JPH04281212A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH04281212A JPH04281212A JP4356191A JP4356191A JPH04281212A JP H04281212 A JPH04281212 A JP H04281212A JP 4356191 A JP4356191 A JP 4356191A JP 4356191 A JP4356191 A JP 4356191A JP H04281212 A JPH04281212 A JP H04281212A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- alloy
- magnetic layer
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 106
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 31
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 25
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 abstract description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 47
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019582 Cr V Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- OILJYSKMACHHGW-UHFFFAOYSA-N cobalt;methane Chemical compound C.[Co] OILJYSKMACHHGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 235000012976 tarts Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気ヘッドとの
間において情報の記録および再生を行うための磁気記録
媒体に関するものであり、特に膜面内の保磁力を大きく
したＣｏ系合金磁性層を有する磁気記録媒体に関するも
のである。
間において情報の記録および再生を行うための磁気記録
媒体に関するものであり、特に膜面内の保磁力を大きく
したＣｏ系合金磁性層を有する磁気記録媒体に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、磁気記録媒体上に情報を記録
し、もしくは媒体上に記録した情報を再生出力するため
に、磁気ディスク装置が広く使用されている。そして、
より高密度の情報の記録・再生を行うために、最近では
、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間隔を、例えば０．２
〜０．３μｍ程度の微小な間隔に保持するのが通常であ
る。このため、磁気ヘッドと磁気記録媒体の衝突に伴う
損傷をできるだけ防止するように、浮動型の磁気ヘッド
スライダが使用されている。磁気ヘッドスライダは、磁
気記録媒体との相対速度によってスライダと記録媒体と
の間隙部分に発生する流体力学的浮上力を利用して両者
の微小間隔を保持するように構成されており、それによ
って磁気記録媒体との接触による摩擦、摩耗を低減する
。
し、もしくは媒体上に記録した情報を再生出力するため
に、磁気ディスク装置が広く使用されている。そして、
より高密度の情報の記録・再生を行うために、最近では
、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間隔を、例えば０．２
〜０．３μｍ程度の微小な間隔に保持するのが通常であ
る。このため、磁気ヘッドと磁気記録媒体の衝突に伴う
損傷をできるだけ防止するように、浮動型の磁気ヘッド
スライダが使用されている。磁気ヘッドスライダは、磁
気記録媒体との相対速度によってスライダと記録媒体と
の間隙部分に発生する流体力学的浮上力を利用して両者
の微小間隔を保持するように構成されており、それによ
って磁気記録媒体との接触による摩擦、摩耗を低減する
。
【０００３】一方、近年の磁気記録媒体に要求される仕
様は次第に厳しくなってきており、より記録密度の高い
磁性膜を用いることが要求されている。このような磁性
膜としては、非磁性基板上にＣｒ下地層を介してＣｏ−
Ｎｉ−Ｃｒ層を成膜したものがある。しかし、この磁性
膜は、保磁力がＣｒ下地層の厚みに大きく依存し、膜厚
が厚くなるに従い保磁力が増加する。高密度化のために
は記録媒体の高保磁力化が必要であるが、この磁性膜を
形成した記録媒体においては、１０００Ｏｅ以上の保磁
力を得るためには２０００Å以上のＣｒ膜を形成しなけ
ればならず、膜形成に要する時間が長くなり生産性を低
下させるという問題がある。
様は次第に厳しくなってきており、より記録密度の高い
