
| JPH02219075A (ja) | 電子写真式像形成ステーション及び像形成方法 | |
| JPH07181753A (ja) | ゼログラフ印刷システム及びゼログラフ印刷システムの組立て方法 | |
| JPH05309849A (ja) | 書き込みヘッドを有する複数レーザーダイオードマウントアセンブリ | |
| EP0119334A1 (en) | Unitary, modular demountable optical system for laser diode printing copying apparatus | |
| EP0533110A1 (en) | Laser diode with card-edge connector | |
| JPH04294343A (ja) | 光照射装置及びこれを用いた電子機器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |