JPH04282100A - 流体送給圧力制御方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、消費側導管内に所望の
圧力を維持するように消費側導管へのプロセッサ流体の
流れを制御する方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】高圧供給源から消費側導管へ流体を所定
の減ぜられた圧力で供給するに当り、消費者が要求する
どのような流量においてもその所定の圧力を維持するこ
とが望ましい応用例は多々ある。その１つの例は、酸素
又は窒素のような液化ガスの貯蔵器（例えば、貯蔵タン
ク）からガスを供給する場合である。その場合、液化ガ
スは、貯蔵容器から蒸発器へポンプ送りされる。蒸発器
は、大気による自然対流に露呈されるフィンを備えた多
数の熱交換管から成っている。別の方法として、蒸発し
た液化ガスの圧力を貯蔵器内に蓄積させ、それによって
貯蔵器内及び貯蔵器から蒸発器へ送給される極低温液体
（液化ガス）を加圧する方法がある。この場合、極低温
液体が蒸発器内で沸騰するにつれて沸騰前線の位置が不
安定に前後に変位（サージング）し、相当な圧力変動（
圧力の振れ）を惹起するので、圧力調整操作が特に困難
である。そのような蒸発器のサージングによる圧力の振
れは、通常、±１．４０６ｋｇ／ｃｍ２　（２０ｐｓｉ
）である。この蒸発器からガスは所望の圧力に調整され
、消費側導管へ送給され、消費者のプロセスのための使
用に供される。消費者のプロセスでは、ガスがいろいろ
な異なる速度（流量）で消費され、不使用期間もある。

【０００３】このようなガス供給設備は、どのような天
候条件の下でも無人で作動することが期待されている。 従って、異常事態に対する自動防護措置が必要とされる
。消費者側の設備に熱衝撃や、低温脆化や、撹乱を起こ
すのを回避するために、過度に低い温度でのガスの送給
や、未蒸発液体の送給を防止すべきである。従って、蒸
発器から流出する流体が所定の温度、例えば−４０°Ｃ
（−４０°Ｆ）より低下した場合、消費側導管への流体
の供給を中断するための手段を設けることが望ましい。

【０００４】そのような操作を行うための手段として、
フィードバックループを使用し、設定点からの偏差に対
応して比例的にリセット又は流量変更等の操作を行うい
ろいろな電気的又は空気圧式制御器が市販されている。 しかしながら、これらの制御器は、構成が複雑で、高価
であり、高度の熟練を要するメンテナンスを必要とする
。しかも、この種の電気制御器は、又、極端な低温及び
高温、及び過酷な天候に対する防護措置を必要とする。

【０００５】広範な流量範囲に亙って作動され、大雑把
な圧力調整しかできない簡単な自蔵調圧器も市販されて
いる。これらの調圧器は、通常、負荷力を調圧器のダイ
アフラムの面に作用する出口圧力の力に対抗してバラン
スさせる。ダイアフラムは、これらの力（出口圧力の力
と負荷力）のうちの大きい方の力の方向に撓む。このダ
イアフラムと連動するように弁が連結されており、上記
負荷力の方が大きいときは弁が開放し、ダイアフラムの
面に作用する出口圧力の力の方が大きいときは弁が閉鎖
するようになされている。調圧器より下流の圧力を安定
状態に保つには負荷力を一定に保持しなければならない
。

【０００６】ダイアフラムに負荷力を及ぼすために一般
にばねが使用されている。通常、ばねがダイアフラムに
及ぼす力は、調節ねじによって変えることができる。ダ
イアフラムが撓むと、ばねの長さが変わり、それによっ
て負荷力が変化する。しかし、この操作は大きな誤差を
生じ、誤差は、流量がゼロから最大限へ変化するにつれ
て大きくなる。

【０００７】従来の調圧器の制御誤差のもう１つの大き
な発生源は、弁のプラグに作用する入口圧力の力である
。この入口圧力の力は、弁とダイアフラムとの間の連結
機構を介してダイアフラムへ伝達され、負荷力に対抗し
て作用する。ばね力によって設定された設定点は、入口
圧力が上昇すると低下し、入口圧力が低下すると上昇す
るからである。この作用を最少限にするために、通常、
弁のオリフィスが小さくされており、その結果、弁の容
量がそのサイズの割に小さくされる。

【０００８】ダイアフラムを撓ませるための力も、従来
の調圧器の制御誤差の原因となる。この力は、負荷力に
対抗し、弁が開放するにつれて設定点を低下させるから
である。

【０００９】更に、従来の調圧器の制御誤差は、上記入
口圧力によって及ぼされる力に打克って弁を密封するの
に必要とされる力の大きさによってももたらされる。ロ
ックアップと称されるこの現象は、互いに合致する密封
表面の剛性と表面仕上げの精度によって決定される。

【００１０】一般に、単純な調圧器の性能は、上述した
ばねではなく、流体圧でダイアフラムに負荷を与える圧
力負荷方式を用いることによって改善することができる
。このような方式は、ばねによって惹起される制御誤差
を軽減するが、上述したその他の誤差原因を解消するも
のではない。圧力の負荷は、内部にダイアフラムを備え
たドームと称される圧力密チャンバー（流体圧力を密封
するチャンバー）を用いることによって行われる。ドー
ムは、通常、負荷圧力源からの負荷圧力を所要の圧力に
まで減少させるために負荷調圧器と称されるばね付勢調
圧器を用いて加圧される。負荷圧力源としては、調圧す
べき流体自体又は空気等の別個の流体源が用いられる。

【００１１】上記弁を開閉するために上記ダイアフラム
を撓ませると、ドームの容積が変化する。ドーム内の圧
力を一定に保つためには、上記弁を開放するためにダイ
アフラムを撓ませるときに負荷用流体を追加しなければ
ならず、弁を閉鎖するためにダイアフラムを撓ませると
きには負荷用流体を逃さなければならない。負荷用調圧
器はドームにガスを追加することしかできないので、負
荷圧力に変化が生じる。ドーム内の圧力を一定に保つ上
でのある程度の改善は、負荷用調圧器に自動逃し手段を
設けることによって達成することができる。しかしなが
ら、そのような自動逃し手段を備えた負荷用調圧器は、
その下流の圧力がその特定の設計によって規定される増
分だけ設定値を越えたとき、負荷用流体を逃がす。従っ
て、負荷圧力の変更は、この増分に限定される。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、プロ
セス流体の流れを、広範な流量範囲に亙ってその下流の
規定圧力を相当に正確な限度内に維持するように制御す
るための方法及び装置を提供することである。本発明の
他の目的は、プロセス流体の温度が所定の温度以下に低
下した場合該プロセス流体の流れを減少又は停止させる
ための装置を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、いろいろに変更する需要量に対して一定
の設定された送給圧力を維持するように広範な圧力変動
範囲に亙って供給源側導管から消費側導管へのプロセス
流体の流れを制御するための装置及び方法を提供する。 プロセス流体のための主要制御要素は、ダイアフラム即
ち圧力応動手段を収容したダイアフラムハウジング（以
下、単に「ダイアフラム」とも称する）を有する主調圧
器である。このハウジングの上側（ハウジングの、ダイ
アフラムより上側の部分）には、ダイアフラムに負荷を
与える負荷流体を導入するための負荷用ポート（上側ポ
ート）を設け、ハウジングの下側（ハウジングの、ダイ
アフラムより下側の部分）には、主調圧器の出口側に通
じる下側ポートを設ける。