磁性膜を用いることが要求されている。このような磁性
膜としては、非磁性基板上にＣｒ下地層を介してＣｏ−
Ｎｉ−Ｃｒ層を成膜したものがある。しかし、この磁性
膜は、保磁力がＣｒ下地層の厚みに大きく依存し、膜厚
が厚くなるに従い保磁力が増加する。高密度化のために
は記録媒体の高保磁力化が必要であるが、この磁性膜を
形成した記録媒体においては、１０００Ｏｅ以上の保磁
力を得るためには２０００Å以上のＣｒ膜を形成しなけ
ればならず、膜形成に要する時間が長くなり生産性を低
下させるという問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような欠点を除く
ために、上記と同様に、非磁性基板上にＣｒ層を介して
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ膜を形成したものが提唱された（ＩＥ
ＥＥ Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇｎ．ＭＡＧ−２３，１２２，
１９８７）。この媒体は１０００ÅのＣｒ膜厚でも１０
００Ｏｅ以上の保磁力が得られるという利点がある。し
かしながら、１５００Ｏｅ以上の高保磁力は得られてい
ない。
ために、上記と同様に、非磁性基板上にＣｒ層を介して
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ膜を形成したものが提唱された（ＩＥ
ＥＥ Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇｎ．ＭＡＧ−２３，１２２，
１９８７）。この媒体は１０００ÅのＣｒ膜厚でも１０
００Ｏｅ以上の保磁力が得られるという利点がある。し
かしながら、１５００Ｏｅ以上の高保磁力は得られてい
ない。
【０００５】また、高保磁力の磁性膜を得るために、ス
パッタ時に基板にバイアス電圧を印加することも知られ
ている（信学技報ＣＰＭ８８，１９８８）。しかし、こ
の報告においても、高保磁力を得るためにはＣｒ下地膜
の膜厚が１５００Å以上を要している。さらに、より薄
層のＣｒ膜での検討も行われているが（日本応用磁気学
会誌，１４，５３，１９９０）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合
金磁性層では１５００Ｏｅ以上の高保磁力は達成されて
いない。
パッタ時に基板にバイアス電圧を印加することも知られ
ている（信学技報ＣＰＭ８８，１９８８）。しかし、こ
の報告においても、高保磁力を得るためにはＣｒ下地膜
の膜厚が１５００Å以上を要している。さらに、より薄
層のＣｒ膜での検討も行われているが（日本応用磁気学
会誌，１４，５３，１９９０）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合
金磁性層では１５００Ｏｅ以上の高保磁力は達成されて
いない。
【０００６】Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金磁性層は、基板面
に平行な方向（トラック方向）に磁化されて記録を行う
。したがって、この面密度を上げて高密度記録をするた
めには、磁性層の保磁力を高めることが必要である。 そして、このためにはＣｒ下地層上のＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ
系合金層をエピタキシャル成長させる必要があるとされ
ている（ＵＳＰ ４，６５２，４９９）。このとき、下
地層のＣｒ結晶とＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金結晶の結晶粒
はほぼ同じ大きさとなる。また、Ｃｒの結晶粒径は、膜
厚が厚くなるとともに成長する。
に平行な方向（トラック方向）に磁化されて記録を行う
。したがって、この面密度を上げて高密度記録をするた
めには、磁性層の保磁力を高めることが必要である。 そして、このためにはＣｒ下地層上のＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ
系合金層をエピタキシャル成長させる必要があるとされ
ている（ＵＳＰ ４，６５２，４９９）。このとき、下
地層のＣｒ結晶とＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金結晶の結晶粒
はほぼ同じ大きさとなる。また、Ｃｒの結晶粒径は、膜
厚が厚くなるとともに成長する。
【０００７】本発明の目的とするところは、非磁性基板
上に形成した磁性層からなる磁気記録媒体であって、こ
の磁性層は面内に磁化容易方向を有し、この基板と磁性
層の間のＣｒまたはＣｒ合金からなる下地層の厚さが薄
いときでも、１５００Ｏｅ以上の高い保磁力を有するも
のを提供することにある。なお、面内に磁化容易方向を
有するとは、磁性層が基板面と平行な方向、すなわち長
手方向に磁化することが出来ることを意味し、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ系合金磁性層が六方晶結晶構造を有する場合、
