JPH04286182A - グリーンシートとプラスチックフィルムの複合体 - Google Patents

グリーンシートとプラスチックフィルムの複合体

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JPH04286182A
JPH04286182A JP3049515A JP4951591A JPH04286182A JP H04286182 A JPH04286182 A JP H04286182A JP 3049515 A JP3049515 A JP 3049515A JP 4951591 A JP4951591 A JP 4951591A JP H04286182 A JPH04286182 A JP H04286182A
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Yasuyuki Baba
康行 馬場
Shigetoshi Segawa
茂俊 瀬川
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子機器に使用される
セラミック回路基板の工程で使用されるグリーンシート
とプラスチックフィルムの複合体に関するもので、特に
セラミック多層基板の製造に適用して効果のあるもので
ある。
【0002】
【従来の技術】近年セラミック多層基板は多層プリント
基板に比べ、はるかに高密度な回路基板として注目され
ている。以下に従来のセラミック多層基板の製造方法に
於いて、特にグリーンシートのハンドリングについて説
明する。
【0003】従来の第一の方法はグリーンシート単体で
ハンドリングする方式で、ポリエステルを主成分とする
PETフィルム上にグリーンシート成形を行い、そのP
ETフィルムを剥したグリーンシートを所定の大きさに
切断し、図6に示す如く位置決め孔2と層間の電気的接
続をとる為のビア孔3を形成し、前記ビア孔3に導体を
充填した後、グリーンシート1面上に導体で所定の配線
パターンを形成する。
【0004】然る後、前記配線パターンの形成された複
数枚のグリーンシートを積層後、焼成を行っていた。第
2のハンドリング方法は、図7に示す如くグリーンシー
ト1をステンレスのフレーム4に貼付ける方式であり、
フレーム4の角を位置決め基準としてハンドリングして
いくものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、前記第1の方式に於いてはグリーンシート
は軟らかく、破れ易い為に各工程でのハンドリングが困
難であり、また、導体をビア孔に充填する工程や配線印
刷後の、導体を乾燥する工程で熱が加わる為グリーンシ
ートが大きく縮み位置精度が悪くなるという欠点を有し
ていた。また多層基板を製造する際は配線パターンの形
成されたグリーンシートを複数枚積層しなければならな
い為、グリーンシートの寸法精度は特に重要である。前
記第2の方式に於いては、フレームがあるためハンドリ
ングは容易になるが、フレームに貼ったグリーンシート
をきれいに剥すことは困難であり、フレームは長期使用
していると反るという問題点、また、多層基板に於いて
層数が増えると1枚のグリーンシートの厚みは薄くなり
、フレームにグリーンシートを貼付けてもグリーンシー
トは破れ易く、たわみ易いという問題点も有していた。 また、ビア孔形成の工程においてレーザー光を使用しよ
うとすると、図8に示すように、レーザー照射側のグリ
ーンシート1のビア孔3の周辺にチッピング9が発生し
てしまう問題点も有していた。さらに、従来のセラミッ
ク組成では内部導体と同時焼成した際に基板の変形が生
じるので、高密度な回路基板が得られないという問題点
も有していた。本発明は上記従来の問題点を解決するも
ので、グリーンシートのハンドリングを著しく向上し、
高品質のセラミック回路基板を得る為のグリーンシート
とプラスチックフィルムの複合体を提供することを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成する為に
、本発明のグリーンシートとプラスチックフィルムの複