【００１４】この主調圧器は、高い制御精度を達成する
ために、流体によって負荷を受けるダイアフラムの他に
多くの特徴を有している。即ち、主調圧器は、プロセス
流体を通すためのオリフィスと、そのオリフィスの開度
を制御し、かつ、オリフィスの座部に密封係合してオリ
フィスを閉鎖するためのプラグを有しているが、オリフ
ィス及びそれに係合するプラグは比較的直径が大きく、
プラグは金属製であり、オリフィスの座部は金属で裏打
ちされた硬質プラスチックで形成してある。座部の硬質
プラスチックは、柔軟性があるので、プラグが座部に密
封係合する際に座部を圧縮し漏れを防止するのに必要と
されるロックアップ力（締付け力）は最少限にされる。 この金属製プラグは、その上流側のプロセス流体の圧力
から受ける正味の力がゼロとなるように圧力バランスさ
れる。又、オリフィスの径が大きいので、プラグの僅か
な移動行程でオリフィスの大きな開度が得られ、従って
、プラグを移動させるのに必要とされるダイアフラムの
最大撓み量を非常に小さくすることができる。又、ダイ
アフラム自体は、大きな撓み性を有しているので撓みに
要する力は小さくてすむ。

【００１５】負荷圧力は、供給源側導管からプロセス流
体を分岐抽出することにより、あるいは、計測器用空気
のような別個の圧力供給源からの流体圧力によって供給
する。この負荷用流体即ち制御流体は、微細な流れ制限
オリフィス即ち制流子を通して微少な流れに制限して供
給する。この微少な制御流体の流れを上記主調圧器の負
荷用ポートへ差向ける。負荷用ポートにおけるこの制御
流体の圧力を調節制御するために、負荷用ポートを大気
に連通した背圧調圧器の入口に連結する。この背圧調圧
器は、所望の背圧を設定するために調節自在のばねによ
って負荷を与えられるダイアフラムを備えた通常の調圧
器である。この背圧調圧器は、その入口及び出口におい
て一定圧に露呈され、僅かな流体の流れを通すようにさ
れているので、主調圧器のダイアフラムへの負荷用ポー
トにおける制御流体の圧力を正確に制御する。

【００１６】本発明の第１実施例においては、更に、上
記制流子の出口に温度作動式（温度に応じて作動される
）調圧器の入口を接続し、供給源側導管内のプロセス圧
力が所定の温度より低くなると、該温度作動式調圧器が
大気に開口して制御流体を逃し、それによって主調圧器
のダイアフラムに対する負荷を解除し、主調圧器を閉鎖
させる。

【００１７】本発明の第２実施例においては、上記制流
子と並列に補助調圧器を設け、供給源側導管から制御流
体の補助流れを供給するようにする。この補助調圧器は
、その出口に主調圧器のダイアフラムに対する所望の負
荷圧力の相当大きな分率の圧力を受けたとき閉鎖するよ
うに設定する。補助調圧器は、負荷圧力の有意の低下と
して反映される消費側導管における需要の増大に迅速に
応答するために供給側導管から制御流体を迅速に供給し
、しかも、上記背圧調圧器が設定負荷圧力を正確に維持
する機能を妨害しない。主調圧器は、補助調圧器の設定
点に達するまで急速に開放し、その後はゆっくりと開放
して背圧調圧器によって設定される最終設定圧を達成す
る。

【００１８】この第２実施例においては、上記温度作動
式調圧器を主調圧器と、制流子及び補助調圧器の共通の
出口側との間の制御流体導管に配設する。消費側導管内
のプロセス流体が所定の温度より低くなると、この温度
作動式調圧器が制流子及び補助調圧器からの合流された
制御流体の流れを遮断し、それと同時に主調圧器の負荷
用ポートの制御流体を大気へ放出する。

【００１９】本発明は、又、圧力応動手段を収容した調
圧器ハウジングの負荷側に制御流体の負荷圧力を供給し
、該負荷圧力を実質的に一定に維持するための方法を提
供する。この方法は、調圧器ハウジングの負荷側へ加圧
制御流体の制限された連続流れを供給し、前記圧力応動
手段が変位して調圧器ハウジングの負荷側の容積を変更
させたときそれに応じて、調圧器ハウジングの負荷側を
満たし、該負荷側に所定の圧力を維持するのに必要とさ
れる量を越える分の制御流体の流れを低圧放出系（例え
ば、大気）へ放出させることから成る。

【００２０】

【実施例】第１図を参照して説明すると、供給源側導管
１０からの高圧流体の流れは、消費側導管１４内の流体
圧を所定の圧力に維持するために主調圧器１２によって
制御する。そのために、供給源側導管１０は、主調圧器
１２の入口ポートに接続され、消費側導管１４は主調圧
器１２の出口ポートに接続されている。主調圧器１２は
、オリフィス１６と、プラグ１８と、オリフィス１６を
通る流体の流れを制御するために該オリフィスなでのプ
ラグ１８の位置を定めるプラグ位置ぎめ手段２０から成
る。このプラグ位置ぎめ手段２０は、図示の実施例では
、ハウジング２４と、ハウジング内に配設されたダイア
フラム即ち圧力応動手段２２と、該ダイアフラムをプラ
グ１８に連結するリンク機構から成っている。（別法と
して、ハウジングとダイアフラムの代わりに、ピストン
／シリンダとしてもよい。）

【００２１】ダイアフラム２２のハウジング２４は、図
でみてその下側に下側ポート２６を有しており、この下
側ポート２６に消費側導管１４の、主調圧器１２の出口
ポート側から連絡導管（以下、単に「導管」と称する）
２７が接続されている。（ここで、ハウジング２４の「
下側」及び「上側」とは、ダイアフラム２２に対して添
付図でみての下側及び上側のことをいう。）かくして、
消費側導管１４の、主調圧器１２の出口ポート側から導
管２７及び下側ポート２６を通してハウジング２４の下
側へ流体が導入され、それによってダイアフラム２２を
上方へ変位即ち撓ませ、プラグ位置ぎめ手段２０を制御
する。ダイアフラム２２のハウジング２４は、又、その
上側に上側ポート即ち負荷用ポート２８を有しており、
後述するようにこの負荷用ポート２８を通して制御流体
がハウジング２４の上側へ導入され、ダイアフラム２２
を下方へ変位即ち撓ませ、プラグ位置ぎめ手段２０を制
御する。（このときは、ハウジング２４の下側から下側
ポート２６及び導管２７を通して消費側導管１４へ流体
が流出する。）かくして、ダイアフラム２２は、その上
面に作用する流体圧力と下面に作用する流体圧力の差に
応動する（即ち、流体の圧力差に応答して上下どちらか
に撓む）。ダイアフラム２２のどちらの面にも流体圧力
が及ぼされていないとき、あるいは、ダイアフラムに流
体漏れが生じてダイアフラムの上下の圧力をバランス（
均衡化）してしまったような場合オリフィス１６を閉鎖
する方向にプラグ１８を偏倚させるための偏倚ばね３０
を用いることができる。従って、この偏倚ばねは、フェ
イルクローズ（故障時閉鎖）機能を果す。この偏倚ばね
は、ダイアフラムの面に作用する０．０７０３〜１．７
５７５ｋｇ／ｃｍ２　（１〜２５ｐｓｉ）、好ましくは
０．２１０９〜１．５６２４ｋｇ／ｃｍ２　（３〜８ｐ
ｓｉ）の圧力差に相当するばね力を有するものとするの
が適当である。このような偏倚ばねを使用する場合は、
上記負荷圧力は、偏倚ばねの上記ばね力に対応する分だ
け所望の出口ポート圧力（以下、単に「出口圧力」とも
称する）より高くしなければならない。

【００２２】オリフィス１６を開放するには、制御流体
を負荷用ポート２８を通してハウジング２４内へ導入し
ダイアフラム２２の上面に作用させることによって選択
された特定の負荷圧力を加え維持する。この負荷圧力を
設定し観察するための計器３２が設けられている。制御
は、ダイアフラム２２が主調圧器１２の下流のプロセス
流体の圧力の増減に応答して変位する（撓む）ことによ
って行われ、オリフィス１６の開度を増減させる。

【００２３】主調圧器のダイアフラム２２の上面に選択
された一定圧を加えた状態で、主調圧器１２が消費側導
管１４内に所定の圧力を安定して維持するようにするた
めには、プラグ位置ぎめ手段２０が、消費側導管１４内
の圧力に十分に応答し、他の力にはほとんど応答しない
ようにしなければならない。従って、本発明においては
、主調圧器のプラグ１８を上流側圧力の変動に感応しな
いようにする。又、プラグ位置ぎめ手段２０に作用する
機械的力及びそれから派生する力を抑制する。更に、プ
ラグ位置ぎめ手段２０に課せられる機械的力及びそれか
ら派生する力は、該プラグ位置ぎめ手段２０に作用する
下流側圧力によって創生される力に比べて無視しうる程
度のものとする。これらの条件は、以下のようにして達
成される。

【００２４】即ち、主調圧器のプラグ１８に作用する上
流側流体圧力をバランス（平衡化）せ、該プラグにかか
る正味の力がゼロになるようにする。この目的のために
、上流側流体圧力がオリフィス１６を閉鎖する方向に作
用するプラグ１８の面の面上と、上流側流体圧力がオリ
フィス１６を開放するする方向に作用するプラグ１８の
面の面積が等しくなるように構成する。そのためには、
プラグ１８を、オリフィス１６の直径にほぼ等しい直径
のところでプロセス流体の漏れを防止するように密封す
る必要がある。そのために、プラグに形成した溝内に低
摩擦シールリング３４を装着し、シールリング３４をオ
リフィス１６の直径にほぼ等しい直径を有するプラグ受
容円筒壁３６に密封係合させる。このようにしてプラグ
１８を上流側圧力に対し不感応にするので、大径のプラ
グ１８及びそれに対応する大径のオリフィス１６を用い
ることができる。

【００２５】供給源側導管１０の直径に対して使用する
ことができるオリフィス１６の直径の比は、０．３〜２
．０の範囲であり、供給源側導管１０の直径に対して１
．０〜１．５の比率の直径を有するオリフィスを用いる
のが好ましい。このように大径のオリフィスを用いるこ
とができるので、プラグ１８の僅かな移動行程により、
従ってプラグ及びそれに連結したダイアフラム２２の僅
かな撓みによってオリフィスの大きな開度が得られる。 プラグの移動行程の最大限は、オリフィスの直径の０．
１〜０．５倍の範囲とすることが望ましく、０．１〜０
．３倍の範囲とすることが好ましい。

【００２６】主調圧器のダイアフラム２２は、可撓性の
高い材料で製造し、撓みに要する力を小さくする。ダイ
アフラム２２は、作動温度の全範囲に亙って撓み性を維
持し、過渡的期間中発生した不均衡圧力に耐えることが
できるものとする。ダイアフラムの中心点で測定して２
．５４ｃｍ（１ｉｎ）当り０．７０３〜３５．１５ｇ／
ｃｍ２　（０．０１〜０．５ｐｓｉ）の範囲の負荷撓み
特性（荷重を受けて撓む特性）を有するダイアフラムが
好適であり、２．５４ｃｍ（１ｉｎ）当り７．０３〜１
４．０６ｇ／ｃｍ２　（０．１〜０．２ｐｓｉ）の範囲
の負荷撓み特性を有するものが好ましい。ダイアフラム
２２は、プラグ位置ぎめ手段２０に課せられる機械的力
及びそれから派生する力に対して相対的に大きい下流側
圧力を受けて制御力を創生する面を有する。ダイアフラ
ムの面の面積は、供給側導管１０の断面積の２〜６倍程
度とするのが適当である。通常、主調圧器１２の入口ポ
ートの断面積は、導入導管即ち供給側導管１０の断面積
と同じ大きさとする。

【００２７】オリフィス１６を閉鎖するためにプラグ１
８を座着させるための座部３８は、金属で裏打ちされた
硬質プラスチックで形成されており、座部３８をほとん
ど圧縮させる必要なしに金属製のプラグ１８を座部３８
に密封係合させることができる。従って、座部３８を圧
縮してプラグ１８に密封係合させるのに要する力（「ロ
ックアップ力」と称される）は小さくてすむ。このロッ
クアップ力（締め付け力）は、ダイアフラムの面に作用
する１４０．６〜２１０．９ｇ／ｃｍ２　（２〜３ｐｓ
ｉ）の圧力差に相当する程度であることが望ましい。