そのＣ軸の磁性層面内成分の大きいことを意味する。本
発明の他の目的は、磁気記録媒体を製造するときに、生
産性のよい下地層の薄い媒体を提供することにある。
上に形成した磁性層からなる磁気記録媒体であって、こ
の磁性層は面内に磁化容易方向を有し、この基板と磁性
層の間のＣｒまたはＣｒ合金からなる下地層の厚さが薄
いときでも、１５００Ｏｅ以上の高い保磁力を有するも
のを提供することにある。なお、面内に磁化容易方向を
有するとは、磁性層が基板面と平行な方向、すなわち長
手方向に磁化することが出来ることを意味し、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ系合金磁性層が六方晶結晶構造を有する場合、
そのＣ軸の磁性層面内成分の大きいことを意味する。本
発明の他の目的は、磁気記録媒体を製造するときに、生
産性のよい下地層の薄い媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性基体上
に形成されたＣｒまたはＣｒを主体とする合金からなる
下地層上に、平均結晶粒径３００〜６００ÅのＣｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ系合金磁性層を連続して形成してあることを特
徴とするものであり、それによってＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系
合金磁性層における膜面に平行な成分の保磁力が１５０
０Ｏｅを超える磁気記録媒体を実現できるのである。本
発明において、上記磁性層としては、ＣｒあるいはＣｒ
合金下地層上に蒸着成長させるもので、５〜１５原子％
のＣｒ、１〜８原子％のＴａ、および残部実質的にＣｏ
からなる組成のＣｏ系合金磁性層のものが適切である。
に形成されたＣｒまたはＣｒを主体とする合金からなる
下地層上に、平均結晶粒径３００〜６００ÅのＣｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ系合金磁性層を連続して形成してあることを特
徴とするものであり、それによってＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系
合金磁性層における膜面に平行な成分の保磁力が１５０
０Ｏｅを超える磁気記録媒体を実現できるのである。本
発明において、上記磁性層としては、ＣｒあるいはＣｒ
合金下地層上に蒸着成長させるもので、５〜１５原子％
のＣｒ、１〜８原子％のＴａ、および残部実質的にＣｏ
からなる組成のＣｏ系合金磁性層のものが適切である。
【０００９】また、本発明において、ＣｒまたはＣｒを
主体とする合金からなる下地層の膜厚は４００Å以上で
あることが望ましい。これは、３００〜６００Åの結晶
粒のＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金層を磁性層として実現しよ
うとする場合、４００Å未満の厚さでは結晶粒径が３０
０Å以上になりにくいためである。ＣｒまたはＣｒ合金
下地層の厚みは４００Å以上であれば良く、その上限は
特に限定されるものではないが、生産性の点からは１０
００Å以下とするのが適当である。本発明の磁気記録媒
体において、基板としては３〜６重量％のＭｇを含むア
ルミニウム合金やガラスまたはセラミックなどの非磁性
基板が適切であり、さらに基板上にＮｉ−Ｐメッキ膜な
どの非晶質金属下地層が設けられていてもよい。
主体とする合金からなる下地層の膜厚は４００Å以上で
あることが望ましい。これは、３００〜６００Åの結晶
粒のＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金層を磁性層として実現しよ
うとする場合、４００Å未満の厚さでは結晶粒径が３０
０Å以上になりにくいためである。ＣｒまたはＣｒ合金
下地層の厚みは４００Å以上であれば良く、その上限は
特に限定されるものではないが、生産性の点からは１０
００Å以下とするのが適当である。本発明の磁気記録媒
体において、基板としては３〜６重量％のＭｇを含むア
ルミニウム合金やガラスまたはセラミックなどの非磁性
基板が適切であり、さらに基板上にＮｉ−Ｐメッキ膜な
どの非晶質金属下地層が設けられていてもよい。
【００１０】上記構成の本発明による磁気記録媒体は、
非磁性基板を１５０℃以上に加熱し、かつ非磁性基板上
に負の電圧を印加しながら、ＣｒまたはＣｒを主体とす
る合金からなる下地層と、この下地層上にＣｏ−Ｃｒ−
Ｔａ系合金からなる磁性層を蒸着成長させて形成するこ
とにより製造できる。
非磁性基板を１５０℃以上に加熱し、かつ非磁性基板上
に負の電圧を印加しながら、ＣｒまたはＣｒを主体とす
る合金からなる下地層と、この下地層上にＣｏ−Ｃｒ−
Ｔａ系合金からなる磁性層を蒸着成長させて形成するこ
とにより製造できる。
【００１１】
【作用】通常の方法ではＣｒ下地膜の膜厚を３０００Å
程度に厚くしないと粒径制御（粗大化）が出来ないが、
本発明においては、Ｃｒ下地膜の膜厚は４００〜１５０