合体は、グリーンシートの片側の面に、ガラス転移点温
度(以下Tgという)が85℃以上のプラスチックフィ
ルムが配置されたことを特徴とする構成を有している。
【0007】
【作用】この構成によれば、グリーンシートには耐熱性
のプラスチックフィルムが配置されているために、この
複合体のままハンドリングすれば、プラスチックフィル
ムが破れ易く伸び易いグリーンシートを保護するととも
に、フレーム等の余分な治具を不要とし、導体乾燥時の
熱工程においても寸法変化が小さく、ロールトウロール
の工法も採用できるので、セラミック回路基板の製造工
程に於けるグリーンシートのハンドリングを著しく向上
し、高品質で安価なセラミック多層基板を提供すること
ができる。また、ビア孔をレーザー光にて加工する際プ
ラスチックフィルム側から照射することにより、プラス
チックフィルムのビア孔周辺にチッピングが起こっても
、プラスチックフィルムは後工程で捨てられるので、グ
リーンシートには何等不都合はない。よって、本構成で
あればビア孔加工にレーザーが使用できるので生産性を
著しく向上できるものである。さらに、多層基板用のグ
リーンシートは厚みが薄いので、プラスチックフィルム
で保護する効果と、熱が加わる工程に於いても寸法変化
が小さいので積層精度が向上できる効果を有する本構成
は、大変有効なものである。
【0008】
【実施例】(実施例1)以下、本発明の一実施例につい
て、図面を参照しながら説明する。先ず本実験で用いた
プラスチックフィルムを紹介する。
【0009】(1)東レ(株)製の商品名トレリナで、
ポリフェニレンサルファイドを主成分とするフィルム、
以後PPSという。その化学構造式を(化1)に示して
いる。
【0010】
【化1】
【0011】(2)三菱樹脂(株)の商品名スペリオU
Tで、ポリエーテルイミドを主成分とするフィルム、以
後PEIという。その化学構造式を(化2)に示してい
る。
【0012】
【化2】
【0013】(3)三井東圧化学(株)製の商品名TA
LPA−1000で、ポリエーテルサルホンを主成分と
するフィルム、以後PESという。その化学構造式は(
化3)に示している。
【0014】
【化3】
【0015】(4)三井東圧化学(株)製の商品名TA
LPA−2000で、ポリエーテルエーテルケトンを主
成分とするフィルム、以後PEEKという。その化学構
造式は(化4)に示している。
【0016】
【化4】
【0017】(5)東レデュポン(株)の商品名カプト
ンで、ポリイミドを主成分とするフィルム、以後PIと
いう。その化学構造式は(化5)に示している。
【0018】
【化5】
【0019】(6)東レ(株)製の商品名ルミラーで、
ポリエステルを主成分とするフィルム、以後PETとい
う。その化学構造式は(化6)に示している。
【0020】
【化6】
【0021】(7)上記PETフィルムを100℃以上
の熱処理を施し、低収縮化したフィルム、以後低収縮P
ETという。その化学構造式は(化6)と同じである。
【0022】これら7種類のプラスチックフィルムの特
性を(表1)に示す。(表1)の特性で、破断強度・伸
び率についてはJIS−C2318に従い測定し、熱収
縮率は100mm間隔で0.15mmφの孔を明け、フ
ィルムを製造する際の成形方向(MD)とその直角方向
(TD)について、加熱処理後n=4で最も収縮率の大
きな値を示した。
【0023】
【表1】
【0024】図1に示す如く、これら7種類の厚みが7
5μmのプラスチックフィルム5上に、乾燥後の厚みが
200μmになるようにグリーンシート成形を行い、セ
ラミック回路基板を製造するに必要なグリーンシート1
とプラスチックフィルム5の複合体をつくった。次に前
記グリーンシートをプラスチックフィルムを介してNC
パンチにて0.15mmφのビア孔加工を行った。この
とき、PETはバリができ易かったが、他のフィルムは
加工性に優れていた。この理由は(表1)の伸び率に関
係があり、破断時にフィルムの伸び率が大きい程バリが
起こり易いことは容易に推測され、実際の実験の結果と
一致している。また、(表1)の破断強度は値が小さい
程、加工性に優れ量産時のピンの寿命も長くなることが