【００２８】先に説明したように、消費側導管１４内の
流体圧力を選択された圧力に維持するようにプロセス流
体の流れを制御するには、主調圧器のダイアフラム２２
の上面に一定の負荷圧力を加えなければならない。この
負荷圧力の源は、供給側導管１０であってもよく、ある
いは、計測器用空気のような別個の流体供給源であって
もよい。

【００２９】第１図示の実施例では、制御流体が制御流
体導管４０へ供給され、下流側の機器を保護するために
随意選択として設けられるフィルタ４２を通して送られ
る。制御流体導管４０は、固定制流子４４の入口に通じ
ている。固定制流子４４は、オリフィス、ベンチューリ
、ノズル又は毛管等のいろいろな形態とすることができ
る。制御流体は最終的には大気に逃がされるので、その
消費を最少限にすることが望ましい。従って、制流子４
４の流れ開口即ちオリフィスは極めて小さくする。 ０．０２５４〜０．７６２ｍｍ（０．００１〜０．０３
０ｉｎ）の直径を有するオリフィスを使用することがで
きる。オリフィスの直径を０．１０７６〜０．２５４ｍ
ｍ（０．００４〜０．０１ｉｎ）の好ましい範囲とした
場合、制御流体の消費量は、標準状態で０．０２８３１
７〜０．０５６６３４ｍ３　／時（１〜２ｆｔ３　／時
）の低い許容範囲に保たれる。この微小なオリフィスが
詰まるのを防止するために、オリフィスの直径の７／８
倍以上の粒度の異物粒子を捕捉することができるフィル
タ４０を上流側に設けるのが適切であることが認められ
た。 オリフィスの直径の１／６倍以上の粒度の粒子を除去す
ることができるフィルタを用いることが好ましい。制流
子４４の出口は、制御流体用導管４６を介して主調圧器
１２の負荷用ポート２８に連通している。

【００３０】主調圧器１２の負荷用ポート２８は、又、
制御流体用導管４６によって背圧調圧器４８の入口にも
接続されている。背圧調圧器４８は、主調圧器１２の負
荷用ポート２８にかけられる圧力を設定するための手段
を構成する。定常状態では制流子４４を通過した制御流
体の全部が背圧調圧器４８を通って流れるので、その入
口の上流にフィルタ４２と同様のフィルタ５０を設ける
ことができる。背圧調圧器４８を通って流れる制御流体
は、通常、消費側導管１４内へ注入させることによって
回収することができるほど高い圧力を有していないので
、大気へ排出させる。

【００３１】背圧調圧器４８は、消費側導管１４内に必
要とされる圧力範囲に対応して調節自在であり、適当な
サイズの安価な市販ユニットから選択することができる
。この背圧調圧器はその容量の何分の一かの少量の流れ
を通すだけであるから、その調節用の負荷ばね及びダイ
アフラム（第１図参照）の撓みは僅かであり、ほとんど
制御誤差を生じない。又、この背圧調圧器はその入口及
び出口において実質的に不変の圧力に露呈されているの
で、主調圧器１２のプラグ１８のようにプラグをバラン
スさせない構成としても制御誤差を生じることはない。 従って、必要とされるロックアップ力は、小さく、ほと
んど制御誤差を生じない。かくして、簡単な安価な調圧
器から正確な圧力制御が得られる。

【００３２】以上に説明した制御流体系は、主調圧器１
２に所定の負荷圧力を及ぼし維持するので、主調圧器１
２は消費側導管１４内に所定の圧力を安定して維持する
いことができる。この制御流体系は、下記のように機能
する。即ち、主調圧器１２のダイアフラム２２が上向き
に変位する（撓む）と、背圧調圧器４８が、主調圧器１
２のダイアフラムハウジング２４の上側即ち負荷側の制
御流体受容容積の減少に対処するために制御流体の大気
への排出量を一時的に増大させる。反対に、ダイアフラ
ム２２が下向きに変位する（撓む）と、背圧調圧器４８
が、主調圧器１２のダイアフラムハウジング２４の上側
の制御流体受容容積の増大に対処するために制御流体の
大気への排出量を一時的に減少させる。

【００３３】第１図に示された本発明の第１実施例の装
置においては、消費側導管１４へのプロセス流体の供給
が開始されると、制流子４４を通しての制御流体の微少
な流れにより主調圧器１２のダイアフラムハウジング２
４の上側の制御流体がゆっくりと増大する。かくして、
主調圧器１２のオリフィス１６がゆっくりと開放され、
多くの消費者の用途（特に酸素の供給等の用途）に適合
するように消費側導管１４内のプロセス流体の圧力をゆ
っくりと増大させる。同様にして、プロセス流体の消費
が急に大きく増大すると、消費側導管１４内のプロセス
流体の圧力が低下し、それに応じてダイアフラム２２の
下向き撓みが大きくなり、従って、ダイアフラムハウジ
ング２４の上側の制御流体を増大させなければならない
。そのための追加の制御流体は、消費側導管１４内のプ
ロセス流体の圧力の一時的な低下が継続している一定時
間の間制流子４４を通して供給される。反対に、プロセ
ス流体の消費が減少すると、消費側導管１４内のプロセ
ス流体の圧力の増大によりダイアフラム２２の上向きに
撓まされ、背圧調圧器４８が迅速にダイアフラムハウジ
ング２４の上側から過剰制御流体を迅速に排出させるの
で、消費の減少分は、ほとんど瞬間的に補償される。

【００３４】極低温プロセス流体を消費側導管１４へ供
給する応用例においては、プロセス流体が過度に低い温
度で送給されるのを防止する防護手段を講じることが望
ましい。第１図に示された本発明の第１実施例において
は、そのような防護は、入口側を制御流体導管５４を介
して主調圧器１２の負荷用ポート２８に連通させた常閉
、温度作動式調圧器５２によって与えられる。この温度
作動式調圧器即ち温度作動式逃し弁５２の出口側は、大
気等の低圧放出系に連通させる。温度作動式調圧器５２
に関連して、供給源側導管１０内のプロセス流体の温度
を検出し、その温度が所定温度以下に低下したとき温度
作動式調圧器５２を開放させる温度検出手段５６を設け
る。温度検出手段５６は、ソリッドステートのサーモス
タットデバイス、液体充填閉管系、熱電対に応動するソ
レノイド、又は当該技術において周知のその他のデバイ
スで構成することができる。かくして、供給源側導管１
０内のプロセス流体の温度が所定温度、例えば、−４０
°Ｃ（−４０°Ｆ）以下に低下すると、温度作動式調圧
器５２を大気に開放させる。それによって、制御流体が
大気へ排出され、その結果、主調圧器１２の負荷用ポー
ト２８への圧力を軽減し、主調圧器１２を通してのプロ
セス流体の流れを減少又は停止させる。供給源側導管１
０内に過度の低温状態が存在する間、制流子４４を通し
ての制御流体の微少流れが、一部分又は完全に温度作動
式調圧器５２を通して逃がされる。