０Åの範囲内程度でありながら、基板温度を上げるとと
もにバイアス電圧を印加することによって結晶粒径を制
御できるのである。また、本発明においては、Ｃｒ下地
層およびＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金磁性層は連続的に形成
され、そのときの基板温度は１５０℃以上に保持される
るとともに、成膜中は基板面に負のバイアス電圧が印加
されることによって、１５００Ｏｅ以上の保磁力が得ら
れ、高密度記録に適した媒体となるのである。
程度に厚くしないと粒径制御（粗大化）が出来ないが、
本発明においては、Ｃｒ下地膜の膜厚は４００〜１５０
０Åの範囲内程度でありながら、基板温度を上げるとと
もにバイアス電圧を印加することによって結晶粒径を制
御できるのである。また、本発明においては、Ｃｒ下地
層およびＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金磁性層は連続的に形成
され、そのときの基板温度は１５０℃以上に保持される
るとともに、成膜中は基板面に負のバイアス電圧が印加
されることによって、１５００Ｏｅ以上の保磁力が得ら
れ、高密度記録に適した媒体となるのである。
【００１２】
【実施例】以下、本発明について実施例および比較例等
に基づいて詳述する。ただし、本発明の範囲が、これら
実施例により限定されるものではない。
に基づいて詳述する。ただし、本発明の範囲が、これら
実施例により限定されるものではない。
【００１３】（実施例１）表面にＮｉ−Ｐメッキ膜が５
〜１５μｍ形成された、４重量％のマグネシウムを含む
３．５インチアルミニウム合金基板（外径９５ｍｍ、内
径２５ｍｍ、厚み１．２７ｍｍ）を鏡面加工する。次に
、磁気記録媒体の起動時および停止時における磁気ヘッ
ドもしくはスライダとの接触摺動（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓ
ｔａｒｔ ａｎｄ Ｓｔｏｐ， 以下ＣＳＳと記す）特
性を確保するためにテクスチャ加工を施す。
〜１５μｍ形成された、４重量％のマグネシウムを含む
３．５インチアルミニウム合金基板（外径９５ｍｍ、内
径２５ｍｍ、厚み１．２７ｍｍ）を鏡面加工する。次に
、磁気記録媒体の起動時および停止時における磁気ヘッ
ドもしくはスライダとの接触摺動（Ｃｏｎｔａｃｔ Ｓ
ｔａｒｔ ａｎｄ Ｓｔｏｐ， 以下ＣＳＳと記す）特
性を確保するためにテクスチャ加工を施す。
【００１４】この基板を洗浄後、例えばＤＣマグトロン
スパッタ装置により、表１に示すように種々の膜厚のＣ
ｒからなる下地層と、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁
性層と、カ−ボンからなる保護層とを順次積層して成膜
する。この場合、下地層の成膜には、スパッタ室内を１
×１０−５Ｔｏｒｒ以下に排気後、Ａｒガスを導入して
スパッタ室内を５ｍＴｏｒｒに保持し、投入電力２００
０Ｗ、成膜速度４００Å／分の条件の下で、異なる膜厚
のＣｒ下地層を成膜する。次に、この下地層の上にＣｏ
−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁性層を、上記下地層の成膜
と同様の雰囲気下で、投入電力２０００Ｗ、成膜速度１
０００Å／分の条件で５００Åの膜厚に成膜する。また
、両層のスパッタ時には、基板を他の部分より電気的に
浮かせ、ＤＣ電源により負のバイアス電圧を印加する。 さらに、保護層としてのカーボン膜を、投入電力１００
０Ｗ、成膜速度８０Å／分の条件で、前記磁性層上に膜
厚３００Å成膜する。
スパッタ装置により、表１に示すように種々の膜厚のＣ
ｒからなる下地層と、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁
性層と、カ−ボンからなる保護層とを順次積層して成膜
する。この場合、下地層の成膜には、スパッタ室内を１
×１０−５Ｔｏｒｒ以下に排気後、Ａｒガスを導入して
スパッタ室内を５ｍＴｏｒｒに保持し、投入電力２００
０Ｗ、成膜速度４００Å／分の条件の下で、異なる膜厚
のＣｒ下地層を成膜する。次に、この下地層の上にＣｏ
−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁性層を、上記下地層の成膜
と同様の雰囲気下で、投入電力２０００Ｗ、成膜速度１
０００Å／分の条件で５００Åの膜厚に成膜する。また
、両層のスパッタ時には、基板を他の部分より電気的に
浮かせ、ＤＣ電源により負のバイアス電圧を印加する。 さらに、保護層としてのカーボン膜を、投入電力１００
０Ｗ、成膜速度８０Å／分の条件で、前記磁性層上に膜
厚３００Å成膜する。
【００１５】得られた磁気記録媒体における磁性膜の磁
気特性および平均結晶粒径を表１に示す。Ｃｒ下地膜厚
が薄い比較例Ｎｏ．１は平均結晶粒径が小さく保磁力も
小さい。これに対し、Ｃｒ下地膜厚が４００Å以上であ
る本発明磁気記録媒体は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金磁性