予想される。PEEKについては、伸び率は大きいが破
断強度の値が小さいためか、バリはPETより少なく、
十分に実用可能なレベルであった。一般的に耐熱性の高
いエンジニアリングプラスチックは、伸び率の値は小さ
く、破断強度の値も小さいので打ち抜き加工性に優れて
いることが分かった。次に図2に示す如く前記ビア孔6
にビア導体7aを充填し、90℃で10分乾燥した後、
グリーンシート1面上に導体で配線パターン7bを形成
し、さらに90℃で10分乾燥を行った。そしてグリー
ンシート1をプラスチックフィルム5から剥離し、前記
配線パターンの形成された複数枚のグリーンシートを積
層した後、焼成を行い多層基板を得た。ここでビア接続
の信頼性を確認したところPETフィルムを用いたもの
のみ導通不良があったので、原因を探る為に多層基板の
断面をSEM観察した結果、ビアの位置ずれ不良である
ことが分かった。これは、ビア充填・配線印刷後の乾燥
工程でのPETフィルムの収縮が大きい為であると考え
られる。一般的に多層基板の外径は100mm角で、今
後ビア径は0.1mmφが主流になってくると予想され
ており、そうなるとビア孔の積層時のずれは50ミクロ
ン以下であることが信頼性の面から必要となる。即ち、
導体乾燥時に約90℃の熱が加わるので、安全をみて(
表1)の100℃以下での熱収縮率の値が0.05%以
下であることが要求される。100mmの0.05%は
50ミクロンである。今回の実験では、前記従来例の項
で述べた従来のハンドリング方法と比較して、プラスチ
ックフィルムが配置されている為、伸び易く破れ易いグ
リーンシートを容易にハンドリングすることができた。 また導体乾燥の際にグリーンシート単体の場合、1%以
上の収縮が起こるのに対しグリーンシートとプラスチッ
クフィルムの複合体では(表1)に示す熱収縮率のよう
に寸法変化は小さい為、寸法安定性が良く、ビア接続の
信頼性に優れ、かつ高密度なセラミック回路基板が得ら
れた。また、Tgは耐熱の度合を示す物性値であるため
、Tgが高い方が多少の誤差は除いて熱収縮率の値は小
さく、85℃の耐熱性のフィルムであれば、さらに有効
であることも(表1)から明らかであり、実験結果も一
致している。またビア充填工程に於いて、一般的にはビ
ア孔に対応する位置に、ビア孔より若干大なる透孔の形
成されたメタルマスクを載置し、そのメタルマスク側よ
り導電ペーストを印刷により充填するが、メタルマスク
を取り除いた後、必然的にメタルマスクの透孔に相当す
るランドがビア孔の周辺にできていた。しかし図3に示
す如くビア孔6にビア導体7aを充填する際、プラスチ
ックフィルム5側から行うことにより、ビアランド12
が発生してもプラスチックフィルム5をグリーンシート
1から剥離する際にビアランド12は取り除かれる為、
結果として図3に示すランドレスビア11を得ることが
でき、さらに高密度な多層基板を得ることができた。
【0025】(実施例2)実施例1のビア孔の孔明け工
程に於て、レーザー光を用いて実験した。図4に示す如
く、グリーンシート1とプラスチックフィルム5の複合
体のプラスチックフィルム5側からレーザー光8を照射
した。プラスチックフィルム5のレーザー照射側には、
チッピング9が発生したが、それはプラスチックフィル
ム5の表面部だけで、グリーンシート1には何ら損傷は
なく、ストレートな0.1mm¢〜0.2mm¢の孔を
明けることができた。実施例1で述べた7種類のフィル
ムについて、フィルム間でレーザーによる孔明け加工性
の差はほとんどなかった。さらに、実施例1と同様に多
層基板をつくったが、ビア接続の信頼性についても実施
例1での結果と同じで、レーザー光を用いたことによる
不良というものはなかった。今回の実験によりレーザー
光を使用できることが分かったので、孔明けの生産性を
向上でき、かつNCパンチや金型のピンの寿命の問題が
無くなったので、量産性を著しく向上することができた
【0026】(実施例3)先ず実施例1と同様、前記7
種類の厚みが75μmのプラスチックフィルム上に、グ
リーンシートが200μmの厚みとなるよう成形を行い
、ロール状に巻取った。次に図5に示す如く、プラスチ
ックフィルム5がついたままのグリーンシート1を順次