【００３５】温度作動式調圧器即ち温度作動式逃し弁５
２は、以下のように幾つかの態様で動作するように設定
することができる。 １．供給源側導管１０内のプロセス流体の温度が設定温
度より低下した度合に比例して弁５２の開度を定める。 ２．供給源側導管１０内のプロセス流体の温度が設定温
度より低下したとき弁５２を全開させ、供給源側導管１
０内のプロセス流体の温度が設定温度を一定度合越えた
とき弁５２を全閉する。 ３．供給源側導管１０内のプロセス流体の温度が設定温
度より低下したとき弁５２を全開させ、弁を手操作でリ
セットするまでは再開放しないようにする。温度作動式
調圧器５２は、市販されているものであってよいが、こ
の目的のために適する他の適当な調圧器又は逃し弁を使
用することもできる。

【００３６】第２図に示された本発明の第２実施例は、
第１実施例とは２つの点で異なる。第１の相違は、制流
子４４に並列に補助調圧器５８を追加したことである。 この補助調圧器５８は、主調圧器１２のための望ましい
負荷圧力の相当大きな分率、例えば５０〜９５％に等し
い出口圧で閉鎖するように調節されている。補助調圧器
５８が閉鎖する圧力は、その圧力の大きさの点でも、精
度の点でもけ低的な重要性を有するものではないから、
補助調圧器５８としては普通の安価な市販の調圧器を用
いることができる。

【００３７】補助調圧器５８の機能は、供給流体の圧力
を低レベルから該補助調圧器５８の閉鎖レベルにまで増
大させるために最初に（始動時に）制御流体の大きな流
れを供給することである。その後、圧力が増大して補助
調圧器５８が閉鎖されると、制御流体は、制流子４４を
通って所定の微少流量で供給される。かくして、第２実
施例の装置は、プロセス流体の消費側導管１４への迅速
な供給開始を可能にし、かつ、消費側導管１４でのプロ
セス流体の受容の大幅な増大を迅速に補償することがで
きる。

【００３８】本発明の第２実施例の第２の相違は、その
温度作動式調圧器即ち温度作動式器逃し弁の配置個所と
特性にある。第２実施例では、制流子４４の出口及び補
助調圧器５８の出口は、制御流体導管６０を介して別の
温度作動式調圧器６２の入口に接続される。この温度作
動式調圧器６２の出口は、制御流体導管６４を介して背
圧調圧器４８の入口と主調圧器１２の負荷用ポート２８
に接続される。温度作動式調圧器６２の入口と出口は常
態においてでは自由に連通しており、その出口は大気へ
の常閉逃し口を有している。又、供給源側導管１０内の
プロセス流体の温度を検出し、その温度が所定温度以下
に低下したとき温度作動式調圧器６２の入口と出口の間
の連通を閉じてその逃し口６６を開放するための温度検
出手段６８が設けられている。

【００３９】上述したように主調圧器１２はその出口側
圧力を所定の圧力に維持するためにプロセス流体の流れ
を調節するのに適しているが、主調圧器１２がその入口
側圧力を所定の圧力に維持するためにプロセス流体の流
れを調節するのに適したものとするように改変すること
も可能である。そのような改変を行うには、主調圧器１
２のダイアフラム２２の下面を主調圧器１２の出口ポー
ト側でなく入口ポート側のプロセス流体に露呈させるよ
うに構成する。この構成は、第１及び２図にダイアフラ
ムハウジング２４の下側を主調圧器１２の入口ポートに
接続するための連絡導管２９（破線で示されている）と
して示されている。連絡導管（以下、単に「導管」と称
する）２９が用いられる場合は、ダイアフラムハウジン
グ２４の下側ポート２６を主調圧器１２の出口ポートに
接続している連絡導管２７を閉鎖するか、あるいは、導
管２７を取外し、ハウジングの下側ポート２６及び主調
圧器１２の出口ポート側の導管１４に設けられたタップ
開口を閉鎖する。

【００４０】具体例 タイヤ硬化プレスに窒素を供給する応用例に本発明を適
用した。タイヤ硬化プレスにラテックスを装入した後、
１７．５７５〜１９．３３２５ｋｇ／ｃｍ２　（２５０
〜２７５ｐｓｉｇ）の蒸気で該プレス内を加圧する。７
分後、プレスへの蒸気弁を閉鎖し、該プレスの窒素消費
側導管への弁を開放する。窒素消費側導管は、蒸発装置
及び極低温貯蔵タンクから調圧器を通して２９．８７７
５ｋｇ／ｃｍ２　（４２５ｐｓｉｇ）の圧力で窒素を供
給される。サイクルの残りの１１分間プレスの窒素消費
側導管への弁を開放状態に維持し、その間に窒素がプレ
ス内で凝縮蒸気に取って代わる。従来の空気圧式制御弁
は、プレスが蒸気供給から窒素供給に切換えられたとき
、許容範囲を越すオーバーシュート（制御量が目標値を
越えること）を起こす。本発明の上記第１実施例による
装置は、単一のプレスへの窒素供給を制御するために設
置された場合、蒸気供給から窒素供給に切換えられた後
３０秒以内にプレスの圧力を２８．１２±０．０７０３
ｋｇ／ｃｍ２　（４００±１ｐｓｉｇ）にもたらし、そ
れを維持した。ただし、切換後最初の３０秒の間に消費
側導管内の窒素圧力は、一時的に低下した後回復された
。実際の生産行程においては、単一の消費側導管から、
それぞれ異なる時点で蒸気供給から窒素供給に切換えら
れる１列の複数のプレスに窒素を供給する。プレスを窒
素の消費側導管へ切換えたとき消費側導管内に生じる上
述した一時的な圧力降下が、既にサイクルの窒素圧力維
持段階に入っている他のプレスを混乱させることがある
。本発明の第２実施例は、消費側導管内に上述したよう
な一時的な圧力降下を生じることがなく、他の点でも良
好に機能するので、ここに述べた応用例に特に適してい
る。

【００４１】

【発明の効果】本発明の利点は、その各動作部品が自動
的に作動されること、各動作部品の構造が簡単で堅固で
あること、しかも、それらの動作部品を作動させるため
に追加の動力源も追加の制御流体源も必要とされないこ
とである。本発明の更なる利点は、装置の製造コストが
易く、その保守サービスも簡単で、高度の熟練を必要と
しない。