膜の平均結晶粒径が３００〜６００Åの範囲にあり、１
５００Ｏｅを超える優れた保磁力となることがわかる。 なお、図１および図２は本発明に係る試料Ｎｏ．５およ
び比較例試料Ｎｏ．１についてのＴＥＭによる組織観察
写真である。
気特性および平均結晶粒径を表１に示す。Ｃｒ下地膜厚
が薄い比較例Ｎｏ．１は平均結晶粒径が小さく保磁力も
小さい。これに対し、Ｃｒ下地膜厚が４００Å以上であ
る本発明磁気記録媒体は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金磁性
膜の平均結晶粒径が３００〜６００Åの範囲にあり、１
５００Ｏｅを超える優れた保磁力となることがわかる。 なお、図１および図２は本発明に係る試料Ｎｏ．５およ
び比較例試料Ｎｏ．１についてのＴＥＭによる組織観察
写真である。
【００１６】
【表１】
【００１７】（実施例２）Ｃｒ下地膜厚を６２０Åとし
、基板温度を表２に示すように変化させたほかは実施例
１と同様にして、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金磁性層および保
護膜を形成する。得られた磁性層の磁気特性および結晶
粒径を表２に示す。さらに、基板温度が低い条件で成膜
した比較例Ｎｏ．７および８の磁性層の平均結晶粒径は
３００Å未満であり、保磁力も１５００Ｏｅ未満である
。これに対し、基板を１５０℃以上に加熱した本発明例
Ｎｏ．９〜１１のものは、平均結晶粒径が４００Å以上
であり、その保磁力も１５００Ｏｅ以上と好ましい特性
が得られている。
、基板温度を表２に示すように変化させたほかは実施例
１と同様にして、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金磁性層および保
護膜を形成する。得られた磁性層の磁気特性および結晶
粒径を表２に示す。さらに、基板温度が低い条件で成膜
した比較例Ｎｏ．７および８の磁性層の平均結晶粒径は
３００Å未満であり、保磁力も１５００Ｏｅ未満である
。これに対し、基板を１５０℃以上に加熱した本発明例
Ｎｏ．９〜１１のものは、平均結晶粒径が４００Å以上
であり、その保磁力も１５００Ｏｅ以上と好ましい特性
が得られている。
【００１８】
【表２】
【００１９】（実施例３）Ｃｒ下地膜厚を６２０Å、基
板温度を２００℃とし、バイアス電圧を表３に示すよう
に変化させたほかは実施例１と同様にして、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｔａ合金磁性層および保護膜を形成する。得られた磁
性層の磁気特性および結晶粒径を表３に示す。表３の比
較例（Ｎｏ．１２）からわかるように、基板温度が高く
ても無バイアス時には、平均結晶粒径は小さく、保磁力
も低い。これに対し、バイアス電圧を印加して作成した
Ｎｏ．１３〜１５のものは、平均結晶粒径が３００μｍ
以上となり磁気特性も良好であることがわかる。
板温度を２００℃とし、バイアス電圧を表３に示すよう
に変化させたほかは実施例１と同様にして、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｔａ合金磁性層および保護膜を形成する。得られた磁
性層の磁気特性および結晶粒径を表３に示す。表３の比
較例（Ｎｏ．１２）からわかるように、基板温度が高く
ても無バイアス時には、平均結晶粒径は小さく、保磁力
も低い。これに対し、バイアス電圧を印加して作成した
Ｎｏ．１３〜１５のものは、平均結晶粒径が３００μｍ
以上となり磁気特性も良好であることがわかる。
【００２０】
【表３】
【００２１】（実施例４）基板温度、バイアス電圧、お
よびＣｒ下地膜厚は変えずに、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金磁
性層の組成を表４に示すように変化させ、実施例１と同
様にして、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金磁性層および保護膜を
形成する。得られた磁性層の磁気特性および結晶粒径を
表４に示す。ＣｒおよびＴａの含有量が適正な本発明の
磁気記録媒体（Ｎｏ．１９〜２４）の磁性層の平均結晶
粒径は３００〜６００Åの範囲にあり、保磁力も１５０
０Ｏｅ以上と良好である。これに対し、Ｔａが過剰に含
有されたもの（Ｎｏ．１６）、Ｔａが含有されていない
もの（Ｎｏ．１７）は、Ｃｒ下地層の厚さが適当であっ
ても、平均結晶粒径が小さく、保磁力も小さい。また、
Ｃｒの含有量が５原子％未満のもの（Ｎｏ．２５）は、
Ｃｒ下地層の厚さが適当であっても結晶粒径が６００Å
を越えており、十分な保磁力が得られない。さらにまた
、ＣｒまたはＴａ量が過剰のもの（Ｎｏ．１６、１８）
は４πＭｓが低く、Ｔａ＋Ｃｒ量の低いもの（Ｎｏ．２
５）は保磁力が低いこともわかる。
よびＣｒ下地膜厚は変えずに、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金磁
性層の組成を表４に示すように変化させ、実施例１と同