その長手方向に移動させ、その移動工程に於て、加工機
10を用いて、プラスチックフィルム5ごとグリーンシ
ート1にビア孔形成を行い、順次巻取った。同様に、ビ
ア充填,配線形成を行った後、前記配線パターンの形成
されたグリーンシートをプラスチックフィルムごと所定
の大きさに切断し、前記グリーンシートを前記プラスチ
ックフィルムから剥離し、そのグリーンシートを複数枚
積層した後、焼成を行い多層基板を得た。今回の実験で
は、各工程毎にグリーンシートを巻取ったが、各工程の
タクトを検討することにより連続化できることはいうま
でもない。本工法の採用により、伸び易く破れ易いグリ
ーンシートのハンドリングの問題を解決した。またロー
ルトウロールと呼ばれる連続生産が可能になり、かつ耐
熱性に優れたプラスチックフィルムを採用しているので
、多層基板の積層精度を向上でき、ビア接続の信頼性に
優れる多層基板ができるようになった。即ち、大量生産
が可能になり、歩留りは向上する工法であるため、安価
な多層基板を大量に製造でき、民生機器への導入の可能
性をも引き出すことができた。以上、実施例1,2,3
では多層基板の場合について述べたが、グリーンシート
を積層せずに1枚だけを焼成する回路基板の場合につい
ても本発明は有効であることはいうまでもない。
【0027】(実施例4)高密度な多層基板を得るため
に内部導体とマッチングの良いセラミック材料の検討を
行った。基板材料に要求する項目として、第1に電気抵
抗の低いAgやCu等導体材料、及び抵抗体やコンデン
サ材料と同時焼成できるように900℃焼成可能である
こと。第2に従来のHICで使用されているアルミナ基
板に比べて誘電率が低いこと、即ち誘電率が9以下であ
ること。第3にはAgとCuの内部導体と同時焼成を行
った時、層間の絶縁性に優れ、かつ内部導体のある部分
と、ない部分で収縮率の差がないことがあげられる。層
間の信頼性は、200ミクロンの絶縁層間に2×2mm
の対向電極を設け、恒温恒湿槽にて85℃−85%RH
の環境下で、100Vの電圧を印加して1000時間放
置した後に室内に戻し、絶縁抵抗を測定して1010Ω
以上保持しておれば○、それ以下であれば×として評価
を行った。基板の変形に関しては、定量的に表すために
基板変形率ΔLを(数1)に定義する。
【0028】
【数1】
【0029】ここで、Lcは内部導体がある部分の基板
の収縮率、Ldは内部導体のない部分の収縮率である。 以上のようにして求めたΔLが0.5%未満であれば○
の評価を与えた。以上の条件をほぼ満たす基板材料の組
成を(表2)に示す。
【0030】
【表2】
【0031】表中のガラスA,ガラスBの組成を(表3
)に示す。
【0032】
【表3】
【0033】まず母ガラスについては、(表3)に示す
A及びBのガラス組成になるように調合した原料バッチ
を白金ルツボにいれ1500〜1600℃で2〜3時間
溶融後水中に入れ急冷した後ボールミルにて平均粒径が
約1.8ミクロンになるまで粉砕し、母ガラス粉末を得
た。(表2)中のNo.1〜5は、ガラスA粉末とアル
ミナ粉末を重量比で60/40〜40/60まで混合比
を変化させたもので、No.6〜10は、ガラスB粉末
とアルミナ粉末を重量比で55/45〜35/65まで
混合比を変化させたもので、No.11〜13は、ガラ
スB粉末とコーディエライト粉末を重量比で60/40
〜45/55まで混合比を変化させたものである。これ
らのセラミック粉末を、アクリル系バインダーを用いグ
リーンシート成形を行い、前記実験を行った。その結果
を(表4)に示す。
【0034】
【表4】
【0035】試料No.10については層間の信頼性が
NGであったが、これはガラス粉末35重量部に対しフ
ィラー成分であるアルミナ粉末を65重量部配合してお
り、フィラー成分が多すぎるために焼結が十分でなかっ
たと考察される。即ち試料No.10を除くNo.1〜
13の各成分の組成範囲、Al2O3  13.97〜
60重量%、SiO2  22.8〜56.52重量%
、B2O3  2.32〜5.1重量%、Na2O  
0.6〜2.1重量%、K2O  0.6〜1.56重