【００４２】以上、本発明を実施例に関連して説明した
が、本発明は、ここに例示した実施例の構造及び形態に
限定されるものではなく、本発明の精神及び範囲から逸
脱することなく、いろいろな実施形態が可能であり、い
ろいろな変更及び改変を加えることができることを理解
されたい。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１図は、本発明の第１実施例による装置の概
略図である。

【図２】第２図は、本発明の第２実施例による装置の概
略図である。

【符号の説明】

１０：供給源側導管 １２：主調圧器 １４：消費側導管 １６：オリフィス １８：プラグ ２０：プラグ位置ぎめ手段 ２２：ダイアフラム（圧力応動手段） ２４：ハウジング ２６：下側ポート ２８：負荷用ポート ３０：偏倚ばね ３８：座部 ４０：制御流体導管 ４２：フィルタ ４４：制流子 ４６：制御流体導管 ４８：背圧調圧器 ５０：フィルタ ５２：常閉、温度作動式調圧器 ５４：制御流体導管 ５６：温度検出手段 ５８：補助調圧器 ６０：制御流体導管 ６２：温度作動式調圧器 ６４：制御流体導管 ６６：常閉逃し口 ６８：温度検出手段

Claims (50)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】いろいろに変化する需要量に対して設定送
   給圧力を維持するために供給源側導管から消費側導管へ
   のプロセス流体の流れを制御するためのプロセス流体流
   制御装置であって、 （ａ）　（１）　前記供給源側導管に接続するための入
   口ポートと、 （２）　前記消費側導管に接続するための出口ポートと
   、（３）　前記入口ポート及び出口ポートに連通したオ
   リフィスと、 （４）　負荷用ポートと、 （５）　前記オリフィスの開度を変更するために位置ぎ
   めされるように構成されたプラグと、 （６）　該プラグを前記出口ポート内の流体の圧力と前
   記負荷用ポート内の流体の圧力との差に応答して位置ぎ
   めするためのプラグ位置ぎめ手段を有する主調圧器と、
   （ｂ）　入口と出口を有する制流子と、（ｃ）　該制流
   子の入口を制御流体の源に接続するための制御流体導管
   と、 （ｄ）　該制流子の出口を前記主調圧器の前記負荷用ポ
   ートに接続するための制御流体導管と、 （ｅ）　（１）　低圧放出系に開口した出口ポートと、
   （２）　入口ポート を有する背圧調圧器と、 （ｆ）　該背圧調圧器の入口ポートを前記主調圧器の前
   記負荷用ポートに接続するための制御流体導管と、から
   成るプロセス流体流制御装置。
2. 【請求項２】前記制御流体の源は、前記供給源側導管内
   のプロセス流体であることを特徴とする請求項１に記載
   のプロセス流体流制御装置。
3. 【請求項３】前記主調圧器のプラグは、その上流の圧力
   に対してバランスされていることを特徴とする請求項１
   に記載のプロセス流体流制御装置。
4. 【請求項４】前記主調圧器は、前記供給源側導管の流路
   断面積の２〜６倍の範囲の作用面積を有するダイアフラ
   ムを備えていることを特徴とする請求項１に記載のプロ
   セス流体流制御装置。
5. 【請求項５】前記主調圧器は、ダイアフラムの中心点で
   測定して２．５４ｃｍ当り０．７０３〜３５．１５ｇ／
   ｃｍ２　の範囲の負荷撓み特性を有するダイアフラムを
   備えていることを特徴とする請求項１に記載のプロセス
   流体流制御装置。
6. 【請求項６】前記主調圧器は、ダイアフラムの中心点で
   測定して２．５４ｃｍ当り７．０３〜１４．０６ｇ／ｃ
   ｍ２　の範囲の負荷撓み特性を有するダイアフラムを備
   えていることを特徴とする請求項１に記載のプロセス流
   体流制御装置。
7. 【請求項７】前記主調圧器は、前記ダイアフラムの作用
   面に作用する最大限７０．３〜１７５７．５ｇ／ｃｍ２
   　の範囲の圧力差に相当する力を及ぼす偏倚ばねを有す
   ることを特徴とする請求項１に記載のプロセス流体流制
   御装置。
8. 【請求項８】前記主調圧器は、前記ダイアフラムの作用
   面に作用する最大限２１０．９〜５６２．４ｇ／ｃｍ２
   　の範囲の圧力差に相当する力を及ぼす偏倚ばねを有す
   ることを特徴とする請求項１に記載のプロセス流体流制
   御装置。
9. 【請求項９】前記主調圧器のオリフィスは、前記ダイア
   フラムに作用する１４０．６〜２１０．９ｇ／ｃｍ２　
   の範囲の圧力差に相当するロックアップ力を要する座部
   を有することを特徴とする請求項１に記載のプロセス流
   体流制御装置。
10. 【請求項１０】前記主調圧器のプラグの最大移動行程は
    、該主調圧器のオリフィスの直径の０．１〜０．５倍の
    範囲であることを特徴とする請求項１に記載のプロセス
    流体流制御装置。
11. 【請求項１１】前記主調圧器のプラグの最大移動行程は
    、該主調圧器のオリフィスの直径の０．１〜０．３倍の
    範囲であることを特徴とする請求項１に記載のプロセス
    流体流制御装置。
12. 【請求項１２】前記主調圧器のオリフィスは、前記供給
    源側導管の直径の０．３〜２．０倍の範囲であることを
    特徴とする請求項１に記載のプロセス流体流制御装置。
13. 【請求項１３】前記主調圧器のオリフィスは、前記供給
    源側導管の直径の１．０〜１．５倍の範囲であることを
    特徴とする請求項１に記載のプロセス流体流制御装置。
14. 【請求項１４】前記制流子は、０．０２５４〜０．７６
    ２ｍｍの範囲の直径を有するオリフィスであることを特
    徴とする請求項１に記載のプロセス流体流制御装置。
15. 【請求項１５】前記制流子は、０．１０１６〜０．２５
    ４ｍｍの範囲の直径を有するオリフィスであることを特
    徴とする請求項１に記載のプロセス流体流制御装置。
16. 【請求項１６】前記制流子の流路開口の直径の７／８倍
    以上の粒度の異物粒子を捕捉することができる制御流体
    フィルタが該制流子の上流に配置されていることを特徴
    とする請求項１に記載のプロセス流体流制御装置。
17. 【請求項１７】前記制流子の流路開口の直径の１／６倍
    以上の粒度の異物粒子を捕捉することができる制御流体