様にして、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金磁性層および保護膜を
形成する。得られた磁性層の磁気特性および結晶粒径を
表４に示す。ＣｒおよびＴａの含有量が適正な本発明の
磁気記録媒体（Ｎｏ．１９〜２４）の磁性層の平均結晶
粒径は３００〜６００Åの範囲にあり、保磁力も１５０
０Ｏｅ以上と良好である。これに対し、Ｔａが過剰に含
有されたもの（Ｎｏ．１６）、Ｔａが含有されていない
もの（Ｎｏ．１７）は、Ｃｒ下地層の厚さが適当であっ
ても、平均結晶粒径が小さく、保磁力も小さい。また、
Ｃｒの含有量が５原子％未満のもの（Ｎｏ．２５）は、
Ｃｒ下地層の厚さが適当であっても結晶粒径が６００Å
を越えており、十分な保磁力が得られない。さらにまた
、ＣｒまたはＴａ量が過剰のもの（Ｎｏ．１６、１８）
は４πＭｓが低く、Ｔａ＋Ｃｒ量の低いもの（Ｎｏ．２
５）は保磁力が低いこともわかる。
【００２２】
【表４】
【００２３】（参考例１）また、比較のために、従来か
ら磁性層として広く使用されているＣｏ６３Ｎｉ３０Ｃ
ｒ７合金、およびＣｏ８６Ｃｒ１２Ｔａ２合金について
、基板加熱温度２００℃、無バイアスとし、Ｃｒ下地膜
の膜厚を変化させて実施例１と同様にして成膜した場合
の磁性層の磁気特性および結晶粒径について調べた結果
を表５に示す。従来材のＣｏ６３Ｎｉ３０Ｃｒ７ はＣ
ｒ下地層を２０００Å以上に厚くすることによって保磁
力が上げられることがわかる。しかし、１５００Ｏｅを
超える保磁力は得られない。なお、この組成系のものは
基本的に結晶粒径が大きいため、Ｃｒ下地膜の粒径も必
然的に６００Å以上程度に大きくしているのが通常であ
る。また、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ材を従来の製造方法で成膜
した場合は、同一膜厚においてＣｏ６３Ｎｉ３０Ｃｒ７
を凌ぐ保磁力が得られるものの、１５００Ｏｅ以上の
保磁力とするにはＣｒ膜厚として１５００Å以上が必要
であることがわかる。
ら磁性層として広く使用されているＣｏ６３Ｎｉ３０Ｃ
ｒ７合金、およびＣｏ８６Ｃｒ１２Ｔａ２合金について
、基板加熱温度２００℃、無バイアスとし、Ｃｒ下地膜
の膜厚を変化させて実施例１と同様にして成膜した場合
の磁性層の磁気特性および結晶粒径について調べた結果
を表５に示す。従来材のＣｏ６３Ｎｉ３０Ｃｒ７ はＣ
ｒ下地層を２０００Å以上に厚くすることによって保磁
力が上げられることがわかる。しかし、１５００Ｏｅを
超える保磁力は得られない。なお、この組成系のものは
基本的に結晶粒径が大きいため、Ｃｒ下地膜の粒径も必
然的に６００Å以上程度に大きくしているのが通常であ
る。また、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ材を従来の製造方法で成膜
した場合は、同一膜厚においてＣｏ６３Ｎｉ３０Ｃｒ７
を凌ぐ保磁力が得られるものの、１５００Ｏｅ以上の
保磁力とするにはＣｒ膜厚として１５００Å以上が必要
であることがわかる。
【００２４】
【表５】
【００２５】以上述べたように、本発明においては、基
板温度とバイアス電圧の相乗作用がない場合あるいはＣ
ｒ膜厚が薄すぎるときは結晶粒径３００Å未満となり、
十分な特性が得られなくなる。また、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ
系合金磁性層として、５〜１５原子％のＣｒおよび１〜
８原子％のＴａを含むＣｏ合金磁性層を形成した場合に
は、いずれも６００Å以下の結晶粒径のものが得られ易
いことがわかる。
板温度とバイアス電圧の相乗作用がない場合あるいはＣ
ｒ膜厚が薄すぎるときは結晶粒径３００Å未満となり、
十分な特性が得られなくなる。また、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ
系合金磁性層として、５〜１５原子％のＣｒおよび１〜
８原子％のＴａを含むＣｏ合金磁性層を形成した場合に
は、いずれも６００Å以下の結晶粒径のものが得られ易
いことがわかる。
【００２６】上記実施例においては、下地層を形成する
材料としてＣｒを使用した例を示したが、本発明におい
ては、Ｃｒの他に、Ｃｒ−Ｍｏ、Ｃｒ−Ｖ、Ｃｒ−Ｍｎ
，Ｃｒ−ＷなどのＣｒ合金によって形成してもよい。 また、磁性層を形成する材料としては、Ｃｒ５〜１５％
、Ｔａ１〜８％、残部Ｃｏを基本組成とする合金に他の
元素を含有させたＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金を使用するこ
とができる。さらに、基板を形成する非磁性材料として
は、上記実施例に記載した以外の他の金属材料および非
金属材料を使用することができる。
材料としてＣｒを使用した例を示したが、本発明におい
ては、Ｃｒの他に、Ｃｒ−Ｍｏ、Ｃｒ−Ｖ、Ｃｒ−Ｍｎ
，Ｃｒ−ＷなどのＣｒ合金によって形成してもよい。 また、磁性層を形成する材料としては、Ｃｒ５〜１５％
、Ｔａ１〜８％、残部Ｃｏを基本組成とする合金に他の