量%、CaO2.4〜4.8重量%、MgO  0.8
4〜8.53重量%、PbO  7.2〜12重量%の
組成範囲で総量100重量%となるように選んだ組成物
であれば、信頼性に優れ、かつ従来の多層基板に比べて
内部導体とのマッチング性の良い、高密度な多層基板が
得られることが分かった。
【0036】
【発明の効果】以上のように本発明は、グリーンシート
の片側の面に、Tgが85℃以上のプラスチックフィル
ムが配置されたことを特徴とするため、この複合体のま
まハンドリングすれば、プラスチックフィルムが破れ易
く伸び易いグリーンシートを保護するとともに、フレー
ム等の余分な治具を不要とし、導体乾燥時の熱工程にお
いても寸法変化が小さく、ロールトウロールの工法も採
用できるので、セラミック回路基板の製造工程に於ける
グリーンシートのハンドリングを著しく向上し、高品質
で安価なセラミック多層基板を提供することができる。 また、ビア孔をレーザー光にて加工する際プラスチック
フィルム側から照射することにより、プラスチックフィ
ルムのビア孔周辺にチッピングが起こっても、プラスチ
ックフィルムは後工程で捨てられるので、グリーンシー
トには何等不都合は無い。よって、本構成であればビア
孔にレーザーが使用できるので生産性を著しく向上でき
るものである。さらに、多層基板用のグリーンシートは
厚みが薄いので、プラスチックフィルムで保護する効果
と、熱が加わる工程に於いても寸法変化が小さいので積
層精度が向上でき、ビア接続の信頼性も向上する効果を
有する本構成は、大変有効なものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に於けるグリーンシート
とプラスチックフィルムの複合体の断面図
【図2】同実
施例を使用したセラミック回路基板の一工程における複
合体の断面図
【図3】同実施例を使用したセラミック回路基板の他の
製造工程における複合体の断面図
【図4】同実施例を使用したセラミック回路基板のさら
に他の製造工程を示す複合体の断面図
【図5】同実施例を使用したセラミック回路基板のさら
に他の製造工程を示す複合体の断面図
【図6】従来のセラミック回路基板の一製造工程におけ
るグリーンシートの斜視図
【図7】従来のセラミック回路基板の他の製造工程にお
けるグリーンシートの断面図
【図8】従来のセラミック回路基板の他の製造工程にお
けるグリーンシートの断面図
【符号の説明】
1  グリーンシート 2  位置決め孔 3  ビア孔 4  フレーム 5  プラスチックフィルム 6  ビア孔 7a  ビア導体 7b  導体パターン 8  レーザー光 9  チッピング 10  加工機 11  ランドレスビア 12  ビアランド

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】グリーンシートの片側の面に、ガラス転移
    点温度が85℃以上のプラスチックフィルムが配置され
    たことを特徴とするグリーンシートとプラスチックフィ
    ルムの複合体。
  2. 【請求項2】プラスチックフィルムが、ポリフェニレン
    サルファイド,ポリエーテルイミド,ポリエーテルサル
    フォン,ポリエーテルエーテルケトン,ポリイミドのい
    ずれかを主成分とするフィルムであることを特徴とする
    請求項1記載のグリーンシートとプラスチックフィルム
    の複合体。
  3. 【請求項3】グリーンシートのセラミック成分が、Al
    2O313.97〜60重量%、SiO2  22.8
    〜56.52重量%、B2O3  2.32〜5.1重
    量%、Na2O  0.6〜2.1重量%、K2O  
    0.6〜1.56重量%、CaO  2.4〜4.8重
    量%、MgO  0.84〜8.53重量%、PbO 
     7.2〜12重量%の組成範囲で総量100重量%と
    なるように選んだ組成物であることを特徴とする請求項
    1もしくは2記載のグリーンシートとプラスチックフィ
    ルムの複合体。
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