    フィルタが該制流子の上流に配置されていることを特徴
    とする請求項１に記載のプロセス流体流制御装置。
18. 【請求項１８】（ａ）　入口ポートと、（ｂ）　低圧放
    出系に開口した出口ポートと、（ｃ）　該入口ポートと
    出口ポートの間に設けられた常閉弁と、 （ｄ）　前記供給源側導管内の流体温度が設定値より低
    下したとき該常閉弁を開放するための手段と、（ｅ）　
    該入口ポートを前記主調圧器の負荷用ポートに接続する
    ための導管と、を有する温度作動式調圧器を含むことを
    特徴とする請求項１に記載のプロセス流体流制御装置。
19. 【請求項１９】前記制流子の流路開口の直径の１／６倍
    以上の粒度の異物粒子を捕捉することができる制御流体
    フィルタが、前記背圧調圧器の上流で前記制御流体導管
    に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のプ
    ロセス流体流制御装置。
20. 【請求項２０】前記主調圧器に設けられた偏倚ばね、前
    記制流子の上流に配置された第１制御流体フィルタ、及
    び前記背圧調圧器の上流に配置された第２制御流体フィ
    ルタを有していることを特徴とする請求項３に記載のプ
    ロセス流体流制御装置。
21. 【請求項２１】前記制流子の流路開口の直径の１／６倍
    以上の粒度の異物粒子を捕捉することができる制御流体
    フィルタが、前記背圧調圧器の上流で前記制御流体導管
    に配置されていることを特徴とする請求項３に記載のプ
    ロセス流体流制御装置。
22. 【請求項２２】（ａ）　前記制流子はオリフィスであり
    、（ｂ）　前記主調圧器のプラグ位置ぎめ手段はダイア
    フラムを備えており、 （ｃ）　該主調圧器は偏倚ばねを備えており、（ｄ）　
    前記制流子の上流に第１制御流体フィルタが配置されて
    おり、 （ｅ）　前記背圧調圧器の上流に第２制御流体フィルタ
    が配置されていることを特徴とする請求項３に記載のプ
    ロセス流体流制御装置。
23. 【請求項２３】（ａ）　前記制流子は、０．０２５４〜
    ０．７６２ｍｍの範囲の直径を有するオリフィスであり
    、（ｂ）　前記主調圧器のプラグ位置ぎめ手段は、前記
    供給源側導管の流路断面積の２〜６倍の範囲の作用面積
    を有し、ダイアフラムの中心点で測定して２．５４ｃｍ
    当り０．７０３〜３５．１５ｇ／ｃｍ２　の範囲の負荷
    撓み特性を有するダイアフラムを備えており、（ｃ）　
    前記主調圧器は、前記供給源側導管の直径の０．３〜２
    ．０倍の範囲の直径を有し、 （ｄ）　前記主調圧器のプラグの最大移動行程は、該主
    調圧器のオリフィスの直径の０．１〜０．３倍の範囲で
    あり、 （ｅ）　前記主調圧器のオリフィスは、前記ダイアフラ
    ムに作用する１４０．６〜２１０．９ｇ／ｃｍ２　の範
    囲の圧力差に相当するロックアップ力を要する座部を有
    し、（ｆ）　前記制流子の流路開口の直径の７／８倍以
    上の粒度の異物粒子を捕捉することができる第１制御流
    体フィルタが該制流子の上流に配置されており、（ｇ）
    　前記制流子の流路開口の直径の７／８倍以上の粒度の
    異物粒子を捕捉することができる第２制御流体フィルタ
    が前記背圧調圧器の上流に配置されていることを特徴と
    する請求項３に記載のプロセス流体流制御装置。
24. 【請求項２４】前記主調圧器の負荷用ポートに接続され
    た入口ポートと、大気に流体を排出する出口ポートを有
    する常閉、温度作動式調圧器が設けられており、該常閉
    、温度作動式調圧器は、前記供給源側導管内の流体温度
    が設定値より低下したとき該常閉常閉、温度作動式調圧
    器を開放するための手段を備えていることを特徴とする
    請求項２１に記載のプロセス流体流制御装置。
25. 【請求項２５】（ａ）　入口ポートと、（ｂ）　出口ポ
    ートと、 （ｃ）　該入口ポートと出口ポートの間に設けられた常
    開弁と、（ｄ）　常態においては該弁によって閉鎖され
    ている、前記出口ポートから大気へ の常閉逃し口と、 （ｅ）　前記供給源側導管内の流体温度が設定値より低
    下したとき前記常開弁を閉鎖し、前記常閉逃し口を開放
    するための手段と、を有する温度作動式調圧器を含み、
    該温度作動式調圧器は、前記制流子の出口を前記主調圧
    器の負荷用ポートに接続するための前記制御流体導管に
    配設されており、該制流子の出口は、該温度作動式調圧
    器の入口に連通していることを特徴とする請求項１に記
    載のプロセス流体流制御装置。
26. 【請求項２６】（ａ）　（１）　入口ポートと、（２）
    　出口ポートと、 （３）　該入口ポートと出口ポートの間に設けられた弁
    と、（４）　該出口ポート内の流体温度が設定値より低
    下したとき該弁を閉鎖するための手段と、を有する補助
    調圧器と、 （ｂ）　該補助調圧器の入口ポートと前記制流子の入口
    を連結するための導管と、 （ｃ）　該補助調圧器の出口ポートと前記制流子の出口
    を連結するための導管と、を含むことを特徴とする請求
    項１に記載のプロセス流体流制御装置。
27. 【請求項２７】（ａ）　入口ポートと、（ｂ）　出口ポ
    ートと、 （ｃ）　該入口ポートと出口ポートの間に設けられた常
    開弁と、 （ｄ）　常態においては該弁によって閉鎖されている、
    前記出口ポートから大気への常閉逃し口と、（ｅ）　前
    記供給源側導管内の流体温度が設定値より低下したとき
    前記常開弁を閉鎖し、前記常閉逃し口を開放するための
    手段と、を有する温度作動式調圧器を含み、該温度作動
    式調圧器は、前記制流子の出口を前記主調圧器の負荷用
    ポートに接続するための前記制御流体導管に配設されて
    おり、該制流子の出口は、該温度作動式調圧器の入口に
    連通していることを特徴とする請求項２６に記載のプロ
    セス流体流制御装置。
28. 【請求項２８】圧力応動手段を収容した調圧器ハウジン
    グの負荷側に制御流体の負荷圧力を供給し、該負荷圧力
    を実質的に一定に維持するための方法であって、（ａ）