元素を含有させたＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金を使用するこ
とができる。さらに、基板を形成する非磁性材料として
は、上記実施例に記載した以外の他の金属材料および非
金属材料を使用することができる。
【００２７】
【発明の効果】以上詳述したように、従来知られている
通常の方法ではＣｒ膜厚を３０００Åのように厚くしな
いと粒径制御（粗大化）が出来ないが、本発明によれば
Ｃｒ膜厚が薄くても基板温度、バイアス電圧の相乗効果
により粒径制御することができるため、優れた特性の磁
気記録媒体が実現できる。また、本発明磁気記録媒体は
、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金を磁性層としているため耐蝕
性に優れており、かつＣｒ下地膜厚が薄くても十分であ
るため下地膜の形成が容易であり、生産性を向上させる
ことができる。
通常の方法ではＣｒ膜厚を３０００Åのように厚くしな
いと粒径制御（粗大化）が出来ないが、本発明によれば
Ｃｒ膜厚が薄くても基板温度、バイアス電圧の相乗効果
により粒径制御することができるため、優れた特性の磁
気記録媒体が実現できる。また、本発明磁気記録媒体は
、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金を磁性層としているため耐蝕
性に優れており、かつＣｒ下地膜厚が薄くても十分であ
るため下地膜の形成が容易であり、生産性を向上させる
ことができる。
【図１】図１は本発明の一実施例における磁性膜のＴＥ
Ｍによる金属組織観察写真である。
Ｍによる金属組織観察写真である。
【図２】図２は比較例の磁性膜のＴＥＭによる金属組織
観察写真である。
観察写真である。
なし
Claims (5)
- 【請求項１】非磁性基体上に形成されたＣｒまたはＣｒ
を主体とする合金からなる下地層上に、Ｃｏ系合金から
なる磁性層が連続して形成されている磁気記録媒体にお
いて、Ｃｏ系合金磁性層が平均結晶粒径３００〜６００
ÅのＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金磁性層からなることを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】請求項１記載のものにおいて、上記Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｔａ系合金磁性層が５〜１５原子％のＣｒおよび
１〜８原子％のＴａを含むＣｏ系合金であることを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】請求項１記載のものにおいて、下地層の膜
厚が４００Å以上であることを特徴とする磁気記録媒体
。 - 【請求項４】請求項１記載のものにおいて、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｔａ系合金磁性層における膜面に平行な成分の保磁力
が１５００Ｏｅを超えることを特徴とする磁気記録媒体
。 - 【請求項５】非磁性基板を１５０℃以上に加熱し、かつ
非磁性基板上に負の電圧を印加しながら、ＣｒまたはＣ
ｒを主体とする合金からなる下地層と、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔ
ａ系合金からなる磁性層を形成することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3043561A JP2760906B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3043561A JP2760906B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04281212A true JPH04281212A (ja) | 1992-10-06 |
| JP2760906B2 JP2760906B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=12667162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3043561A Expired - Lifetime JP2760906B2 (ja) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2760906B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02154322A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体の製造法 |
| JPH02154323A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH02161617A (ja) * | 1988-03-15 | 1990-06-21 | Ulvac Corp | 面内記録型磁気記録体の製造方法 |
-
1991
- 1991-03-08 JP JP3043561A patent/JP2760906B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02161617A (ja) * | 1988-03-15 | 1990-06-21 | Ulvac Corp | 面内記録型磁気記録体の製造方法 |
| JPH02154322A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体の製造法 |
| JPH02154323A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-13 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2760906B2 (ja) | 1998-06-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10188278A (ja) | クロム下層を有する高性能低ノイズ等方性磁気媒体の製造方法 | |
| US20010024742A1 (en) | High performance thin film disk | |
| US6524730B1 (en) | NiFe-containing soft magnetic layer design for multilayer media | |
| US6403241B1 (en) | CoCrPtB medium with a 1010 crystallographic orientation | |
| US5118564A (en) | Longitudinal magnetic recording media with fine grain crystal magnetic layer | |
| JPS63237210A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2006155865A (ja) | 垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録再生装置 | |
| JPH10334444A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US6348276B1 (en) | Magnetic recording media with a surface-oxidized nial sub-seedlayer | |
| JP2760906B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0773433A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置 | |
| JP3045797B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JP2845974B2 (ja) | 面内磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記憶装置 | |
| JPH09265619A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記憶装置 | |
| JPH0512647A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3658586B2 (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記憶装置 | |
| JP2527616B2 (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JP3901755B2 (ja) | 磁気記録体 | |
| JPH04291017A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| JPH1041134A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0793738A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04105213A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| EP1111595A1 (en) | Base for magnetic recording medium, magnetic recording medium, method for producing the same, and magnetic recorder | |
| JPH0268712A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPH04295615A (ja) | 磁気記録媒体 |