    　前記調圧器ハウジングの負荷側へ加圧制御流体の制限
    された連続流れを供給し、 （ｂ）　前記圧力応動手段が変位して前記調圧器ハウジ
    ングの負荷側の容積を変更させたときそれに応じて、該
    調圧器ハウジングの負荷側を満たし、該負荷側に所定の
    圧力を維持するのに必要とされる量を越える分の制御流
    体の流れを低圧放出系へ放出させることから成る方法。
29. 【請求項２９】プロセス流体の流れを制御するための調
    圧器であって、 （ａ）　入口ポートと、 （ｂ）　出口ポートと、 （ｃ）　前記入口ポートと出口ポートの間にあって該入
    口ポート及び出口ポートに連通したオリフィスと、（ｄ
    ）　前記入口ポートのプロセス流体の圧力に対してバラ
    ンスされたオリフィス閉鎖用プラグと、（ｅ）　該プラ
    グを位置ぎめするためのダイアフラムとから成り、該ダ
    イアフラムは、その一方の側の面に作用する負荷圧力と
    他方の側の面に作用するプロセス流体の圧力との差に応
    答して該プラグを位置ぎめするようになされている調圧
    器。
30. 【請求項３０】前記ダイアフラムの他方の側の面は、該
    調圧器の前記出口ポートのプロセス流体の圧力に応動す
    ることを特徴とする請求項２９に記載の調圧器。
31. 【請求項３１】前記ダイアフラムの他方の側の面は、該
    調圧器の前記入口ポートのプロセス流体の圧力に応動す
    ることを特徴とする請求項２９に記載の調圧器。
32. 【請求項３２】偏倚ばねを備えていることを特徴とする
    請求項２９に記載の調圧器。
33. 【請求項３３】前記ダイアフラムは、該ダイアフラムの
    中心点で測定して２．５４ｃｍ当り０．７０３〜３５．
    １５ｇ／ｃｍ２　の範囲の負荷撓み特性を有することを
    特徴とする請求項２９に記載の調圧器。
34. 【請求項３４】前記ダイアフラムは、その入口ポートの
    流路面積の２〜６倍の範囲の作用面積を有することを特
    徴とする請求項２９に記載の調圧器。
35. 【請求項３５】前記オリフィスは、前記入口ポートの直
    径の０．３〜２．０倍の範囲の直径を有することを特徴
    とする請求項２９に記載の調圧器。
36. 【請求項３６】前記オリフィスは、前記入口ポートの直
    径の１．０〜１．倍の範囲の直径を有することを特徴と
    する請求項２９に記載の調圧器。
37. 【請求項３７】前記プラグの最大移動行程は、前記オリ
    フィスの直径の０．１〜０．５倍の範囲であることを特
    徴とする請求項２９に記載の調圧器。
38. 【請求項３８】前記プラグの最大移動行程は、前記オリ
    フィスの直径の０．１〜０．３倍の範囲であることを特
    徴とする請求項２９に記載の調圧器。
39. 【請求項３９】前記オリフィスは、前記ダイアフラムの
    作用面に作用する１４０．６〜２１０．９ｇ／ｃｍ２　
    の範囲の圧力差に相当するロックアップ力を要する座部
    を有していることを特徴とする請求項２９に記載の調圧
    器。
40. 【請求項４０】前記ダイアフラムの作用面に作用する最
    大限７０．３〜１７５７．５ｇ／ｃｍ２　の範囲の圧力
    差に相当する力を及ぼす偏倚ばねを有することを特徴と
    する請求項２９に記載の調圧器。
41. 【請求項４１】前記ダイアフラムの作用面に作用する最
    大限２１０．９〜５６２．４ｇ／ｃｍ２　の範囲の圧力
    差に相当する力を及ぼす偏倚ばねを有することを特徴と
    する請求項２９に記載の調圧器。
42. 【請求項４２】（ａ）　前記ダイアフラムは、前記入口
    ポートの流路面積の２〜６倍の範囲の作用面積を有し、
    （ｂ）　該ダイアフラムは、その中心点で測定して２．
    ５４ｃｍ当り０．７０３〜３５．１５ｇ／ｃｍ２　の範
    囲の負荷撓み特性を有し、 （ｃ）　前記オリフィスは、前記入口ポートの直径の０
    ．３〜２．０倍の範囲の直径を有し、 （ｄ）　前記プラグは、前記オリフィスの直径の０．１
    〜０．５倍の範囲の最大移動行程を有し、（ｅ）　前記
    オリフィスは、前記ダイアフラムに作用する１４０．６
    〜２１０．９ｇ／ｃｍ２　の範囲の圧力差に相当するロ
    ックアップ力を要する座部を有し、（ｆ）　該調圧器は
    、前記ダイアフラムの作用面に作用する最大限７０．３
    〜１７５７．５ｇ／ｃｍ２　の範囲の圧力差に相当する
    力を及ぼす偏倚ばねを備えていることを特徴とする請求
    項２９に記載の調圧器。
43. 【請求項４３】前記ダイアフラムは、前記入口ポートの
    流路面積の２〜６倍の範囲の作用面積を有することを特
    徴とする請求項３３に記載の調圧器。
44. 【請求項４４】前記オリフィスは、前記入口ポートの直
    径の０．３〜２．０倍の範囲の直径を有することを特徴
    とする請求項４３に記載の調圧器。
45. 【請求項４５】前記オリフィスは、前記入口ポートの直
    径の１．０〜１．５倍の範囲の直径を有することを特徴
    とする請求項４４に記載の調圧器。
46. 【請求項４６】前記プラグの最大移動行程は、前記オリ
    フィスの直径の０．１〜０．５倍の範囲であることを特
    徴とする請求項４５に記載の調圧器。
47. 【請求項４７】前記プラグの最大移動行程は、前記オリ
    フィスの直径の０．１〜０．３倍の範囲であることを特
    徴とする請求項４６に記載の調圧器。
48. 【請求項４８】前記オリフィスは、前記ダイアフラムの
    作用面に作用する１４０．６〜２１０．９ｇ／ｃｍ２　
    の範囲の圧力差に相当するロックアップ力を要する座部
    を有していることを特徴とする請求項４７に記載の調圧
    器。
49. 【請求項４９】前記ダイアフラムの作用面に作用する最
    大限７０．３〜１７５７．５ｇ／ｃｍ２　の範囲の圧力
    差に相当する力を及ぼす偏倚ばねを有することを特徴と
    する請求項４８に記載の調圧器。
50. 【請求項５０】前記ダイアフラムの作用面に作用する最
    大限２１０．９〜５６２．４ｇ／ｃｍ２　の範囲の圧力
    差に相当する力を及ぼす偏倚ばねを有することを特徴と
    する請求項４９に記載の調圧器。